DE19537376A1 - Autofokussierungsmikroskop - Google Patents

Autofokussierungsmikroskop

Info

Publication number
DE19537376A1
DE19537376A1 DE19537376A DE19537376A DE19537376A1 DE 19537376 A1 DE19537376 A1 DE 19537376A1 DE 19537376 A DE19537376 A DE 19537376A DE 19537376 A DE19537376 A DE 19537376A DE 19537376 A1 DE19537376 A1 DE 19537376A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
pattern
image
autofocusing
plane
objective lens
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
DE19537376A
Other languages
English (en)
Inventor
Moshe Finarov
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nova Ltd
Original Assignee
Nova Measuring Instruments Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nova Measuring Instruments Ltd filed Critical Nova Measuring Instruments Ltd
Publication of DE19537376A1 publication Critical patent/DE19537376A1/de
Ceased legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B21/00Microscopes
    • G02B21/24Base structure
    • G02B21/241Devices for focusing
    • G02B21/245Devices for focusing using auxiliary sources, detectors
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B21/00Microscopes
    • G02B21/24Base structure
    • G02B21/241Devices for focusing
    • G02B21/244Devices for focusing using image analysis techniques

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft Autofokussierungsmechanismen im allgemeinen und Autofokussierungsmechanismen für optische Systeme mit niedrig-numerischer Blende bzw. (Blenden-)öffnungfo­ kus bzw. Apertur im besonderen.
Autofokussierungssysteme für optische Systeme, wie Mikroskope, sind im Stand der Technik bekannt. Es gibt eine Vielzahl von verschiedenen Typen, die sämtlich eine Autofokussierungsab­ tasteinheit und einen Autofokussierungsantrieb beinhalten. Die Abtasteinheit stellt ein Fokus- bzw. Brennpunkt- bzw. Bildschär­ fefehlersignal bereit, das zu dem Defokussierungsumfang des Bildes proportional ist (d. h. proportional zu dem Abstand zwi­ schen der nominalen Objektebene und der tatsächlichen Ebene des Objektes). Der Antrieb, der typischerweise ein Motor irgendeiner Art ist, setzt entweder das Objekt oder die Fokalebene bzw. Brennebene um.
Autofokussierungssysteme können in zwei Hauptgruppen, statische und dynamische Systeme, unterteilt werden, basierend auf dem Zustand des Objektes, das im Augenblick aus dem Fokus bzw. dem Brennpunkt bzw. der Bildschärfe ist.
Statische Autofokussierungssysteme verwenden das Objekt, das stationär bleibt, um den Defokussierungsumfang zu bestimmen. Zum Beispiel analysieren die Autofokussierungssysteme der meisten Verbraucherkameras die Schärfe der Details bzw. Einzelheiten des Objektes in einem erhaltenen Bild, um den Defokussierungsumfang zu bestimmen. Wenn das optische System hin zu und weg von dem Objekt bewegt wird, wird die Änderung in der Defokussierung gemessen.
Ein typisches bekanntes Mikroskop ist in der Fig. 1 dargestellt, auf welche nun Bezug genommen wird. Das Mikroskop umfaßt längs eines Strahlenganges bzw. optischen Weges 8 eine verschiebbare bzw. bewegbare Objektivlinse 10, eine stationäre Tubuslinse bzw. Röhrenlinse (tube lens) 12, eine Bildebene 14, welche die Fokal­ ebene bzw. Brennebene der Tubuslinse 12 ist, und eine Objektflä­ che oder -ebene 16, in welcher ein darzustellendes Objekt, wie ein Film, angeordnet ist. Das Mikroskop umfaßt zusätzlich eine Lichtquelle 18, um das Objekt zu beleuchten, und einen Strah­ lenteiler bzw. Strahlungsteiler 20, um den durch die Lichtquelle 18 erzeugten Lichtstrahl 22 hin zu der Objektfläche 16 zu rich­ ten. Das Objekt auf der Objektfläche 16 reflektiert das Licht zurück durch die Objektivlinse 10, den Strahlenteiler 20 und die Tubuslinse 12 hin zu der Bildebene 14.
Wenn sich die Objektfläche 16 nicht in der Fokalebene bzw. Brennebene der Linse 10, der bewegbaren Objektivlinse 10, befin­ det, wird der Fokus bzw. der Brennpunkt bzw. die Bildschärfe durch Bewegen der Linse 10 in der Richtung des Strahlenganges 8 eingestellt. Alternativ wird die Objektfläche 16 bewegt. Die Tiefenschärfe (DOF) der Objektivlinse 10 ist begrenzt, wie in der Fig. 1 dargestellt ist.
Mikroskope weisen typischerweise triangulierende bzw. aus Drei­ ecken zusammensetzende bzw. dreieckbildende (triangulating) Autofokussierungsabtasteinheiten auf, die eine schräge bzw. schiefe Beleuchtung und eine spiegelnde bzw. regelmäßige bzw. gerichtete Reflexion verwenden. Daher wird, wie in der Fig. 2 dargestellt ist, auf welche nun Bezug genommen wird, eine Auto­ fokussierungslichtquelle 19 derart angeordnet, um die Objekt­ ebene 16 schräg bzw. schief zu beleuchten, und beinhaltet das Mikroskop zusätzlich einen Positionsabtastdetektor (PSD) 28 zum Abtasten der seitlichen Versetzung des Strahls (wie weiter unten beschrieben wird) sowie einen Motor 27 zum Bewegen der Objektiv­ linse 10.
Bei dem Mikroskop der Fig. 2 wird der mit 30 bezeichnete Licht­ strahl durch den Strahlenteiler 20 an einem Punkt A auf eine Seite des Strahlenganges 8 abgelenkt. Der abgelenkte Strahl 30 wird durch die Objektivlinse 10 derart abgelenkt bzw. gebeugt, um die Objektebene 16 an einem Reflexionspunkt C in einem Winkel a schräg bzw. schief zu beleuchten.
Der Strahl 30 wird all Lichtstrahl 32 reflektiert und durch den Strahlenteiler 20 an einem Punkt B auf die andere Seite des Strahlenganges 8 vom Punkt A abgelenkt. Der abgelenkte Licht­ strahl 32 beleuchtet dann den PSD 28, welcher den Ort, an wel­ chem der Strahl 32 auf diesen auftrifft, mißt.
Wenn sich die Objektfläche 16 außerhalb des Brennpunktes, da dieser von der Objektivlinse 10 entfernt ist, zum Beispiel an dem mit 16′ bezeichneten und durch die gestrichelten Linien angedeuteten Ort befindet, legt der Lichtstrahl 30, bevor er reflektiert wird, weiter einen Weg bis zu einem Reflexionspunkt D zurück, der seitlich von dem Punkt C, dem vorhergehenden Re­ flexionspunkt, verschoben ist.
Der mit 32′ bezeichnete, abgelenkte Lichtstrahl nimmt einen unterschiedlichen Weg, wobei er auf den Strahlenteiler an einem Punkt B′ auftrifft und dementsprechend auf den PSD 28 an einem unterschiedlichen Ort auftrifft.
Da der Abstand zwischen den Reflexionspunkten C und D eine Funk­ tion des Defokussierungsumfanges ist und da dieser Abstand in dem Abstand zwischen den Punkten B und B′ reflektiert wird, kann der Defokussierungsumfang gemessen und entsprechend kompensiert werden, indem der Motor 27 die Objektivlinse 10 bewegt.
Die folgenden US-Patente stellen Beschreibungen verschiedener Systeme, die auf dem oben beschriebenen Triangulationsprinzip basieren, zur Verfügung: 5,136,149 von Fujiwara et al und 4,577,095 von Watanabe.
Eine dynamische Autofokussierung wird verwendet, wenn es er­ wünscht ist, das Objekt ständig im Fokus bzw. Brennpunkt zu halten, während es sich relativ zu der Objektivlinse bewegt. Diese Verfahren sind bei automatischen optischen Inspektions­ systemen, wie für Kristallscheiben- oder Zwischenmaskeninspek­ tionssysteme, welche eine große Objektfläche innerhalb einer kurzen Zeitdauer inspizieren müssen, allgemein bekannt.
Bei automatischen Inspektionssystemen wird das Objekt kontinu­ ierlich abgetastet bzw. gescannt (eine Bewegung in der Ebene der Objektfläche, die durch den Pfeil 29 gekennzeichnet ist) und weist das Objekt typischerweise ein zweidimensionales Muster in bzw. auf dieser auf. Als ein Ergebnis arbeiten die stationären Autofokussierungsverfahren nicht, da die Bewegung des Objektes und seines Musters das Abtasten des Brennpunktes bewirken. Das US-Patent 4,639,587 von Chadwick et al beschreibt ein System, welches die Effekte eines sich bewegenden Objektes umgeht. Bei diesem System wird ein Gitter bzw. Netz bzw. Raster (grid), welches sich in einem Beleuchtungsweg bzw. Beleuchtungsgang befindet, durch die Objektivlinse des Mikroskops auf einen un­ tersuchten Artikel projiziert. Das Gitter wird alternativ auf den Artikel mit zwei verschiedenen Versetzungen (offsets) von der optischen Hauptachse des Mikroskops projiziert. Als ein Ergebnis wird das Gitter schräg bzw. schief auf den untersuchten Artikel projiziert.
Jeder reflektierte Strahl wird auf ein statisches Gitter proji­ ziert, das auf das nominale Gitterbild eingestellt wird, wenn sich das Bild im Brennpunkt durch ein Viertel der Gitterperiode befindet. Die Lichtintensität der reflektierten Gitter durch die statischen Gitter wird gemessen.
Die Verschiebung des zu untersuchenden Artikels wird als eine Funktion des Umfanges der Verschiebung der reflektierten Gitter in Bezug auf die statischen bestimmt. Da beide Strahlengänge dieselbe Gitterverschiebung, jedoch in entgegengesetzten Rich­ tungen, vorsehen, mißt der Unterschied zwischen ihren Signalen den Fokus- bzw. Brennpunkt- bzw. Bildschärfefehler und ist der Brennpunktfehler unempfindlich auf das Muster des untersuchten Artikels.
Da das Fehlersignal des US-Patents 4,639,587 durch Analog-Detek­ toren erzeugt wird, ist dieses System sehr empfindlich auf einen Hintergrundpegel von Störlicht bzw. Streulicht, Störung bzw. Rauschen und auf ein Fehlen einer Gleichmäßigkeit von den zwei Strahlengängen. Als ein Ergebnis beinhaltet dieses System zu­ sätzliche optische und elektronische Elemente, um die notwendige Selbstkompensation und Selbstkalibrierung bzw. Selbsteichung vorzusehen.
Es wird weiterhin bemerkt, daß die Triangulationsverfahren einen ziemlich großen Winkel der schrägen bzw. schiefen Beleuchtung benötigen. Ansonsten stellt die seitliche Verschiebung des Strahles kein ausreichend empfindliches Maß des Defokussierungs­ umfangs dar. Daher eignen sich Triangulationsverfahren nicht gut für Objektivlinsen mit niedrig-numerischen Blenden, welche klei­ ne Einfallswinkel der abtastenden Strahlen induzieren.
Das US-Patent 4,725,722 von Maeda et al beschreibt ein Autofo­ kussierungsverfahren, das für integrierte Schaltkreise geeignet ist. Das Verfahren projiziert ein gestreiftes Muster auf dem zu fokussierenden Objekt und der Kontrast des Bildes des Strei­ fenmusters wird zum Fokussieren verwendet. Das Bild wird durch ein optisches System abgebildet und durch zwei Detektoren abge­ tastet, jeweils an zwei verschiedenen Orten gegenüber der Brenn­ ebene des optischen Systems. Wenn sich die Signale der zwei Detektoren gleichmäßig außerhalb des Brennpunktes befinden, befindet sich das Objekt in der Brennebene des optischen Systems.
Eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung besteht darin, einen Autofokussierungsmechanismus zur Verfügung zu stellen, der für sämtliche Objektivlinsen, jedoch insbesondere für diejenigen mit niedrig-numerischen Blenden bzw. (Blenden-)öffnungen bzw. Aper­ turen verwendbar ist. Weiterhin besteht eine Aufgabe der vor­ liegenden Erfindung darin, einen Autofokussierungsmechanismus zur Verfügung zu stellen, der während des Abtastens bzw. Scan­ nens des Objektes verwendbar ist.
Der Autofokussierungsmechanismus arbeitet mit einem Mikroskop, das einen Hauptstrahlengang, eine Objektivlinse, eine Objektflä­ che, eine Bildebene und eine Einrichtung zum Ändern des Abstan­ des zwischen der Objektivlinse und der Objektfläche, um dabei das Bild des Objektes zu fokussieren, aufweist. Der Autofokus­ sierungsmechanismus umfaßt vorzugsweise ein Musterabbildungs­ system, einen einzelnen Bilddetektor bzw. eine einzelne Bild­ abtasteinrichtung und einen Musterbrennpunktanalysator. Das Musterabbildungssystem bildet wenigstens ein Muster durch die Objektivlinse längs des Hauptstrahlenganges und auf der Objekt­ fläche ab. Das Bild des Musters wird dann mit einem Bild des Objektes kombiniert und längs des Hauptstrahlenganges zu der Bildebene reflektiert. Der Bilddetektor detektiert das reflek­ tierte Bild und der Musterbrennpunktanalysator bestimmt den Umfang der Schärfe des Musters durch Analysieren des Ausgangs bzw. Outputs des Bilddetektors. Der Musterbrennpunktanalysator kann auch der Einrichtung zum Ändern des Abstandes anzeigen, sich in eine Richtung einer erhöhten Bildschärfe zu bewegen.
In Übereinstimmung mit einer bevorzugten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung umfaßt das Musterabbildungssystem eine kontrastreiche Mustervorrichtung (high contrast pattern appara­ tus), eine zusätzliche Linse, eine Autofokussierungslichtquelle und einen Strahlenteiler bzw. Strahlungsteiler. Die zusätzliche Linse bildet das Muster durch die Objektivlinse auf der Objekt ebene ab. Die Autofokussierungslichtquelle beleuchtet das Muster hin zu der zusätzlichen Linse und der Strahlenteiler kombiniert das Musterabbildungssystem mit dem Hauptstrahlengang.
In Übereinstimmung mit einer bevorzugten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung umfaßt die kontrastreiche Mustervorrich­ tung zusätzlich ein einzelnes Muster, das in der Objektebene der zusätzliche Linse angeordnet ist. Alternativ umfaßt sie zwei kontrastreiche Muster, die von der Objektebene der zusätzlichen Linse gleichbeabstandet angeordnet sind. In dem alternativen Fall wird jedes der kontrastreichen Muster auf einem unter­ schiedlichen Teil der Objektebene des Objektivs abgebildet.
Weiterhin wird der Autofokussierungsmechanismus in Übereinstim­ mung mit bevorzugten Ausführungsformen der vorliegenden Erfin­ dung längs eines Beleuchtungsweges des Mikroskops kombiniert. Er kann alternativ längs des Hauptstrahlenganges kombiniert werden.
Des weiteren stellt die Autofokussierungslichtquelle in Überein­ stimmung mit einer bevorzugten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung Licht bereit, das für das menschliche Auge nicht sichtbar ist.
Schließlich umfaßt der Musterbrennpunktanalysator in Überein­ stimmung mit einer bevorzugten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung eine Musterermittlungseinrichtung bzw. Musterabziehein­ richtung zum Ermitteln bzw. Abziehen des Musters und eine Mu­ sterschärfebestimmungseinrichtung zum Bestimmen der Schärfe des Musters. Im Falle von zwei Mustern wirkt die Musterschärfebe­ stimmungseinrichtung getrennt auf die Bilder von jedem der zwei kontrastreichen Muster, wobei zwei Schärfewerte erzeugt werden. Aus den Schärfewerten bestimmt der Musteranalysator eine Rich­ tung und einen Betrag einer Bewegung für die Einrichtung zum Ändern des Abstandes zwischen dem Objektiv und der Objektfläche.
Die vorliegende Erfindung wird aus der folgenden detaillierten Beschreibung, die in Verbindung mit den Zeichnungen erfolgt, besser verständlich und beurteilbar, wobei:
Fig. 1 eine schematische Darstellung eines bekannten Mikroskops ist,
Fig. 2 eine schematische Darstellung eines bekannten Mikroskops mit einem aus Dreiecken zusammensetzenden Autofokussierungsmechanismus ist,
Fig. 3 eine schematische Darstellung eines Mikroskops mit einem Autofokussierungsmechanismus ist, der in Über­ einstimmung mit einer ersten bevorzugten Ausführungs­ form der vorliegenden Erfindung ausgebildet und wirk­ sam ist,
Fig. 4A, 4B und 4C graphische Darstellungen des Graustufen­ signals eines idealen, fokussierten bzw. defokussier­ ten Gitterbildes sind,
Fig. 4D und Fig. 4E graphische Darstellungen von Histogrammen der Kurven der Fig. 4B bzw. 4C sind,
Fig. 5 eine schematische Darstellung eines Mikroskops mit einem Autofokussierungsmechanismus ist, der in Über­ einstimmung mit einer zweiten bevorzugten Ausführungs­ form der vorliegenden Erfindung ausgebildet und wirk­ sam ist,
Fig. 6 eine schematische Darstellung des Bildes der Muster der Fig. 5 ist, und
Fig. 7 eine schematische Darstellung eines Mikroskops mit einem Autofokussierungsmechanismus ist, der in Über­ einstimmung mit einer dritten bevorzugten Ausführungs­ form der vorliegenden Erfindung ausgebildet und wirk­ sam ist.
Unter Bezugnahme auf die Fig. 3, die ein bekanntes Mikroskop, wie dasjenige, welches in der Fig. 1 gezeigt ist, mit einer zusätzliche Autofokussierungsvorrichtung 40, die in Übereinstim­ mung mit einer ersten bevorzugten Ausführungsform der vorliegen­ den Erfindung ausgebildet und wirksam ist, darstellt.
Wie in der Fig. 1 umfaßt das Mikroskop der Fig. 3 eine Objekt­ fläche 16, eine Objektivlinse 10, einen Strahlenteiler bzw. Strahlungsteiler 20, eine Tubuslinse bzw. Röhrenlinse (tube lens) 12, eine Bildebene 14 und eine beleuchtende Lichtquelle 18. Wie bei dem Stand der Technik befinden sich die Objektivlin­ se 10, der Strahlenteiler 20 und die Tubuslinse 12 in dem Haupt­ strahlengang bzw. optischen Hauptweg 8 und stellt die Lichtquel­ le 18 einen Lichtstrahl 50, der durch den Strahlenteiler 20 auf den Strahlengang 8 abgelenkt wird, zur Verfügung. Wie in der Fig. 2 gezeigt ist, ist die Objektivlinse 10 über einen zugeord­ neten bzw. verbundenen Motor 27 bewegbar.
In Übereinstimmung mit der ersten Ausführungsform der vorliegen­ den Erfindung ist die Autofokussierungsvorrichtung 40 eine zu­ sätzliche Vorrichtung, die dem optischen System jedes bekannten Mikroskops zugefügt werden kann. Die Vorrichtung 40 umfaßt eine zweite Lichtquelle 60, eine Beleuchtungslinse 62, ein kontra­ streiches (high contrast), transparentes Objekt 64, eine Abbil­ dungslinse 66, zwei Strahlenteiler bzw. Strahlungsteiler 68 und 69, einen Bilddetektor 70 und einen Musteranalysator 72. Der Strahlenteiler bzw. Strahlungsteiler 69 ist in den Strahlengang 8 eingefügt und dient dazu, das Bild hin zu der Bildebene 14 zum Betrachten durch einen Benutzer und zu dem Bilddetektor 70, der in dem gleichen Abstand von dem Strahlenteiler bzw. Strahlungs­ teiler 69 wie die Bildebene 14 angeordnet ist, zum späteren Verarbeiten zur Verfügung zu stellen. Wie aus dem Stand der Technik bekannt ist, kann die Autofokussierungsvorrichtung 40, wenn das Mikroskop schon eine CCD-Kamera in der Bildebene 14 beinhaltet, die vorhandene CCD verwenden und benötigt nicht den Strahlenteiler bzw. Strahlungsteiler 69 und den Bilddetektor 70.
Die Licht fokussierende Linse 62 beleuchtet das transparente Objekt 64 mit Licht aus der Quelle 60. Das transparente Objekt 64 kann jedes kontrastreiche Objekt, wie ein Metallmuster auf einem Glassubstrat, sein. Das Muster kann jedes leicht identifi­ zierbare Muster, wie eine Kontrastkante (contrast edge), ein Gitter, ein kreisförmiges Muster, etc. sein.
Das Licht aus dem Muster 64 wird durch die Abbildungslinse 66 gesammelt und, d. h. als parallel gerichteter bzw. kollimierter Strahl, übertragen und das resultierende Bild wird über die Strahlenteiler bzw. Strahlungsteiler 68 und 20 sowie die Objek­ tivlinse 10 auf die Objektfläche 16 projiziert.
Die Bilder des Musters 64 und des Objektes auf der Objektfläche 16 werden durch die Objektivlinse 10, den Strahlenteiler bzw. Strahlungsteiler 20 und die Tubuslinse 12 übertragen und werden auf den Bilddetektor 70, wie einer ladungsgekoppelten Einrich­ tung (CCD), durch welche sie in digitale Daten konvertiert wer­ den, um durch den Musteranalysator 72 bearbeitet bzw. verarbei­ tet zu werden, abgebildet. Es wird angemerkt, daß in der Fig. 3 durchgezogene Linien Lichtstrahlen darstellen, während gestri­ chelte Linien den Datenfluß darstellen.
Die Linse 66 wird eingestellt, um das Muster 64 auf die mit 71 bezeichnete Objektebene der Objektivlinse 10 zu projizieren, von wo das optische System des Mikroskops es auf der Bildebene 14 abbildet. Wenn sich die Objektfläche 16 in der Objektebene 71 befindet, befinden sich daher beide Bilder, dasjenige des Mu­ sters 64 und dasjenige des Objektes, auf der Fläche 16 im Fokus bzw. Brennpunkt. Selbst wenn sich das Objekt bewegt, was das Objekt veranlaßt, unscharf bzw. verschwommen zu erscheinen, bleibt das Muster 64, das sich nicht bewegt, scharf sichtbar. Das Objekt kann sich entweder selbst bewegen, was der Fall sein kann, wenn ein Lebewesen betrachtet wird, oder kann durch das Mikroskop bewegt werden, wenn die Objektfläche 16 abgetastet bzw. gescannt wird.
Es wird angemerkt, daß die Objektebene für das Mikroskop der Fig. 3 auch die Brennebene ist. Bei anderen Typen von Mikros­ kopen ist jedoch die Objektebene eine andere als die Brennebene.
Wenn die Objektfläche 16, wie in der Fig. 3 gezeigt ist, nicht die Objektebene 71 ist, befindet sich die Projektion des Musters 64 auf der Objektfläche 16 außerhalb des Fokus bzw. des Brenn­ punktes bzw. der Bildschärfe. Dies ist in der Fig. 3 durch die Verlängerungen 74 des aus der Objektivlinse 10 kommenden Lichtes angedeutet. Das optische System des Mikroskops durchläuft ein defokussiertes Bild des defokussierten Musters 64 und des Objek­ tes zu der Bildebene 14 und zu der CCD 70.
Es wird angemerkt, daß das Bild des Musters 64 zweimal defokus­ siert wird, einmal, wenn es auf die Objektfläche 16 projiziert wird, und einmal, wenn es auf die CCD 70 abgebildet wird. Dies stattet die Autofokussierungsvorrichtung 40 der vorliegenden Erfindung mit einer bedeutsamen Empfindlichkeit auf den Umfang der Schärfe des Objektes aus. Mit anderen Worten wird das Bild des Musters 64 weniger prägnant oder mehr verschwommen werden, wenn sich die Objektivlinse 10 näher zu oder weiter von der Objektfläche 16 bewegt.
Ein Bild eines gitterförmigen Musters ist schematisch in den Fig. 4A, 4B und 4C dargestellt, auf welche nun kurz Bezug genom­ men wird. Dort sind drei Kurven gezeigt, welche die Lichtinten­ sität und das CCD-Graustufensignal gegenüber der horizontalen Position X darstellen. Die Kurve 80 stellt ein ideales Muster­ intensitätsprofil dar, das Bereiche 82 einer vollständigen Über­ tragung und Bereiche 84 mit keiner Übertragung (d. h. lichtun­ durchlässig) aufweist. Die Kurve 86 stellt das Graustufensignal, das durch die CCD erhalten wird, wenn sich die Objektfläche 38 in der Objektebene 71 der Objektivlinse 10 befindet, dar. Die Kurve 86 ist eine periodische Kurve, die sich in dem Bereich, der geringfügig kleiner ist der Bereich zwischen einer minimalen Intensität Min und einer maximalen Intensität Max, erstreckt. Die Kurve 88 stellt das Graustufensignal, das durch die CCD empfangen wird, wenn die Objektfläche 16 von der Objektebene 71 entfernt ist, dar. Die Kurve 88 ist ebenso periodisch, jedoch ist ihr maximaler Wert weitaus kleiner als der Signalwert Max und ist sein minimaler Wert weitaus größer als der Signalwert Min.
Zurückkommend auf die Fig. 3 erhält der Musteranalysator 72 einen Datenblock von der CCD 70 und analysiert dessen Schärfe. Der Analysator 72 weist zwei Analyseverfahren auf, die davon abhängen, ob die Objektfläche 16 während der Zeit zur Autofokus­ sierung abgetastet bzw. gescannt wird oder nicht.
Wenn sich die Objektfläche 16 bewegt, empfängt die CCD 70 ein verschwommenes Bild des Objektes. Im Gegensatz dazu wird das Bild des Musters festgelegt und bewegt sich nicht in bezug auf die Objektivlinse 10 und den CCD-Detektor 70. Daher wird das Bild des Musters stark kontrastiert mit demjenigen des Objektes und kann die Schärfe des Musters bestimmt werden.
Zum Beispiel kann ein Graustufenhistogramm, das eine Anzahl von Bildelementen bzw. Pixeln bei jeder Graustufe bzw. bei jedem Graupegel des empfangenen Bildes aufgezeichnet ist, erzeugt werden. Wenn sich das Muster im Fokus bzw. Brennpunkt befindet, weisen die Bildelemente des Musters, die zu den Kanten bzw. Rändern nicht benachbart sind, die gleiche Graustufe auf (d. h. transparente Bereiche des Musters befinden sich an dem maximalen Wert der Fig. 4B und lichtundurchlässige Bereiche befinden sich an dem minimalen Wert). Daher weist ein Histogramm eines fokus­ sierten Bildes, das in der Fig. 4D gezeigt ist, auf welche nun kurz Bezug genommen wird, einen Peak bzw. Spitzenwert oder Aus­ schlag 90 für die transparenten Bereiche des Musters, in welchen das Objekt gesehen wird, und einen Peak 92 für die lichtundurch­ lässigen (schwarzen) Bereiche des Musters auf.
Wenn sich das Muster außerhalb des Brennpunktes befindet, ist das Bild des Musters verschwommen und weisen daher eine größere Anzahl von Bildelementen bzw. Pixeln Zwischenwerte zwischen dem maximalen und minimalen Wert auf, wie in der Fig. 4C angedeutet ist. Daher ist ein Histogramm eines defokussierten Bildes, das in der Fig. 4E gezeigt ist, auf welche nun kurz Bezug genommen wird, ähnlich zu demjenigen, das in der Fig. 4D gezeigt ist, jedoch mit zwei zueinander sehr viel engeren Peaks längs der Graustufenachse. Wenn das Bild vollständig verschwommen ist, ist dort nur ein einziger Peak in dem Histogramm vorhanden. Daher kann die Bildschärfe als eine Funktion des Abstandes zwischen den zwei Peaks längs der Graustufenachse definiert werden.
Es ist ersichtlich, daß eine Autofokussierung mit dem oben be­ schriebenen Verfahren auftreten kann, während die Objektfläche 16 abgetastet bzw. gescannt wird, da das Bild des Objektes voll­ ständig verschwommen ist. Dementsprechend werden sämtliche Punk­ te des Graufstufenhistogramms längs der Graustufenachse um annä­ hernd den gleichen Wert verschoben und ändert sich daher der Abstand zwischen den Peaks, welche die Bildschärfe definieren, nicht.
Wenn die Objektfläche 16 auch stationär ist, muß das Bild des Musters von dem kombinierten Bild entfernt werden, bevor die Schärfe des Musters bestimmt werden kann. Die Ermittlung bzw. Abziehung (extraction) kann auf jede geeignete Weise durchge­ führt werden. Da das Muster im allgemeinen ein periodisches Muster ist, weist die Fourier-Transformation des empfangenen Bildes einen Peak bei der Frequenz, die auf die Periodizität des Musters bezogen ist, auf. Das empfangene Bild kann gefiltert werden, um sämtliche Pixel zu entfernen, die nicht der Frequenz des Musters entsprechen. Die Schärfe des resultierenden Bildes wird dann in Übereinstimmung mit dem hierin zuvor umrissenen Histogrammverfahren bestimmt.
Wenn es eine CCD in der Bildebene 14 gibt, kann die CCD alterna­ tiv für eine Musteranalyse verwendet werden. Da sich das Autofo­ kussierungsmuster mit dem Bild, das in der Bildebene gesehen wird, überlagern bzw. dieses (störend) beeinflussen kann, kann die zweite Lichtquelle 60 entweder nach der Autofokussierung ausgeschaltet werden oder einen zu demjenigen, der für die CCD auf der Bildebene vorgesehen ist, unterschiedlichen Spektralbe­ reich aufweisen. Für die erste Situation (Auslöschen der Licht­ quelle) ist eine lichtemittierende Diode geeignet.
Für die zweite Situation kann der Spektralbereich des Haupt­ strahlenganges (zu der CCD auf der Bildebene 14) im sichtbaren Bereich (400 bis 700 nm) und derjenige des autofokussierenden Weges in der Nähe des Infrarot-Bereichs (700 bis 900 nm) liegen. Bei diesem Beispiel sollte der Strahlenteiler bzw. Strahlungs­ teiler 69 dichroitisch sein; er sollte Licht mit Wellenlängen kleiner als 700 nm übertragen und Licht von Wellenlängen größer als 700 nm reflektieren.
Der Unterschied zwischen dem Bild, das durch die CCD in bzw. auf der Bildebene 14 empfangen wird, und demjenigen, das durch die CCD 70 empfangen wird, sieht das Bild des Musters vor. Dessen Schärfe kann, wie hierin oben beschrieben, bestimmt werden.
Wenn eine kleine Änderung in dem Abstand der Objektivlinse 10 von der Objektfläche 16 eine große Änderung in der Schärfe des Bildes des Musters nach sich zieht bzw. induziert (da das Muster 64 zweimal durch die Objektivlinse 10 bearbeitet bzw. verarbei­ tet wird), kann der Musteranalysator 72 schnell den Umfang der Schärfe bestimmen und den Motor 27 entsprechend kontrollieren bzw. steuern.
Es ist ersichtlich, daß die Autofokussierungseinheit der Fig. 3 den Umfang der Schärfe (welcher den Defokussierungsumfang an­ zeigt), nicht aber die Richtung, um ihn zu reduzieren, bestimmt.
Ein Defokussierungsrichtungssystem ist bei der Autofokussie­ rungsvorrichtung 100 der Fig. 5 vorgesehen, auf die nun Bezug genommen wird. Die Autofokussierungsvorrichtung 100 der Fig. 5 ist mit der Ausnahme ähnlich zu derjenigen der Fig. 3, daß sie zwei Muster 94 und 96 aufweist und deren mit 102 bezeichneter Musteranalysator ein etwas unterschiedliches Analyseverfahren durchführt. Die verbleibenden Elemente sind zu denjenigen der Fig. 3 ähnlich und besitzen daher zum Zwecke der Klarheit glei­ che Bezugsziffern.
Bei dieser zweiten Ausführungsform sind die zwei Muster 94 und 96 derart ausgestaltet, um trennbar zu sein. Zum Beispiel können sie zwei verschiedene Muster ausweisen oder können sie ähnliche Muster, aber in zwei verschiedenen Bereichen der Bildebene 14 sein. Ein resultierendes Bild von letzterem Fall ist in der Fig. 6 dargestellt. Das Bild weist zwei Sätze von schwarzen Linien 95 auf, wobei einer von ihnen das Bild 97 des Musters 94 ist und der andere das Bild 99 des Musters 96 ist. Es wird angemerkt, daß die zwei Muster verschiedene Bereiche des Gesamtbildes bele­ gen; Bild 97 befindet sich oberhalb des Bildes 99.
Auf die Fig. 5 zurückkommend sind die zwei Muster punktiert (Muster 94) und gestrichelt (Muster 96) dargestellt. Die beiden Muster 94 und 96 sind entsprechend in einem Abstand 6 oberhalb und unterhalb der Objektebene 98 der Linse 66 angeordnet. Wie bei der vorhergehenden Ausführungsform projizieren die Linsen 66 und 10 eine Objektebene 98 auf die Objektebene 71.
Da die zwei Muster 94 und 96 von der Objektebene 98 gleich be­ abstandet sind, befinden sie sich gleichermaßen außerhalb des Fokus bzw. des Brennpunktes bzw. der Bildschärfe, wenn sich die Objektfläche 16 in der Objektebene 71 der Objektivlinse 10 be­ findet. Wenn die beiden Muster 94 und 96 gleichermaßen (d. h. gleich scharf) defokussiert werden, befindet sich daher die Objektfläche 16 im Brennpunkt.
Das Muster, dessen Bild sich mehr im Brennpunkt befindet, zeigt die Richtung an, in welcher die Objektivlinse 10 (oder alterna­ tiv die Objektfläche 16) bewegt werden muß, um ein fokussiertes Bild zu erhalten.
Der Musteranalysator 102 umfaßt zwei Musterermittlungseinrich­ tungen bzw. Musterabzieheinrichtungen (pattern extractors) 104, wobei jede das Bild des einen der Muster 94 oder 96 ermittelt bzw. abzieht, korrespondierende Schärfebestimmungseinrichtungen 106, um die Schärfe der ermittelten Muster zu bestimmen, und eine Vergleichseinrichtung 108, die aus dem Ausgang bzw. Output der Schärfebestimmungseinrichtungen 106 bestimmt, welches Muster 94 oder 96 sich mehr und um wieviel mehr im Brennpunkt befindet. Die Vergleichseinrichtung 108 steuert dann den Motor 27, um die Objektivlinse 70 um einen Betrag zu bewegen, derart, daß die Bilder der zwei Muster 94 und 96 gleich scharf werden.
Es ist ersichtlich, daß der Autofokussierungsmechanismus der vorliegenden Erfindung bei beiden seiner Ausführungsformen mit jeder numerischen Blende bzw. (Blenden-)öffnung bzw. Apertur der Objektivlinse, wie der Linse 10, welche zum Abbilden des Objek­ tes auf der Bildebene 14 verwendet wird, arbeitet. Es ist ins­ besondere zweckdienlich, wenn die zu betrachtenden Objekte sich bewegen, da das stationäre Autofokussierungsmuster leicht zu detektieren ist. Für stationäre Objekte muß eine komplexere Musteranalyse, welche hochentwickelte Algorithmen zur Ermittlung von Autofokussierungsmustern aus dem kombinierten Objekt und dem Autofokussierungsmusterbild verwendet, implementiert bzw. ausge­ stattet werden.
Es ist weiterhin ersichtlich, daß der Autofokussierungsmechanis­ mus der vorliegenden Erfindung während der Autofokussierungs­ bewegung der Objektivlinse 10 betrieben bzw. gehandhabt werden kann, da das Bild (die Bilder) des Musters (der Muster) statio­ när ist (sind) und sich nur dessen (deren) Schärfeumfang ändert, wenn sich die Objektivlinse 10 bewegt.
Nun wird kurz auf die Fig. 7 Bezug genommen, welche die vorlie­ gende Erfindung, die in einem Abbildungsteil eines Mikroskops eingebaut ist, darstellt. Gleiche Elemente des Mikroskops und des Autofokussierungsmechanismus haben gleiche Bezugsziffern. Die vorliegende Ausführungsform kann besonders zweckdienlich sein, wenn eine Köhlersche Beleuchtung verwendet wird.
Bei dieser Ausführungsform wird das Licht von der mit 198 be­ zeichneten Leuchte nicht beeinflußt. Der Autofokussierungslicht­ strahl 210 wird über einen Strahlenteiler bzw. Strahlungsteiler 200 in den Hauptstrahlengang eingebracht. Der Strahlenteiler bzw. Strahlungsteiler 200 ist typischerweise zwischen der Tubus­ linse 12 und dem Strahlenteiler 69 angeordnet. Das Licht von der Objektfläche 16, welche das Bild des Musters 64 beinhaltet, verläuft durch den Strahlenteiler 200 und wird durch den Strah­ lenteiler 69 zu der Bildebene 14 und der CCD 70 (auf-)geteilt. Wie zuvor analysiert der Musteranalysator 72 das Bild, um den Umfang der Schärfe zu bestimmen und anzuzeigen, wie der Abstand zwischen dem Objektiv 10 und der Objektfläche 16 zu ändern ist.
Schließlich ist es für Fachleute ersichtlich, daß die vorliegen­ de Erfindung nicht auf dasjenige beschränkt ist, was insbesonde­ re gezeigt und hierin oben beschrieben worden ist. Der Schutz­ umfang der vorliegenden Erfindung wird vielmehr durch die An­ sprüche definiert.

Claims (11)

1. Autofokussierungsmikroskop, umfassend:
  • a. ein optisches Mikroskopsystem mit einem Hauptstrahlen­ gang, wobei das System umfaßt:
  • i. eine Objektivlinse mit einer Objektebene,
  • ii. eine Objektfläche mit einem Objekt darauf, welche mit der Objektebene auszurichten ist,
  • iii. eine Einrichtung zum Ändern des Abstandes zwi­ schen der Objektivlinse und der Objektfläche, um dabei das Bild des Objektes zu fokussieren, und
  • iv. wenigstens eine Bildebene, in welcher das Objekt abgebildet wird,
  • b. ein Musterabbildungssystem zum Abbilden wenigstens eines Musters durch die Objektivlinse längs des Haupt­ strahlenganges und auf der Objektfläche, wobei das Bild des wenigstens einen Musters mit einem Bild des Objektes kombiniert wird und längs des Hauptstrahlen­ ganges hin zu der Bildebene reflektiert wird,
  • c. einen einzelnen Abbildungsdetektor, der an einer der wenigstens einen Bildebene angeordnet ist, um das re­ flektierte Bild zu detektieren, und
  • d. einen Musterbrennpunktanalysator, um den Umfang der Schärfe des wenigstens einen Musters durch Analysieren des Ausganges des Bilddetektors zu bestimmen.
2. Autofokussierungsmikroskop nach Anspruch 1, dadurch gekenn­ zeichnet, daß das Musterabbildungssystem eine kontrastreiche Mu­ stereinrichtung, eine zusätzliche Linse zum Abbilden des Musters durch die Objektivlinse auf der Objektebene, eine Autofokussie­ rungslichtquelle zum Beleuchten des Musters zu der zusätzlichen Linse und einen Strahlenteiler zum Kombinieren des Musterabbil­ dungssystems mit dem Hauptstrahlengang umfaßt.
3. Autofokussierungsmechanismus, der mit einem Mikroskop ar­ beitet, das einen Hauptstrahlengang, eine Objektivlinse, eine Objektfläche, eine Bildebene und eine Einrichtung zum Ändern des Abstandes zwischen der Objektivlinse und der Objektfläche, um dabei das Bild des Objektes zu fokussieren, aufweist, umfassend:
  • a. ein Musterabbildungssystem zum Abbilden wenigstens eines Musters durch die Objektivlinse längs des Haupt­ strahlenganges und auf der Objektfläche, wobei das Bild des wenigstens einen Musters mit einem Bild des Objektes kombiniert wird und längs des Hauptstrahlen­ ganges hin zu der Bildebene reflektiert wird,
  • b. einen einzelnen Abbildungsdetektor, der an einer der wenigstens einen Bildebenen angeordnet ist, um das reflektierte Bild zu detektieren, und
  • c. einen Musterbrennpunktanalysator, um den Umfang der Schärfe des wenigstens einen Musters durch Analysieren des Ausganges des Bilddetektors zu bestimmen.
4. Autofokussierungsmikroskop nach einem der Ansprüche 2 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die kontrastreiche Mustereinrich­ tung ein einzelnes Muster umfaßt, das in der Objektebene der zusätzlichen Linse angeordnet ist.
5. Autofokussierungsmikroskop nach einem der Ansprüche 2 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die kontrastreiche Mustereinrich­ tung zwei kontrastreiche Muster umfaßt, die von der Objektebene der zusätzlichen Linse gleichbeabstandet angeordnet sind.
6. Autofokussierungsmikroskop nach Anspruch 5, dadurch gekenn­ zeichnet, daß jedes der kontrastreichen Muster an einem unter­ schiedlichen Teil der Objektebene des Objektivs abgebildet ist.
7. Autofokussierungsmikroskop nach einem der Ansprüche 2 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß das optische Mikroskopsystem zusätzlich eine Leuchte und einen Beleuchtungsweg umfaßt und daß der Strahlenteiler längs des Beleuchtungsweges angeordnet ist.
8. Autofokussierungsmikroskop nach einem der Ansprüche 2 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß der Strahlenteiler längs des Hauptstrahlenganges angeordnet ist.
9. Autofokussierungsmikroskop nach einem der Ansprüche 2 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß die Autofokussierungslichtquelle Licht zur Verfügung stellt, die für das menschliche Auge nicht sichtbar ist.
10. Autofokussierungsmikroskop nach einem der Ansprüche 2 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß der Musterbrennpunktanalysator eine Musterermittlungseinrichtung zum Ermitteln des Musters und eine Musterschärfebestimmungseinrichtung zum Bestimmen der Schärfe des Musters umfaßt.
11. Autofokussierungsmikroskop nach Anspruch 10, dadurch ge­ kennzeichnet, daß die kontrastreiche Mustereinrichtung zwei kontrastreiche Muster umfaßt, die von der Objektebene der zu­ sätzlichen Linse gleich beabstandet angeordnet sind, und daß die Musterschärfebestimmungseinrichtung auf Bilder von jedem der zwei kontrastreichen Muster getrennt einwirkt, um dabei zwei Schärfewerte zu erzeugen, und daß der Musterbrennpunktanalysator zusätzlich Einrichtungen zum Bestimmen einer Richtung und eines Betrages der Bewegung aus den Schärfewerten für die Einrichtung zum Ändern des Abstandes umfaßt.
DE19537376A 1994-10-10 1995-10-06 Autofokussierungsmikroskop Ceased DE19537376A1 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
IL111229A IL111229A (en) 1994-10-10 1994-10-10 Autofocusing microscope

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE19537376A1 true DE19537376A1 (de) 1996-04-18

Family

ID=11066629

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19537376A Ceased DE19537376A1 (de) 1994-10-10 1995-10-06 Autofokussierungsmikroskop

Country Status (5)

Country Link
US (1) US5604344A (de)
JP (1) JPH08211282A (de)
DE (1) DE19537376A1 (de)
FR (1) FR2725532B1 (de)
IL (1) IL111229A (de)

Cited By (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0840107A2 (de) * 1996-10-31 1998-05-06 Omron Corporation Vorrichtung und Verfahren zur Bildaufnahme und Bildverarbeitung
EP1091229A2 (de) * 1999-10-07 2001-04-11 Agilent Technologies Inc. (a Delaware Corporation) Autofokusgerät und -verfahren
WO2001011407A3 (en) * 1999-08-10 2001-08-30 Cellavision Ab A method and device for autofocusing
DE10251345A1 (de) * 2002-11-05 2004-05-19 Leica Microsystems Heidelberg Gmbh Verfahren und Vorrichtung zur Untersuchung von Schichten von Geweben in lebenden Tieren mit einem Mikroskop
US7034883B1 (en) 1999-08-10 2006-04-25 Cellavision Ab Automatic focusing
WO2007019895A1 (de) * 2005-05-12 2007-02-22 Carl Zeiss Microimaging Gmbh Lichtrastermikroskop mit autofokusmechanismus
WO2008032100A1 (en) * 2006-09-14 2008-03-20 Oxford Gene Technology Ip Limited Calculating a distance between a focal plane and a surface
DE102007055530A1 (de) * 2007-11-21 2009-05-28 Carl Zeiss Ag Laserstrahlbearbeitung
WO2009092555A1 (de) * 2008-01-21 2009-07-30 Carl Zeiss Sms Gmbh Autofokusvorrichtung und autofokussierverfahren für eine abbildungsvorrichtung
DE19721112B4 (de) * 1996-05-20 2010-12-02 Mitutoyo Corp., Kawasaki-shi Autofokussierverfahren
DE102010030430A1 (de) 2010-06-23 2011-12-29 Leica Microsystems Cms Gmbh Autofokuseinrichtung für Mikroskope und geeignete Autofokus-Aperturblenden
DE102011003807A1 (de) 2011-02-08 2012-08-09 Leica Microsystems Cms Gmbh Mikroskop mit Autofokuseinrichtung und Verfahren zur Autofokussierung bei Mikroskopen
WO2012168244A1 (de) 2011-06-08 2012-12-13 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Autofokusverfahren für mikroskop und mikroskop mit autofokuseinrichtung
DE102011084562A1 (de) 2011-10-14 2013-04-18 Leica Microsystems Cms Gmbh Verfahren und Vorrichtung zur Feststellung und Korrektur von sphärischen Abbildungsfehlern in einem mikroskopischen Abbildungsstrahlengang
DE102011086018A1 (de) * 2011-11-09 2013-05-16 Carl Zeiss Ag Verfahren und Anordnung zur Autofokussierung eines Mikroskops
DE10362244B4 (de) * 2003-04-29 2014-06-26 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Verfahren zur Bestimmung der Fokusposition und der Verkippung der Fokusebene bei der Abbildung einer Probe
US9389405B2 (en) 2012-12-13 2016-07-12 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Autofocus method for microscope and microscope with autofocus device
DE102008005355B4 (de) * 2008-01-21 2016-10-06 Carl Zeiss Smt Gmbh Autofokusvorrichtung und Autofokussierverfahren für eine Abbildungsvorrichtung
DE102008005356B4 (de) * 2008-01-21 2017-01-26 Carl Zeiss Smt Gmbh Autofokusvorrichtung und Autofokussierverfahren für eine Abbildungsvorrichtung
DE102015116452A1 (de) 2015-09-29 2017-03-30 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Mikroskop
DE102017218449B3 (de) 2017-10-16 2019-02-21 Leica Microsystems Cms Gmbh Mikroskopieverfahren mit Fokusstabilisierung, Recheneinheit, Mikroskopsystem und Computerprogrammprodukt
EP4194918A1 (de) 2021-12-10 2023-06-14 Leica Microsystems CMS GmbH Verfahren zur steuerung einer mikroskopischen abbildung und entsprechende mikroskopsteuerungsanordnung und mikroskop

Families Citing this family (104)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1096848A (ja) * 1996-09-20 1998-04-14 Olympus Optical Co Ltd 自動焦点検出装置
US7133078B2 (en) * 1997-05-21 2006-11-07 Olympus Optical Co., Ltd. Automatic focal point sensing device
DE19746575A1 (de) * 1997-10-22 1999-04-29 Zeiss Carl Fa Optische Bildaufnahmeeinrichtung und Verfahren zu deren Nutzung
IL123575A (en) * 1998-03-05 2001-08-26 Nova Measuring Instr Ltd Method and apparatus for alignment of a wafer
US7295314B1 (en) 1998-07-10 2007-11-13 Nanometrics Incorporated Metrology/inspection positioning system
US6320609B1 (en) * 1998-07-10 2001-11-20 Nanometrics Incorporated System using a polar coordinate stage and continuous image rotation to compensate for stage rotation
IL125337A0 (en) * 1998-07-14 1999-03-12 Nova Measuring Instr Ltd Method and apparatus for lithography monitoring and process control
JP4601744B2 (ja) 1998-07-14 2010-12-22 ノバ メジャリング インスツルメンツ リミテッド フォトリソグラフィープロセスを制御するための方法およびシステム
EP0973069A3 (de) * 1998-07-14 2006-10-04 Nova Measuring Instruments Limited Kontrollgerät und photolithographisches Verfahren zur Behandlung von Substraten
US6677565B1 (en) 1998-08-18 2004-01-13 Veeco Tucson Inc. High speed autofocus and tilt for an optical imaging system
IL126949A (en) 1998-11-08 2004-03-28 Nova Measuring Instr Ltd Apparatus for integrated monitoring of wafers and for process control in semiconductor manufacturing and a method for use thereof
ATE290229T1 (de) * 1998-12-21 2005-03-15 Evotec Ag Positionierung des messvolumens in einem scanning-mikroskopischen verfahren
US6130745A (en) * 1999-01-07 2000-10-10 Biometric Imaging, Inc. Optical autofocus for use with microtiter plates
US6212961B1 (en) 1999-02-11 2001-04-10 Nova Measuring Instruments Ltd. Buffer system for a wafer handling system
US7177019B2 (en) 1999-02-01 2007-02-13 Tokyo Electron Limited Apparatus for imaging metrology
US7042580B1 (en) 1999-02-01 2006-05-09 Tokyo Electron Limited Apparatus for imaging metrology
US6690473B1 (en) 1999-02-01 2004-02-10 Sensys Instruments Corporation Integrated surface metrology
US6563586B1 (en) * 1999-02-01 2003-05-13 Therma-Wave, Inc. Wafer metrology apparatus and method
TW493205B (en) * 1999-03-22 2002-07-01 Sensys Instr Corp Method and apparatus for wafer metrology
US6847729B1 (en) 1999-04-21 2005-01-25 Fairfield Imaging Limited Microscopy
IL132314A0 (en) 1999-10-11 2001-03-19 Nova Measuring Instr Ltd An apparatus for in-cassette monitoring of semiconductor wafers
US6791686B1 (en) 2000-07-26 2004-09-14 Nova Measuring Instruments Ltd. Apparatus for integrated monitoring of wafers and for process control in the semiconductor manufacturing and a method for use thereof
US6891627B1 (en) * 2000-09-20 2005-05-10 Kla-Tencor Technologies Corp. Methods and systems for determining a critical dimension and overlay of a specimen
US7349090B2 (en) * 2000-09-20 2008-03-25 Kla-Tencor Technologies Corp. Methods and systems for determining a property of a specimen prior to, during, or subsequent to lithography
US7106425B1 (en) 2000-09-20 2006-09-12 Kla-Tencor Technologies Corp. Methods and systems for determining a presence of defects and a thin film characteristic of a specimen
US6812045B1 (en) 2000-09-20 2004-11-02 Kla-Tencor, Inc. Methods and systems for determining a characteristic of a specimen prior to, during, or subsequent to ion implantation
US6673637B2 (en) * 2000-09-20 2004-01-06 Kla-Tencor Technologies Methods and systems for determining a presence of macro defects and overlay of a specimen
US6782337B2 (en) * 2000-09-20 2004-08-24 Kla-Tencor Technologies Corp. Methods and systems for determining a critical dimension an a presence of defects on a specimen
US6694284B1 (en) 2000-09-20 2004-02-17 Kla-Tencor Technologies Corp. Methods and systems for determining at least four properties of a specimen
US7130029B2 (en) 2000-09-20 2006-10-31 Kla-Tencor Technologies Corp. Methods and systems for determining an adhesion characteristic and a thickness of a specimen
US6919957B2 (en) 2000-09-20 2005-07-19 Kla-Tencor Technologies Corp. Methods and systems for determining a critical dimension, a presence of defects, and a thin film characteristic of a specimen
US20020190207A1 (en) * 2000-09-20 2002-12-19 Ady Levy Methods and systems for determining a characteristic of micro defects on a specimen
DE10101624A1 (de) * 2001-01-16 2002-07-18 Zeiss Carl Jena Gmbh Anordnung zur Scharfeinstellung für Mikroskope
ATE330244T1 (de) * 2001-02-02 2006-07-15 Cellomics Inc Verfahren zur schätzung der besten anfangsfokussierung
US7095901B2 (en) * 2001-03-15 2006-08-22 Lg Electronics, Inc. Apparatus and method for adjusting focus position in iris recognition system
DE10112639A1 (de) * 2001-03-16 2002-09-19 Zeiss Carl Jena Gmbh Mikroskop mit Autofokussiereinrichtung
DE10127284A1 (de) * 2001-06-05 2002-12-12 Zeiss Carl Jena Gmbh Autofokussiereinrichtung für ein optisches Gerät
IL144806A (en) * 2001-08-08 2005-11-20 Nova Measuring Instr Ltd Method and apparatus for process control in semiconductor manufacturing
DE10145056A1 (de) * 2001-09-13 2003-04-03 Zeiss Carl Jena Gmbh Vorrichtung und Verfahren zur Fokuskontrolle in einem Mikroskop mit digitaler Bildgebung, vorzugsweise einem konfokalen Mikroskop
WO2003050514A2 (en) * 2001-12-12 2003-06-19 Therma-Wave, Inc. Position-dependent optical metrology calibration
FR2833718A1 (fr) * 2001-12-13 2003-06-20 Commissariat Energie Atomique Dispositif d'observation d'objets, notamment pour plaques de microtitration
GB0200844D0 (en) * 2002-01-15 2002-03-06 Solexa Ltd Linear response auto focussing device and method
IL148566A (en) * 2002-03-07 2007-06-17 Nova Measuring Instr Ltd Method and system for measuring overlap accuracy
DE10233087A1 (de) * 2002-07-19 2004-02-05 Roche Diagnostics Gmbh Reflexionsphotometrisches Analysesystem
AU2003302049A1 (en) * 2002-11-20 2004-06-15 Mehrdad Nikoohahad System and method for characterizing three-dimensional structures
IL153894A (en) * 2003-01-12 2010-05-31 Nova Measuring Instr Ltd Method and system for measuring the thickness of thin conductive layers
DE10304105B4 (de) * 2003-01-31 2006-05-18 Carl Zeiss Verfahren zur Bestimmung der Fokusabweichung einer optischen Anordnung
GB2398196B (en) 2003-02-05 2005-06-01 Fairfield Imaging Ltd Microscope system and method
DE10308171A1 (de) * 2003-02-27 2004-09-09 Leica Microsystems Jena Gmbh Verfahren zur automatischen Fokussierung
JP2005017805A (ja) * 2003-06-27 2005-01-20 Mitsutoyo Corp 画像測定装置のフォーカス検出方法、フォーカス検出機構、およびこのフォーカス検出機構を備えた画像測定装置
US6981642B2 (en) * 2003-07-17 2006-01-03 Symbol Technologies, Inc. Non-parallax optical auto-focusing system and method
US7092082B1 (en) * 2003-11-26 2006-08-15 Kla-Tencor Technologies Corp. Method and apparatus for inspecting a semiconductor wafer
IL162290A (en) * 2004-06-01 2013-06-27 Nova Measuring Instr Ltd Optical measurement system
IL162617A (en) * 2004-06-17 2010-04-15 Nova Measuring Instr Ltd Reflective optical system
US7075046B2 (en) * 2004-07-28 2006-07-11 University Of Vermont And State Agricultural College Objective lens reference system and method
HUP0401802A2 (en) * 2004-09-02 2006-03-28 3D Histech Kft Focusing method object carriers on fast-moving digitalization and object carrier moving mechanics, focusing optic, optical distance-measuring instrument
US20070091325A1 (en) * 2005-01-07 2007-04-26 Mehrdad Nikoonahad Multi-channel optical metrology
US7582538B2 (en) * 2005-04-06 2009-09-01 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Method of overlay measurement for alignment of patterns in semiconductor manufacturing
KR100682955B1 (ko) * 2006-01-06 2007-02-15 삼성전자주식회사 스캐너의 구동특성 평가장치 및 방법
DE102006040636B3 (de) * 2006-05-15 2007-12-20 Leica Microsystems (Schweiz) Ag Autofokus-System und Verfahren zum Autofokussieren
EP2041610A4 (de) * 2006-06-09 2011-07-06 Wdi Wise Device Inc Verfahren und vorrichtung zur autofokussierung von unendlich-korrigierten mikroskopen
DE102006027836B4 (de) * 2006-06-16 2020-02-20 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Mikroskop mit Autofokuseinrichtung
US9255348B2 (en) 2006-08-25 2016-02-09 The Trustees Of Columbia University In The City Of New York Systems and methods for biodosimetry with biochip using gene expression signatures
US20080179301A1 (en) * 2006-08-25 2008-07-31 Guy Garty Systems and methods for etching materials
US8089635B2 (en) 2007-01-22 2012-01-03 California Institute Of Technology Method and system for fast three-dimensional imaging using defocusing and feature recognition
WO2008091691A1 (en) * 2007-01-22 2008-07-31 California Institute Of Technology Method and apparatus for quantitative 3-d imaging
JP2010526481A (ja) 2007-04-23 2010-07-29 カリフォルニア インスティテュート オブ テクノロジー 偏光で符号化された絞り開口マスクを偏光に感度を有するセンサーと組み合わせて用いた単一レンズ3d撮像装置
US8804111B2 (en) * 2007-10-04 2014-08-12 Kla-Tencor Corporation Multichip CCD camera inspection system
WO2010027391A2 (en) 2008-08-27 2010-03-11 California Institute Of Technology Method and device for high-resolution three-dimensional imaging which obtains camera pose using defocusing
CA2762684A1 (en) * 2009-05-19 2010-11-25 Bionano Genomics, Inc. Devices and methods for dynamic determination of sample position and orientation and dynamic repositioning
JP5654583B2 (ja) * 2009-06-17 2015-01-14 3シェイプ アー/エス 焦点操作装置
US8773507B2 (en) * 2009-08-11 2014-07-08 California Institute Of Technology Defocusing feature matching system to measure camera pose with interchangeable lens cameras
US8773514B2 (en) * 2009-08-27 2014-07-08 California Institute Of Technology Accurate 3D object reconstruction using a handheld device with a projected light pattern
US8390926B2 (en) * 2010-08-12 2013-03-05 Photon Dynamics, Inc. High speed acquisition vision system and method for selectively viewing object features
WO2012030357A1 (en) 2010-09-03 2012-03-08 Arges Imaging, Inc. Three-dimensional imaging system
NL2008292A (en) * 2011-03-11 2012-09-12 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus, method for measuring radiation beam spot focus and device manufacturing method.
TWI451064B (zh) * 2011-04-25 2014-09-01 Univ Nat Formosa Laser displacement measuring device and method combined with image measuring instrument
JP4919307B1 (ja) * 2011-05-13 2012-04-18 レーザーテック株式会社 基板検査装置及びマスク検査装置
DE102011082414A1 (de) 2011-09-09 2013-03-14 Carl Zeiss Sms Gmbh Autofokuseinrichtung und Autofokussierverfahren für eine Abbildungsvorrichtung
GB2542912B (en) * 2011-10-14 2017-08-16 Solentim Ltd Method of and apparatus for analysis of a sample of biological tissue cells
JP2013200438A (ja) * 2012-03-26 2013-10-03 Sinto S-Precision Ltd 顕微鏡
WO2014002354A1 (ja) * 2012-06-27 2014-01-03 ソニー株式会社 顕微鏡及びシャッタ機構
WO2014011179A1 (en) * 2012-07-12 2014-01-16 California Institute Of Technology Defocusing with projection grid including identification features
US9488819B2 (en) * 2012-08-31 2016-11-08 Nanotronics Imaging, Inc. Automatic microscopic focus system and method for analysis of transparent or low contrast specimens
JP6257269B2 (ja) * 2013-10-30 2018-01-10 オリンパス株式会社 顕微鏡用オートフォーカス装置
US10455137B2 (en) 2014-07-28 2019-10-22 Orbotech Ltd. Auto-focus system
DE102014216227B4 (de) 2014-08-14 2020-06-18 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Verfahren und Vorrichtung zum Bestimmen eines Abstandes zweier voneinander entlang einer ersten Richtung beabstandeter optischer Grenzflächen
WO2017081542A2 (en) 2015-11-11 2017-05-18 Scopio Lab Ltd. Computational microscopes and methods for generating an image under different illumination conditions
US11406264B2 (en) 2016-01-25 2022-08-09 California Institute Of Technology Non-invasive measurement of intraocular pressure
EP3330775B1 (de) 2016-12-01 2024-02-07 Multiphoton Optics Gmbh Autofokussystem zur detektion von grenzflächen
JP6786424B2 (ja) 2017-03-13 2020-11-18 株式会社モリタ製作所 三次元スキャナ
EP3441812B1 (de) 2017-08-11 2020-07-01 Tecan Trading Ag Muster-basiertes autofokus-verfahren für ein mikroskop
US10481377B2 (en) 2017-09-29 2019-11-19 Leica Biosystems Imaging, Inc. Real-time autofocus scanning
US10171725B1 (en) * 2017-12-21 2019-01-01 Mitutoyo Corporation Variable focal length lens system including a focus state reference subsystem
US10281700B1 (en) * 2017-12-21 2019-05-07 Mitutoyo Corporation Variable focal length lens system including a focus state reference subsystem
FR3076912A1 (fr) * 2018-01-16 2019-07-19 Francois Perraut Dispositif d’eclairage de microscope permettant d’effectuer la mise au point de l’image d’un objet
US10247910B1 (en) 2018-03-14 2019-04-02 Nanotronics Imaging, Inc. Systems, devices and methods for automatic microscopic focus
US10146041B1 (en) 2018-05-01 2018-12-04 Nanotronics Imaging, Inc. Systems, devices and methods for automatic microscope focus
EP3614192A1 (de) * 2018-08-20 2020-02-26 Till GmbH Mikroskopvorrichtung
JP2022500632A (ja) * 2018-09-10 2022-01-04 フリューダイム カナダ インコーポレイテッド オートフォーカスサンプルイメージング装置及び方法
EP3857284B1 (de) * 2018-09-27 2023-12-27 Max-Planck-Gesellschaft zur Förderung der Wissenschaften e.V. Verfahren und vorrichtung zur erzeugung und verschiebung einer lichtintensitätsverteilung in einem fokusbereich einer objektivlinse
US11592653B2 (en) * 2019-04-05 2023-02-28 Kla Corporation Automated focusing system for tracking specimen surface with a configurable focus offset
GB2583369B (en) * 2019-04-25 2021-09-15 Andor Tech Limited Microscope with focusing system
US10895727B1 (en) 2019-10-19 2021-01-19 SequLITE Genomics US, Inc. Microscope for locating structures on the inner surface of a fluidic channel

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58153327A (ja) * 1982-03-08 1983-09-12 Toshiba Corp パタ−ン検査装置
US4639587A (en) * 1984-02-22 1987-01-27 Kla Instruments Corporation Automatic focusing system for a microscope
US4677286A (en) * 1985-02-14 1987-06-30 Quantronix Corporation Method and apparatus for autofocusing a microscope
JPH0610694B2 (ja) * 1985-04-12 1994-02-09 株式会社日立製作所 自動焦点合せ方法及び装置
DE3739223A1 (de) * 1987-11-19 1989-06-01 Reichert Optische Werke Ag Verfahren zur autofokussierung von mikroskopen und mikroskope mit einer autofokussierung
US4945220A (en) * 1988-11-16 1990-07-31 Prometrix Corporation Autofocusing system for microscope having contrast detection means
JPH0769162B2 (ja) * 1990-04-23 1995-07-26 大日本スクリーン製造株式会社 光学的検査システムのための自動焦点合わせ装置
US5306902A (en) * 1992-09-01 1994-04-26 International Business Machines Corporation Confocal method and apparatus for focusing in projection lithography

Cited By (36)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19721112B4 (de) * 1996-05-20 2010-12-02 Mitutoyo Corp., Kawasaki-shi Autofokussierverfahren
EP0840107A3 (de) * 1996-10-31 1999-08-18 Omron Corporation Vorrichtung und Verfahren zur Bildaufnahme und Bildverarbeitung
US6285787B1 (en) 1996-10-31 2001-09-04 Omron Corporation Image pickup and processing device and method thereof
EP0840107A2 (de) * 1996-10-31 1998-05-06 Omron Corporation Vorrichtung und Verfahren zur Bildaufnahme und Bildverarbeitung
WO2001011407A3 (en) * 1999-08-10 2001-08-30 Cellavision Ab A method and device for autofocusing
US7034883B1 (en) 1999-08-10 2006-04-25 Cellavision Ab Automatic focusing
EP1091229A2 (de) * 1999-10-07 2001-04-11 Agilent Technologies Inc. (a Delaware Corporation) Autofokusgerät und -verfahren
EP1091229A3 (de) * 1999-10-07 2003-09-17 Agilent Technologies, Inc. (a Delaware corporation) Autofokusgerät und -verfahren
DE10251345A1 (de) * 2002-11-05 2004-05-19 Leica Microsystems Heidelberg Gmbh Verfahren und Vorrichtung zur Untersuchung von Schichten von Geweben in lebenden Tieren mit einem Mikroskop
US7041951B2 (en) 2002-11-05 2006-05-09 Leica Microsystems Cms Gmbh Method and apparatus for investigating layers of tissues in living animals using a microscope
DE10251345B4 (de) * 2002-11-05 2006-08-17 Leica Microsystems Cms Gmbh Verfahren und Vorrichtung zur Untersuchung von Schichten von Geweben in lebenden Tieren mit einem Mikroskop
DE10362244B4 (de) * 2003-04-29 2014-06-26 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Verfahren zur Bestimmung der Fokusposition und der Verkippung der Fokusebene bei der Abbildung einer Probe
WO2007019895A1 (de) * 2005-05-12 2007-02-22 Carl Zeiss Microimaging Gmbh Lichtrastermikroskop mit autofokusmechanismus
WO2008032100A1 (en) * 2006-09-14 2008-03-20 Oxford Gene Technology Ip Limited Calculating a distance between a focal plane and a surface
US8389893B2 (en) 2007-11-21 2013-03-05 Nanoscribe Gmbh Laser beam machining
DE102007055530A1 (de) * 2007-11-21 2009-05-28 Carl Zeiss Ag Laserstrahlbearbeitung
DE102008005356B4 (de) * 2008-01-21 2017-01-26 Carl Zeiss Smt Gmbh Autofokusvorrichtung und Autofokussierverfahren für eine Abbildungsvorrichtung
US9229209B2 (en) 2008-01-21 2016-01-05 Carl Zeiss Smt Gmbh Autofocus device and autofocusing method for an imaging device
DE102008005355B4 (de) * 2008-01-21 2016-10-06 Carl Zeiss Smt Gmbh Autofokusvorrichtung und Autofokussierverfahren für eine Abbildungsvorrichtung
WO2009092555A1 (de) * 2008-01-21 2009-07-30 Carl Zeiss Sms Gmbh Autofokusvorrichtung und autofokussierverfahren für eine abbildungsvorrichtung
DE102010030430A1 (de) 2010-06-23 2011-12-29 Leica Microsystems Cms Gmbh Autofokuseinrichtung für Mikroskope und geeignete Autofokus-Aperturblenden
US8829402B2 (en) 2010-06-23 2014-09-09 Leica Microsystems Cms Gmbh Autofocusing device for microscopes and suitable autofocus aperture stops
DE102010030430B4 (de) * 2010-06-23 2015-01-29 Leica Microsystems Cms Gmbh Triangulierende Autofokuseinrichtung für Mikroskope und Verwendungen hiervon
WO2012107468A1 (de) 2011-02-08 2012-08-16 Leica Microsystems Cms Gmbh Mikroskop mit autofokuseinrichtung und verfahren zur autofokussierung bei mikroskopen
US9671601B2 (en) 2011-02-08 2017-06-06 Leica Microsystems Cms Gmbh Microscope having an autofocusing device and autofocusing method for microscopes
DE102011003807A1 (de) 2011-02-08 2012-08-09 Leica Microsystems Cms Gmbh Mikroskop mit Autofokuseinrichtung und Verfahren zur Autofokussierung bei Mikroskopen
WO2012168244A1 (de) 2011-06-08 2012-12-13 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Autofokusverfahren für mikroskop und mikroskop mit autofokuseinrichtung
DE102011077236A1 (de) * 2011-06-08 2012-12-13 Carl Zeiss Microlmaging Gmbh Autofokusverfahren für Mikroskop und Mikroskop mit Autofokuseinrichtung
US10116855B2 (en) 2011-06-08 2018-10-30 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Autofocus method for microscope and microscope comprising autofocus device
DE102011084562A1 (de) 2011-10-14 2013-04-18 Leica Microsystems Cms Gmbh Verfahren und Vorrichtung zur Feststellung und Korrektur von sphärischen Abbildungsfehlern in einem mikroskopischen Abbildungsstrahlengang
DE102011086018A1 (de) * 2011-11-09 2013-05-16 Carl Zeiss Ag Verfahren und Anordnung zur Autofokussierung eines Mikroskops
US9696686B2 (en) 2011-11-09 2017-07-04 Carl Zeiss Ag Method and device for focussing a microscope automatically
US9389405B2 (en) 2012-12-13 2016-07-12 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Autofocus method for microscope and microscope with autofocus device
DE102015116452A1 (de) 2015-09-29 2017-03-30 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Mikroskop
DE102017218449B3 (de) 2017-10-16 2019-02-21 Leica Microsystems Cms Gmbh Mikroskopieverfahren mit Fokusstabilisierung, Recheneinheit, Mikroskopsystem und Computerprogrammprodukt
EP4194918A1 (de) 2021-12-10 2023-06-14 Leica Microsystems CMS GmbH Verfahren zur steuerung einer mikroskopischen abbildung und entsprechende mikroskopsteuerungsanordnung und mikroskop

Also Published As

Publication number Publication date
IL111229A0 (en) 1994-12-29
IL111229A (en) 1998-06-15
US5604344A (en) 1997-02-18
FR2725532A1 (fr) 1996-04-12
FR2725532B1 (fr) 1998-07-31
JPH08211282A (ja) 1996-08-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE19537376A1 (de) Autofokussierungsmikroskop
EP1248947B1 (de) Verfahren und vorrichtung zur charakterisierung einer kulturflüssigkeit
EP2411787B1 (de) Vorrichtung zum bestimmen von partikelngrössen
EP0116321B1 (de) Infrarot-Spektrometer
EP2406679B1 (de) Autofokusverfahren und autofokuseinrichtung
EP2038690A2 (de) Verfahren und vorrichtung zur erzeugung eines bildes einer dünnen schicht eines objekts
DE60320369T2 (de) Abbildungsvorrichtung für mikroscopie und bilderzeugungsverfahren
EP3948392B1 (de) Verfahren und vorrichtung zum erfassen von verlagerungen einer probe gegenüber einem objektiv
DE102007017598A1 (de) Verfahren und Anordnung zum Positionieren eines Lichtblattes in der Fokusebene einer Detektionsoptik
DE102008051513A1 (de) Oberflächenmessgerät mit zwei Messeinheiten
DE102008044522A1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Erfassung von Konturdaten und/oder optischen Eigenschaften eines dreidimensionalen semitransparenten Objekts
DE102012223128A1 (de) Autofokusverfahren für Mikroskop und Mikroskop mit Autofokuseinrichtung
DE102009032210B4 (de) Bearbeitungsanlage
DE69927367T2 (de) Optoelektronische Formerfassung durch chromatische Kodierung mit Beleuchtungsebenen
DE4434699C2 (de) Anordnung zur Prüfung durchsichtiger oder spiegelnder Objekte
EP3418789A1 (de) Verfahren und mikroskopiesystem zum aufnehmen eines bildes
DE10234756B3 (de) Autofokusmodul für mikroskopbasierte Systeme
DE102014222271B4 (de) Maskeninspektionssystem zur Inspektion von Lithographiemasken
WO2004029691A1 (de) Verfahren und vorrichtung zum bestimmen eines abstands, autofokus-modul, mikroskop und verfahren zum autofokussieren eines mikroskops
WO2018149877A1 (de) Optisches inspektionssystem und verfahren zur optischen inspektion eines prüflings
EP2767797B1 (de) Niedrigkohärenzinterferometer und Verfahren zur ortsaufgelösten optischen Vermessung des Oberflächenprofils eines Objekts
DE102013211286A1 (de) Verfahren zur Vermessung eines Werkstücks mit einem optischen Sensor
DE102016125451A1 (de) Vorrichtung und Verfahren zur interferometrischen Bestimmung einer Oberflächentopographie eines Messobjekts
DE102012010190B4 (de) Verfahren, Vorrichtung und Endoskop sowieAufsatz
DE102018126009A1 (de) Verfahren und Mikroskop zur Bestimmung der Dicke eines Deck- oder Tragglases

Legal Events

Date Code Title Description
8128 New person/name/address of the agent

Representative=s name: GRAPE & SCHWARZENSTEINER, 80331 MUENCHEN

8110 Request for examination paragraph 44
8131 Rejection