DE1597786A1 - AEtzfeste Kopierschicht fuer die photomechanische Reproduktion - Google Patents

Description

• Ätzfeste Kopierschicht für die photomechanische Reproduktion Die Erfindung betrifft eine ätzfeste Kopierschicht, die zur Herstellung von Druckformen für die photomechanische Reproduktion geeignet ist.
• Es ist bekannt, zur Herstellung lichtempfindlicher Kopierschichten als lichtempfindliche Substanzen Naphthochinon-(1,2)-diazide und deren Derivate zu verwenden. Derartige Schichten sind z.8. in den deutschen Patentschriften 854 890, 938 233 und 1 062 247 beschriebeh. Dort werden sowohl Näphthochinon-(1,2)-diazide-(2) als auch die Naphthochnon-(1,2)-diazide-(1) beschrieben, insbesondere solche, die im Molekül eine Sulfonsä:ureestergruppe oder eine Sulfonsä;ureamid@ruppe enthalten. Es ist ferner aus der deutschen Patentschrift 1 195 166 bekannt, bestimmte Naphthochinondiazid-sulfonsäureester in Verbindung mit säurefesten, alkalilöslich-en Kondensationsharzen vom Typ der nicht härtbaren Phenol-Formaldehyd-Novolake zur Herstellung ätzfester Kopierschichten für die photomechanische Reproduktion zu verwenden. Die Herstellung der genannten Sulfonsäureester und Sulfonsäureamide erfolgt in der Weise, daß man die Sulfonsäurehalogenide - insbesondere die Chloride - mit den gewünschten Aminen oder Hydroxyverbindungen umsetzt.
• Es wurde nun überraschenderweise gefunden, daß sich als lichtempfindliche Substanzen für die Herstellung ätzfester Kopierschichten auch die Naphthochinondiazidsulfonsäurehalogenide eignen.
• Gegenstand der Erfindung ist daher eine ätzfeste lichtempfindliche Kopierschicht, die mindestens ein säurefestes alkalilösliches Kondensationsharz vom Typ des nicht hä.rtbaren Phenol-Formaldehyd-Novolaks und als lichtempfindliche Substanz mindestens ein Naphthochinon-(1,2)-diazidsulfonsäurederivat enthält, und die dadurch gekennzeichnet ist, daß sie als lichtempfindliche Substanz ein Naphthochinon-(1,2)-diazidsulfonsäurehal.ogenid enthält. Von den erfindungsgemäß zu verwendenden Sulfonsäurehalogeniden werden der besonders leichten Zugänglichkeit wegen vor allem die Sulfon-säurechloride bevorzugt.
• Die Diazidgruppe des Naphthochinon-(1,2)-diazids kann in bekannter Weise :n 1- oder- in 2-Stellung stehen. Aufgrund ihrer besseren Lichtempfindlichkeit und der leichteren Zugänglichkeit werden jedoch in bekannter Weise die Derivate des -Naphthochinon-(1,2)-diazids-(2) starkbevorzugt.
• Die erfindungsgemäßen lichtempfindlichen Kopierschichten enthalten als weiteren Bestandteil ein Kondensationsharz vom Typ des Phenol-Forrlaldehyd-Novolaks, w4e es bereits in der deutschen Patentschrift 1 195 16E beschrieben worden ist. Das Gewichtsverhältnis von liehterpfindlicher Substanz zu Kondensationsharz liegt dabei im allgemeinen zwischen 1:3@und 1:6,-vorzugsweise zwischen 1:3 und 1:4.
• Die ätzfesten lichtempfindlichen Kopierschichten vorliegender Erfindung sind in ihren Eigenschaften, z:ß.,in ihrer Lagerfähigkeit, mit den bekannten Schichten, z.B. denjenigen der deutschen Patentschrift 1 195 166 vergleichbar. Sie haben jedoch diesen gegenüber den Vorteil der erheblich einfacheren Herstellung, da die erfindungsgemäß verwendeten lichtempfindlichen Naphthoch:non-(1,2)-diazidsulfonsäureha@n;enir@@ 7,wsrhen»rodukte ßlr die He_r;t;e7.lung der hpkannten und bisher für, den gleichen Zweck verwendeten lichtempfindlichen Diazoverbindungen sind. Obwohl Vertreter der erfindungsgemä.ß zu verwendenden Sulfonsäurebalo enide als chemische Verbindungen bereits seit mehr als 30 Jahren bekannt sind, ist ihre Verwendung in ätzfesten lichtempfindlichen-Kopierschichten noch niemals vorgeschlagen worden.
• Der Vorzug der einfachen Zugänglichkeit gilt naturgemäß insbesondere für die sehr einfach herzustellenden und verhältnismäßig beständigen Sulfonsäurechloride. Es können jedoch in Fällen, in denen an die Haltbarkeit der Beschichtungslösungen keine allzu hohen Anforderungen gestellt werden, auch z.B. die entsprechenden Sulfonsäurebromide verwendet werden. -Als Träger für die erfindungsgemäßen Kopierschichten lassen sich -mit besonderem Vorteil Metallplatten und Metallfolien verwenden, z.B. solche aus Aluminium, Bronze, !Chrom, Kupfer, Magnesium, Messing, Silber, Stahl oder Zink sowie Bimetall- und Trimetallfolien, z.B. aus Kupfer-Stahl, Aluminium-Kupfer, Aluminium-Kupfer-Chrom: Ferner kann man Schichtträger aus elektrisch nicht leitenden Kunatetoffen verwenden, die mit metallischen Schichten kaschiert oder, mit Metallen bedampft worden sind. Hierfür sind ihabaaondere Folien aua transparenten Kunststoffen, z.B. biaxial-gereckte und wärmefixierte Polyesterfolien geeignet. Die Herstellung des Kopiermaterials mit den darauf haftenden erfindungsgemäßen Kopierschichten geht in an sich bekannter . Weise vor sich. Man löst das Naphthochinon-diazid-sulfonsäurehalogenid oder ein Gemisch von. entsprechenden Sulfonsäurehalogeniden und das säurefeste alkalilösliehe,Harz in einem organischen Lösungsmittel und trägt die Losung, welche die-beiden wesentlichen Bestandteile enthält, nach einer der in der Beschiehtungstechnik üblichen Methoden, z.8. durch Aufschleudern, Antragen mittels: Walzen usw., auf den an der Oberfläche gereinigten Schichtträger auf und trocknet sie anschließend. Als Lösungsmittel zur Herstellung der Beschichtungslösungen eignen sich beispielsweise Glykolmonomethyläther oder Glykolmonoäthyläther, aliphatische Ester, wie Essigester oder Butylacetat, aliphatische Ketone,, wie Methyl-isobutyl-keton oder Aceton, oder Gemische derartiger Lösungsmittel: Ferner können zur besseren Erkennbarkeit der in der Schicht erhaltenen Bilder die Kopierschichten: mit geeigneten Farbstoffen, welche sich durch eine niedrige UV-Lichtabsorption auszeichnen, in bekannter Weise angefärbt werden. Der Farbstoff wird vorteilhaft bereits der lichtempfindlichen Beschichtungslösung zugesetzt: Geeignete Farbstoffe sind z .B. Methylviolett B8 (Schultz, Farbstofftabellen, 7. Auflage, Bd. 1 (1931), S. 327, Nr. 738), Rosanilin-Hydrochlorid (a.a.0., S. 324, Nr. 780), Methylenblau (a.a.0. S. 449, Nr. 1038), Patentblau V (a.a.0., S. 349, Nr. 826), Sudanblau II (Color-Index, Solvent Blue 35, Vol. I2, S. 2883).
• Die erfindungsgemäßen ätzfesten Kopierschichten können zur Herstellung von Druckformen für die Chemigraphie sowie von kopierten Schaltungen verwendet werden. Sie können sowohl nach dem Mehrstufenätzverfahren als auch nach dem Einstufenätzverfahren verarbeitet werden. Sie arbeiten ebenso wie die Schichten gemäß Patentschrift 1 195 166 positiv und gestatten damit eine vereinfachte Herstellung und qualitätsmäßige Verbesserung von Druckformen für den Hoch- und Tiefdruck. Beispiel 1 Man löst 3 g Naphthochinon-(1,2)-diazid-(2)-5-sulfonsäurechlorid und 10 g m-Kresol-Formaldehyd-Novolak in einem Gemisch aus 80 ccm Glykolmonoäthyläther und 20 ccm Butylacetat, setzt 0,5 g Sudanblau II hinzu, filtriert die Lösung und beschichtet damit einen rotierenden Kupferzylinder mittels einer Spritzdüse. Man trocknet die auf den Zylinder aufgetragene Schicht, belichtet sie unter einer negativen photographischen Vorlage und entfernt die vom Licht getroffenen Anteile der Schicht durch Überwischen mit einem Wattebausch, -der mit einer etwa 10 - 15 %igen Trinatriumphosphatl_ösung getränkt :ist Der so behandelte Kupferzylinder wird mit Wasser und schließlich mit etwa 2-3 %iger Essigsäure übergossen,. um die alkalisch reagierenden Reste der Entwicklerlösung zu beseitigen.: Nach erneutem Abspülen mit Wasser wird mit Warmluft getrocknet. Die freigelegte Kupferfläche wird mit Eisen-III-chloridlösung von 400 B6, die eine Temperatur von 200 C besitzt, bis zur gewünschten Tiefe geätzt. Man erhält eine Druekform für den Tiefdruck, welche sich nach dem üblichen Verchromen für das Bedrucken von Klarsichtfolien hervorragend eignet. Beispiel 2 Man: löst 3 g Naphthochnon-(i,2)-diazid-(2)-4-sulfonsäurechlorid und 1(? g m-Kresol-formaldehyd-Novolak in 100 ccm Qlykolmonoäthyläther und setzt 0,5 g Methylviolett BB hinzu. Man filtriert die. Lösung und beschichtet mit ihr auf einer Schleuder eine saubere, polierte Zinkplatte. Die aufgetragene Schicht wird mit heißer Luft getrocknet. Zur Herstellung des Klischees belichtet man die Schichtseite der,Zinkplatte unter einem Diapositiv und behandelt die belichtete Schicht mit einem Wattebausch, welcher mit einer etwa 2,5 %igen wäßrigen Trinatriumphosphatlösung, die noch 10-15 Vol.-% Glykolmonoäthyläther enthält, getränkt ist. Die vom Licht getroffenen Schichtteile werden dabei von der Zinkoberfläche entfernt,@während die Teile, welche während der Belichtung unter der Vorlage geschützt waren, als Restbild auf dem metallischen Träger zurückbleiben. Nach dem Spülen der entwickelten Platte mit Wasser wird in einem Steinzeugtrog, welcher Schaufelräder besitzt, mit verdünnter 7-8 %iger Salpetersäure nach dem üblichen Mehrstufenätzverfahren tief geätzt. Man erhält ein für den Buchdruck sehr gut geeignetes Klischee. An Stelle einer Zinkplatte kann man mit gleich guten Ergebnis eine Platte aus Magnesium verwenden. Ebenso kann man die Ätzung nach dem Einst ufenverfahren durchführen. Beispiel 3 Man löst 3 g Naphthoehinon-(1,2)-diazid-(2)-5-sulfonsäurechlorid und 10g m-Kresol-Formaldehyd-Novolak in einem Gemisch aus 80 ccm Glykolmonomethyläther und 20 ccm Butylacetat, setzt 0,5 g Rosanilin-Hydrochlorid (Schultz, Farb- ' stofftabellen, 7. Auflage (1931) I. Band, Seite 324, Nr. 780) zu, filtriert die Lösung und beschichtet damit eine glatt.' polierte Kupferplatte. Nach der Belichtung unter einem photographischen Negativ wird die belichtete Schicht mit einem Wattebausch behandelt, welcher mit einer etwa 2,5 eigen wäßrigen Trinatriumphosphatlösung, die noch 10 - 15 Vol-% Glykolmonoäthyläther enthält, getränkt ist. Dabei werden die vom Licht getroffenen Teile. der Schicht von der Kupferplatte entfernt. Die dadurch bildmäßig freigelegte Kupferfläche wird nun bei 20 - 220 C mit einer Eisenahloridlösung von 40o Be geätzt. Man erhält eine für den Tiefdruck hervorragend geeignete Druckform. Beispiel 4 Man löst 3 g Naphthochinon-(1,2)-diazid-.(2)-4-sulfonsäurechlorid und 10 g m-Kresol-Formaldehyd-Novolak in 100 ccm Glykolmonoäthyläther, setzt 0,5 g Methylviolett B8 (Schultz, Farbstofftabellen, 7. Auflage, I. Band (1931), Seite 327, Nr. 783) hinzu, filtriert die Lösung und beschichtet damit eine Trimetallfolie aus Aluminium, Kupfer und Chrom. Nach der Belichtung unter einem photographischen Negativ werden die vom Lichtgetroffenen Anteile der belichteten Schicht mit einer 2,5 %igen wäßrigen Trinatriumphosphatlösung, die noch etwa 10 - 15 Vol.-% Glykolmonoäthyläther enthält, mittels eines Wattebausches entfernt: Anschließend wird die Platte mit fließendem Wasser gespült, mit Warmluft _ getrocknet und dann geätzt. Die Atzung für Chrom erfolgt mittels eines Gemisches aus Calciumchlorid, Salzsäure und Glycerin nach USA-Patent 2 687 345, wobei die unter der Chromschicht befindliche Kupferfläche nicht angegriffen wird. Man erhält eine Druckform für den Offsetdruck, bei der die Druckelemente aus Kupfer bestehen,-während die nicht druckende Fläche aus Chrom besteht. Beispiel 5 Man löst 3 g Naphthochinon-(1,2)-diazid-(2)-5-sulfonsäurechlorid und 10 g m-Kresol-Formaldehyd-Novolak zu 100 ccm in Glykolmonomethyläther, setzt 0,5 g Patentblau V (Schultz, Farbstofftabellen, 7. Auflage, Band I (1931), S. 349, Nr. 826) hinzu, filtriert die Lösung und besQhichtet damit eine Aluminium-Kupfer-Bimetallfolie in bekannter Weise auf der Schleuder. Nach der Belichtung unter einem Diapositiv werden die vom Licht getroffenen Anteile der belichteten Schicht durch Behandlung mit einer etwa 2,5 %igen wäßrigen Trinatriumphosphatlösung, die 10 - 15 Vol.-% Glykolmonoäthyläther enthält, mit Hilfe eines Wattebausches entfernt. Die freigelegte KHpferfläche wird dann mit einer Eisennitratlösung, welche 160 g Fe(N03)3#9 H20 in 100 ccm Wasser enthält, weggeätzt. Man erhält eine Druckform für den Offsetdruck, mit welcher hohe Auflagen erhalten werden. Anstelle von.Aluminium-Kupfer kann mit gleich gutem Ergebnis eine Bimetallfolie aus Stahl-Kupfer verwendet werden. Beispiel ä Man- arbeitet wie in Beispiel 5, verwendet aber als Schichtträger eine Kupferfolie von etwa 30-70/u Dicke, die auf eine elektrisch isolierende Kunststoffolie kaschiert ist. Nach der Belichtung unter einem Diapositiv und Entfernen der vom Licht getroffenen Anteile der Schicht mit einer 2-,5 %igen wäßrigen Trinatriumphosnhat115sungs welche etwa 10-15 Vol.-% Glykolmonoäthyläther enthalt, wird die das Bild tragende Seite der Unterlage mit fließendem Wasser gewaschen, mit Heißluft getrocknet und die freigelegte Kupferfläche bei Raumtemperatur mit Eisenchloridlösung von 't 400 B' weggeätzt:- Man erhält eine "kopierte-Schaltung An Stelle einer auf den isolierenden Kunststoff kaschierten Metallfolie kann eine transparente oder mattierte Kunststoffolie, die durch Metallbedampfung im Vakuum mit einem Metallspiegel-(Dicke beispielsweise etwa 1/u) versehen ist, als Schichtträger mit gleich gutem Ergebnis verwendet werden. Beispiel 7 Man arbeitet wie in Beispiel 4, jedoch unter Verwendung einer Aluminiumfolie als Schichtträger. Nach Belichtung unter einer Vorlage, zum Beispiel einem Diapositiv, und Entfernen der vom Licht ,getroffenen Anteile der Schicht durch Behandeln mit einer 2,5 %igen wqßrigen Trinatriumphosphatlösung, welche etwa 1Ö - 15 Vol.-% Glykolmonoäthyläther enthält,-wird die Aluminiumfolie mit fließendem Wasser gewaschen und mit Heißluft getrocknet. Das Bild wird anschließend durch Tamponieren mit einer 1,7-%i gen Phosrhorsqure fixiert. Nach dem Einfärben von Hand oder in einer Offsetdriiekraschine ist die Druckfolie fcJr den Druckprozeß ferti.^°. Beispiel B Man löst 1,5 g Naphthochinon-(1,2)=diazid-(2)-4-sülfon-Säurechlorid, 1,5 g Naphthochinon-(1,2)-diazid-(2)-5-sulfonsäurechlorid und 10 g m-Kresol-Formaldehyd-Novolak in 100 ccm Glykolmonoäthyläther, setzt 0,5 g Methylviolett BB hinzu, filtriert die Lösung und.beschichtet damit eine-Aluminiumfolie. Nach der Belichtung unter einer Vorlage, zum Beispiel einem photographischen Negativ, und Entfernen der vom Licht getroffenen Anteile der Schicht durch Behandeln mit einer 2,0-%igen Trinatriumphosnhatlösung, welche etwa 10-15 Vol.-% Glykolmonoä.thyläther enthält, wird die Aluminiumfolie mit fließendem Wasser gewaschen und mit Heißluft getrocknet. Zunächst . wird die das Bild tragende Seite der Folie zur@Herstellung eines gleichmäßig schwarz gefärbten Ätzbildes auf Aluminium bei Raumtemperati)r 1 w 2 Minuten Lang ängeatzt, indem. sie mit einem Wattebausch, der mit einer Lösung; der folgenden Zusammensetzung getränkt ist (Ätzlösung I), überwisch-t wird: -297,0 9 Calciumshlorid 255,6 p Eisen-III-chlorid (techn.) 132.0 eem konzentrierte Salzs-#iiire (techn. ) 7,9 cc:m 80-%ir-7e -Salpetersäure j-lasser bis zu 1 Liter. Lösunm ahne die Folie mit Wasser züz willen, wird dann vii t einer r;%i.;,zr,° fnlrender Zusammensetzung (Ätzl(5slan- TT) nnch etwa

  s=: .;=1 -1.' fi:i enr@i:ll@-t@hl@ar@.d (t:z:l@g. )

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  nach dem Ätzen die Arom Licht nicht retrof fenen und auf der Folie verbliebenen Anteile der Schicht zunig:chst mit einem Lösungsmittel, z.B. Glykolmonoqthyläther. abFelMst und anschließend das frei-ele7te Aluminium durch Tamronieren mittels eines geeigneten Hydrophilierunmsmittels wasserführend gemacht sind. Eine weitere Verbesserung der Leistung dieser-so hergestellten Druckplatte kann man erre=ichen, wenn man nach dem Ätzen das Ätzbild in bekannter Weise lackt und anschließend die nicht belichteten Stellen entfernt.

Claims (1)

1. P a t e=n t a n s p r ü c h e 1. Ätzfeste lichtempfindliche Kopierschicht, die mindestens ein säurefestes alkalilösliches Kondensationsharz vom Typ des nicht härtbaren Phenol-Formaldehvd-Novolaks und als lichtempfindliche Substanz mindestens ein Nazhthochinon-(1,2)-diazidsulfonsäurederivat enthält, dadurch gekennzeichnet, da.ß sie als lichtempfindliche Substanz ein Naphthochinon-(1,2)--diazidsulfonsäureha.lop-enid enthält. 2. - Kopierschicht nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Naphthochinon-(1,2)mdiazidsulfonsäurehalogenid ein Naphthochinon-(1,2)-diazidsulfonsäurechlorid ist. 3. ; Kopierschicht nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß sie als lichtempfindliche Substanz ein Naphthochinon-(1,2)-diazid-(2)-sulfonsäurehalogenid enthält. 4. Kopierschicht nach AnSDruch 1 bis 3, dadurch Rekennzeichnet, daß das Gewichtsverhältnis von lichtempfindlicher Substanz zu Kondensationsharz zwischen 1:3 und 1:6 liegt.