DE1764682A1 - Photoconductive target or photoconductive screen - Google Patents

Photoconductive target or photoconductive screen

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DE1764682A1
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DE
Germany
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photoconductive
target
thickness
electrode
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DE19681764682
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Kazuo Shimizu
Okio Yoshida
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Toshiba Corp
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Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
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    • H01J29/00Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
    • H01J29/02Electrodes; Screens; Mounting, supporting, spacing or insulating thereof
    • H01J29/10Screens on or from which an image or pattern is formed, picked up, converted or stored
    • H01J29/36Photoelectric screens; Charge-storage screens
    • H01J29/39Charge-storage screens
    • H01J29/45Charge-storage screens exhibiting internal electric effects caused by electromagnetic radiation, e.g. photoconductive screen, photodielectric screen, photovoltaic screen
    • H01J29/451Charge-storage screens exhibiting internal electric effects caused by electromagnetic radiation, e.g. photoconductive screen, photodielectric screen, photovoltaic screen with photosensitive junctions
    • H01J29/456Charge-storage screens exhibiting internal electric effects caused by electromagnetic radiation, e.g. photoconductive screen, photodielectric screen, photovoltaic screen with photosensitive junctions exhibiting no discontinuities, e.g. consisting of uniform layers

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  • Image-Pickup Tubes, Image-Amplification Tubes, And Storage Tubes (AREA)

Description

Case 43 951-5Case 43 951-5

TOKYO SHIBlTTEA EI1ECSRIO COMPMTIE LTD., Kawasaki-ski, JAPABTTOKYO SHIBlTTEA EI 1 ECSRIO COMPMTIE LTD., Kawasaki-ski, JAPABT

Photoleitendea Sargst bzw. photoleitender BildschirmPhotoconductive a Sargst or photoconductive screen

BIe Erfindung besieht sich auf ein photoleitendes Sarget bzw. auf einen photoleitenden Bildschirm, der durch Ausbildung einer Schicht photoleitenden Materials auf einer Schicht elektrisch leitfähigen Materials ausgebildet wird*The invention relates to a photoconductive coffin or on a photoconductive screen formed by forming a layer of photoconductive material on a Layer of electrically conductive material is formed *

ErfindungBgemäS soll ein solches photoenpfindliehes Target hochempfindlich gemacht werden und hohen Photolaitviderstand aufweisen, wobei das Target zu einen photoelektriachen Verrielfacher oder einer photQleitenden Halbleiter* bildaufnahaeröhre gehört, vie ale bale Fernsehen und *uf anderen Gebieten verwendet vird. Der Auf bau kann der gleicheAccording to the invention, such a photo-sensitive target should be made highly sensitive and have a high photoconductive resistance, the target being a photoelectric multiplier or a photoconductive semiconductor * image recording tube belongs to, ale bale television and * uf used in other areas. The structure can be the same

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sein wie bei dem im Handel erhältlichen VIDICON, PLUMBICON etc. . ■like the commercially available VIDICON, PLUMBICON etc. ■

Sas übliche photoleitende Target einer photoleitenden Bildaufnahmeröhre wird so hergestellt, daß eine photoleitende Schicht auf einen durchsichtigen Schinnträger abgeschieden wird, der an einem Ende eines Vakuumgefäßes angeordnet ist und eine Lichteingangsebene bildet, wobei eine durchsichtige Signalelektrode hierzwischen eingefügt ist. Im Betrieb einer Bildaufnahmeröhre, die beispielsweise uit einem solchen photoleitenden !Target versehen ist, wird die Signalelektrode mit einer positiven Spannung (beispielsweise 30 ToIt) beaufschlagt und die Oberfläche der photoleitenden Schicht wird mit Elektronenstrahlen niedriger Geschwindigkeit abgetastet, die von einer Elektronenkanone eaittiert wurde, die in ähnlicher Weise im Vakuumgefäß gegenüber dem Target nitumfangen 1st. Der elektrische Widerstand der photoleitenden Schicht variiert mit der Intensität des in die Bildaufnahmeröhre von außen durch den Schirmträger eindringenden Lichtes, so daß dann» wenn eine Abtastung durch den Elektronenstrahl erfolgt, ein Signalstrom durch einen Belaetungswicferstand erzeugt wird, der «it der durchsichtigen Elektrode proportional zur Intensität des auffallenden Lichtes verbunden 1st·The usual photoconductive target is a photoconductive one Image pickup tube is fabricated by depositing a photoconductive layer on a clear pinned support attached to one end of a vacuum vessel is arranged and forms a light input plane with a transparent signal electrode interposed therebetween. When an image pickup tube is in operation, which is provided, for example, with such a photoconductive target, the signal electrode has a positive one Voltage (for example 30 ToIt) applied and the The surface of the photoconductive layer is scanned with low speed electron beams which by an electron gun, which is similarly contained in the vacuum vessel opposite the target. The electrical resistance of the photoconductive Layer varies with the intensity of the penetration into the image pickup tube from outside through the faceplate Light, so that when the electron beam is scanned, a signal current is generated by a load resistor which is proportional to the intensity of the incident light on the transparent electrode connected 1st

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BADBATH

Es wurde bereits oft festgestellt, daß die Eigenschaften der pliotole it enden Bildaufnahmeröhre durch die eines photoleitenden, ein photoleitendes Target bildenden ELementes beeinflußt werden. Allgemein gesagt besteht die photoleitende Schicht aus einem porösen Material vom p-Typ, beispielsweise Antimontrisulfid, Bleimonoxid, eto» Diese Materialien waren jedoch nicht in der lage, einen vollständig Eufriedenstellenden Effekt als photoleitende Schicht zu liefern· Um daher die Stabilität und den verbesserten Effekt eines photoleitenden Targets sicherzustellen, wurde bereits versucht, im Falle von. Antimontrisulfid beispielsweise da3 Target aus diesen drei Schichten des Sulfids herzustellen, nämlich aus einer sogenannten kontinuierlichen Feststoffschicht - einer sogenannten porösen Schicht und einer kontinuierlichen Peststoffschicht, die in der genannten Reihenfolge in Richtung der Dicke der so gebildeten photoleitenden Schicht geformt wurde« Unter dem hier verwendeten Ausdruck."poröse Schicht" ist ein loses Aggregat relativ großer Partikel vom Dampf des photoleitenden Materials zu verstehen, daB unter niedrigem Va-; kuum, beispielsweise 1CT^ Torr abgeschieden wird; der Ausdruck "kontinuierliche Feststoff schicht1* steht für eine kompakte oder glasige Schicht vinzig fein zerkleinerter Partikel des Materieldampfes, die unter hohem Yakuum,It has often been found that the properties of the pliotole it ends image pickup tube are influenced by those of a photoconductive element forming a photoconductive target. Generally speaking, the photoconductive layer is made of a p-type porous material such as antimony trisulfide, lead monoxide, etc. However, these materials have not been able to provide a fully satisfactory effect as a photoconductive layer To ensure photoconductive targets, attempts have already been made in the case of. Antimony trisulfide, for example, can be used to manufacture the target from these three layers of sulfide, namely a so-called continuous solid layer - a so-called porous layer and a continuous layer of plague formed in the order mentioned in the direction of the thickness of the photoconductive layer thus formed . "Porous layer" is a loose aggregate of relatively large particles from the vapor of the photoconductive material to understand, that under low Va- ; kuum, for example 1CT ^ Torr is deposited; the expression "continuous solid layer 1 * stands for a compact or vitreous layer of extremely finely comminuted particles of the material vapor, which under high yakuum,

"beispielsweise ΙΟ""* Torr abgeschieden i/urden. Allgemein kann gesagt werden, daß äort, wo das gleiche Haterial verwendet wird, eine hieraus hergestellte poröse Schicht einen relativ hohen scheinbaren Widerstand gegen die eingeführten Elektronen aufweint, während eine hieraus hergestellte kontinuierliche Pe3tstoffßchicht einen relativ niedrigen scheinbaren Widerstand hierfür bildet. Tatsächlich wird darum die Qualität eines durch eine Bildaufnahmeröhre unter Verwendung solchen Materials regenierten Bildes bsstisast durch eine Kombination des in Richtung der Dicke der photoleitendon Schicht gemessenen spezifischen Widerstandes und des in einer Richtung cenkrecht hierzu gegossenen spezifischen Widerstandes, nämlich einer Richtung parallel zur Oberfläche der Schicht."for example ΙΟ" "* Torr deposited. General it can be said that a place where the same material is used becomes, a porous layer made from it has a relatively high apparent resistance to the introduced Electrons are released, while a continuous layer of fuel produced from them has a relative effect forms low apparent resistance to this. Indeed, the quality of one is therefore increased by an image pickup tube Using such material, the regenerated image is bsstisast by a combination of the in the direction of the Thickness of the photoconductive donor layer measured specific Resistance and that in one direction perpendicular to this cast resistivity, namely one direction parallel to the surface of the layer.

Zusätzlich zu der genannten photoleitenden Schicht aus Antimontrißulfid wurde ein photoleitendea Target aus Bleimonoxid als Typ größerer Empfindlichkeit vorgeschlagen. In addition to the aforementioned photoconductive layer Antimony trisulfide, a lead monoxide photoconductive target, has been proposed as a type of higher sensitivity.

PLUMBICON, bei dem dieses Target benutzt wird, ist in letzter Zeit praktisch in Earbfernsehkamoras verwendet worden. Verglichen ©it der Bildaufnahmeröhre vom Bild-Orthicon-Typ jedoch besitzen "dies© photoleitenden noch eine niedrigere PhotoempflLÄdlicakei^v Allein darum wurdenPLUMBICON using this target is in Practically used in ear TV camoras recently been. Compared to the image-orthicon-type image pickup tube however, "this" photoconductive still has one lower PhotoempflLÄdlicakei ^ v Just because of that were

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dauernd beachtliche Anstrengungen. - allerdings ohne Erfolg - gemacht, um ein bei weitem empfindlicheres photoleitendes Target su entwickeln« -consistently considerable efforts. - but without success - made to develop a far more sensitive photoconductive target «-

Der Anmelder in ist es allerdings schon führer gelungen, ein photoleitendes Target unter Vervendung von Cadmium— selenid als photoleltendo Schicht su verwenden; eine Bildaufnahmeröhre mit diesea Target besaß eine Fhotoempfindlichkeit, die mehr eis das Zehnfache einer Bildaufnahmeröhre ausmachte, die aus äea üblichen photoleitenden Target bestand. Dieses photoleitende Target unterschied sich von dem damals verwendeten nicht nur durch die Benützung eines unterschiedlichen Haterials für die photoleitende Schicht sondern euch durch die Tatsache, daß Aas für diese Schicht benutzte Cadraiunsolenld eine elektronische leitfähigkeit vom η-Typ besaßt. Der Unterschied in der Arbeitsweise zwischen diesem photoleitenden Target vom η-Typ und dem vorher bekannten Target vom p-Typ 1st in der Tatsache zu sehen, daß bei einer Leitfähigkeit vom η-Typ ein Abtasten der Elektronenstrahlen frei so. einer photoleitenden Schicht vorgenommen werden kann» um die Signalelektrode zu erreichen. Diese hohe iFhotoempfindlichkeit Äes Targets vom n-Typ beruht auf der Tatsache, daß die photoerregten löcher in der Schicht sofort in den Hekombinationszentren innerhalb der Schicht angefangen werden und .dad ein sekundärer PhotoatromThe applicant in has already succeeded in using a photoconductive target using cadmium selenide as the photoleltendo layer; an image pickup tube with this target had a photosensitivity which was more than ten times that of an image pickup tube consisting of a conventional photoconductive target. This photoconductive target differed from the one used at that time not only in the use of a different material for the photoconductive layer but also in the fact that the cadranium solids used for this layer had an electronic conductivity of the η-type. The difference in operation between this η-type photoconductive target and the previously known p-type target resides in the fact that with η-type conductivity, electron beam scanning is free . a photoconductive layer can be made »to reach the signal electrode. This high iFhotosensitivity for the n-type target is based on the fact that the photoexcited holes in the layer are immediately started in the hecombination centers within the layer and that a secondary photo atom

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weiter aufgrund des Einfallens von Elektronenstrahl en aufrechterhalten v/erden kann, bis das eingefangene Loch mit einem freien Elektron rekoinbiniert wird. Wie bei einem aua dem üblichen photoleitenden Material hergestellten Target jedoch besaß das Sarget mit der photoleitenden Schicht au3 Cadmiums el enid noch Efachteile, da es unmöglich war, einen Signalstrom au erhalten, es eei denn, eine Bildschirmspannung erheblichen Wertes wurde angelegt, wobei ala weitere Voraussetzung eine Begrenzung der Breite, in der das Sarget arbeitete, hinzukam*further due to the incidence of electron beams can be maintained until the trapped hole is recombined with a free electron. Like one made of the usual photoconductive material Target, however, still had the sarget with the photoconductive layer made of cadmium elenide, since it was impossible was to receive a signal stream, unless a screen voltage Considerable value was applied, ala another requirement being a limitation of the width in which the sarget worked, was added *

Das photoleitende Target nach der Erfindung besteht aus einer ersten photoleitenden Schicht, die allein oder hauptsächlich aus Caduiuiaaelenid oich susammensetzt» das auf einer transparenten Elektrode bis su einer Dicke von minimal 0,5 Ilikron ausgebildet war und eine zweite Schicht aus einem Halbleitermaterial hohen Widerstandes aufwies, das der ersten Schicht tait einer Dicke von 0,6 Mikron marimal überlagert wird, so daß der Potentialgradient in dem Teil der zweiten Schicht, der der ersten Schicht gegenüberliegt, verbreitert wird und der Elektroneneinetrom von der zweiten Schicht erleichtert wird. Somit erzeugt das erfindungsgemäße photoleitende Target einen Signalstrom bei niedriger Bildschirmspannung und arbeitet über einen breiten Spannungsbereich. The photoconductive target according to the invention consists of a first photoconductive layer, which is composed solely or mainly of caduia alenide and the like on one transparent electrode was formed to a thickness of at least 0.5 Ilicron and a second layer of one High resistance semiconductor material superimposed on the first layer to a thickness of 0.6 microns marimal so that the potential gradient in the part of the second layer which is opposite to the first layer, is broadened and the electron influx from the second Layer is facilitated. Thus, the invention produces photoconductive target generates a signal current at low screen voltage and operates over a wide voltage range.

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Die Erfindung ßoll nun weiter anhand der beiliegenden Zeichnung erläutert trerden, in derThe invention should now be further based on the enclosed Drawing explained trerden in the

Mgur 1 schematiech einen Schnitt durch eine Bildaufnahmeröhre zeigt, die mit eiern photoleitenden Target nach, der Erfindung ausgestattet ist;Mgur 1 schematically shows a section through an image pickup tube shows that with a photoconductive target after, the invention is equipped;

Figur 2 seigt schematise!! einen Schnitt durch eine Ausführungsform des photoleitenden !Targets nach der Erfindung; und ■ , ■ Figure 2 shows schematically !! a section through an embodiment of the photoconductive! target according to the invention; and ■, ■

Figur 3 ist ein Diagr..2üi, in dem ein Vergleich des bekannten photolGitenden targets, äag nur rait einer photoleitenden Schicht versehen \rar, die aus Cadiaiumsolenid bestand, und dem photoleitenden Target nach der Erfindung vorgenoiamen wurde, das mit einer photoleitenden, in der in Figur 2 dargestellten Vieisa hergestellten Schicht versehen ist, wobei die Auftragung die Fähigkeit, einen Signalstrom bei einer gegebenen Bildschirmspannung mit der Targetausleuchtung "bzw· -beleuehtungsstärke als Parameter erfolgte·Figure 3 is a Diagr..2üi in which a comparison of the known photoconductive target, aait only a photoconductive Layer provided \ rar, which consisted of Cadiumiumsolenid, and vorgenoiamen the photoconductive target according to the invention which is provided with a photoconductive layer produced in the Vieisa shown in FIG Target illumination "and / or illumination strength as a parameter took place

Figur 1 versinnbildlicht den Aufbau «insrr Bildaufnahmeröhre unter Verwendung fles Targets nach der Erfindung, ate Konstruktion, ist dieselbe als bei anderen normalen VIDIKON« Röhren, bis auf das Target, für das eine kurze Beschreibung folgt. Die dargestellte Röhre 10 besteht aus einem Vakuumgefäß 11, das einen Elektronenkanonenabschnitt 12FIG. 1 symbolizes the structure of the image pickup tube using fles targets according to the invention, ate construction, is the same as in other normal VIDIKON tubes, except for the target, for which a brief description follows. The illustrated tube 10 consists of a vacuum vessel 11 which has an electron gun section 12

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und eine photoleitende Targetanordnung 15 enthält. Die Elektronen-Kanonen-JiiLoränung 12 umfaßt ein© Heizeinrichtung H, eine die Heißeinrichtung umgebende Kathode 15 und eine Steuergitterelektrode 16 cowie eine Beschleunigerelektrode 17« diese sind beide koaxial zur Kathode 15 angeordnet. Eine Elektrode 18 ist koaxial zur Beschleunigerelektrode 17 angeordnet und eine Maschenelektrode 19 ist so vorgesehen, daß sie der Kathode an einem Ende der Elektrode 18 entgegengesetzt sur Beschleunigerslektrode 17 gegenüberliegt· D©rphötpleitende Targstabschnitt 13 besteht aus einem durchsichtigen Glaasubstrat 20, einer durchsichtigen leitenden auf den Substrat 20 abgeschiedenen Schicht 21 und einem photoleitenden !Target 22 nach der Erfindung, wobei das Target 22 auf der leitenden Schicht 21 gegenüber der Käschenelektrode 19 abgeschieden ist,and a photoconductive target assembly 15 includes. The electron gun assembly 12 includes a heater H, a cathode 15 surrounding the heater and a control grid electrode 16 as an accelerator electrode 17 ″ these are both arranged coaxially to the cathode 15. An electrode 18 is arranged coaxially to the accelerator electrode 17 and a mesh electrode 19 is provided so that they meet the cathode at one end of the electrode 18 opposite to accelerator electrode 17 opposite D © rphötpleitende target section 13 consists from a transparent glass substrate 20, a transparent one conductive layer 21 deposited on substrate 20 and a photoconductive target 22 according to the invention, the target 22 being deposited on the conductive layer 21 opposite the cup electrode 19,

Wie Figur 2 zeigt, besteht das photoleitende Target nach der Erfindung aus einer ersten hauptsächlich aus Cadmiumeelenid Eusamaengesetaten Schicht 23» die auf einer durchsichtigen Elektrode 21 ausgebildet ist und einer aweiten Halbleitermaterielechicbt 24, "beispielsweise Antimontrlsulfid, das der ersten Schicht 23 überlagert ist. In dieser Figur bezeichnet der Pfeil C^ die Richtung, in der das LichtAs FIG. 2 shows, the photoconductive target according to the invention consists of a first layer 23, mainly of cadmium selenide, which is formed on a transparent electrode 21 and a second semiconductor material layer 24, for example antimony sulfide, which is superimposed on the first layer 23 Figure indicates the arrow C ^ the direction in which the light

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projeziert wird und dor Pfeil (h gibt die Richtung an, in der die Elektronenstrahl en eingeführt werden»; is projected and the arrow (h indicates the direction in which the electron beams are introduced » ;

Xm' folgenden - soll ein Baispiel für das Verfahren zur Herstellung eines photoleitenden Targets nach der Erfindung gegeben werden. Auf einer durchsichtigen Elektrode 21 wird auf einem durchsichtigen Substrat in Form von Dampf unter einem Vakuum von 1 odor 2 2 10"' mm Quecksilbersäule eine Cadmiumselenidschicht von etwa 1 Mikron Dicke abgeschieden. Vor der Aufdampfung werden vor dem Cadraiumselenid beispieleweise 20 Gewichtsprozent Oadniumchlorid und 0,05 Gewichtsprozent Kupfer(I)chlorid zugegeben. Die so durch Aufdampfen laminierte Schicht wird weiter beispielsweise durch 15 Minuten langes Erwärmen bei einer Temperatur von 6000O in einer Stickstoffatmosphäre gesintert. Die Hasse wird dann einer Wärmebehandlung in einer Selenatnosphäre "beispielsweise 30 Minuten lang bei einer Temperatur von 5000O ausgesetzt,, um eine photoleitende Schicht hohem spezifischen Widerstandes zu erhalten. Diese Schicht wird aus Gründen der Zweckmäßigkeit ale erste Schicht 23 bezeichnet, Auf der ersten Schicht 23 wird unter dem genannten hohen Vakuum von 10*"* mm Hg eine Antiraontristtlfidschiaht 24 aufgedampft» deren Dicke bei 0,4 Mikron liegt» wodurch das photoleitende Target nach derIn the following, an example of the method for producing a photoconductive target according to the invention will be given. A cadmium selenide layer about 1 micron thick is deposited on a transparent electrode 21 on a transparent substrate in the form of vapor under a vacuum of 1 odor 2 2 10 "'mm of mercury. 05 percent by weight of copper (I) chloride was added. The laminated so by vapor deposition layer is further sintered, for example, with 15 minute long heating at a temperature of 600 0 O in a nitrogen atmosphere. The Hasse is then subjected to heat treatment in a Selenatnosphäre ", for example, for 30 minutes at exposed to a temperature of 500 0 O, in order to obtain a photoconductive layer of high resistivity. For the sake of convenience, this layer is referred to as the first layer 23. On the first layer 23 an antirontist foil 24 is vapor-deposited under the above-mentioned high vacuum of 10 * "* mm Hg, the thickness of which is 0.4 microns, which causes the photoconductive target to follow the

• 1 0 981 Π /077 5 BAD original• 1 0 981 Π / 077 5 BAD original

• Erfindting gebildet wird. Die Zugabs von E-apfer(I)chlorid bei diesem Verfaliren soll die iliotoleitfähigkeit der erhaltenen Schicht steigern. Ein Einschluß von Caäsiiurachlorid in die Väriiebelianülun;?; nach dar Aufdaaipfuzigiot auf das 'beschleunigt3 Wachstum der Cadmiumüelenidkristalle gerichtet. In diesem !falle voll diesem Zweck« Des weiteren kann die Oa&QiuiriselenicLkoiaporienta s;ua c-insr Feststoff lösung oder ancii einer lliGcliimc» ^iG einen geeigneten Anteil an CadaiumEulfid entblüt, bestellen (beispielsv/eiae kann das GewichtsVerhältnis von Cadmiumsulfid zu Cadmiumselenid gleich 1 : 2 sein). lax-uberhinaua irönnon die sugesetzten Verunreinigungen BUDätzlich suin Kupfer ein oder mehrere der Stoffe Silber, Gold, lTiallium, Indium, Gallium, Aluminium, Halogene, Tellurium, Antimon, Viourafc, Blei, Zinn, Alkalimetalle und Erdalkalimetalle enthalten.• Inventing is formed. The addition of E-apfer (I) chloride In this process, the iliotoconductivity is said to be obtained Increase shift. An inclusion of caesium chloride in the Väriiebelianülun;?; after dar Aufdaaipfuzigiot on this accelerates3 the growth of the cadmium ulenide crystals directed. In this! Fall full of this purpose. ”Furthermore Can the Oa & QiuiriselenicLkoiaporienta s; ua c-insr solid solution or ancii a lliGcliimc »^ iG a suitable proportion of CadaiumEulfid without bloom, order (for example v / eiae can do that Weight ratio of cadmium sulfide to cadmium selenide be equal to 1: 2). lax-uberhinaua irönnon put the suges Impurities BUDadditionally suin copper one or more the substances silver, gold, tiallium, indium, gallium, aluminum, Halogens, tellurium, antimony, viourafc, lead, tin, Contain alkali metals and alkaline earth metals.

Eine Bildaufnahmeröhre, die ein Target enthält, in dem die ersten und zweiten Schichten entsprechenl der erfindungsgemäßen Maßnahme vorhanden sind, beaitzt, wie in Figur 3 gezeigt, bei weiteai hera.uaragender3 Eigenachaf* ten als das bekannte Target, bei den die zweite Schicht des Antimontriaulfide fehlt. In Figur 9 iki ein Vergleich zwiochen den erfindungsgemäßen und bekannten Targets vorgenommen worden, wobei der Signalatroewert (logarithmische An image pickup tube containing a target in which the first and second layers entsprechenl of the measure according to the invention are present, beaitzt, as shown in Figure 3, wherein weiteai hera.uaragender3 Eigenachaf * th than the known target, on the second layer of Antimontriaulfide is missing. 9 shows a comparison iki zwiochen the invention and known targets been made, wherein the Signalatroewert (logarithmic

10 9810/0775 bad original10 9810/0775 bad original

Skala) durch die Ordinate und der BlldschlrmBpannungsvert (logarithmische Skala) durch die Abszisse bezeichnet ist, wobei die Eargetbeleuchtung3atärl£en (0,8 Lux, 0,3 Lux und ohne Beleuchtung) als Parameter hergenommen wurden*. Die ausgezogenen Kurven der Figur 3 geben die Eigenschaften des bekannten Targets und die gestrichelten Zurren die des erfindungsgemäßen Targets an.Scale) through the ordinate and the BlldschlrmBpannungsvert (logarithmic scale) is denoted by the abscissa, where the earget lighting is at a level (0.8 lux, 0.3 lux and without lighting) were used as parameters *. the The solid curves in FIG. 3 indicate the properties of the known target and the dashed lashings of the target according to the invention.

Wie sich aus diener Figur ergibt, arbeitet das erfindunge-• gemäße Target mit einer niedrigeren Spannung als im bekannten Fall, 12a den gleichen Signalstrom eu erreichen. Dies ist von besonderer Wichtigkeit, wenn nur ein winziger Signalstroa erforderlich ist- Darüberhinaus beeinflußt die Aufbringung einer so niedrigen Cargetspannung nicht den Dunkelstrqmweft. Da3 photoleitende Sarget nach der Erfindung ermöglicht es, daß die largetspannung Über einen breiteren Bereich als bei der bekannten Einrichtung gewählt werden kann. Beispielsweise liegt, wenn man als Basis die Beleuchtungsstärke von 0,8 Lux nimmt» die BiIdsohirmspannung der bekannten Einrichtung zwischen etwa und etwa 25 Volt, wogegen nach der Erfindung dieser zwischen etwa 45 und etwa 8 ToIt liegt.As can be seen from this figure, the inventive • according to target with a lower voltage than in the known case, 12a achieve the same signal current eu. This is of particular importance, if only a tiny one Signal flow required is also affected the application of such a low carget voltage does not affect the dark current. Da3 photoconductive sarget according to the Invention makes it possible that the larget voltage over a wider range than in the known device can be selected. For example, if you are a The illuminance of 0.8 lux is based on the screen voltage the known device between about and about 25 volts, whereas according to the invention this between about 45 and about 8 toIt lies.

Die erfindungsgemäße Maßnahme bringt aber nicht nur denThe measure according to the invention does not only bring that

1 0 98 1 Π / Π7751 0 98 1 Π / Π775

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günstigen aus Pigur 3 ablesbaren !Fortschritt mit si cn, sie liefert auch den t/eiteren Vorteil» daß das Eachbild reduziert vircU Ea coil dor Fall enganonnGii v/erden,daß beiopielauoißö eine phoUoloitcnclo E5.1äauinabia3rl>hre in Betrieb gesetzt Ist lind ein ?ersucli£reinster 1 Minute lang hierauf beleuchtet wird und diones nach Entfernung des Musters dem treißen Licht cusgeoetat %iird· Das Auagangsbesucliisaiuster bleibt Cg^o bei dem bekannten Sarget zurückt bei dem ία nur eine erste Schicht cxl3 Cadiaiumselenid benutzt wird. Eine photoleitends, ßas Sargot nach der Erfindung enthaltende Bilßaufiiaiiuaröhr© jedoch seigt im wesentlichen 2cein JJachbild» i/sisn oiö den gleichen Bedingungen ausgesetzt wird» Die Bildaufnahiaeröhre beeitßt nämlich nicht nur die hohe Empfindlichkeit und den Panohrotaatismus der bekannten Bildaufnahmeröhret die einfach mit Gadmiumsäenid als erster Schicht verschon ist, condom ist gegenüber dieser bszüglioli voroclaiedonGr unorwUnschtor Übergangseigenschaften Törbeesert, die einen erzeugten Bild sugeordnet weräen, und bietet so eine größere praktische Brauchbarkeit. .Favorable from Pigur 3 readable! Progress with si cn, it also provides the additional advantage that the picture reduces vircU Ea coil dor case enganonnGii v / erden that atopielauoißö a phoUoloitcnclo E5.1äauinabia3rl> hre is put into operation? ersucli £ reinster 1 minute long illuminated thereon and diones after removal of the pattern to the light treißen cusgeoetat% IIRD · the Auagangsbesucliisaiuster remains Cg ^ o in the known back Sarget t ία wherein only a first layer cxl3 Cadiaiumselenid is used. A photoleitends, SSAS Sargot according to the invention Bilßaufiiaiiuaröhr containing © However seigt substantially 2cein JJachbild »i / SiSn oiö the same conditions is subjected to" The Bildaufnahiaeröhre namely beeitßt not only high sensitivity and Panohrotaatismus the known image pickup tube t simply with Gadmiumsäenid first Layer is spared, condom is compared to this bszüglioli voroclaiedonGr unorwUnschtor transition properties Törbeesert, which arrange a generated image, and thus offers greater practical usability. .

Die entscheidende Bedeutung des zusamaengesetsten Targets nach der Erfindung tot darin zu sehen, daß die erste Schicht aus Cadtaiumselenld besteht» das selbst eine ausreichende Photoempfindliohkelt besitzt· Besitzt Ale erste SohichtThe decisive importance of the assembled target according to the invention is to be seen in the fact that the first layer consists of cadtaium selenium "which itself has sufficient photosensitivity. It has a first layer

■■■■■■■-■■ 10981(1/0775 BADOR1Q1NA1.■■■■■■■ - ■■ 10981 (1/0775 BADOR 1 Q 1 NA 1 .

eine schlechte Licht eapfincH-ichlceit, so bietet ein zu- ■ s Target» \ϊβώλ es euoli entsprechend dera bad light eapfincH-ichlceit, so offers a to- ■ s target » \ ϊβώλ es euoli corresponding to the

Maßnahm© hergestellt wurde, keinerlei Torteil. Selbstvöretyjaiiliah lot äü3 Verjfahröa zur Herst Qlltmg dieser ersten Schicht nicht auf die vorbeschrie-"bene Ausführungsfcria. beschränkt- Beispielsweise ist es Tor der Wärdebehandlung in ainer Selenatiaoophäre möglich» ^ die Auf dämpfung der gemischt en Schicht in einer inerten Atmosphäre unter einem Valnmgijöas sp tief vle 10*" tarn liegt, durchsuführen, anstatt von 10 "^ um Hg vie vorher beschrieben·Measure © was produced, none Gate part. Selbstvöretyjaiiliah lot äü3 Verjfahröa to the manuf This first layer does not apply to the above-described level Execution fcria. limited- For example, it is Gate of heat treatment in a selenium atmosphere possible »^ the damping of the mixed layer in an inert Atmosphere under a Valnmgijöas sp deep vle 10 * "camouflage is to be carried out instead of 10 "^ around Hg vie before described

!Damit die erste Schicht ölo vollö Photoeapfindlichlceit £ieitigen lcann, soil bevorEUst die erste Sohioht Ö»5 Mikron minimal dick sein» Dar Grund ist darin au eohönr daß diarin, VQTm. die erste Schicht au dünn 1st, dies au einer Vemninäe-Be! For the first layer ölo vollö Photoeapfindlichlceit £ ieitigen lcann, soil bevorEUst the first Sohioht Ö »5 microns minimum thickness" Dar reason is the fact that r au eohön diarin, VQTm. the first layer is thin, this on a Vemninä-

■ · . ■■■■:■■ ·. ■■■■: ■

. rung der Hchtempfiridlich^Git und au einom Anstieg dea Dunkelstroas und-zur Unmöglichkeit» Fernsahbilder hoher Qualität eu ereeugen. . tion of the highly sensible ^ Git and on the rise of the dark streaks and - to the impossibility - high quality television pictures you can see.

'Sun soll die zweite Schicht des erfindungsgemäßen gesetaten !Targets beschrieben werden» wobei Antimontrlsul« fid als Beispiel geiiählt ist. Bei der vorhergehenden Aueführungsform bildet das Antimontrißulfid eina kontinuierliche 'Sun to the second layer of sailed did targets are described invention! "Said Antimontrlsul" fid is geiiählt as an example. In the previous embodiment, the antimony sulfide forms a continuous one

109810/0775 .. BAD0RialNAt109810/0775 .. BAD0RialN At

Peststoff schicht von 0,4 Mliroa Dicke· Steigt die Dicke .. über 0,6 Mikron, so erhellt Dan lediglich ein laomontcaee regeneriertes Bild im Augenblick der Aufnahme* Das regenerierte Bild vorechv/iaaGt also sofort und uacht die Bildaufnahmeröhre völlig unbrauchbar· AU3 dem vorgenannten Arbeitspriiizip dieser Schicht läßt sich dies ableiten, und jsvar aufgrund dor Eatoacbe, daß solch eine dicke zweite Schicht das Einströaen von ELelrtronenstrahlen behindert und so das Hießen eine3 sekundären Photo3troiaes unterbricht. Anders ausgedrückt, die auf der ersten Schicht ausgebildete aweite Schicht sollte nicht co dick sein, daß sie in merklicher \7oiDe ösg Einströmen von abtastenden Elektronenstrahlen verhindert. Die Materialien der zweiten Schicht können cusätslich sua gekannten Antiaontrißulfld andere Halbloiterjiaterialien mit hohem Widerstand, beispielsweise AntimontrißclGixid, ArsentrlsuXfld, Arsentrleelenid# Wismuttrisulfid, Wismuttriselenld, Cadniumtellurid, Bleimonoxid, Selen» Sirucoulfid und Zinkselenid umfassen. Besteht die zweite Schicht aus einem der obengenannten Materialien, so erhält man die gleichen Ergebnisse vie bei der eretbesehriebenen Ansfuhrungaforta· Da diese Materialien unterschiedliohe sposificcha V/ideratände aufweisen, variiert die obere Gr&nzefür dia Dicke einer hieraus hergestellten ' Schicht, je nachdem, ob sie als kontinuierliche Pest« etoffacbicht oder als poröse Schicht ausgebildet ist»Plague layer of 0.4 Mliroa thickness · If the thickness increases .. over 0.6 microns, Dan only illuminates a laomontcaee regenerated image at the moment of recording This can be deduced from the above-mentioned working principle of this layer, and it is due to the fact that such a thick second layer hinders the inflow of electron beams and thus interrupts a secondary phototroia. In other words, the second layer formed on the first layer should not be so thick that it significantly prevents the inflow of scanning electron beams. The materials of the second layer may comprise cusätslich sua unknown Antiaontrißulfld other Halbloiterjiaterialien high resistance, for example AntimontrißclGixid, ArsentrlsuXfld, Arsentrleelenid # Wismuttrisulfid, Wismuttriselenld, Cadniumtellurid, lead monoxide, selenium "Sirucoulfid and zinc selenide. If the second layer consists of one of the above-mentioned materials, the same results are obtained as in the case of the above-mentioned description continuous plague «etoffacbicht or designed as a porous layer»

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BAD ORIGINALBATH ORIGINAL

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l3eIspIelsvjelG0 lrscatrisulfid mit einem relativ hohen sposifiGchen tfidGretaad da sweite Schicht» eo bildet non dieoo vorausDifeioe als kontinuierliclie Feststoff ocliicTic im Hinblick cuf eine einfache Steuerung der Schichtdicke bei der Auf dämpfung aus. Im Falle eines Materials mit relativ niedrigen cpesifischen Widerstand wie Antimontriselenid ist es viinochensisrert, dieses in eine poröse Schicht auch äarua su f ο risen, vm den Abbau der Aufioaefähigköit der so liergedtolltan Schicht zu verhindern. Während die Bweite Schicht oua ein oder mehreren Schichten bestellen Icaan, cpllte fieren Geßaatdicke 0r6 Mikron in Pedell lall nicht überschreiten. l3eIspIelsvjelG0 Irscatrisulfid with a relatively high negative tfidGretaad da wide layer »eo doesn’t form a pre-difeioe as a continuous solid ocliicTic with regard to a simple control of the layer thickness during the absorption. In the case of a material with relatively low resistance as cpesifischen Antimontriselenid it is viinochensisrert, this in a porous layer also äarua su f ο risen vm, to prevent the degradation of the so Aufioaefähigköit liergedtolltan layer. While the wide layer or one or more layers apply Icaan, cpllte free seed thickness 0 r 6 microns in Pedell lall not exceed.

Die spelrtrookopieehe PhotoGtapfindlichkeit der ersten Schicht, die hauptsächlich aus Cedaiumselenid besteht, herrscht über den gesamten elehtbaren Strßhlungsbereich von blau nach rot vor· Anders Gucgedrüclct, die Schicht besitzt einen großen AböorptioB3fcoeffiaienten über den gesamten Bereich de3 sichtbaran lichtes. Das Licht, das durch die erste Schicht übertragen wurde» ist conit in Sea Vermögen, die zweite Schicht zu erregen, taerlclich reduziert; Die erfindungsgemäß benutete zweite Schicht vira ebenfalls durch Aufdampfung hergestellt» eine weiter© SpeBialbehandlung ist nicht erforderlich.The spelrtrookopiehe photo-ability of the first layer, which consists mainly of cedaium selenide prevails over the entire visible radiation range from blue to red in front · Anders Gucgedrüclct, the layer has one large subscriptions across the entire area de3 visible in the light. The light that passed through the first Shift was transferred »is conit in Sea assets that second layer to excite, daily reduced; According to the invention also used the second layer of vira Vapor deposition produced »a further © special treatment not necessary.

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■- 16■ - 16

Da die obengenannten Materialien öar streiten Schicht Stoffe tog p-Syp nafcsaGa, tennn man sich vorstellen, daß "■· ein p-n-Übergan^ cit in Sperrschicht gopolter Vorspsx^ang ■Since the above materials argue öar laminates tog p-Syp nafcsaGa, tennn imagine that "■ · a pn Übergan ^ cit in barrier gopolter Vorspsx ^ ang ■

syrischen dar ersten Schicht (Schicht vom der E-vieitea Schicht (Schicht vom p~Typ) gebildet virö· V7ie cos Pigar 3 jedoch su sehen, sind die Eigenschaften flea eucscaccgoeetatca Targets nach der Tau— findizng derart, da3 es, während dor geeeiate Bereich der Arheitsspaunimg dos !üargeta ßioh eher gegen die Niedrig*·Syrian first layer (layer of the E-vieitea layer (layer of the p ~ type) formed virö · V7ie cos Pigar 3, however, see below, the properties of flea eucscaccgoeetatca targets after the dew- finding are such that it, while there is geeeiate area der Arheitsspaunimg dos! üargeta ßioh rather against the low *

verschiebt» das !Target Stroiaspaiinungaei-moves »the! Target Stroiaspaiinungaei-

gsnschaftea ±m vssantlichen analog denen eines largets zeigt, welches nur oit einer ersten Schicht versehen ist.gsnschaftea ± m vssantlichen analogous to those of a largets shows that only oit a first layer is provided.

Das suaammengesetzte Target aeigt eoait keinen Stromsätti— gungszustand aufgrund des Yorhandeuseins eines p-n-Übergang3, wie ellgomein angenommen* Diea Tatsache zeigt, daß die photoelektriechen UniforaierGiger.schaften dos Targets nach der Erfindung völlig unabhängig vom Problem dee besonderen Kontc&tes evrischen den c»reten und. zweiten Sohichten sind. Die svoita Schicht soll nor dau Einfließen der Elelctronenotrohlen orleichtern, indea Qrtlloh ein ucharfer Potentialgradient auf der cibgetaototen Oberfläche der ersten Schicht hervorgerufen wiird. Andere ausgedrückt, die zweite Schicht dient daau, öino große Anzahl von HiveausThe assembled target has no current saturation state due to the existence of a p-n junction3, as ellgomein assumed * The fact shows that the photoelectric UniforaierGiger.schaften dos Targets according to the invention completely independent of the particular problem Kontc & tes evrischen the c »reten and. second layers are. The svoita layer is supposed to flow in Elelctronotrohlen or lighten, indea Qrtlloh a ucharfer Potential gradient on the cibgetaototen surface of the first layer is caused. In other words, the second layer is used for a large number of levels

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die auf des? Obörfläoha dar Cretan Schicht vorhanäen Bind, au redcaiQisnj leiche sich uio "trcpo" gegenüber den üa-the on the? Obörflaoha dar Cretan layer exist Bind, au redcaiQisnj corpse uio "trcpo" opposite the üa-

ssi- v©s?h2lton. Bio^or. 33if©!et ctcssit aus der ,. ö&Q- dta liT3o^c.^a^£:Qig<saschaft©n des Targets,ssi- v © s? h2lton. Bio ^ or. 33if ©! Et ctcssit from the,. ö & Q- dta liT3o ^ c. ^ a ^ £: Qig <saschaft © n of the target,

ica das uassütbiacihte UachMlt! you EiBfaKgca (trapping) eines leöuagotragerö' .ätafch diesa Oberflächen-* niveaus ■ herrührt* · . - ■ wica the uassütbiacihte UachMlt! you EiBfaKgca (trapping) of a leöuagotragerö '.atafch this surface * level ■ originates from * ·. - ■ w

Eat entaitsprücheEat entaits

109810/O77S109810 / O77S

Claims (2)

PAI1EJiMlTSPRUCHBPAI 1 EJiMlTSPRAGEB f1«)JPhotoleitenüGo Target, bei dem eine Schicht photcleitencicn Katorielo auf einer Schicht elektrisch leitfähigen Mater-islc? ausgebildet iot» dadurch gekennzeichnet, daß die Schicht photoleitcnäen Materials (22) aus einer ereten Schicht (23) aus i/snigstena Gaflniuisoelenid, das eüf einer Schicht elektrisch leitfähigen liaterials (21) mit einer Dicke von 0,5 Hikron minimal ausgebildet ist und einer zweiten Schicht (24) aufgebaut ist, die V7enig3tens ein Halbleitenzaterial hohen Widerstandes enthält und dar ersten Schicht (23) mit einsr Dicke von 0,6 Hikron. maximal überlagert ist· f 1 «) JPhotoleitenüGo target in which a layer of photcleitencicn Katorielo on a layer of electrically conductive mater-islc? formed iot »characterized in that the layer of photoconductive material (22) is formed from a first layer (23) of i / snstena Gaflniuisoelenid, the eüf a layer of electrically conductive limaterials (21) with a thickness of 0.5 micron minimal and one second layer (24) is constructed, which contains at least a semiconductor material of high resistance and the first layer (23) with a thickness of 0.6 microns. is maximally superimposed 2.) Photoleitendes Serget nach Anspruch 1, dadurch gekesnseichnet, daß die Eweita Schicht aus Antimontrisulfid besteht.2.) Photoconductive serget according to claim 1, characterized in that the Eweita layer consists of antimony trisulfide. 109810/0775 bad original109810/0775 bad original
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