DE1597555A1

DE1597555A1 - Photographisches Material

Info

Publication number: DE1597555A1
Application number: DE1967E0035166
Authority: DE
Inventors: Miller Donald Nelson
Original assignee: Eastman Kodak Co
Current assignee: Eastman Kodak Co
Priority date: 1966-11-14
Filing date: 1967-11-14
Publication date: 1970-05-06
Also published as: FR1556240A; DE1597555B2; BE706444A; SE328471B; GB1177149A; AT282343B; DE1597555C3

Description

Die Erfindung betrifft ein photographisches Material, bestehend aus einem Träger, dessen eine Seite eine antistatisch wirksame Schicht aufweist, sowie gegebenenfalls einer Silberhalogenidemulsionsschicht.

Es ist bekannt, daß sich für photographische Zwecke geeignete Papiere praktisch wasserdicht ausrüsten lassen, wenn man sie mit hydrophoben Polymeren, wie beispielsweise Polystyrolen, Polyacrylaten, I&yäthylen und dergl.,beschichtet. Obwohl solche photographischen Papiere eine beträchtlich bessere Beständigkeit gegenüber Wasser besitzen als entsprechende unbeschichtete Papiere,haben sie sich doch noch nicht als vollständig zufriedenstellend erwiesen, da sie dazu neigen, sich während ihrer Herstellung, Verarbeitung und Verwendung statisch aufzuladen.

Durch Entladung der Papiere treten in den darauf aufgetragenen photograph!.sch«n Baulsionsechichten oftmals imregeiwiiig· Schieier·

muster auf. Weiterhin ist die Ausbildung statischer Ladungen auch deshalb unerwünscht, da durch die Ladungen angezogene Staubpartikel zur Fleckenbildung, Desensibilisierung, Verschleierung und zu anderen physikalischen Defekten führen.

Auf mit Polymeren beschichteten Papieren, wie beispielsweise auf mit Polyäthylen beschichteten Papieren, stellt das Auftreten statischer Ladungen ein besonders schwerwiegendes Problem dar, da die Polymerschichten nicht leitfähig sind.

Die Ausbildung statischer Ladungen auf photographischen Papieren kann insbesondere in Sensibilisierungsvorrichtungen oder in mit hoher Geschwindigkeit betriebenen Filmschneide- und Aufspulvorrichtungen erfolgen. Dabei entstehen insbesondere zwei Arten von statischen Ladungen, nämlich sog. Abspul- und sog. Transportladungen. Beim Abspulen einer Papierbahn bildet sich an der Stelle, an der das Papier von der Walze getrennt wird, eine als statische Abspulladung bezeichnete Corona aus. Die Ausbildung der Corona ist von der Geschwindigkeit, mit welcher das Abspulen erfolgt, der Zusammensetzung der Hmulsionsschicht und der Drahtseitenbeschichtung abhängig. Statische lintladungen treten aber auch in der Vorrichtung selbst infolge des Kontakts de.r Schichten mit den Transportwalzen und beim Abziehen der Schichten von den Transportwalzen auf. Das Auftreten derartiger "statischer Transportladungen'¹ hängt von der Geschwindigkeit der Walzen, dem Material, aus welchem die Walzen bestehen und

oolite/mo ^BADO*^I&WL

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de-r Zusammensetzung der Drahtseitenoberfläche ab. Weiterhin wird die Ausbildung statischer Ladungen von der inneren Leitfähigkeit und dem Feuchtigkeitsgehalt der Papiere sowie den im Raum herrschenden atmosphärischen Bedingungen beeinflußt.

In anderen Worten ausgedrückt, stellt die Ausbildung statischer Ladungen ein dynamisches Phänomen dar, dessen Auftreten von einer Kontaktelektrifizierung der Papierbögen infolge Reibung und der Leitfähigkeit der Bögen (Oberflächenleitfähigkeit und innere Leitfähigkeit), durch welche die Geschwindigkeit der Entladung gesteuert wird, abhängt. Die beiden Faktoren, nämlich elektrische Aufladung und Entladung, müssen genau ausgeglichen werden, da sich sonst beim Abwickeln eine Corona bildet und Funkenentladungen auftreten. Um das Auftreten statischer Elektrizität zu vermeiden, muß die Entladungsgeschwindigkeit größer sein als die Aufladungsgeschwindigkeit. Dieser Wert kann durch Messung der Oberflächenleitfähigkeit bestimmt werden. Zu diesem Zweck wird in der Regel der spezifische Oberflächenwiderstand unter bestimmten Temperatur- und Feuchtigkeitsbedingungen, nämlich bei 23,89⁰C und 20% relativer Feuchtigkeit, zwischen zwei Elektrodenplatten bestimmt. Die Berechnung des spezifischen Oberflächenwiderstandes erfolgt dabei; wie in der USA-Patentschrift 2 801 191 beschrieben, ,nach folgender Gleichung:

Spezifischer Widerstand in Ohm = gemessener Widerstand in Ohm

Abstand der Elektroden in cm

Länge der Elektroden in cm g^Q ORIGINAL

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Es hat sich gezeigt, daß ein ausreichender Schutz vor dem Auftreten statischer Aufladungen dann gegeben ist, wenn bei Widerstandsmessungen Werte von etwa 1,0 χ 10 Ohm erhalten werden. Im Vergleich hierzu erhält man mit entsprechenden, nicht antistatisch ausgerüsteten.Materialien Werte für den spezifischen Widerstand von größer als 1,0 χ 10 Ohm.

Der Erfindung lag die Aufgabe zugrunde, ein besonders wirksam antistatisch ausgerüstetes photographisches Material anzugeben.

Der Erfindung lag die Erkenntnis zugrunde, daß sich photographische Materialien ausgezeichnet antistatisch mit einer Beschic htungsmasse ausrüsten lassen, welche aus einer Mischung aus kolloidalem Siliciumdioxyd und mindestens einer ionischen organischen oberflächenaktiven, ein Dispei&Üiiemittel darstellenden Verbindung besteht. .

Gegenstand der Erfindung ist somit ein photographisches Material, bestehend aus einem Träger, dessen eine Seite eine antistatisch wirksame Schicht aufweist, sowie gegebenenfalls einer Silberhalogenidemulsionsschicht, dadurch gekennzeichnet, daß es eine antistatisch wirksame Schicht, bestehend aus einer Mischung aus kolloidalem Siliciumdioxyd und mindestens einem Alkalimetallsal ζ einer organischen Verbindung mit mindestens einer Acrylsulfonsäuregruppe aufweist.

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Vorzugsweise enthält; die antistatisch wirksame Schicht als Alkalimetall sal ζ

1. ein Alkalimetallsalz der 2,5-Naphthalindisulfonsäure,

2. ein Alkalimetallsal ζ einer durch mindestens einen kurzkettigen Alkylrest substituierten Naphthalinsulfonsäure,

3. ein Alkalimetal!salz eines Kondensationsprodukts aus Formaldehyd und 2,5-Naphthalindisulfonsäure und/oder

4. ein Alkalimetallsalz eines Alkylarylpolyäthersulfonats.

Nach der Erfindung lassen sich photographische Materialien mit sowohl einer guten Wasserbeständigkeit als auch hervorragenden antistatischen Eigenschaften und photographischen Eigenschaften herstellen.

Die photographischen Materialien der Erfindung bestehen gemäß einer Ausführungsform aus einem Papierträger, einer Polymerschicht auf einer oder beiden Seiten des Trägers und einer photographischen Schicht, beispielsweise einer S fiberfalI-Kittelschiebt, einer lithographischen Kopierschicht oder einer oder mehreren lichtempfindlichen Silberhalogenidemulsionsschichten. Weiterhin btfindet sich auf dem Träger mindestens

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eine antistatische Schicht.. Die antistatische Schicht kann auf dem Träger gegebenenfalls auch in Form einer inneren Schicht angeordnet sein. Vorzugsweise wird die antistatische Schicht jedoch als äußere Schicht auf der der lichtempfindlichen photographischen Schicht gegenüberliegenden Seite des Schichtträgers angeordnet.

Mit den antistatischen Beschichtungsamssen nach der Erfindung lassen sich jedoch nicht nur mit Polymeren beschichtete Papierträger, sondern auch zur Herstellung photögraphischer Träger geeignete Filme und Folien aus Hochpolymeren antistatisch ausrüsten. Somit lassen sich beispielsweise auch photographische Filmträger aus Celluloseestern, Polyestern und Poly-ot-olefinen antistatisch ausrüsten, was in der Regel vor dem Auftragen der photographischen Emulsionsschicht auf die Filmträger erfolgt.

Besonders vorteilhafte photographische Materialien sind solche, bei denen die antistatische Schicht direkt über einer äußeren Polymerschicht auf dem Papierträger angeordnet ist. Die aus der antistatischen Beschichtungsmasse hergestellten antistatischen Schichten

BAD

besitzen eine hqhe Leitfähigkeit. Bei der Herstellung, Verarbeitung und Verwendung solcher antistatisch ausgerüsteter photogräphischer Papiere treten keine oder praktisch keine statischen Ladungseffekte auf. Der spezifische (elektrische)

12 Widerstand solcher Papiere beträgt weniger als 1,0 χ 10 Ohm.

Vorzugsweise besitzen diese Materialien einen spezifischen

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Widerstand zwischen 10 und 10 Ohm. Im einzelnen hängt der Widerstand etwas von der Dicke der antistatischen Schicht ab.

Im Hinblick darauf, daß kolloidales Siliciumdioxyd allein nur sehr geringe antistatische Effekte zeigt und ferner Arylsulfonate allein keine besonders ausgezeichneten antistatischen Effekte herbeiführen, war es vollständig überraschend festzustellen, daß mit einer Mischung aus beiden Komponenten der erzielbare antistatische Effekt beträchtlich größer ist als der Effekt, der sich bei Verwendung der einzelnen Verbindungen erzielen läßt. Dieser unerwartete Effekt der antistatischen Beschichtungsmasse nach der Erfindung wird im einzelnen in den folgenden Beispielen genauer beschrieben.

Ein weiterer Vorteil der antistatischen Beschichtungsmasse nach der Erfindung besieht darin, daß während der Entwicklung von mit einer äußeren antistatischen Schicht aus Siliciumdioxyd und Arylsulfonat versehenen photographischen Materialien in wässrigen Entwickiungslösungen das Arylsulfonat aus der Schicht herausgelöst wird, während eine harte'.Siliciumdioxyd--. schicht zurückbleibt, welche sämtliche darauf gedruckten oder aufkopierten bezirke festhält.

..■."· W- . 009819/1580 .

Die Siliciumdioxydschicht verhindert somit nicht nur das Auftreten statischer Ladungen sondern gestattet auch eine Markierung oder Kennzeichnung der Polymerschicht, beispielsweise einer Polyäthylenschicht, wobei die Markierungen die Entwicklung überstehen. Aus antistatischen Beschichtungsmassen nach der Erfindung hergestellte antistatische Schichten photographischer Materialien sind im übrigen vorteilhafter als entsprechende Schichten aus Siliciumdioxyd und einem quaternären Ammonium-, Sulfonium- oder Phosphoniumsalz, da diese dazu neigen, photoaktiv zu sein.

Zur Herstellung photographischer Materialien werden die antistatischen Beschichtungsmassen nach der Erfindung, wie bereits dargelegt, zweckmäßig mindestens auf eine Seite eines gegebenenfalls beidseitig mit einem Polymer beschichteten Papierträgers aufgetragen. Eine Seite des antistatisch ausgerüsteten Schichtträgers kann mit einer oder mehreren photogfaphischen Schichten, vorzugsweise lichtempfindlichen S übe rhalogenidemuls ions schichten, beschichtet sein. Vorzugsweise enthalten solche photographischen Materialien eine antistatische Schicht nach der Erfindung lediglich als Rückschicht.

Mit einer Beschichtungsmasse nach der Erfindung ausgerüstete lichtempfindliche photographische Materialien können beispielsweise dadurch hergestellt werden, daß man Papier beidseitig mit einem Celluloseester, wie beispielsweise mit Celluloseacetat oder einem linearen Polyester oder einem Polyolefin,

0 0 9 819/1580 bad original

wie beispielsweise Polypropylen oder Polyäthylen in an sieh bekannter Weise nach Lösüngsmittelbeschichtungsverfahren, durch Extrusion einer heißen Schmelze des Polymers oder durch Auflaminieren einer vorgefertigten Folie des Polymers beschichtet. Der Papierträger kann gegebenenfalls auch Schichten aus verschiedenen Polymeren aufweisen.

Vorzugsweise wird ein mit einer Mischung aus Gelatine und einem leitenden Salz, beispielsweise einem Alkalimetallsulfat, wie Natriumsulfat, geleimtes Papier verwendet. Die alkalische Leimung wirkt dabei als zusätzliches internes Antistatikum.

Gegebenenfalls kann das Papier vor der Applikation der einzelnen Schichten zur Verbesserung der Adhäsion einer Elektronenbestrahlung unterworfen werden. Anstelle einer Elektronenbestrahlung kann zur Verbesserung der Haftung der Polymeren auch ein sog. Primer oder eine Zwischenschicht aus einem Polyalkylenimin, z. B-. des in der USA-Patentschrift 3 230 135 beschriebenen Typs (z. B. Polyäthylenimin) auf das Papier aufgetragen werden. In einem solchen Falle wird auf den Papierträger zweckmäßig so

2 viel Polyäthylenimin aufgetragen, daß pro dm Trägerfläche (gemessen in trockenem Zustand) etwa 0,0005 mg Polyäthylenimin entfallen.

Die Dicke des verwendeten Papieres kann sehr verschieden sein. Sc können beispielsweise dünne bis halbstarre Bogen verwendet

BAD ORiGiNAL

Auch die Dicke der Polymerschichten, beispielsweise Polyäthylenschichten, kann sehr verschieden sein. Vorzugsweise beträgt die Dicke solcher Schichten xxjcäxk&K etwa 0,00254 bis 1,27 mm. Die Dicke dieser Schichten hängt insbesondere von den Anforderungen, die an das fertige photographische Material gestellt werden, ab.

Zur_N Beschichtung der Papierträger können z. B. sämtliche Polyäthylene und Polypropylene verwendet werden, die zur Ausbildung von kontinuierlichen Filmen geeignet sind. Wie dem Fachmann bekannt ist, unterscheiden sich solche Polyäthylene oder Polypropylene je nach dem angewandten Polymerisationsverfahren durch ihre Schmelzviskosität und ihre Dichte. (Vgl. USA-Patentschrift 2 219 700).

Weiterhin können zur Beschichtung der Papierträger bekannte Celluloseester organischer Säuren verwendet werden. Besonders geeignet sind Celluloseester kurzkettiger aliphatischer Säuren, beispielsweise Celluloseacetate, Celluloseacetatpropionate und Celluloseacetatbutyrate. Besonders gut geeignet ist Cellulosetriacetat.

Ferner können zur Beschichtung der Papierträger bekannte lineare Polyester verwendet werden. Geeignet sind beispielsweise solche aus Polyäthylenterephthalat und PoIy(I,4-cyclohexandimethylenterephthalat). Wird eine Polyesterfolie auf einen Papierträger auflaminiert, so kann diese z* ß» aus eimt amorphen unorientierten Folie oder einer biaxial orientiert·^ Pol* gemäß USA-Patent-

OQ9I10/1S»O ¹

Schriften 2 823 521 und 2 779 684 bestehen.

Die antistatische Beschichtungsmasse kann in üblicher Weise auf den Träger aufgetragen und danach aufgetrocknet werden. Gegebenenfalls kann der Träger vor dem Auftragen der antistatischen Beschichtungsmasse mit Elektronen beschossen werden. . .

In vorteilhafter Weise kann eine wässrige, antistatische Beschichtungsmasse aus

1. einem Siliciumdioxydsol, beispielsweise einem der in der USA-Patentschrift 2 701 218 beschriebenen Siliciumdioxydsol, vorzugsweise einem Sol aus mit Aluminium modifiziertem kolloidalen Siliciumdioxyd, z. B. einer Suspension mit einem Feststoffgehalt von 30 % und einem Aluminiumoxydgehalt von etwa 0,2 % (Ludox AM, Hersteller Firma E. I. DuPont de Nemours und Co., USA), und

2. einem Alkalimetallsalz eines Alkylarylpolyäthersulfonats, beispielsweise einem der in der USA-Patentschrift 2 600 beschriebenen Alkylarylpolyäthersulfonat, vorzugsweise aus (p-^""l ,1,3,3-Tetramethy lbutyl_7phenoxy äthoxyäthyl-Natriumsulfonat), (Triton X200, Hersteller Firma E. Il DuPont de

° Nemours und Co., USA), ⁰⁰ , verwendet werden.

'_* Das Verhältnis von kolloidalem Siliciumdioxyd zum Arylsulfonat

o» kann sehr verschieden sein. Zweckmäßig beträgt das Verhältnis ο

etwa 3:1 bis 200:1. Besonders vorteilhafte Ergebnisse erhält man mit kolloidalem Silieiumdioxyd mit einer Teilchengröße von

etwa 5 bis 30 Millimikron. Solche Siliciumdioxydteilchen besitzen eine große Oberfläche, d. h. beispielsweise eine Oberfläche von 200 bis 235 m /g. Vorteilhafte Ergebnisse erhält man jedoch auch mit Siliciumdioxydteilchen eines Teilchendurchmessers von kleiner als etwa 250 Millimikron. Vorteilhafte antistatische Be Schichtungsmas sen erhält man ferner, wenn man ein nit Aluminium modifiziertes Siliciumdioxyd (Ludox AM) teilweise oder vollständig, durch ein normales kolloidales Siliciumdioxyd ersetzt, welches z. B. unter der Handelsbezeichnung Ludox HS erhältlich ist. Schließlich eignet sich z. B. auch das von der Firma Monsanto Chemical Co. unter der Handelsbezeichnung Syton vertriebene kolloidale Siliciumdioxyd.

Gegebenenfalls können den antistatischen Beschichtungsmassen auch polymere Dispeeionsmittel, vorzugsweise synthetische Dispersionsmittel zugesetzt werden. Zu diesem Zweck geeignete Dispersionsmittel sind übliche, in Wasser dispergierbare, d.h. wasserlösliche oder zur Bildung stabiler wässriger Disperionen fähige Verbindungen. Vorzugsweise verwendet man Alkalimetallsalze polymerer Carbonsäuren, welche gleichzeitig als antistatische Mittel wirksam sind. Beispiele hierfür sind Natriumsalze polymerer Carbonsäuren, z. B. Natriumpolyacrylat. Ge eignet sind ferner andere Alkalimetallsalze von Polyacryl- säuren, beispielsweise Kaliumpolyacrylat, Alkalimetallsalze von Acrylsäuremischpolymerisaten, wie beispielsweise das Natriumsalz eines Acrylsäure/Methjbcrylat-Mischpolymerisates und dergleichen. Zweckmäßig werden sie in Mengen von 0,1 bis

0 0 $ 8 1 9 / 1 S 8 0 BAD ORJGINM.

TOO Gew.-$, bezogen auf das Trockengewicht des kolloidalen Siliciumdioxyds, verwendet.

In geringeren Mengen werden diese Alkalimetallsalze polymerer Carbonsäuren als Dispersionsmittel, in größeren Mengen als antistatische Mittel verwendet.

Den antistatischen Beschichtungsmassen nach der Erfindung können gegebenenfalls auch Bindemittel einverleibt werden. Beispiele hierfür sind Cellüloseäther (Hydroxycellulose WP44OO von der Firma Union Carbide and Chemical Co.); Polystyrollatex (Dow 586); Styrol/Butadien-Mischpolymerisatlatices (Dow 512R) und wasserlösliche Vinylpolymerisate, wie beispielsweise Polyvinylalkohol und dergleichen. Vorzugsweise werden die angewandten Bindemittel in Mengen von 5 bis 10 Gew.-I, bezogen auf das Trockengewicht des kolloidalen Siliciumdioxyds, verwendet.

Gegebenenfalls können die antistatischen Beschichtungsmassen nach der Erfindung auch noch Zinkoxyd allein oder in Mischung mit anderen Metalloxyden der Gruppen II und III des Periodensystems der Elemente von Mendeljew in Kombination mit Verbindungen, welche gemeinsam mit ihnen unlösliche und abriebbeständige Schichten ausbilden, verwendet werden· Beispiele hierfür sind Natriumsilicat, Siliciumdioxyd, Zucker, Eugenol, Phosphorsäure, Borsäure, Weinsäure und verschiedene andere mehrbasische Säuren.

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Gegebenenfalls können den antistatischen Beschichtungsmassen auch Chlorwasserstoffsäure, Zitronensäure oder Oxalsäure in Mengen von etwa 10 bis 50 Gew.-t, bezogen auf das Trockengewicht des kolloidalen Siliciumdioxyds, einverleibt werden, um deren Haftung zu verbessern und um genügend unlösliche und abriebbeständige Schichten zu bilden.

Zur Erhöhung der Leitfähigkeit könnenden antistatischen Beschichtungsmassen auch Schmelzsalze (deliquescent salts), wie beispielsweise Calciumchlorid, Zinkchlorid, Zinknitrat, Kaliumnitrit und,dergl. in Mengen von etwa 5 bis 20 Gew.-%, bezogen auf das Trockengewicht des kolloidalen Siliciumdioxyds, zugesetzt werden.

Ferner können den antistatischen Beschichtungsmassen gegebenenfalls auch Dickungsmittel, (wie beispielsweise das von der Firma KeIco Company unter dem Handelsnamen Kelzan vertriebene Polysaccarid) oder Verlaufmittel, wie beispielsweise Alkalimetallsalze der Tridecoxyhexaäthoxysulfonsäure, in Mengen von 0,001 bis 2 Gew.-!, bezogen auf das Trockengewicht des kolloidalen Siliciumdioxyds und der zugesetzten Bestandteile, ein" verleibt werden«

In.vorteilhafter Weise werden die antistatischen Beschichtungs-

massen in der Weise aufgetragen, daß pro dm Trägerfläche etwa 1 bis etwa 10 mg Beschlchtungsmasse (Trockengewicht) entfallen.

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Gemäß einer anderen Ausführungsform einer antistatischen Beschichtungsmasse nach der Erfindung kann das Alkalimetallsalz der Alkylarylpolyäthersulfonatverbindung in der antistatischen Beschichtungsmasse teilweise oder vollständig durch bestimmte andere Arylsulfonsäuresalze, beispielsweise Alkalimetallsalze, wie das Natriumsalz der 2,5-Naphthaiindisulfonsäure, Alkalimetallsalze von mit kurzkettigen Alkylresten substituierten Naphthalinsulfonsäuren, wie beispielsweise Natriumsalze von Methyl-, Äthyl- oder Butylnaphthaiinsulfonsäuren oder Alkalimetallsalze von Kondensationsprodukten aus Formaldehyd und 2,5-Naphthalindisulfonsäure, beispielsweise Natriumsalze dieser Kondensationsprodukte,ersetzt werden.

Die mit einem oder mehreren Polymeren beschichteten und mit der antistatischen Schicht ausgerüsteten photographischen Materialien eignen sich beispielsweise zur Verwendung als Empfangsblätter bei Silberhalogeniddiffusionsübertragungsverfahren, wenn man sie mit einer Schicht aus einem SilberfiLlmittel, beispielsweise mit kolloidalem Silber, beschichtet (vgl. USA-Patentschrift 2 751 300).

Versieht man den eine antistatische Schicht aufweisenden Träger mit einer Schicht, welche eine Oniumverbindung oder einen Entwicklungsinhibitor, wie beispielsweise eine der in

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der USA-Patentschrift 3 260 597 beschriebenen Azoverbindungen enthält, so kann dieses photographische Material z. B. als Empfangsblatt zur Aufnahme eines Farbbildes, welches durch Diffusion von einem lichtempfindlichen Material mit diffusionsfähigen Farbentwicklern nach dem in der genannten Patentschrift beschriebenen Verfahren übertragen wird, verwendet werden. Bei Verwendung eines solchen photographischen Materials kann das Auftreten statischer Ladungen nicht beobachtet werden.

Ferner eignet sich ein erfindungsgemäß antistatisch ausgerüstetes photographisches Material z. B. als lithographische Druckplatte, wenn man die der antistatischen Schicht gegenüberliegende Seite des Trägers mit einem pigmentierten, hydrohilen, organischen Kolloid, beispielsweise mit Polyvinylalkohol und z. B. einem der in der USA-Patentschrift 3 055 295 beschriebenen Pigmente, beschichtet. Zur Bildung eines wasserunlöslichen Reliefbildes wird schließlich eine lichtempfindliche organische Kolloidschicht aufgetragen. Nach dem Anfärben der Druckplatte können die Bezirke der Reliefbilder ausgedruckt werden.

Die beidseitig mit Polymeren beschichteten Papierträger können selbstverständlich auf jeder Seite nicht nur eine einzige Schicht sondern auch zwei oder mehrere Schichten aus demselben oder verschiedenen Polymeren enthalten» So kann der Papierträger beispielsweise auf seiner Drahtseite mit einer

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Schicht aus einem Mischpolymerisat, wie beispielsweise einer Schicht aus einem Styrol/Butadien-Mischpolymerisat beschichtet sein und darüber eine oder mehrere Schichten aus Polyäthylen aufweisen. Die antistatischen Beschichtungsmassen nach der Erfindung werden in der Regel auf die äußere Polymerschicht der beschichteten Papiere aufgetragen, während die photographischen Schichten auf der äußeren Polymerschicht der anderen Seite des Papierträgers angeordnet werden.

In der Zeichnung sind erfindungsgemäß antistatisch ausgerüstete photographische Materialien dargestellt.

Im einzelnen ist dargestellt in:

Fig. 1 ein photographisches Material, bestehend aus einem Papierträger 10 mit darauf aufgetragenen Polyäthylenschichten 11 und 12 und einer direkt auf der Polyäthylenschicht 12 aufliegenden antistatischen Schicht 13, welche aus einer Mischung aus einem kolloidalen Siliciumdioxyd und einem Alkalimetallsalz eines Alkylarylpolyäthersulfonats'besteht und in

Fig. 2 das in Fig, 1 dargestellte photographische Material, bei weichem sich jedoch auf der Polyäthylenschicht 11 eine Gelatine/Silberhalogenidemulsionsahicht 14 befindet. ■ "

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Die folgenden Beispiele sollen die Erfindung näher veranschaulichen*

Beispiel 1

Ein Papierträger, welcher zunächst mit einer Mischung aus Gelatine und Natriumsulfat in einer Menge von 24,41mg/dm Trägerfläche geleimt und beidseitig mit einer Polyäthylenschicht einer Dicke von etwa 0,0381 mm extrusionskaschiert worden war, wurde auf der Drahtseite mit einer antistatischen

Beschichtungsmasse der folgenden Zusammensetzung in einer

2
Menge von 1,3 rag/dm Trägerfläche (Trockengewicht) beschichtet.

Bestandteile Trockengewicht Naßgewicht

Wasser · 0,758 kg

10t Dispersionsmittel ⁺ 0,003 kg 30,0 ml

ZnO 0,758 kg 0,758 kg

mit Aluminium modifiziertes SiO₉ 1,665 kg 5,552 kg

1Ölige Tridecoxyhexaäthoxysulfon- 0,048 kg 480,0 ml säure, Na-Salz-Lösung

Dickungsmittel ⁺⁺⁺ 0,123kg 26,762kg

Wasser 62,868 kg

2,5-Naphthalindisulfonsäure, " 0,544 kg 23,590 kg Ma-SaIz 59,3* Feststoffbestandteile /
(0,916 kg gelöst in 22,68 kg H₂O)

Butanol .' · .-- - 2,449 kg

3.141 kg

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Feststoffgehalt: 2,5% Viskosität: 1 ¹CpS. pH-Wert: 7,9

Tamol 850 der Firma Rohm und Haas Co. ⁺Ludox AM der Firma I.E. DuP on-1 de Nemours Co Kelzan der Firma Kelco

Die antistatische Schicht wurde getrocknet und der spezifische Oberflächenwiderstand des erhaltenen antistatischen Papiers nach dem beschriebenen Verfahren gemessen. Vor dem Auftragen der antistatischen Deckschicht besaß das Papier einen spezi-

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fischen Oberflächenwiderstand von 1 χ 10 Ohm und nach dem

Auftragen der antistatischen Schicht einen solchen von 4,8 χ 10¹¹ Ohm.

Die Polyäthylenschicht auf der der antistatischen Schicht
gegenüberliegenden Seite wurde hierauf mit Elektronen beschossen und anschließend mit einer geeigneten Gelatine-Silberhalogenidemulsionsschicht versehen.

Ein zweiter Streifen des mit Polyäthylen beschichteten Papiers wurde in entsprechender Weise mit einer Gelatine-Silberhalogenidemulsionsschicht beschichtet, mit der Ausnahme jedoch, daß es keine antistatische Rückschicht erhielt.

009019/1580 «*

Nach dem Härten wurden die beiden Prüflinge mit einer photographischen Entwicklerlösung behandelt. Es zeigte sich, daß der mit einer antistatischen Schicht ausgerüstete Prüfling von durch statische Entladung auftretenden Fehlern vollständig frei war, während der keine antistatische Rückschicht aufweisende Prüfling unerwünschte Schleiermuster aufwies.

Beispiel 2

Das in Beispiel 1 beschriebene Verfahren wurde wiederholt* jedoch mit der Ausnahme, daß die dort verwendete antistatische Beschichtungsmasse durch antistatische Beschichtungsmassen I und II der im folgenden angegebenen Zusammensetzung ersetzt wurde. Das Auftragen der antistatischen Schichten

2 erfolgte jeweils in einer Menge von etwa 5 bis 7,5 mg/dm Trägerfläche (Trockengewicht).

ί Ii

Trocken- Nap- Trocken- Naßgewicht gewicht gewicht gewicht in kg in kg in kg in kg

Wasser — 9,072 — 9,072

10% Dispersionsmittel ⁺ 0,035 0,354 0,035 0,354

Zinkoxyd ** 9,072 9,072 9,072 9,072

30« kolloidales Siliciuin-19,958 66,678 19,958 66,678 dioxyd

009 819/158 0 ' *^u

1Oi p-(1.,1,3,3-TetramethYl- 0,227 2,268 0,227 2,268 butyl)phenoxyäthoxyäthy1,
Natriumsulfonat

Dickungsmittel ⁺⁺⁺⁺⁺ 0,454 90,719 0,454 90,719

Calciumchlorid 3,629 48,534 3,629 48,534

Zitronensäure — — 0,318 31,751

ßutanol — 14,969 — 14,969

Wasser — 86(183 -- 77,564

33,375 327,849 33,693 350,981

Tamol 850 der Firma Rohm und Haas Co. ⁺⁺ XX5O3 .

Ludox AM der Firma I.E. DuPont de Nemours Co. Triton X200 der Firma I.E. DuPont de. Nemours Co. Kelzan der Firma Kelco

Es wurde der Abriebwiderstand der antistatischen Schichten
bestimmt, indem deren Oberfläche mit schwarzem Papier abgerieben und die Menge der dabei abgeriebenen "weißen Schicht" bestimmt wurde. Der Druck und die Anzahl der "Radiervorgänge" blieben konstant. Den Ergebnissen war zu entnehmen» daß sich durch den Zusatz von Zitronensäure zu der durch II wiedergegebenen antistatischen Beschichtungsmasse die Abriebbeständig-

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keit der damit hergestellten antistatischen Schicht beträchtlich verbessern ließ. Durch Erhitzen der beiden antistatischen ßeschichtungsjnassen konnte deren Hitzebeständigkeit verbessert werden.

Der spezifische Oberflächenwiderstand der mit den antistatischen Schichten ausgerüsteten Papiere betrug etwa 8,5 χ IO Ohm, während eine, keine antistatische Schicht aufweisende Vergleichsprobe einen spezifischen Oberflächenwiderstand von 1 χ 10 Ohm aufwies. Untersuchungen zeigten, daß sich auf den mit den antistatischen Schichten versehenen Papieren keine statische Ladung

en gebildet hatte, während die Emulsionsschicht/nicht antistatisch

ausgerüsteter Vergleichsproben verschleiert waren.

Beispiel 3

366,15 Ein Papierträger wurde auf einer Seite mit Polypropylen (jääv&k

2
mg/dm Trägerfläche) und auf der anderen Seite mit Polyäthylen-

292,92 terephthalat (30S#K mg/dnr Trägerfläche) extrusionskaschiert.

Hierauf wurde die Oberfläche der Polyesterschicht mit der in Beispiel 2 angegebenen äntistatisden Beschichtungsmasse I überzogen. Nach Elektronenbestrahlung der Polypropylenoberfläche wurden auf diese drei verschieden sensibilisierte, Kuppler enthaltende Silberhalogenidemuisionen des in der USA-Patentschrift 2 322 027 beschriebenen Typs aufgetragen. Das erhaltene phctographische Material wurde belichtet und in der in der genannten

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Patentschrift angegebenen Farbentwicklerlösung entwickelt. Hierbei wurden in den Emulsionsschichten blaugrüne _t purpurrote und gelbe Farbstoffe gebildet. Es traten in den Emulsionsschichten keine Anzeichen einer durch statische Entladungen bedingten Verschleierung auf.

Ein entsprechend sensibilisiertes, photographisches Material, bei welchem jedoch die Polyesteroberfläche nicht mit einer antistatischen Schicht ausgerüstet war, zeigte nach dsr Belichtung (und Entwicklung) Schleiermuster, die auf die Aus*· bildung einer statischen Ladung bei der Handhabung des photographischen Materials während und nach dem Auftragen der einzelnen Emulsionen auf den Träger zurückzuführen waren.

Beispiel 4 _k . ■ ■ '

Es wurde ein entsprechendes photographisches Material, wie in Beispiel 1 beschrieben, hergestellt. Im vorliegenden Falle wurde die in Beispiel 1 angegebene antistatische Beschichtungsmasse jedoch durch die im folgenden angegebenen Beschichtungsmasse ersetzt. Das Auftragen der antistatischen Beschich-

2 tungsmasse erfolgte in der Weise, daß pro dm Trägerfläche 5 mg

(Trockengewicht) entfiden*

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Bestandteile

Trockengewicht
in kg

Naßgewicht in kg

Kolloidales Siliciumdioxyd

10% p-(1,1,3,3-Teträmethylbutyl)phenoxyäthoxyäthyl-Natriumsulfonat Dispersionsmittel 3,51 Salzsäure Wasser

7,2575
0,2268

7,2575

24,221 2,268

72,	575
11,	340
38,	782

14,7418

149,186

Ludox AM Triton X200 Tamol 850

Die Abriebbeständigkeit des in der beschriebenen Weise hergestellten Papieres war besser als die Abriebbeständigkeit des unter Verwendung der antistatischen Beschichtungsmasse II des Beispiels 2 hergestellten Papieres.

Beim Abriebtest wurde praktisch kein Material abgerieben. Der spezifische Widerstand betrug 1 χ 10 Ohm. Es zeigte sich, daß sich auf dem mit einer antistatischen Schicht aus-

ge gerüsteten Papier keine statische Ladung ausbildet hatte.

Bei einem entsprechenden Vergleichspapier ohne antistatische Schicht war die Emulsionsschicht unregelmäßig verschleiert*

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Beispiel 5

In diesem Beispiel wird eine weitere Ausgestaltung der in Beispiel 4 angegebenen Beschichtungsraasse beschrieben. Die modifizierte Beschichtungsmasse besaß Theologische Eigenschaften, wie sie für Gravierungszwecke erforderlich sind.

Es wurde ein entsprechendes Material, wie in Beispiel 1 beschrieben, hergestellt. Im vorliegenden Falle wurde allerdings anstelle der in Beispiel 1 beschriebenen antistatischen Beschichtungsmasse eine solche der im folgenden angegebenen Zusammensetzung in einer Menge von etwa 5 rag/dm Trägerfläche (Trockengewicht) auf das mit Polyäthylen beschichtete Papiergut aufgetragen. Dazu wurde eine übliche, Vertiefungen: zur Aufnahme dev Beschichtungsmasse aufweisende Beschich-

walze
tungsraasoMK verwendet ». .

Bgstandteile

30 I kolloidales Siliciuradioxyd *

22 % p-(1,1,3,3-Tetramethylbutyl)-phenoxyäthoxyäthyl-Natriumsulfonat 2,75 % Hydroxyäthylcellulose⁺⁺⁺ 30 % Dickungsmittel***⁴" Butanol .·■■'-. Wasser

Naßgewicht in κ	,5	ml
422	,8
17	,0
261	,5	ml
422	,0	ml
17
546

Ludox AM *** WP 4400 Triton 200 **** Taraol 850

009819/1580 BAD OBlGiNAL

Der spezifische Oberfläehenwiderstand des mit der antistatischen Schicht ausgerüsteten Papieres entsprach dem Oberflächenwiderstand des in Beispiel 4 beschriebenen antistatischen photographischen Materials. -

Die Viskosität der antistatischen Beschichtungsmasse läßt sich durch Ersatz der verwendeten Hydroxyäthylcellulose durch andere Hydroxyäthylcellulosen, wie sie zur Verringerung (Verkleinerung) des Gravurrasters erforderlich sind, abwandeln.

Beispiel 6

Dies Beispiel beschreibt die Herstellung eines antistatischen, einen Papierträger aufweisenden photographischen Materials, welches sich insbesondere zur Erzeugung photographischer Färb- und Schwari-Weiß-Bilder eignet. Ein wesentlicher Vorteil der zur Herstellung dieses Materials verwendeten Beschichtungsmasse besteht darin, daß sich die einzelnen Bestandteile der Beschichtungsmasse leicht ohne Gefahr einer Koagulation zusammenmischen lassen und daß sich die Masse leicht mittels einer Einkerbungen aufweisenden Auftragswalze auf den Träger auftragen läßt.

009819/1580

Den Ergebnissen ivar zu entnehmen, daß mit dem in der beschriebenen Welse hergestellten,antistatisch ausgerüsteten photographischen Material sämtliche photographischen und physikalischen Erfordernisse, die an wirksame antistatische Schichten zu stellen sind, vollständig erfüllt waren.

Das in Beispiel 1 beschriebene Verfahren wurde wiederholt, jedoch mit der Ausnahme, daß die dort verwendete antistatische ßeshichtungsmasse durch jeweils eine der im folgenden angegebenen antistatischen Beschichtungsmassen ersetzt und zur Herstellung lichtempfindlicher Schichten farbempfindliche und Schwarz-Weiß-Gelatine-Silberhalogenidemulsionen verwendet wurden. Die antistatischen Beschichtungsmassen

* ■ 2

wurden in Konzentrationen von etwa 9 mg/dm Trägerfläche

(Trockengewicht) aufgetragen.

Bestandteile I II III

30% kolloidales Silieiumdioxyd* 10,56 kg 528,0 g 528,0 g

22% p-(1,1,3,3-Tetramethyl- 950,0 ml 47,5 ml 47,5 ml

butyl)phenoxyäthQxyäthyl-

Natriumsulfonat

2,5% Hydroxyäthylcellulose 3,8 kg 190,0 g 190,0 g

Butanol 438,0 ml — 150,0 ml

Tributylphosphat — 18,0ml —

Wasser 13,25 kg 653,0 g 525,0 g

Ludox AM Triton X200 WP 4400

00 911 9/1 5β 0 BAD ORIGINAL

- 28 - -

Bei Verwendung der antistatischen Beschichtungsmassen II und III ließ sich ein Schäumen während des Beschichtungsvorgangs besonders vorteilhaft vermeiden. Sie erwiesen sich als besonders vorteilhaft. Mit sämtlichen drei antistatischen Beschichtungsmassen ließen sich photographische Materialien

mit einem spezifischen Oberflächenwiderstand von weniger als

1 2
10 Ohm herstellen. Untersuchungen der in der beschriebenen

Weise hergestellten photographischen Materialien zeigten, daß sich keine statischen Ladungen gebildet hatten. Der Oberflächen· widerstand eines entsprechenden photographischen Materials,

welches nicht mit einer antistatischen Schicht ausgerüstet war, betrug etwa 1 χ 10 Ohm. Außerdem waren bei der Vergffleichsprobe die Emulsionsschichten verschleiert.

Beispiel 7

Das in Beispiel 1 beschriebene Verfahren wurde wiederholt, jedoch mit der Ausnahme, daß die Emulsionsschicht durch eine hydrophile Kolloidschicht mit einem darin enthaltenen Silberfällmittel (beispielsweise kolloidales Silber in Gelatine dispergiert) ersetzt wurde. Das erhaltene, mit der anti· statischen Schicht aus kolloidalem Siliciumdioxyd und Arylsulfonat ausgerüstete photographische Material eignete sich hervorragend als Empfangsblatt bei üblichen Silberhalogeniddiffusionsübertragungsverfahren. Bei der Herstellung des zur Verwendung bei Diffusionsübertragungsverfahren geeigneten

009819/1580

Empfangsblattes kam es weder während des Beschichtungsvorgangs noch beim Schlitzen oder Abwickeln zu einer Anhäufung statischer Ladungen*

Beispiel 8

Das in Beispiel 1 beschriebene Verfahren wurde wiederholt, jedoch mit der Ausnahme, daß die mit Elektronen beschossene Polymerschicht mit einer ein Mercaptoazol enthaltenden Gelatineschicht versehen wurde. Das in der beschriebenen Weise hergestellte photogaphische Material eignete sich hervorragend als Farbdiffusionsübertragungsblatt bei dem in der USA-Patentschrift 3 260 597 beschriebenen Verfahren.

Beispiel 9

Das in Beispiel 1 beschriebene Verfahren wurde wiederholt, jedoch mit der Ausnahme, daß der Papierträger auf der oberen Seite mit einer Cellulosetriacetat- und auf der Drahtseite mit einer Polyäthylenschicht beschichtet wurde. Nach dem Aufbringen der antistatischen Beschichtungsmasse auf die Polyäthylenschicht wurde auf die Celluloseacetatschicht eine Gelatine/Cellulosenitratzwischenschicht und auf diese eine lichtempfindliche Gelatine-Silberhalogenidemulsionsschicht aufgetragen. Der spezifische Oberflächenwiderstand des erhaltenen photographischen Materials war so niedrig, daß in der Emulsionsschicht keine Schleiermuster auftraten.

ORJGINAL

008919/1580

Beispiel 10

Um die unerwarteten antistatischen Eigenschaften der kolloidales Siliciumdioxyd und Arylsulfonat enthaltenden antistatischen Schichten zu veranschaulichen, wurde der beidseitig mit einer Polyäthylenschicht beschichtete Papierträger des
Beispiels. 1 mit den im folgenden angegebenen antistatischen Beschichtungsmassen beschichtet. Die einzelnen antistatischen Beschichtungsmassen unterschieden sich lediglich darin, daß sie entweder nur kolliodales Siliciumdioxyd (Ludox AM) oder ein Arylsulfonat (Triton X20Ö) oder eine Mischung aus beiden enthielten.

009819/1500

Probe

Aufgetragene-Menge
in mg/dm

Schichtdicke, gemessen in, trockenem Zustand in mm

kolloidales Siliciuindioxyd** 9,525 χ 1θ"⁴

11.6 p-(1,1,3,3-Tetramethylbutyl)-9,525 χ 10*⁴ phenoxy ä thoxyä thy 1-iMa t'rium-

sulfonat
' ■'■'.. ++

18.7 kolloidales Siliciumdioxyd +9,525 χ 10 1,28 p-(1,1,3,3-Tetrainethylbutyl)-

phenoxy ä thoxy ä thyl -Natr iumsulfonat

10,5 kolloidales Siliciumdioxyd⁺⁺ 4,775 χ 10"⁴

5,8 p-(T,1,3,3-Tetrainethylbutyl)-4,775 χ 1O^-4 phenoxyä thoxyä thyl-Natriuni'-sulfonat

9,36 kolloidales Siliciumdioxyd⁺⁺+4,775 χ 1θ"⁴ 0,64 p«(1,1,3,3-Tetramethylbutyl)-

phenoxyäthoxyäthy1-Natrium-

sulfonat

Spezifischer Oberfläehenwiderstand in Ohm bei 23,9 C und 20% relativer Feuchtigkeit nach 16-stündiger nach 48-stündiger Konditionierung Konditionierung

χ 10

15
15

χ 10

12

χ 10

14
14

χ 10

13

größer als 10
größer als 10

16 16

χ 10

12

größer als 10 größer als 10

16 16

χ 10

13

Die aufgetragenen Mengender einzelnen Bestandteile wurden so gewählt, daß die Dicke der entsprechenden Schichten, gemessen in trockenem Zustand, jeweils gleich waren.

Ludox AM
Triton X200

CTt-CD ■<J cn CJi cn

Die Ergebnisse zeigen eindeutig, daß die unter Verwendung der antistatischen Beschichtungsmassen 3 und 6 hergestellten photographischen Materialien einen wesentlich geringeren Oberflächenwiderstand besitzen und aus diesem Grunde einen weit besseren statischen Schutz bBten, als aufgrund der antistatischen Aktivität des kolloidalen Siliciumdioxyds oder Arylsulfonates allein zu erwarten gewesen wäre. In der Tabelle bedeutet der Ausdruck "größer als 1O¹⁶", daß der Oberflächenwiderstand, der Proben 1,2 und 4 sowie 5 so hoch war, daß sie unter der Nachweisgrenze des zur Messung dieser Werte verwendeten Apparates lagen.

Beispiel 11

Ein aus Cellulosetriacetat bestehender Filmträger wurde mit der in Beispiel 7 angegebenen antistatischen Beschichtungs-

masse I derart beschichtet, daß etwa 5 mg auf 1 dm Trägerfläche entfielen. Die Transparenz des Filmträgers verminderte sich durch das Auftragen der antistatischen Schicht nicht. Auf die der antistatischen Schicht gegenüberliegende Seite wurde eine aus Gelatine und Cellulosenitrat bestehende Haftschicht und darauf eine hochempfindliche Gelatine-Silberhalogenidemulsionsschicht aufgetragen. Bei der Verarbeitung des Films traten keine statischen Ladungen auf.

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Zur Herstellung lichtempfindlicher, erfindungsgemäß antistatisch ausgerüsteter photographischer Materialien eignen sich sämtliche, zur Herstellung lichtempfindlicher farbphotographischer oder Schwarz-Weiß-Materialien üblichen Gelatine-Silberhalogenidemulsionen.

Wie. bereits dargelegt, besitzen die aus antistatischen Be-Schichtungsmassen nach der Erfindung hergestellten antistatischen Schichten einen hohen Abriebwiderstand. Auch überstehen Markierungen die Entwicklung des Materials. Dies ist ein entscheidender Vorteil deshalb, weil sich das Material hierdurch in einer Entwicklungsvorrichtung mit automatischer Schneidvorrichtung, die z. B. auf leitende Stellen aus Graphit anspricht, verarbeiten läßt. Die Graphitmarkierungen können während der Exponierung und vor der Weiterbehandlung auf die Kopienstränge aufgebracht werden und setzen die Schneidevorrichtung in Gang.

Gegenüber den neuen Beschichtungsmassen besitzen die üblichen bekannten antistatischen Beschichtungsmassen den Nachteil, daß sie löslich sind, d.h. daß sie sich in den Behandlungschemikalien lösen. Hierbei gehen die Graphitmarkierungen verloren. Infolge ihrer Löslichkeit besitzen die bekannten antistatischen Stoffe auch einen unerwünschten Einfluß auf farbphotographische Verfahren, da sie die Empfindlich-

BAD

keit oder den Kontrast verändern und Schleier, Schlamm
oder Schaum erzeugen. Die mit antistatischen Beschichtungsmassen nach der Erfindung antistatisch ausgerüsteten photographischen Materialien sind praktisch frei von solchen
Nachteilen.

Die neuen antistatischenlBeschichtungsmassen eignen sich nicht nur zur antistatischen Ausrüstung von photographischem Material, sondern vielmehr zur antistatischen Ausrüstung der
verschiedensten blattförmigen Materialien, die sich statisch aufzuladen vermögen', wie beispielsweise Verpackungsmaterialien, Behälter, plastische Formkörperjusw. aus beispielsweise Poly-ot-olefinen, z. B. Polyäthylen und Polypropylen, Äthylen-Propylenmischpolymeren, Äthylen-Äthylacrylatmischpolymeren, Polystyrol, Polymethylmethacrylaten, Polyamiden, Polyester, Polycarbonaten, Polyurethanen, Polyacetalen und Polyperfluorkohlenwasserstoffen.

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Claims

PATEN T-ANSPRÜCHE

1. Photographisches Material, bestehend aus einem Träger, dessen eine Seite eine antistatisch wirksame Schicht aufweist, sowie gegebenenfalls einer Silberhalogenidemulsionsschicht, dadurch gekennzeichnet, daß es eine antistatisch wirksame Schicht, bestehend aus einer Mischung aus kolloidalem Siliciumdioxyd und mindestens einem Alkalimetallsalζ einer organischen Verbindung mit mindestens einer Arylsulfonsäuregruppe aufweist.

2. Photographisches Material nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß es eine antistatisch wirksame Schicht, bestehend aus einer Mischung aus kolloidalem Siliciumdioxyd und (a) einem Alkalimetall sal ζ der 2,5-Naphthalindisulf onsäure, (b) einem Alkalimetallsal ζ einer durch mindestens einen Alkylrest substituierten Naphthalinsulfonsäure, (c) einem Alkalisalz eines Kondensationsproduktes aus Formaldehyd und 2,5-Naphthalindisulfonsäure und/oder (d) einem Alkalimetallsal ζ eines Alkylarylpolyäthersulfonates, enthält.

3. Photographisches Material nach Ansprüchen 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Silberhalogenidemulsionsschicht auf der der antistatischen Schicht entgegengesetzten Seite des Trägers angeordnet ist.

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4. Photographisches Material nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß es auf der der antistatischen Schicht gegenüberliegenden Seite des Trägers eine Schicht mit einem Silberfällungsmittel aufweist.

5. Photographisches Material nach Ansprüchen 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß die antistatische Schicht zusätzlich Zinkoxyd enthält.

6. Photographisches Material nach Ansprüchen 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß es in der antistatischen Schicht kolloidales Siliciumdioxyd einer Teilchengröße von bis zu etwa 250 Millimikron enthält.

7. Photographisches Material nach Ansprüchen 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß es in der antistatischen Schicht kolloidales Siliciumdioxyd mit einer Oberfläche von etwa 200 bis 235 m²/g und/oder einer Teilchengröße von etwa 5 bis 30 Millimikron enthält.

8. Photographisches Material nach Ansprüchen 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß es in der antistatischen Schicht p-(1,1,3,3-Tetramethylbutyl)pherioxyäthoxyäthyl-Natriumsulfonat oder p-(1,1,3,3-Tetramethylbutyl)octylphenoxyäthoxyäthyl-Natriumsulf onat enthält.

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9. Photographisches Material nachAnsprüchen 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß die antistatische Schicht zusätzlich ein aus einer polymeren Verbindung bestehendes Dispersions-

\ I

mittel enthält.

10. Photographisches Material nach Anpsurch 9, dadurch gekennzeichnet, daß es in der antistatischen Schicht als polymeres Dispersionsmittel Natriumpolyacrylat enthält.

11. Photographisches Material nach Ansprüchen 9 und 10, dadurch gekennzeichnet, daß es in der antistatischen Schicht 0,1 bis 100 % Dispersionsmittel, bezogen auf das Trockengewicht des kolloidalen Siliciumdioxydes, enthält.

12. Photographisches Material nac_h Ansprüchen 1 bis 11, dadurch gekennzeichnet, daß es in der antistatischen Schicht ein Bindemittel enthält.

13. Photographisches Material nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß die antistatische Schicht als Bindemittel Hydroxy äthylcellulose enthält.

14. Photographisches Material nach Ansprüchen 1 bis 13, dadurch gekennzeichnet, daß die antistatische Schicht 5 bis 10 % Bindemittel, bezogen auf das Trockengewicht des kolloidalen Siliciumdioxydes» enthält.

BAD ORIGINAL

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1597Ö55

- OO -

15. Photographisches Material nach Ansprüchen 1 bis 14, dadurch gekennzeichnet, daß die antistatische Schicht zur Verbesserung der Leitfähigkeit ein Schmelzsalz enthält.

16. Photographisches Material nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, daß die antistatische Schicht 5 bis 20 % Schmelzsalz, bezogen auf das Trockengewicht des kolloidalen SiIiciumdioxydes, enthält.

17. Photographisches Material nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet, daß die antistatische Schicht als Schmelzsalz
Calciumchlorid, Zinkchlorid, Zinknitrat oder Kaliumnitrit
enthält.

18. Photographisches Material nach Ansprüchen 1 bis 17, dadurch gekennzeichnet, daß die antistatische Schicht ein Dickungsmittel enthält.

19. Photographisches Material nach Ansprüchen 1 bis 18, dadurch gekennzeichnet, daß die antistatische Schicht ein Verlaufmittel enthält,

20. Wässrige Beschichtungsmasse zur antistatischen Ausrüstung hydrophober, insbesondere blattförmiger Polymerer, dadurch gekennzeichnet, daß sie aus einer wässrigen Dispersion kolloidalen Siliciumo&yds und mindestens einem Alkalimetall sal ζ

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einer organischen Verbindung mit. mindestens einer Arylsulfonsäuregruppe ,besteht.

21. Beschichtungsmasse nach Anspruch 20, dadurch gekennzeichnet, daß sie als Alkalimetallsalz

1. ein Alkalimetallsalz der 2,5-Naphthalindisulfonsäure,

2. ein Alkalimetallsalz einer kurzkettigen Alkylnaphthalinsulfonsäure,

3. ein Alkalimetallsalz eines Kondensationsproduktes aus Formaldehyd und 2,5-Naphthalindisulfonsäure und/oder

4. ein Alkalimetallsalz eines Alkylarylpolyäthersulfonates enthält.

22. Beschichtungsmasse nach Ansprüchen 20 und 21, dadurch gekennzeichnet, daß sie einen Feststoffgehalt von 1 bis 30 Gew.-% aufweist.

23. Beschichtungsmasse nach Ansprüchen 20 bis 22, dadurch gekennzeichnet, daß sie einen Feststoffgehalt von 10 bis 15 Gew.-% aufweist.

OBlQiNAL 009819/1580

24. Beschichtungsmasse nach Ansprüchen 20 bis 23, dadurch gekennzeichnet, daß sie Salzsäure,Zitronensäure und/oder Oxalsäure enthält.

25* Beschichtungsmasse nach Anspruch 24, dadurch gekennzeichnet, daß sie 10 bis 50 I Salzsäure, Zitronensäure und/oder , Oxalsäure, bezogen auf das Trockengewicht des kolloidalen Sil,iciuindioxyde5, enthält.

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