DE19730581A1 - Cleaning silicon wafers with fluid media - Google Patents

Cleaning silicon wafers with fluid media

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Abstract

Fluid media are directed onto both wafer (4) surfaces, with the wafers so aligned that their planes are vertical. In this alignment the wafers are passed through the cleaning stations (1, 2), with the latter inclined such as to allow a rolling passage by gravity. Pref. during the passage the wafers can be stopped and/or turned. The wafer passage takes place on edge, or the wafer can be retained in a circular adapter. Each cleaning station has a vertical wafer inlet, fitted with guide elements for vertical wafer guiding, and a vertical outlet. The guide elements typically contact the wafer edges.

Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zum Reinigen von Wafer, z. B. von Silizium-Scheiben mittels fluiden Medien, die auf wenigstens eine, insbesondere beide Oberflächen der Scheiben geleitet werden.The invention relates to a method and a device for cleaning wafers, e.g. B. of silicon wafers fluid media on at least one, especially both Surfaces of the discs are directed.

Substrate für Bauelemente der Mikroelektronik, z. B. Silizium-Scheiben, die auch Wafer genannt werden, erfordern extrem saubere Oberflächen, die wiederholte Reinigungsprozesse während der Herstellung eines Chips erforderlich machen. Die Anforderung an die Reinigungsverfahren macht es notwendig, die Substrate beidseitig und an allen Stellen der Oberfläche zu reinigen. Substrates for components in microelectronics, e.g. B. Silicon wafers, also called wafers, are required extremely clean surfaces that repeated Cleaning processes during the manufacture of a chip make necessary. The requirement for the Cleaning process makes it necessary to remove the substrates can be cleaned on both sides and at all points on the surface.  

Insbesondere bei physikalischen Reinigungsverfahren erfolgt vorwiegend eine Einzelsubstratreinigung im Naßverfahren, z. B. durch Bürsten, Ultraschall, Hochdruck bzw. Dampfstrahl usw. Hierzu muß das Substrat innerhalb der Reinigungsanlage vorwiegend im nassen Zustand zu den einzelnen Reinigungsstationen transportiert werden. Dies erfolgt vorwiegend in horizontaler Substratlage durch Handlingroboter, die das Substrat z. B. an der Unterseite entweder durch Unterdruck halten oder seitlich klemmen, oder dies erfolgt durch geeignete Auflagen an Transportbändern, Rollen usw., die den Transport ermöglichen. Die Kontaktierung der Oberfläche durch das Handling (sowohl der Vorderseite als auch der Rückseite) führt zur Kontamination mit Schmutzteilen (Partikel). Zudem sind die in Reinsträumen eingesetzten Handling-Systeme sehr aufwendig und teuer. Die vorwiegend für die horizontale Positionierung der Substrate ausgeführten Reinigungssysteme benötigen mit größer werdenden Substratabmessungen zudem sehr große Stellflächen in den Reinräumen, welche folglich auch sehr teuer sind. Außerdem ist die Partikelansammlung auf den Oberflächen der Substrate selbst in Reinräumen relativ hoch.This is particularly the case with physical cleaning processes mainly a single substrate cleaning in the wet process, e.g. B. by brushing, ultrasound, high pressure or steam jet etc. To do this, the substrate must be within the Cleaning system mainly in the wet state individual cleaning stations can be transported. This is mainly carried out in a horizontal substrate position Handling robots, the z. B. at the bottom either hold by negative pressure or clamp laterally, or this is done through appropriate conditions Conveyor belts, rolls, etc., the transportation enable. The contacting of the surface by the Handling (both the front and the back) leads to contamination with dirt parts (particles). In addition are the handling systems used in clean rooms complex and expensive. The predominantly for the horizontal Positioning of the substrates executed cleaning systems also need with increasing substrate dimensions very large spaces in the cleanrooms, which consequently are also very expensive. In addition, the particle accumulation on the surfaces of the substrates even in cleanrooms quite high.

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren und eine Vorrichtung bereit zu stellen, mit welchen derartige Substrate besser und vor allem auch preiswerter gereinigt werden können.The invention has for its object a method and to provide a device with which such  Substrates cleaned better and, above all, cheaper can be.

Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß mit einem Verfahren der eingangs genannten Art dadurch gelöst, daß die Scheiben derart ausgerichtet werden, daß die Scheibenebene vertikal verläuft und daß die Scheiben in dieser Ausrichtung die Reinigungsstation bzw. Reinigungsstationen durchlaufen.This object is achieved with a method of type mentioned in that the disks be aligned so that the disc plane is vertical runs and that the discs in this orientation Go through cleaning station or cleaning stations.

Durch die Ausrichtung der Substrate bzw. Scheiben in vertikaler Ausrichtung wird die relativ teuere Stellfläche in den Reinräumen wesentlich vermindert und es wird der Vorteil erzielt, daß sich auf den Scheibenoberflächen wesentlich weniger Schmutzpartikel ablagern. Außerdem sind derartige Anlagen wesentlich einfacher auf andere Scheibenabmessungen umrüstbar.By aligning the substrates or disks in vertical alignment becomes the relatively expensive footprint in the clean rooms significantly reduced and it becomes the Advantage achieved that on the disc surfaces deposit significantly less dirt particles. Also are such systems much easier on others Disc dimensions can be converted.

Bei Kreisscheiben kann ein einfacher Transport dadurch erzielt werden, daß die Scheiben die Reinigungsstationen, welche geneigt angeordnet sind, unter Schwerkraft durchlaufen, insbesondere durchrollen. Es werden somit keine separaten Transporteinrichtungen benötigt. Insbesondere durchlaufen die Scheiben mehrere Reinigungsstationen, die hintereinander angeordnet sind. With circular disks, this can make transportation easier achieved that the disks the cleaning stations, which are arranged inclined under gravity go through, especially roll through. It will be no separate transport facilities required. In particular, the disks pass through several Cleaning stations, which are arranged one behind the other.  

Um optimale Reinigungsergebnisse zu erzielen werden die Scheiben während der Reinigung angehalten und/oder gedreht. Sie verbleiben in den einzelnen Reinigungsstationen bzw. Spülstationen so lange, bis das gewünschte Arbeitsergebnis erzielt ist.In order to achieve optimal cleaning results, the Discs stopped and / or rotated during cleaning. They remain in the individual cleaning stations or Rinsing stations until the desired work result is achieved.

Bei kreisförmigen Silizium-Scheiben durchlaufen diese auf ihren Rändern die Reinigungsstationen. Bei nicht kreisförmigen Scheiben werden diese in kreisringförmige Adapter integriert und durchlaufen über diese die einzelnen Reinigungsstationen.In the case of circular silicon wafers, these run through the cleaning stations at their edges. With not circular disks, these are turned into circular ones Adapters integrated and run through them through the individual Cleaning stations.

Die eingangsgenannte Aufgabe wird mittels einer Vorrichtung zur Durchführung des o.g. Verfahrens dadurch gelöst, daß die Reinigungsstation einen vertikalen Einlaß für die Scheiben aufweist, daß sie mit Führungselementen zur Führung der Scheiben in vertikaler Ausrichtung versehen ist und daß sie einen vertikalen auslaß aufweist.The task mentioned above is achieved by means of a device to carry out the above Process solved in that the cleaning station has a vertical inlet for the Discs that they with guide elements for Guide of the discs is provided in a vertical orientation and that it has a vertical outlet.

Die komplette Reinigung der Scheiben erfolgt also in der vertikalen Ausrichtung. Dies hat auch den Vorteil, daß die Reinigungsfluide ohne weiteres ablaufen können und die Schmutzpartikel mitnehmen und abtransportieren. Spezielle Wendevorrichtungen für die Scheiben bedarf es innerhalb der Reinigungsstationen nicht, da die Scheiben vertikal in die Reinigungsstation einlaufen und vertikal diese wieder verlassen.The complete cleaning of the panes is done in the vertical orientation. This also has the advantage that the Cleaning fluids can run off easily and the Take dirt particles with you and remove them. Specific Turning devices for the disks are required within the Cleaning stations not, because the discs are vertically in the  Enter cleaning station and vertical again leave.

Da die Führungselemente die Scheiben lediglich an den seitlichen Randbereichen berühren, ist eine beidseitige Reinigung einfach möglich und die Kontamination der Scheiben mit Partikeln auf ein Minimum begrenzt. Und die mechanische Belastung des Substrates beim Transport ist entsprechend gering.Since the guide elements only on the discs touching the lateral edge areas is bilateral Cleaning easy and contamination of the Discs with particles kept to a minimum. And the mechanical stress on the substrate during transport accordingly low.

Die Reinigungsstation ist mit geneigten Laufbahnen für die Scheiben versehen, so daß die Scheiben unter Schwerkraft die Reinigungsstation durchrollen können. Antriebe hierfür sind nicht erforderlich. Vorteilhaft ist die Reinigungsstation mit Stoppern für die Scheiben versehen, so daß die Scheiben die erforderliche Reinigungszeit in der Station verweilen können.The cleaning station has inclined tracks for the Provide discs so that the discs are under gravity can roll through the cleaning station. Drives for this are not required. That is advantageous Provide cleaning station with stoppers for the panes, so that the washers have the required cleaning time can stay at the station.

Innerhalb der Reinigungsstation sind vorteilhaft Drehantriebselemente vorgesehen, über welche die Scheiben in eine Drehbewegung versetzt werden, ohne daß sie transportiert werden.Inside the cleaning station are advantageous Rotary drive elements are provided, via which the discs can be rotated without them be transported.

Bevorzugt sind mehrere Reinigungsstationen hintereinander angeordnet, wobei die Reinigungsfluide kaskadenartig von nachgeschalteten Reinigungsstationen zu vorgeschalteten Reinigungsstationen transportiert werden. Dies hat den wesentlichen Vorteil, daß nur noch ein Bruchteil der Reinigungsfluide benötigt wird.Several cleaning stations in a row are preferred arranged, the cleaning fluids cascaded from downstream cleaning stations to upstream  Cleaning stations are transported. This has the significant advantage that only a fraction of the Cleaning fluids is needed.

Vorteilhaft ist eine Zuführstation und eine Auffangstation vorgesehen. In der Zuführstation und/oder in der Auffangstation werden eine Vielzahl derartiger Scheiben nebeneinander bereitgehalten und einzeln über Blenden den Reinigungsstationen zugeführt. Durch die Blende kann lediglich eine einzige Scheibe der Zuführstation zugeführt werden bzw. in die Auffangstation gelangen, wobei über die Blende die anderen Substrate in der Zuführstation bzw. Auffangstation sich befindenden Scheiben zurückgehalten werden. Auf diese Weise können die Zuführstation und/oder die Auffangstation kippbar gelagert werden, so daß die Scheiben unter Schwerkraft austreten bzw. in die Station eintreten können.A feed station and a collecting station are advantageous intended. In the feed station and / or in the A large number of such panes are used as a collecting station held next to each other and individually over panels Cleaning stations supplied. Through the cover can only a single slice is fed to the feed station will or get into the sanctuary, with the Blend the other substrates in the feed station or Waste glass is held back become. In this way, the feed station and / or the collecting station can be tilted so that the Exit windows under gravity or into the station can occur.

Eine andere Möglichkeit des Transports der Scheiben aus der Zuführstation besteht darin, daß die Zuführstation einen die Scheiben in die Reinigungsstation überführenden Stempel aufweist.Another way of transporting the disks from the Feed station is that the feed station has a stamp the discs into the cleaning station having.

Mit dem erfindungsgemäßen Verfahren sowie der erfindungsgemäßen Vorrichtung können platzsparend und relativ preiswert Silizium-Scheiben in vertikaler Position beidseitig bearbeitet werden, wobei zusätzlich noch Bürsten eingesetzt werden können. Der Transport der Scheiben erfolgt durch einfaches Abrollen der Substrate auf einer schiefen Ebene. Die Trocknung kann als weitere Station der Spülstation nachgeschaltet sein oder als separate Station ausgeführt sein, in welcher eine Alkohol-Dampftrocknung oder eine Marangoni-Trocknung erfolgt.With the inventive method and the The inventive device can save space and relatively inexpensive silicon wafers in a vertical position  machined on both sides, with additional brushes can be used. The transportation of the disks is done by simply unrolling the substrates on a inclined plane. Drying can be used as another station in the Be flushing station downstream or as a separate station be carried out in which an alcohol steam drying or marangoni drying.

Weitere Vorteile, Merkmale und Einzelheiten der Erfindung ergeben sich aus den Unteransprüchen sowie der nachfolgenden Beschreibung, in der unter Bezugnahme auf die Zeichnung besonders bevorzugte Ausführungsbeispiele im einzelnen beschrieben sind. Dabei können die in der Zeichnung dargestellten und in den Ansprüchen sowie der Beschreibung erwähnten Merkmale jeweils einzeln für sich oder in beliebiger Kombination erfindungswesentlich sein. In der Zeichnung zeigen:Further advantages, features and details of the invention result from the subclaims and the following description, in which with reference to the Drawing particularly preferred embodiments in individual are described. The in the Drawing shown and in the claims and the Description mentioned features each individually or be essential to the invention in any combination. The drawing shows:

Fig. 1 eine erste Variante der erfindungsgemäßen Vorrichtung mit Zuführstation und Auffangstation; Figure 1 shows a first variant of the device according to the invention with feed station and collecting station.

Fig. 2 eine zweite Variante der Erfindung mit einer Zuführstation, welche einen Stempel aufweist; Fig. 2 shows a second variant of the invention with a feeding station having a punch;

Fig. 3 eine weitere Variante der Vorrichtung mit einer kippbaren Zuführstation; Fig. 3 shows a further variant of the device with a tiltable feed station;

Fig. 4 eine Variante der Auffangstation, welche kippbar ausgebildet ist; Fig. 4 is a variant of the receiving station, which is constructed to be tiltable;

Fig. 5 eine weitere Variante der Auffangstation, in welche die Scheiben mittels eines Transportselements eingesetzt werden. Fig. 5 shows another variant of the collecting station, in which the discs are inserted by means of a transport element.

In der Fig. 1 sind zwei hintereinander angeordnete Reinigungsstationen 1 und 2 dargstellt, denen eine Spülstation 3 nachgeschaltet ist. Die Reinigungsstationen 1 und 2 und die Spülstation 3 sind geneigt angeordnet und weisen eine schiefe Ebene auf, auf welcher Silizium- Scheiben 4 aufgrund der Schwerkraft abrollen können. Dabei durchlaufen die Silizium-Scheiben 4 die einzelnen Reinigungsstationen 1 und 2 und die Spülstation 3 ohne zusätzliche Antriebsmittel. Jede Reinigungsstation 1 bzw. 2 ist mit einem Ablauf 5 bzw. 6 versehen, über welchen das Reinigungsfluid, welches z. B. deionisiertes Wasser mit oder ohne chemischen Zusätze, o. dgl. ist, ablaufen kann. Die Reinigungsstationen 1 und 2 sind, wie aus Fig. 1 ersichtlich, hintereinander angeordnet, so daß das über den Ablauf 6 abströmende Reinigungsfluid in der Reinigungsstation 1, d. h. bei der vorgeschalteten Reinigungsstation wieder verwendet werden kann. Auf diese Weise wird Reinigungsfluid eingespart. In Fig. 1 two consecutively arranged cleaning stations 1 and 2 are dargstellt, where a rinsing station is connected downstream of the third The cleaning stations 1 and 2 and the rinsing station 3 are inclined and have an inclined plane on which silicon wafers 4 can roll due to gravity. The silicon wafers 4 pass through the individual cleaning stations 1 and 2 and the rinsing station 3 without additional drive means. Each cleaning station 1 or 2 is provided with an outlet 5 or 6 , via which the cleaning fluid, which, for. B. deionized water with or without chemical additives, or the like. The cleaning stations 1 and 2 are, as can be seen from Fig. 1, arranged in series, so that the effluent via the outlet 6 of cleaning fluid in the cleaning station 1, ie can be used in the upstream cleaning station again. In this way, cleaning fluid is saved.

In Transportrichtung (Pfeil 7) befindet sich vor der Reinigungsstation 1 ein Magazin 8 mit einer Zuführstation 9, über welche die Silizium-Scheiben 4 in Richtung des Pfeils 10 der Reinigungsstation 1 zugeführt werden. Der Spülstation 3 ist ein weiteres Magazin 11 nachgeschaltet, welches eine Auffangstation 12 besitzt. Die Auffangstation 12 kann auch als Trockenstation ausgebildet sein.In the transport direction (arrow 7 ) there is a magazine 8 in front of the cleaning station 1 with a feed station 9 , via which the silicon wafers 4 are fed to the cleaning station 1 in the direction of the arrow 10 . The rinsing station 3 is followed by a further magazine 11 , which has a collecting station 12 . The collecting station 12 can also be designed as a drying station.

In der Fig. 2 ist eine Variante gezeigt, in der die Siliziumscheibe 4 aus dem Magazin 8, insbesondere aus der Zuführstation 9 in die Reinigungsstation 1 transportiert wird. Hierfür ist die Zuführstation 9 mit einem Transportstempel 13 versehen, welcher vertikal bewegbar ist. Dieser Transportstempel 13 weist an seinem oberen Ende 14 eine geeignete Aufnahme bzw. Haltevorrichtung für die Siliziumscheibe 4 auf. Mit dem Transportstempel 13 wird eine Siliziumscheibe aus dem Magazin 8 entnommen und vertikal nach oben bewegt. Dabei stößt die Siliziumscheibe 4 mit ihrem oberen Umfangsrand an einer Schrägfläche 6 an, und wird durch eine weitere Aufwärtsbewegung des Transportstempels 13 in Richtung des Pfeils 16 von diesem weggeschoben. Dabei tritt die Siliziumscheibe 4 in die Reinigungsstation 1 ein und rollt auf der geneigten Laufbahn 17 bis sie von Stoppern 18 angehalten wird. In dieser Position wird die Siliziumscheibe 4 beidseitig gereinigt. In der Reinigungsstation 2 sind noch Drehantriebselemente 19 gezeigt, die die Siliziumscheibe 4 in eine Drehbewegung in Richtung des Pfeils 20 versetzt, die auch in der Station 1 möglich ist. FIG. 2 shows a variant in which the silicon wafer 4 is transported from the magazine 8 , in particular from the feed station 9, into the cleaning station 1 . For this purpose, the feed station 9 is provided with a transport stamp 13 which can be moved vertically. This transport stamp 13 has at its upper end 14 a suitable receptacle or holding device for the silicon wafer 4 . With the transport stamp 13 , a silicon wafer is removed from the magazine 8 and moved vertically upwards. The upper edge of the silicon wafer 4 abuts an inclined surface 6 and is pushed away from the latter by a further upward movement of the transport stamp 13 in the direction of the arrow 16 . The silicon wafer 4 enters the cleaning station 1 and rolls on the inclined track 17 until it is stopped by stoppers 18 . In this position, the silicon wafer 4 is cleaned on both sides. In the cleaning station 2 , rotary drive elements 19 are also shown, which set the silicon wafer 4 in a rotational movement in the direction of the arrow 20 , which is also possible in the station 1 .

In der Fig. 3 ist eine andere Variante für die Beschickung der Reinigungsstation 1 gezeigt. Dort wird das Magazin 8 derart verschwenkt, daß die Siliziumscheibe 4 durch Schwerkraft aus dem Magazin 8 und der Zuführstation 9 in die Reinigungsstation 1 eintreten kann. Dafür, daß lediglich die gewünschte Siliziumscheibe 4 die Zuführstation 9 verläßt sorgt eine Blende 21, welche nur die gewünschte Siliziumscheibe 4 durchläßt und die restlichen Scheiben in der Zuführstation 9 zurückhält.In the Fig. 3 shows another variant for the feed of the cleaning station 1 is shown. There, the magazine 8 is pivoted in such a way that the silicon wafer 4 can enter the cleaning station 1 by gravity from the magazine 8 and the feed station 9 . An aperture 21 ensures that only the desired silicon wafer 4 leaves the feed station 9 , which only allows the desired silicon wafer 4 to pass through and retains the remaining wafers in the feed station 9 .

Entsprechend ist im Anschluß an die Spülstation 3 ein verschwenkbares Magazin 11 mit Auffangstation 12 vorgesehen, in welche die Siliziumscheibe 4 durch eine Blende 22 eintritt (Fig. 4).Correspondingly, a pivotable magazine 11 with a collecting station 12 is provided after the rinsing station 3 , into which the silicon wafer 4 enters through an aperture 22 ( FIG. 4).

Alternativ kann, wie in Fig. 5 dargestellt, die aus der Spülstation 3 austretende Scheibe 4 auch von einem Greifer 23 ergriffen und in die Auffangstation 12 des Magazins 11 abgeklipt werden.Alternatively, as shown in FIG. 5, the disk 4 emerging from the rinsing station 3 can also be gripped by a gripper 23 and clipped into the collecting station 12 of the magazine 11 .

In Fig. 4 sind in der Spülstation 3 Pfeile 24 erkennbar, mit denen die Aufströmrichtung von Spülflüssigkeit auf die Scheibe 4 angedeutet ist. Auf diese Weise kann die Scheibe 4 ebenfalls in Drehbewegung versetzt werden, so daß sie in Richtung des Pfeils 20 umläuft.In FIG. 4, arrows 24 can be seen in the rinsing station 3 , with which the direction of flow of rinsing liquid onto the pane 4 is indicated. In this way, the disc 4 can also be rotated so that it rotates in the direction of arrow 20 .

Claims (14)

1. Verfahren zum Reinigen von Silizium-Scheiben (4) (Wafer) mittels fluiden Medien, die auf wenigstens eine, insbesondere beide Oberflächen der Scheiben (4) geleitet werden, dadurch gekennzeichnet, daß die Scheiben (4) derart ausgerichtet werden, daß die Scheibenebene vertikal verläuft und daß die Scheiben (4) in dieser Ausrichtung die Reinigungsstation(en) (1 und 2) durchlaufen.1. A method for cleaning silicon wafers ( 4 ) (wafers) by means of fluid media which are passed to at least one, in particular both surfaces of the wafers ( 4 ), characterized in that the wafers ( 4 ) are aligned such that the The disc plane is vertical and that the discs ( 4 ) pass through the cleaning station (s) ( 1 and 2 ) in this orientation. 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Scheiben (4) die Reinigungsstation (1 und 2), welche geneigt angeordnet ist, unter Schwerkraft durchlaufen, insbesondere durchrollen.2. The method according to claim 1, characterized in that the discs ( 4 ) pass through the cleaning station ( 1 and 2 ), which is arranged inclined, under gravity, in particular roll. 3. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Scheiben (4) mehrere Reinigungsstationen (1 und 2) durchlaufen.3. The method according to any one of the preceding claims, characterized in that the disks ( 4 ) pass through several cleaning stations ( 1 and 2 ). 4. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Scheiben (4) während der Reinigung angehalten und/oder gedreht werden. 4. The method according to any one of the preceding claims, characterized in that the disks ( 4 ) are stopped and / or rotated during cleaning. 5. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Scheiben (4) auf ihren Rändern die Reinigungsstationen (1 und 2) durchlaufen oder in einen kreisringförmigen Adapter aufgenommen sind.5. The method according to any one of the preceding claims, characterized in that the discs ( 4 ) pass through the cleaning stations ( 1 and 2 ) on their edges or are accommodated in an annular adapter. 6. Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Reinigungsstation (1 bzw. 2) einen vertikalen Einlaß für die Scheiben (4) aufweist, daß sie mit Führungselementen zur Führung der Scheiben (4) in vertikaler Ausrichtung versehen ist und daß sie einen vertikalen auslaß aufweist.6. Device for performing the method according to any one of the preceding claims, characterized in that the cleaning station ( 1 or 2 ) has a vertical inlet for the discs ( 4 ) that they have guide elements for guiding the discs ( 4 ) in a vertical orientation is provided and that it has a vertical outlet. 7. Vorrichtung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Führungselemente die Scheiben (4) lediglich an den seitlichen Randbereichen berühren.7. The device according to claim 6, characterized in that the guide elements touch the disks ( 4 ) only on the lateral edge regions. 8. Vorrichtung nach Anspruch 6 oder 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Reinigungsstation (1 bzw. 2) mit geneigten Laufbahnen (17) für die Scheiben (4) versehen ist.8. Apparatus according to claim 6 or 7, characterized in that the cleaning station ( 1 or 2 ) is provided with inclined raceways ( 17 ) for the disks ( 4 ). 9. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 6 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß die Reinigungsstation (1 bzw. 2) mit Stoppern (18) für die Scheiben (4) versehen ist. 9. Device according to one of claims 6 to 8, characterized in that the cleaning station ( 1 or 2 ) is provided with stoppers ( 18 ) for the disks ( 4 ). 10. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 6 bis 9, dadurch gekennzeichnet, daß die Reinigungsstation (1 bzw. 2) mit Drehantriebselementen (19) für die Scheiben (4) versehen ist.10. Device according to one of claims 6 to 9, characterized in that the cleaning station ( 1 or 2 ) is provided with rotary drive elements ( 19 ) for the disks ( 4 ). 11. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 6 bis 10, dadurch gekennzeichnet, daß mehrere Reinigungsstationen (1 und 2) hintereinander angeordnet sind und die Reinigungsfluide kaskadenartig von nachgeschalteten Reinigungsstationen (2) zu vorgeschalteten Reinigungsstationen (1) transportiert werden.11. Device according to one of claims 6 to 10, characterized in that a plurality of cleaning stations ( 1 and 2 ) are arranged one behind the other and the cleaning fluids are cascaded from downstream cleaning stations ( 2 ) to upstream cleaning stations ( 1 ). 12. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 6 bis 11, dadurch gekennzeichnet, daß eine Zuführstation (9) und eine Auffangstation (12) vorgesehen sind.12. Device according to one of claims 6 to 11, characterized in that a feed station ( 9 ) and a collecting station ( 12 ) are provided. 13. Vorrichtung nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß die Zuführstation (9) einen die Scheiben (4) in die Reinigungsstation (1) überführenden Transportstempel (13) aufweist.13. The apparatus according to claim 12, characterized in that the feed station ( 9 ) has a the discs ( 4 ) in the cleaning station ( 1 ) transferring transport stamp ( 13 ). 14. Vorrichtung nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß die Zuführstation (9) und/oder die Auffangstation (12) kippbar gelagert sind.14. The apparatus according to claim 12, characterized in that the feed station ( 9 ) and / or the collecting station ( 12 ) are tiltably mounted.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN112992731A (en) * 2021-02-05 2021-06-18 昆山基侑电子科技有限公司 Wafer reciprocating circulation cleaning equipment

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