DE1433075A1 - Vakuum-Schmelz- und-Giessverfahren und Vorrichtung zur Durchfuehrung desselben - Google Patents
Vakuum-Schmelz- und-Giessverfahren und Vorrichtung zur Durchfuehrung desselbenInfo
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Description
STAUFFER CKMKICAL COMPANY XN SL1A' YOIiK (U.S.A.)
- und -oieaayerfafcran und foriiö&tiißg aür
Angemeldet
Beginn döi3 tatentdauer?
Bio ^rxißdung betrifft, due ßieaeen uiiö äie
von Metallen, insbesonders ein verfcaaaertea Verfahren und
»Ine varbeaßerte BisriohtuB^ zum iälektrocesatrai&gieeeen von
Materialien In eines Yakuuou
Beim üieudea von vereoüiedenen "schwierigen1' Metallen,
beiepieleweiya toü echser schmelzbaren Metallen, «e?d<»n Dereite
seit längerer Zeit elektrische intladungen, insbesondere
die ürhit?vrs durch «inen Lichtbogen angewendet. Dieee Mstooden
sind a*ar eehr aweokmäeeig, haben aber verschieden» Uinscoräakungen.
Dieee betreffen die uatgebendtn öaeatmoephären, eine
eehr starke Stroaaufnaiuae, Hegölaühwierigkaiten und die
. SAD ORJQfNAL 809802/0725
143307F
■--■-.- ■ -.. ■ - m 2' =»■ ■ ■ " ·
Explosionsgefahrα Man hat auch versucht, Laboratoriumseinrichtungen au verwenden, die von vornherein auf ein Arbeiten in
sehr kleinem Masstab eingeschränkt waren. Beispielsweise kann man in dem üblichen Laboratoriumsverdampfer einen Elektronenstrahl verwenden, der auf einen in einen Tiegel eingeführten
dünnen Draht fokussiert istfl um dae finde des Drahtes zu verflüssigen o Die Versuche, derartige Einrichtungen für ein Arbeiten im technischen Masstab zu erweitern, waren jedoch nicht
befriedigend»
Von besonderer Bedeutung beim Glossen von Metallen
i3t das dabei erhaltene Innengefüge des gegossenen Materials.
Ein besonderer Vorteil wird durch die Beseitigung von gasförmigen Bestandteilen erhalten* Seit langem wurde erkannt,
dass eine DesQxydierung vorteilhaft ist; ebenso ist die Entfernung von Stickstoff und Kohlenstoff, in Form von Kohlenmonoxyd, in vielen Fällen erwünscht, besondere bei schwer .
schmelzbaren Metallen* Die vorstehenden Überlegungen weisen auf die Anwendung eines Vakuums aum Zweck der weitestgehenden
Entfernung von flüchtigen Stoffen hin. Im Gegensatz au der
Uglichen Lichtbogenentladungseinrichtung wird erfindungsgemäas
ein Hophvakuum angewendet, wobei bisher nicht erreichbare
Ergebnisse erzielt werden. ■ . . ; .
; Zur Förderung der Entfernung von flüchtigen ΰtoff en
ist eine Hegelung der dem Material ßugeführten Wärme und der
Z'3it, während der das Material auf einer erhöhten Temperatur
beispiel3weise *
809802/0725
beispielsweise im überliltiäungsbereich gehalten wiräy Vorzusehen. Zn diesem Zweck ist nicht nur ein Schmelzen des
Materials zum Gleesen, sondern auch eine weitere geregelte
jßrhitsung der verflüssigten Schmelze erforderlich«, Die dabei,
geltenden Forderungen werden ebenfalls bei der üblichen Arbeitsweise nicht erfüllt. Beim Oiessen mit Hilfe einer Lichtbogenentladung 1st beispielsweise nur eine sehr mangelhafte
Regelung der relativen Schmelzgeaohwindiglceit und der ansohliessenden
.Erhitzung der Schmelze möglich* Xn metallurgischen
Produktioneanlagen finden die hier angeführten Feinheiten der Regelung selten Beachtung* Beispielsweise wurden erfindungagemass
schwer schmelzbare Materialien in groesen Mengen und mit
einer solchen Reinheit gegossen, dass sie leicht verformbar
und verarbeitbar sind, was in krassem Gegensatz zu den allgemein bekannten Jäigenschaften diaaer Materialien steht, Auaserdem
hat es sich gezeigt} das» erfindungsgemäss gegossene Legierungen
auf der Basis von Jöieea, Nickel und Kobalt keine erkennbaren
Korngrenzehablagerungen, nichtmetallische Einschlüsse
oder bei geschmiedeten Knüppeln unterschiede in den Kennwertan
in der Quer» und Längsrichtung aufweisen. Dadurch wird ihre
Brauchbarkeit beträchtlioh erhöht und kann das derart behandelte
Material für Zwecke verwendet werden, an die "bisher überhaupt
nicht gedacht werden konnte-,
Bein Giessen von grossen Gvsstücken ist es üblich,
ein im wesentlichen kontinuierliches Verfahren anzuwenden,
bei
BAD ORIGINAL 80S8&2-/0 725
■■'.'■■ .'■'. ... '.■.-. - 4 ■-■·■■ ■ " : .-■■ ..-. ·
bei dem ein ächoetaein^ä ^ebhinöiss^ruftä ln-«iaer
Kokille eingebracht und der in'dieser gebildet©' Strang
den offenen Boden detr Kokille kontinuierlich ab^ek&gfen"
Die Erfindung eignet sich ztfarfür*verschiedene ßiösö- und
bzw« oder HeinigimgsverfahrenV 1WiM aber nachstehend an
dee vorgenannten Sfrangguesverf ahrens beschrieisen; Beim &ieoäen
von schwer eahmelsbaren Materialien ist eine sonemveiae Rein&~ '!i
gung Ublioh»" JirfindunglBgemäsiBi1 werden jedoch der Jälriöata üM
die Sohmelze voilständig voneinander getrennt, Bodaes das- —'l
Vorfahren !n&t'~'ifötärbr"ö'öh^ ri
bei ä®r~ Beh%^
Hateriat-ίΜη^ beiapiölWweiiis vbn dt^ngen^äät-^jötem*'
Durchmesser1 in '■'$&& Grössöhorähung^^Oh Π5; ^-^5 όπι^- die- sra Äreir- '^
Verflües^ühg^ erf«räörli<3ijec Wärnie-ztigeführir wiird, lsi;' e& vor™ r
teilhaft, die Elektronenstrahlquelle und die Sehmelzlache -
beträeh%ich" voneiiiandier au^tr^hnen und auoserderif
trbnenstrahi· uhatiiängig von"'1 dem J%tentiai;i der
oder cter^ sie1 ui^eijelöäen^kO ^
bes^nie'unig'en^jäb dass'^fte Bahn'l^s^ ϊϊίτεώίο tiiötäi durcli1
sierte% i^ab'ö^dg^ ^eiiitrkciitig'^; lü»dVbiea i^
gemäes ersielt, ohne dass eine nachteilige Bildung von
brUcken= gpisehen: i)lns»*e; units *iehmelzlachm^ erf olg^ dte zu.
führeji ;kann;f- und Qbmx dass: die itegelbarkeir?t,i Wir*«;
SAD ORIGINAL
Die Erfindung beeweekt die Schaffung eines verbesserten.
Verfahrens zur Reinigung von Materialien mit entfernt erzeugten Elektronenstrahlen.
ferner bezweckt die Erfindung die Schaffung eines Verfahrens zum GieaSen' von Metallen -unter Elektronenbeaohusserhitzung und beträchtlicher Entfernung fluchtiger dtoffa aus den
Metallen·
Weitere bezweckt die Erfindung die Schaffung eine· Verfahrens zur Heinigung von Metallen durch Erhitzung derselben
mit Elektronenstrahlen, wobei die Energie der einzelnen Strahlerzeuger auf ein Minimum reduziert wird»
Ausserdem bezweckt die Erfindung die Schaffung eines
verbesserten Sieesverfahrene für die Erzeugung von schwer sohoelsb&ren Metallen in grossen Mengen, ohne dass dieses Verfahren
dvrch die Elektronenstrahlquellen bedingten Beschränkungen unterliegt.
Ein weiterer Zweck: der Erfindung besteht in der Schaffung
eines verbesserten Verfahrens sum Reinigen von Metallen in einem Vakuum und unter Verwendung von entfernten Elektronenstrahl-' quellen zum öehaelsen und weiteren Erhitzen des Metalls, wobei
eine vollständigere Entfernung von flüchtigen Stoffen.au« dem
Metall erzielt wird.
Ein weiterer Zweck der Erfindung besteht in der Schaffung
eines verbesserten Ofens zur Behandlung von Metallen duroh ' Elektronenstrahlbesohusä, wobei geneigte Elektronenstrahls!! eo
angeordnet
809802/0725
-■■·; : ; ■'.'■■ ■-"■■' ' - β ■■-■.-' ■ ■ . ■■■ : ■'■■ - -
angeordnet eind, dass ein vollständiges Schmelzen und ansohliessendee weiteres Erhitzen des Metalle gewährleistet ist.
Die Erfindung bezweckt ferner die Schaffung eines
HetallgieBsofene, der mit Elektronen-trahlerhitaung im Vakuum
arbeitet und in dem in wesentlichen keine unerwünschte Strahlablenkung durch die Hähe dee Metalle oder aus ihm freigesetzter
Gaee erfolgt. .■ :
Verschiedene andere mögliche Zwecke und Vorteile der
Erfindung sind für den Fachmann aus der nachstehenden Beschreibung der Erfindung ersichtlich, ohne daee dieee auf die Besehreibung eingeschränkt ist.
Der JBrfIndungsgegenstand ist in der Seiotaune erläutert.
Darin «eigt fig. 1 soheastisoh verschieden! achritt· dee erfindungsgealeesn altetverfahrene, Üg. 2 eoheeatisoh la dohnitt
einen erfindunfiifeaäee rerwendbaren Ofen und 71g. 3 ebenfalle
soheiatisoh und i« Schnitt einea anderen erfineucgege»*«· verwendbaren Ofen.
Irfindungeg··!·· wird ein geregelt·· foteelsen eines
3ohailseln«atsee durch dessen Beschuss alt eines in einer Üntfernung davon eraeufttn enerjiereichsn Elektronenstrahl von
hoher Geeohwindigktit bewirkt. Dlsesr Elektronenstrahl wird
in eine Kokille gerichtet, di· direkt unterhalb d·· Bineat «es
angeordnet 1st und gesoheoleeces Metall aufniatit, das dann durch
den Elektronenstrahl weiter srhitst wird· AXIe vorgenannten
Maesnahasa werden in «in·» HochvakuuB durcSigeführt, das durch
■■■.■ - -. - " ": tontinuisrilehas
BU9QQ2/MM
kontinuierlichea' Pumpen aufrechterhalten wird, so da&a Licht-;·
bogenentlä^ungen-verhindert werden und eine maximale .Bntferriurfg
von fluchtigen-Stoffen aiäadem Metali erzielt -wird"'*· JSrfiridungsgemäas
kann "zwar ein einziger ener^iereieher Siektröneneirähl; 5
daa achmelzen und die weitere Krhitzung des zu giessenden Me-.; ;
tails bewirken, doch iat ea erfindiingsgemöös aehr vorteilhaft*
mehrere Jälektronenatrahlen zu verwöndent wodurch bestimmte bisher beim Gieesen unter Elektronenetrahlbeachuss aufgetretenen f
Beschränkungen vallkomnien "vermieden werden 0 ·_■>'-- ., -:.-': ■■;.-.'. '*.<-.-Jetzt
sei daa verbesserte.erfindungggeraäaee Gieaaverfahren
an Hand der Figo 1 besprochen, in der einzelne .Schritte .des ;-
erläutert sind * Zum, .iSieeaen;.wlrd ain
-in Porra-öinet. StaboajaQd^aglo verwendet,, 5ier . - '
ala dchmglaeinsatz .H ^i©z6l.chne.t wird* Dieser ^vr.->>.,;.·...,
ig t-ivtr t iteal' im ? 4bS * and >über : einer ,offenen .KoMlIe
12-angeoifjlaetr-,w.obei.:4er bereich-zwischen.iihnenjbeispielaweise ?
mit- Hilfe der dargestellten Pumpe 13 kontinuierlich auf ein Hoch-^
vakuum^evakuiert wird r-Me^erlaton ^kann Azwar^mi t verächiedenen
Vakaumwerten durchgeführt werden^ .dochϊβόΐΐ-ein relativ .hohes
Vakuum aufrechterhalten werden^ beispielaweiae -in -einer
ordnung -νοΑά1=νΟ liikran ,snieckailböreöuie oder weniger- -Haa "■
dohmelEen und 44as anachlieeeende Jäi?hitaen des geschmolzenen
iler|alla;j!#h^end d^e vQies.aYerfahrene wir4 durch ülelrtronenbeßchusa
,betwjLrk-l,; |!in weiterer ^chritt; des erfinclungagemäsaen
gesteht 4a^e,r,4n 4er i,4ra.fugung ^ine.e
BAD
• .■:-.■*■ ^ 1Λ3307Ρ
Elektronenstrahls 14, der unter einem Winkel aur Vertikalen abwärts in das offene obere Ende der Kokille 12gerichtet ist.
Sann wird der uchmeleeinsatz 11 mit geregelter Geschwindigkeit
vertikal abwärts in den energiereichen Elektronenstrahl vorgeschoben, wie in flg. 10 dargestellt ist, worauf der Rand des
Strahle auf dem Schmelzeinsatz auftrifft und ihm eine zum
Schmelzen dee Einsatzes genügende Energie zuführt. Der geschmolzene Einsatz, der beispielsweise aus einem schwer schmelzbaren
Material bestehen kann, tropft oder flieset dann vertikal abwärts in das offene obere Ende der Kokille 12 hinein, wo ihm
der energiereiche Elektronenstrahl weitere Wärme zuführt. Der
vorstehend beschriebene Elektronenstrahl wird im beträchtlichen
Abstand von der Kokille 12 erzeugt und besteht aus schnellen Elektronen, die' im wesentlichen ihre ganze ilnergie an der Stelle
erhalten, an welcher der Elektronenstrahl erzeugt wird, so dass die utrahlenergle nicht von einem bestimmten Potential
der Kokille oder des darin enthaltenen Metalls abhängig ist. In der offenen Kokille 12 kann ein geeigneter Stöpsel od.dgl*
vorgesehen sein, auf den das geschmolzene» schwer schmelzbare
Metall tropit^ oder-flieest^?^ ;
für dieKokille 12 vorgesehen, so dass das schwer schmelzbare
Metall in ihr erstarrt«
Durch den Eiektronenstrahlbeschues wird dem flüssigen ' ,
Metall im oberen ieil der Kokille 12Wärme zugeführt, eo dass ^
dieses auf eine erhöhte Temperatur gebracht und gegebenenfalls^1»
überhitzt wird. Das Schmelzen dee Scnmelzeinsatzes 11 und das
..-'". anechlieseende
8 0 S δ 0 2/0 7 2 5 —-———-
U33075
•BBohliessende weitere Erhitzen denselben durch £lektronenbe~
ttbuse bewirkt natürlich einen Abzug von in dem öohmel»einsatz
eingeschlossenen Oasen» so das· eine beträchtliche Entgasung
it« schwer sohnelaberen Metalls und im Zusammenhang damit eine
Itträchtliohe von dem aehmeleeinaata und dem in der Kokille 12
befindlichen flüssigen Metall wegführende aas strömung erhalten
wird» Beim Giessen von Met allen in der hier betrachteten Weise
ist es besonders wichtig, dass keine Lichtbogenentladung erfolgt. Die kontinuierliche Evakuierung de» Bereiches awisohen
dem Schmelzeinsatz 11 und der Kokille 12 während des Verfahrene bewirkt eine rasche und wirksame .entfernung der aus dem geschmolzenen Metall freigesetzten Gase. Obwohl diese Gase rasch
aus dem Bereich der Kokille und des Sohmeleelnsat&es abgeführt
werden, erfolgt jedoch eine gewisse Ionisierung des Gases oberhalb der Kokille, hauptsächlich durch von dem Metall emittierte
Sekundärelektronen. Bs wird somit oberhalb des in der Kokille
befindlichen achmelsflüasigeit Metalle ein Plasma erzeugt,
welches trachtet, den Elektronenstrahl oder die £lektronenstrahlen in die Metallache zu fokussieren. Da der Elektronenstrahl
im wesentlichen seine gahse Energie an einer von dem äohmelaelnsats und der Sciimelslaene entfernten stelle erhält, wird er von
dem Schmelzeinsatz oder den aus ihn entwickelten Gasen nur
wenig beeinträchtigt a so dass er nicht sum vollen Auf treffen
auf dem äohmelseinsats abgelenkt wird, was sonst der Jail sein
könnte. Bine Ablenkung von Kiektronenstrahlen niedriger Energie
809802/0725 .
duron -' \
•BAD ORIGINAL
durch öaaev iiiDDupfe oder Ionen kann niclt «rfolgen, well dieae
an der entfernten Stelle der Strahlerzeugung nicht vorhanden/ 5^
sind. Hier aind nur Ho c heparin ungn wirkung en vorhanden, ab dass
die Ausbreitungund Lenkung dee Strahls leichter gesteuert Werden
Auf der Oberfläche des in der Kokille 12 abgelagerten
Metalls bildet sich eine Lache, gewöhnlioh in form einer ; T
konkaven Mulde* die durch erstarrtes Metall gebildet wird
und geschmolzenes Metall enthält. Die Lache wird duroh die Energie des siebesohiessenden Strahls flüssig gehalten, und ihre
JPorm ist teilweise darauf zurückzuführen* dass die Kokille vor»
augeweise duroh das Umwälzen von fässer durch einen Doppelmantel
der Kokille gekühlt wird. Biese Schmslzlaohe wird oben auf dem'
in der Kokille abgelagerten Metall aufrechterhalten. Da die Auf-•reohterhaltung der Lache von der Söhmelzgeechwindigkeit des
Sohmeiaelnsatzee unabhängig ist, können langsame Beinigungsreaktionen in der Lache im wesentlichen vollständigdurohgeführt werden. Ausserdem kann selbst in Jenen Fällen, in denen
eloh ein Metall nur langsam in einem anderen auflöst, eine
vollständige Legierungsbildung ersielt werden, weil der energiereiphe Elektronenstrahl dieser Lache kontinuierlioh eine regelbar· Wärmemenge aufUhrt. Da daa Metall in dem Maase abgeaogeß
wird, ia dem ea in öer EoJcille eratarrt, erhält man ein kon- . '
tinuierHöhes Verfahren. Das offene untere i)nde der Kokille
bildet eine Austrittsöffnung für das in der Kokille unterhalt»
der Ια oberen (Cell der Kokille gebildeten Schmelelache zu
einem Strang 16 erstarrte Metall. Bev Strang kann kontinuierlich
oder schrittweise abgesogen «erden, wobei Stränge jeder
gewünschten Länge erhalten «erden können. In jenen Fällen, In denen der Schmelzeinsatz denselben Durchmesser hat wie
die Koklllenöffnung, beispielsweise beim Umgiessen von Strängen,
ist es erwttnsoht, im Rahmen der Erfindung nicht nur einen
vertikalen Vorschub des Sohmeleeineatzes, sondern auch eine
seitliche iüine teilung desselben vorzusehen»
Der Grund hiefUr geht aue der Fig. 1Ώ hervor, welche
zeigt, dass zur Gewährleistung des Tropfens oder Fliesaens
des geschmoleenen Metalls von dem Schmelzeinsatzdirekt in
das offene Ende der Kokille 12 der Schmelzeinsatz seitwärts zur Ausgangeβteile des Elektronenstrahls hin bewegt werden
muae, während der Schmelzeinsatz zu der Kokille hin abgesenkt
wird. Wenn das Metall des Sohselzeinsataes an einer Schrägfläche
verflüssigt oder abgesohmolzen wird, die sich in der
Richtung des Elektronenstrahls erstreckt, trifft der Strahl zunächst auf einer Jacke des Sohnelsseinsatsses auf. Wenn dieser
fortschreitend abgesenkt wird» verlagert sich der Abtropfpunkt von der einen Seite des Sohmeleeinsatsses zur anderen«
während βloh die schräge Schmelzfläche quer durch den Einsät2
bewegt. Vor zug a weise soll das Abtropfen oder Abf Hessen von
dem Schmelzeinsatz in die Kokille im Bereich der Mitte der»
selben erfolgen und wenn der Schmelzeinsatz denselben Durchmesser
: ■■■■■■ \ .- 12 - ■ '■ ' ■ .;■■.-■ ■
messer hat wie die öffnung.der Kokille 12, kann dies nur
durch, seitliche Verschiebung des Schmelzeinsatzes bewirkt
werden. Bei Verwendung eines i3chmelzeinaat2es, der im Durchmesser kleiner ist als die Kokillenöffnang,: ist diese seitliche
Verstellung oder Verschiebung nicht erforderlich.
In einer abgeänderten Ausführußgaforin des vorstehend
beschriebenen Griessverf ahrens kann man anstelle des in Fig. T
dargestellten und Vorstehend beschriebenen einzelnen Elektronenstrahls mehrere solcher Strahlen ysrwenleho Beispieleweise kann
man eine relativ groese Ansah! von Elektronenstrahlen an Stellen
erzeugen, die seitlich ausrärts von dem Schmelzeinsatz im Abstand voneinander angeordnet sind, und .sann diese Strahlen. ±n
das offene obere ISnde der 3;.okille 12 fokussieren.»* Dadurch kann
«nan eine sehr starke iSnergieübertragung auf das in der Lacfeß·
am oberen iände des Stranges 16 befindliche Metall erzielen
'und--'gleichzeitig- die -erforderliche Ausgangs .energie jeder
einzelnen iälektiOnenstrahlquelle beschränken, Dies ist beijonders
wünschenswert, weil man dann billiger übliche Klekfcronenstrahlquellen
verwenden kann.
»Venn mehrere Ulektronenstrahlen irerwendet werden, wird
die Jälektronengeschwindigkeit im wesentlichen auf deraselberi
hohen Äert gehalten, well, wie vorstehend erwähnt, bestimmte
Vorteile der Erfindung von solchen hohen Elektronengeschwindig-.!:eiten
abhängig sind oder wenigstens durch sie herbeigeführt Der durch die Verwendung mehrerer Elektronenstrahl-
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quellen erzielte Vorteil ist teilweise darauf ssurtickzufUhren,
dass dadurch die von einer einzelnen Quelle abgegebene Blektronen·-
diohte herabgesetzt werden kann, während angesichts der 2atsacbe,
dass sich an der Oberfläche der Schmelzlache eine groase Anzahl von Strahlen kreuzen, dort eine beträchtliche Gesamtelektronendichte
vorhanden ist. ffie in den Üblichen Verfahren
iet ea bei Verwendung mehrerer, einander kreuzender Elektronenstrahlen erwünscht» dass sich diese strahlen unter einem relativ
grossen Winkel kreuzen, damit der Kreuzungabereich der Strahlen möglichst klein ist. Be hat sich gezeigt, dass ein Winkel der
Strahlen von 45° gegenüber der Vertikalen zweokaässig ist.
Durch diese Hassnahme und duroh dl« Verwendung einer eehr hohen
JäleJctronenatrahlgeschwindigkeit, wodurch die Wahrechelnliohkeit
einer gegenseitigen Ablenkung der Strahlen auf ein Minimum
herabgesetzt wird, erhält man auch eine nur minimale Wechselwirkung
zwischen den Elektronenstrahlen. Ein weiterer duroh die
Verwendung mehrerer energiereicher JSlektronenetrahlen erzielter
Vorteil ist die Tatsache, daae die Notwendigkeit einer Seitwärtsbewegung
des Schmelzeinsat»es entfällt, da in diesen Fällen
der Schmelzeinsatz nur vertikal abwärts zu der Kokille 12 hin
vorgeschoben zu werden braucht.
Ss hat sich gezeigt, dass sich b«i dem nach den vorstehenden
Angaben durchgeführten Gießverfahren auf der Oberseite
des gegossenen Stranges ein« Lach« aus geachmolaeaem Metall
bildet, die eine im wesentlich·» oder relativ ruhig· Oberfläche
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lat.Biei© Tatsache let fceim Öl essen sehr vorteilhaft, weil sie
einea Strangguss ermöglicht. Die während der ganasn Dauer' des .erfindungegensässen
Verfahrene kontinuierlich durchgeführte Kva&uierung
beseitigt nicht nur einen wesentlichen Teil der normalerweise
anwesenden (raeaole&üle aus ö©m Arbeit aber @i©ht sondern entfernt
auch <äi@ während des Sehmel^eni c?ss S©fea@lg©ia@ats©s fr©lg©e©tat@ß
Gase und Bämpf@. Bie am oberen Knd© d©@ gegossenen S
bildet® 8cfomelssla©he enthält daher niöht die normale
okkludierter ©ase'o Di® ±n ä&m geso^olzeasn Metall eventuell noeh
@athalt@is@a Sas© werden daraus freigesetzt 9 indem die auf die Laeh©
gerichtet®^ ©n©rgi©reich@B Elektronen, mit &®n@n die Lache b®- .
aeboesen wird» dem flüssigen-'Metall weiter®- Wärme auf uhren. In*-
foXge d@s relativ geringen Ütlialtee an okkluäierten Qamn ±n d@m
Sie 'LB.Qh® &Lld®nd©n Met all geht das erfindungegemasae-Verfahren ■:
©to© di© nonnlemeiae'auftretenden grossen :aasäusbrUe'he von der
Ofeerfläß!^® d©^. Ii©eil© vonstatten, so dass k@in flüssiges Metall
darste. äerartig© feaausferiioh© in d@ß B@g>®i@h oberhalb der
gmOrits,*, wird und dort benaehbarte Sbne'triUttionsteile
m& Sa» ßlm®v@i*£eMm ®Wt$* Sftjsnr©&.'«erden- 41© bisher in
austretenden und periosiaehe B©triebeuntarbreohüngen--Sehivierigjceiten
beseitigtb:'Ausserdem ermöglieM 'die
Ob@rfläoh@ der La©h® ®ia Aufs@&3iiasi@^ von relativ
imr©iaigimg@E sur Ob©rfll©&© der Sehmelee«. ohne
das® sieh- diese'Verunreinigungen 'oit'den:Körper der Sehmeliie v©^Riec!i%:at
ao daiis «iTiSisMAiasfj1«!® S^^aiig«·» a,^halt9S ^crileiri,
fern@r führt' der relativ hohe Xeetferatoruhiier'Seliied-iBwisohen: ·'
309002/0725
der gekühlten Kokille und der erhitzten Oberfläche der Lache
zu einem beträchtlichen lAfärmege fälle in der Schmelze und damit
au einer intensiven EUhrwlrkung, welche das Aufsteigen von
fluchtigen Verunreinigungen zur Oberfläche der Schmelze unterstützt . wenn derartige fluchtigen Verunreinigungen die Oberfläche der Schmelze erreichen, werden sie durch die dort herrschende hohe Temperatur verflüchtigt und dadurch von der
üchmelze entfernt, so dass der erhaltene Strang im wesentlichen
frei ist von Gasen und von Verunreinigungen mit einer niedrigen
Verdampfungstemperatur.
Nach dem vorstehend beschriebenen Gussverfahren, la dem
entfernt erzeugte energierelohe Elektronenstrahlen verwendet
werden, die schräg in eine. Kokille gerlohtet werden und einen Schmelzeinsatz schmelzen und weitererhitzen, wobei alle diese
Vorgänge in einer stark evakuierten Atmoephäre durchgeführt werden, erhält man gegossene Materialien mit bisher unbekannten Eigenschaften. Me Erfindung ermöglicht nicht nur ein
wirtschaftliches Giessen von schwer schmelzbaren Materialien, wie Niob, Molybdän, Tantal und Wolfram, sondern auch eine derartige Reinigung dieser Materialien, dass ihr Gebrauchswert
wesentlich verbessert wird. Beispielsweise sind die erfindungagemäae gegossenen und gereinigten schwer schmelzbaren Metalle
wesentlich besser verformbar als die auf andere ffeiss hergestellten Materialien. Ausserdem hat es eich gezeigt, dass die
Beständigkeit gegenüber Umgebungeeinwirkungen und die physikalischen
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lisohen Eigenschaften bei hohen Temperaturen durch die erfindungegeifiäeee Verarbeitung derartiger Metalle beträchtlich verbessert wird« Die Erfindung eignet ei oh zwar insbesondere für
'die Reinigung und das Oleseen von schwer schmelzbaren Metallen, doch «erden sehr wünschenswerte Ergebnisse er&ndungsgeiräss auoh
beim Öleββen anderer Legierungen erzielt. Beispieleweise hat es
sich gezeigt, dass beim Elektronenstrahlschmelzen von Legierungen "auf-der /Grundlage von Jäieen, Nickel und Kobalt beet! imite kritische Verunreinigungen, wie Schwefel und Phosphor,
entfernt und in aus solchen Legierungen bestehenden Strängen die Unterschiede zwischen den Eigenschaften in der <*uer~ und
der Längsrichtung beseitigt werden. Derartige erfindungsge^äss
verarbeitete Legierungen zeigen gegenüber den auf andere Weise
erzeugten eine bessere Verformbarkeit und wesentlich höhere
Festigkeit! so dass sie beispielsweise für den Geachossbau
verwendet werden können, üine weitere Beschränkung der bisherigen Verfahren wird erfindungegeinäag insofern Überwunden,
als es jetzt möglich wird, grosse Gusstiicke nicht nur aus gewöhnlichen Legierungent sondern auch aas schwer schmelzbaren
Metallen und ihren Legierungen zu erzeugen, die bisher auf kleine Abmessungen beschränkt waren«
Jetzt sei die erfindungsgemässe Einrichtung zur Durchführung des vorstehend beschriebenen erfindungsge^nös sen Verfahrens an Hand der Fig. 2 genauer betrachtet. Diese zeigt
einen Jälektronenetrahlöfen 21, der ein Gehäuse 22 aufweist,
- _ BAD- ORIGINAL 80S802/0725
mit dem dine JÜvakuierungaeinrichtung 23 in Verbindung steht,
die eine schnell laufende Hochvakuumpumpe aufweist. In dem Gehäuse 22 ist eine aus Kupfer od.dgl« bestehende und von einer
zentralen öffnung 26 durchsetzte Kokille 24 vorgesehen. Diese Kokille kann gekühlt werden, beispielsweise mit tfasser, das in
einem Doppelmantel 2? der Kokille und an ihn angeschlossenen
Rohrleitungen 26 und 29 umgewälzt wird. Vertikal im Abstand
Über der Kokille 24 ist ein Schmelzeinsatz 31 angeordnet, der in diesem Fall beispielsweise aus einest eohwer schmelzbaren
Metall in Form eines langgestreckten zylindrischen Stabes besteht. Der Schmelzeinsatz ist in einem geeigneten Antriebsmechanismus 32 gehaltert, der geeignet ist, den Einaatz mit
geregelter Geschwindigkeit vertikal abwärts zu der Kokille
hin vorzuschieben und gegebenenfalls auch die gewünschte seitliche Bewegung oder Verstellung des uchmelzeineatzee zu b·*·
wirken. Geeignete Dichtungsmittel 33 verhindern, dass an dem
Antriebsmechanismus 32 ein Vakuumverlust aus dem inneren des
Gehäuses 22 heraus erfolgt. Durch die Erzeugung wenigstens
eines energiereichen Hochspannuageelektronenstrahls wird in den
I Ofen 21 die zum SohaelaenΊίββ Schmelzeinsatz« und zur aneol&ieeaenden zusätzlichen Erhitzung der Schmelze in der Kokille 24
, erforderliche Wärme erzeugt. Zu diesem Zweck ist eine JSlektronenstrahiquelie 34 vorgesehen, die sieb wenigstens teilweise
in das Innere der Kammer 22 erstreckt und gegen deren Wand
Bweokmäaeig abgedichtet ist, damit daa Vakuum ia dem Gehüust
8098Ö2/0725
aufrc'Cfaterhalten Λrd-, Die falekttonemtrahlquelle- 34>kaan·
einer ubliehen Jtromquelle init Kegeleinriößtung 36 gea^eiat/
werden, die beispielsweise aueserhalb flea Gehäuses angeordnet
ist, und erzeugt einen fökusslerten iälektronenatraßl
in das offene Ende der Kokille^ 24 cgerichtetist-. Wie
erwähnt, erseugt diese Quelle «inen HochapannungselektroneKi- :J
etranl 37, der daher Von einer Sasatmoephäi-e oder Xonönwolkea,
durch die er auf a ei new Λ eg zum oberen Snde der KoKl^Ie* 24 ;?
hindurohtritt, praktiach iiiciii; beeinflusst wird. v , f/v Λ ^
la Betrieb" des vorsteaenol besohriebeneii Ofens *1atif^
der SchmelEeinaatz vertikal abwarte zu der Kokille 24 hin 4
vorgesoiioben, so dase er in die Bahn dea Blektronenstrahle
eintritt. Bei seinem Yorüobub iii άβη UIeJctronenstrahl 57 wir!isa
dem achmelaeineats 5t Energie zugeführt} so dass er verflüssigt
wird und iron seinem unteren Scde vertikal abwärts in das offsns
obere Ende 4er Kokille^ 24 tropft öder fliesst. t% Beginn :^uäe K-r€
Betriebes ist In tier Kokilleaöffnung 26 ein nicM geBiä%ter ^
Stöpsel od.dgl. vorgesehenV auf dem das voa dem doömelaeineats
31 koamende geschmolzene Mötisll atogelage^t wird. In deai Masser
in dem <2eb geschmolzene Meteli in der Kokille infolge
■ Kokille uagewälffte KOaliiiitteir iir«t!Brrf
ftf.· A
Kokille 24 getropfte oder gefloasene Metall beschossen wird,
bewirkt eine «eitere Erhitzung dieaee Metalls, eo dasβ eich
an oberen iinde des Stranges 38 eine ächmelzlache 39 bildet,
die allgemein durch eine konkave Bodenfläche 41 begrenzt ist, welche die Erstarrungsgrenze des Metalle darstellte Wie in
Fig. 2 dargestellt, wird der Schmelzeinsatz 31 bei seinem abwartsgeriohteten Voreohub in den Elektronenstrahl 37 im Winkel
abgeachnolzen, so dass er in die Lache 39 abtropft. Mit Hilfe
dee Antriebsmechanismus 32 kann der ^Schmelzeinsatz 31 seitlich
so verstellt werden, dass-das geschmolzene Einaatzmaterial
stete in die öffnung 26 der Kokille 24 hineintropft oder
-flieset. Während des ganzen ßies&verf ahrens wird kontinuierlich
auf ein hohes Vakuum evakuiert, um die während des Schmelzen«
und der ansohliessenden Erhitzung des gegossenen Materials freigesetzten Gase su entfernen. Me Freisetzung von Dämpfen und
Oasen an der Oberfläche der Lache 39 infolge der weiteren Erhitzung derselben und die dadurch bewirkte Ionisierung wenigstens
eines Teiles dieser Dämpfe und Oaae fuhrt dazu, dass zusammen
mit den Elektronen im Bereich der Oberseite der Lache ein
elektrisches Plasma gebildet wird, so dass zusätzliche Elektronen in die Lache fokuseiert werden. Sa dem Elektronenstrahl 37 in
beträchtlichem Abstand von dem Schmelzeinsatz eine hohe Geschwindigkeit erteilt wird, kann der Strahl durch aase oder
Ionen oder das relative Potential des aohmelzeinsatzee 31
nicht wesentlich beeinflusst werden, so dass der Schmelzeinsatz
fast keinen elektrischen Einfluss auf den strahl hat, sondern
ihn 80 SSO 2/0725
inn nur tfuren d«m fcitttriu ir* «jnw* &j<?i/,u<. .-u*
wenn der 39lMe-i«etQ?Ji in tf«n-*v-.irät*i
wird.
Jäine andere· Αύβίuhrungefor» *Μ?.3 erftjtfuntf^geinii'e&eu Ofen*
1st in Fig. 3 dargestellt, in dieövr uind uhru^oh« u'l&meut« mit
den gleichen Beaugszeiohen wie in äer vgr^töiivucl b^^chrltb^tien
Auaführung8form versehen. Das vakuumüi'jht© öehiiua^ Zd ist wieder
mit geeigneten LVakuierungeleituß; sn 25 versehen, die an eine
eohneXX laufende pumpe angesctiXoeeen werden können. Ferner ist
eine offen· KokiXIe 24 vorgesehen, die vertikal unter einem
Xanggeatreokten SohmeXzeineats 31 angeordnet ist, der vertikal
abwärts zu dem offenen oberen ttnde der.Kokille 24 hin vorgeschoben werden kann und gegen die Wände dee Gehäuses abgedichtet ist.
Eine erste £XektronenatrahX<|ueXXe 34 ist ähnlioh wie die vorstehend
beschriebene angeordnet und erzeugt einen Elektronenstrahl 37, der in dae offene obere Ende der Kokille 24 fokussiert wird.
Durch die Wand des Gehäuses 22 erstreckt sich eine aweite
ülektronenstrahlquelle 34', die bei Speisung duroh eine geeignete UbXlohe Stromquelle mit einer Regeleinrichtung 36' einen
•ohneXXen JäXektronenetrahX 37* erseugt, der auf das offene
obere Ende der Kokille 24 gerlohtet 1st. Bei der <3 arge β teilten
Verwendung von ewei Eiektronenatrahlqutllen sind diese vorzugeweise »uf entgegengeeeteten Seiten des Sohmelceinsatsee 31 angeordnet. Wenn dagegen eine gröe»*re Zahl von Elektronenstrahl-
quellen verwendet wird,können diese belspieXsweise im Kreis
um den SohawXeeinsate herum verteilt und so angeordnet aein,
· daes
80SS02/0725 BAD
■ ' . ~ 21 -
dass die von ihnen abgegebenen Strahlen in das offene Ende der Kokille fokussiert werden0
Gemäss ELg. 3 sind die Elektronenstrahl«!! genau in das
obere Ende der Kokille hinein gerichtet und kreuzen einander vollständig. Dies wird jedoch äureh das unmittelbar über der
Lache gebildete Plasma in gewissem Masse modifiziert, da dort
eine gewisse Strahlablenkung und eine fokussierung der Strahlen in die Lache erfolgt. In diesem Oi'en wird der Schmelzeinsatz ^
31 vertikal abwärtäjzu der Kokille 24 hin vorgeschoben und dadurch in die Bahn beider Jälektronenatrahlen 37 und 37* bewegt.
Die JBlektronenstrahlquellen 34 un£ 34f sind vorzugsweise in
gleichen Abständen von der Achse ces Scnmelseinsatzee 31 angeordnet, so dass die auf die Kokille 24 fokuseierten Elektronen-
strahlen 37 und 37' gleiohmässig auf dem in et en strahl herabgesenkten Schmelzeinsatz auftreffen, so dass von den einander
entgegengesetzten unteren Bändern des Schmelzeinsatzes gleiche Mengen abgeschmolzen werden. .
: Wie vorstehend im Zusammenhang mit .dem erfindungsgem^saen
öiesaverfahren beschrieben» wird un oberen Ende d«s erstarrten
38
Stranges/in der Kokille 24 eine iJchmelzlache 39 erzeugt, die
durch die auftreffenden energiereichenElektronenstrahlen ausätzlich erhitzt wird t so^ dass dorteine »eitdr« Entfernung
von fluchtigen Stoffen erfolgt. Ir dem mit mehrereniaektronen- *
atrahlsystemen versehenen Ofen nach .Äg. 3 werdefü UiA Anforderungen an ίede einzelne Quelle duxch die Änordaung mehrerer
Elektronenströhlquellen wesentliobherabgeaatat, Zwar muas
.80 38 0 2/0 7 2 5·-.-.. SAD
:■■■... .:■■.-.'- 22 4 ; ". '■■'■..-■■.■■ \ ■' - "
Ijedee Elek1;ronenetrahley3tem einen Elektronenatrahl von relativ
hoher Elektronengesetwrindigkeit erzeugen, doch braucht der
Ötrahletrom in dem einzelnen System nicht stark zu aein. In
einem mit mehreren Elektronenatrahleyatomen versehenen Öfen
der vorstehend beschriebenen Art können verschiedenartige . ?
filektrQnenetrahlsjratemeί verwendet mer&m, beiapielsweia© lälek*
tronenatrahlsysterne der allgemein ia Blektronenmikroekopen ver-
wendeten Art Oder Elektronenstrahlayateme der in Oszillographen
und iernaehbixdröhren verwendeten Art mit geeigneter Polcuseierung, damit der relativ sohnelle .itrahl a»-iX die am oberes Jände
des in der Kokille angeordneten dträngee befindliche öchmelzlaohe geriontet- wird. >
' .
Wie bereits erwähnt wird durch die entfernte Anordnung des ElektronenBtrahleyatems öder der Ulektronenetrahlayeteme
in dem erfXndungegemässen Ofen ein besonderer Vorteil erzielt,
weil die beim Fokussierenι oder iiUiren des Blektronenatrahls
innerhalb der erforderlichen engen Grenzen biaher auftretenden
Sohwierigkeiten erfindungagemäse vermieden werden. Bei nahe
angeordneten Kathoden können die »ich entwickelnden Dämpfe
die Hiehtung dee jälektronenfiuseea: modifizieren, ehe dar Elektronenstrahl oder die Elektronen des Strahle ihre volle kinetieoite Energie erhalten haben, da bei solchen Aiiordnuagan diese
Dämpfe*die Haumladung ewieohen Kathode and Anode verändernd -ürfindußgegemaes erhält dtr Elektronenstrahl seine- volle Kneigie
in einem vollkommen evakuierten, nicht Avaroh (Sas verunreinigten
Bereich, weil die entfernte Anordnung der Elektronenstrahl- ■'
BAD
809802/0725 -
quelle einen Eintritt von entwickeltem Gas in den Erzeugungebereich aussehliesst. Ferner ist die Richtung der Bahn des
Slektronenstrahls gegenüber den anderen Bestandteilen der Einrichtung öder, mit anderen Worten, gegenüber der Fliessricfctung
dee geschmolzenen Metalls zu beachten. Man kann swar auch in
anderen Ofenkonstruktionen eine Elektronenstranlquelle verwenden»
doch treten dabei iinner Schwierigkeiten auf, weil diese strahlenquelle nicht iraetande ist, den Sohnelzeineatz zu schmelzen und -die ganze üchmeltlaohe des daraus areeugten geschmolzenen Metalle
weiter zu erhitzen. Wie bereits ersännt, ist es sehr vorteilhaft,
das geschmolzene Metall weiter zu. erhitzen, um eine weitere Verflüchtigung zu bewirken.
Die Erfindung arbeitet mit »inem energiereichen Elektronenstrahl, der im Winkel zur Vertikalen geführt ist, so dass er
nicht nur durch teilweises Auftreffen auf dem Schmelzeinsatz
diesen schmilzt und durch direkten Beschuss den Strang erhitzt,
sondern auch vollständig zwischen lern Schmelzeinsatz und dem Strang hindurchgeht, wodurch die Bildung einer metallischen A
Brücke zwischen ihnen verhindert wird. Wenn in ElektronenbeschUBβöfen nicht eine hohe Temperatur zwischen dem äohmelseinsate
und der Kokille aufrechterhalten oder" auf andere Weise dafür
gesorgt wird, dass der ächBelseineats gesohmolaen wird, ehe er
in die Kokille eintreten kann, besteht die Möglichkeit, dass
Metall in die Kokille flieset, ehe es vollständig verflüssigt ist. Erfindungθgemäea muse nicht unbedingt eine hohe Temperatur
ewieohen dem öchmelieinaatm und dem Strang aufrechterhalten
werden.
8 0 S 8 0 2/ 0 7 2 5 bad
■ ■■■-.". ■■■■ · - 24 ~ - : : . '
«erden, aber es 1st zwischen ihnen ein energiereicher ülektronenstrahl vorgesehen, eo dass in diesem Baum etwa vorhandene feste
Körper von dem Elektronenstrahl beschossen und auf eine wesentlich höhere Temperatur erhitzt und geachmolaen «erden. Erfindunga·
gemäss wird also eine Brückenbildung ewisöhen dem üchmelzeinsatz und dem Strang verhindert. . ■
Stauffer Chemical Company durohi
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Claims (1)
- CHEMICAL GOMPAKiT IN NEW YORK (U.S.A.)Patentansprüche ι1. Vakuum-cJchmelz- und -CHessverfahren, bei dem ein | energiereicher Elektronenstrahl abwärts in das offene obere Ende einer Kokille gerichtet.und ein iSehmelaeineatB in form eines Stabes abwärts in den Strahl hinein vorgeschoben wird» so dass das untere Ende des Stabes kontinuierlich abschmilzt und in die Kokille strömt, wobei der strahl auch das Metall in der Kokille erhitzt und in dieser eine oohmelalaohe aus geschmolzenem Metall aufrechterhält, daduroh ftekenngeichnst f das» der Strahl längs einer geraden, in Winkel zur Vertikalen angeordneten Sahn geführt wird und einen β oh surf begrenzten, geraden, λ geneigten oberen Hand hat, und dass der Stab in diesen oberen Rand hineingeführt wird, um von ihm abgeaehmolaen au werden.2ο Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass der Elektronenstrahl an einer von dem Uohmelselnaats und der Schmelzlache entfernten stelle erzeugt und auf »ine höh·; Energie gebracht wird, damit »eine Bahn durch im Bereich dee öehmelzeinsatzee vorhandene Gase» Dämpfe oder Pia·men Im wesentlichen nicht abgelenkt wird.809802/07253. Verfahren nach Anspruch ΐ oder 2, dadurch gekenn» ..".- . -■- · ■: energiereiohe - , .. .-':.-. ,,-. ■.... .^-^^ -■...--zeichnet, daa β mehrere /Blektronenetrahien ereeugt werden/ die von verschiedenen um den Schmelzeinsatz herum angeordneten Stellen abwarte in die Kokille gerichtet aind, so dass die sum Schmölzen des Stabes und aum Erhitzen der Schmsiziaehe verfügbare Energie der Summe der Energie der Elektronen at rehl»3n entspricht« :"' '' ■■■'■■'."■■ ':■■■■■-■■■ ' ■: '"' ; '-'■''·'■' '■-: : '' '■4. Verfahren nachAnspruch 3, dadurch gekennzeichnetγ dass die Klektronenatrahlen voa mehreren oberhalb derÖchaelslache um den Öchmelaeinaatß herum ongeordneten ütellen aus ge«- ■ ■■- .■■■■■ ■- - .' - .- .'-: - ■' - ■■" .- iiUfi ίί·:Γ. -'führt «erden» so dass das gaus© offene obere ^hde der Kokille volletändig1 mit Elektronen beschossen wird, die der ganzes Oberfläche der Schaelalaohe »yärme aüführene - ν;; 5θ-. ■■■■■■ : ■-■■---■■ -.. - ; .■"- r-\ '·■ ' - ' -ΐ-χ >:■:.:*;. :-^:?A?,?im5. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,• ..-■ ■ ;-/.,..*■-■. :■'■-.:,_ ■■;.-. ■ :: ■-,-.; ■;- .rf. :?^:ν-.-;^^-Λ- :-cjir dass der Sehne!zeinsatζstab während seinee Absohmelzena in geregelter Weise quer zur Kokille und vertikal au ihr hin bewegt wird, damit der Strom des geschmolzenen Materialie stiadlg in die Mitte der offenen Kokille fslit» während te¥ eineatsBtftb durch Blektronenbeschues abgeechmolseBWird· .6· Vorrichtung 2U1- Durchführung de» Verfahrene ßaoh Anspruch 1 mit einer Einrietitung aum Evakuieren einer eine? in dieser Kammer aEgeordaeten» obsn offenen Kokille, einer Voreohubeinrichtung, die «ei eiaeii 3öhaiile*iaeatzetab oberhalb der Kokille aagreift un# &®nStab während aeine· Abaohmelaeneau der Kokille hin vorschiebt und ein« Einrichtung ium Beschuss9 802/0dta gtabas und der Öffnung an oberen linde der Kokille mit energiereichen Elektronen aum Sohmelaen dea dtabea und aur Aufrechterhaltung einer äohmelilaohe in'der Kokille, gekennzeichnet durch nenlgatena eine Hocbepannungaelektronenstrahlqualle, die ▼on da« tftab und der Kokille entfernt angeordnet iat und einen energiereiohen Elektronenstrahl abwarte im Winkel eur Vertikalen" in daa offene obere linde der Kokille riohtet, un das untere Ende dea stabea au beeohleeaen und au aohmelaen, ao daaβ Material | ▼on dem Stab abwarte in die Kokille flieset und dort «reiter er~ hitat nird.7· Vorrichtung naoh Aneprueh 6, dadurch gekennaeiohnet9 daes mehrere Jälektronenatrahlquellen um den Stab herum in einer Entfernung τοη ihm angeordnet sind und Jülektronenetrahlen aus ▼eraohiedenen Hiohtungen in das offene obere finde der Kokille riohten.8. Vorrichtung nach Anapruoh 6 oder 7» gekennzeichnetdurch eine oberhalb der Kokille an den Schmeleeinaataetab an- | greifende Vorβοhubβinrichtung eur geregelten Abwärt·- und SeitwBrtabewegung dee Stabea während dea Abeohmelaene dee unteren Endes des Stabes dur.oh Elektronenbeschuss, damit daa geeohmolcene Material stete in das offene obere £nde der Kokille flieset.9. Vorrichtung nach Aneprueh 6 oder 7, dadurch gekennselohnet, dass die Slektronenstrahlquelle so weit von dem iiohmelBeineataatab und der Kokille entfernt let, dass dieElektronen80S802/0725 ' IAD OKGINAL■,■:■'■... 'It'Jilektxo&ea in wesentlichen ihre volle Beschleunigung erhalten, ehe sie in dem Stab benachbarte Bereiche eintreten, in denen Oase od.dgl.vorhanden sein können, eo dass die Bahn der Elektronen im wesentlichen ohne Ablenkung aufrechterhalten wirdοStauffer Chemical Company durch*80980 2/07 25
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