DE1258233B - Verfahren und Vorrichtung zum Kontaktverkupfern - Google Patents
Verfahren und Vorrichtung zum KontaktverkupfernInfo
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- DE1258233B DE1258233B DEP23919A DEP0023919A DE1258233B DE 1258233 B DE1258233 B DE 1258233B DE P23919 A DEP23919 A DE P23919A DE P0023919 A DEP0023919 A DE P0023919A DE 1258233 B DE1258233 B DE 1258233B
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/54—Contact plating, i.e. electroless electrochemical plating
Description
DEUTSCHES
PATENTAMT
AUSLEGESCHRIFT
Int. CL:
C23b
Deutsche Kl.: 48 a-5/02
Nummer: 1258 233
Aktenzeichen: P 23919 VI b/48 a
Anmeldetag: 20. November 1959
Auslegetag: 4. Januar 1968
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Kontaktverkupfern von insbesondere versilberten Glasspiegeln,
wobei eine homogene Suspension eines in der Spannungsreihe über dem Kupfer stehenden pulverförmigen
Metalls mit einer Kupfer(II)-salzlösung gemischt und das Gemisch mittels eines Sprühkopfes
auf die zu verkupfernde Fläche aufgesprüht wird, bevor eine merkliche Kupferabscheidung in dem Gemisch
einsetzt.
Die Erfindung betrifft ferner eine Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens.
Es ist bekannt, daß sich Kupfer durch die galvanische Wirkung eines Metalls, das in der Spannungsreihe höher als Kupfer liegt, aus einer Lösung eines
Kupfer(II)-salzes abscheiden läßt. Einige für die Kupferabscheidung relevanten Metalle der Spannungsreihe ergeben sich in der Reihenfolge des abnehmenden
Oxydationspotentials:
Verfahren und Vorrichtung zum
Kontaktverkupfern
Kontaktverkupfern
Metall | Ion | Oxydationspotential, ao V |
Mg | Mg++ | 3,024 |
Al | Al+++ | 1,67 |
Mn | Mn++ - | 1,1 25 |
Zn | Zn++ | 0,761 |
Fe | Fe++ | 0,44 |
Cd | Cd++ | 0,402 |
Cu | Cu++ | 0,340 |
Anmelder:
Pilkington Brothers Limited,
Liverpool, Lancashire (Großbritannien)
Vertreter:
Dr.-Ing. W. Abitz, Patentanwalt,
8000 München 27, Pienzenauer Str. 28
Beanspruchte Priorität:
Großbritannien vom 20. November 1958 (37 442)
(Das Kupfer ist zum Vergleich mit aufgeführt.) Bei den bisher bekannten Verkupferungsverfahren unter
Ausnutzung dieser Wirkung wird auf eine zu verkupfernde Fläche das abscheidende Metall in Form
einer Suspension feiner Teichen in Wasser und gesondert eine Lösung eines Kupfer(II)-salzes aufgespritzt,
so daß sich die Lösung und die Suspension auf der Fläche mischen.
Ein Hauptziel der vorliegenden Erfindung ist die Schaffung eines Verkupferungsverfahrens, das einen
gleichmäßigeren kontinuierlichen Kupferüberzug liefert, als er bisher erzielt werden konnte.
Das Verfahren gemäß der Erfindung ist dadurch gekennzeichnet, daß die jeweils mittels Druckluft unter
Druck stehende Metallpulversuspension und die Kupfer(II)-salzlösung über getrennte Leitungen unterschiedlichen
Durchmessers vor der Sprühdüse zu einem homogenen, turbulenten Gemischstrom vereinigt
werden.
Durch die gründliche Vermischung der Metallpulversuspension mit der Kupfer(II)-salzlösung, bevor das
Gemisch den Sprühkopf zum Auftragen des Gemisches erreicht, wird sichergestellt, daß jeder Tropfen des Gemisches
die gleiche Zusammensetzung aufweist, so daß die Kupferabscheidung auf der Fläche im wesentlichen
gleichmäßig erfolgt.
Man kann als Kupfer(II)-salzlösung eine Kupfersulfatlösung verwenden, die z. B. 2 bis 10 Gewichtsprozent
CuSO4 · 5 H2O enthält und mit Schwefelsäure
angesäuert ist. Man kann andererseits auch die Metallpulversuspension vor dem Vermischen mit der
Kupf er(II)-salzlösung durch Einspritzen in einen Strom angesäuerten Wassers homogen verdünnen. Das Gemisch
hat vorzugsweise ein pH von 0,5 bis 3.
Um das Metallpulver leicht in Suspension halten zu können und um die Geschwindigkeit der Reaktion
zwischen dem Kupfer(II)-salz und dem Metallpulver zu erhöhen, ist eine feine Unterteilung des Metalls erwünscht.
Es hat sich gezeigt, daß eine durchschnittliche Korngröße der Teilchen des Metallpulvers von nicht
mehr als 20 Mikron einen gut geeigneten Zerteilungszustand darstellt. Eisen oder Zink werden als Metallpulver
bevorzugt, da sie von den obengenannten Metallen mit den geringsten Kosten und am leichtesten
verfügbar sind. Gepulvertes Zink mit einer durchschnittlichen Korngröße von etwa 20 Mikron wie
auch gepulvertes Eisen mit einer durchschnittlichen Korngröße von 5 bis 7 Mikron sind leicht verfügbar;
das letztgenannte wird besonders bevorzugt.
Zur Aufrechterhaltung einer gleichmäßigen Dispersion des Metallpulvers, die sich mit vorbestimmter
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3 4
Geschwindigkeit zuführen läßt, kann das Metallpulver rasche und wirksame Injektion der Metallpulver-
in einer wäßrigen Dispersion eines inerten hydrophilen suspension in die Kupfer(II)-salzlösung kann erzielt
Kolloids, deren Viskosität ausreicht, um das Pulver werden, indem man dem Teil der zweiten Zuleitung,
in der Schwebe zu halten, suspendiert werden. welcher in die Mischleitung eintritt, einen im wesent-
Geeignete hydrophile Kolloide sind beispielsweise 5 liehen koaxialen Verlauf mit dem Mischleitungsteil
Carboxymethylcellulose, Polyvinylalkohol, lösliche gibt, der abstromseitig der Eintrittsstelle der zweiten
Stärke, Gummiharze oder Gelatine. Eine solche Zuleitung in die Mischleitung liegt,
viskose wäßrige Dispersion kann beispielsweise 1 bis Allgemein ist die zu verkupfernde Fläche, z. B. die
5 Gewichtsprozent Metallpulver, 0,1 bis 0,5 Gewichts- Fläche eines bereits versilberten Glasspiegels, beprozent
Carboxymethylcellulose und 0,1 bis 0,5 Ge- io trächtlich größer als die Fläche, die sich mit dem aus
wichtsprozent Formaldehyd (40%ige Lösung) ent- einem ortsfesten Spritzkopf austretenden Sprühstrahl
halten. bedecken läßt. Die Glas- oder andere Fläche wird
Es hat sich gezeigt, daß in normalen Fällen die Ab- daher zweckmäßig auf einem Förderorgan angeordnet,
scheidung des Kupfers ungefähr 20 Sekunden nach daß sich unterhalb des Spritzkopfes hinweg bewegt,
dem Vermischen der Metallpulversuspension mit der 15 während der Spritzkopf auf einem Rahmen ange-
Kupfer(II)-salzlösung einsetzt. Das Gemisch soll daher ordnet ist, der quer zur Bewegungsrichtung der Glas-
vor Verstreichen dieses Zeitraumes aufgespritzt werden. oder anderen Fläche hin- und herbewegbar ist, so
Dies bedeutet nicht, daß zwischen dem Vermischen daß die Spritzung der Fläche in aufeinanderfolgenden
der Metallpulversuspension und der Kupfer(II)-salz- Querstreifen erfolgt. Bei dieser Anordnung wird die
lösung und dem Aufspritzen des Gemisches unbedingt 20 von der Mischleitung zum Spritzkopf führende Leitung
ein Zeitraum von annähernd 20 Sekunden verstreichen flexibel ausgebildet.
muß, da bestimmte Flächen die Reaktion zwischen Zur weiteren, beispielsweisen Erläuterung der Erdem
Metallpulver und dem Kupfer(II)-salz kataly- findung ist nachfolgend eine bevorzugte Ausführungssieren.
So liegt bei der Verkupferung einer frei liegenden form der Vorrichtung an Hand der Zeichnung be-Silberfläche
eines versilberten Glasspiegels die bis zum 25 schrieben.
Eintritt der Reaktion verstreichende Zeitspanne in der Vom Vorratsbehälter 10 für die angesäuerte
Größenordnung einer Sekunde, so daß man das Ge- Kupfer(II)-salzlösung führt die erste Zuleitung 11
misch in solchen Fällen aufspritzen kann, sobald es direkt in die Mischleitung 12, wobei die Vereinigungssich
gebildet hat. stelle bei 13 angedeutet ist. Von dem Vorratsbehälter 14 Das Spritzen kann mittels einer beliebigen Spritz- Su für die Metallpulversuspension führt die zweite Zuvorrichtung
erfolgen, d. h. einer Vorrichtung, welche leitung 15 zu der Mischleitung 12, in der sie abstrommindestens
einen Spritzkopf, der unter der Wirkung seitig der Vereinigungsstelle 13 eintritt. Bei der hier
des Druckes der Flüssigkeiten allein einen geeigneten dargestellten Einrichtung kann, um ein praktisches
Tröpfchenstrom zu bilden vermag, oder Spritzköpfe Beispiel zu geben, die Bohrung der ersten Zuleitung 11
aufweist, deren jeder mittels Druckluft einen Tröpfchen- 35 auf 25,4 mm, die Bohrung der Mischleitung 12 auf
strom bildet. 12,7 mm und die Bohrung der zweiten Zuleitung 15 Die Erfindung stellt weiter eine Vorrichtung zur auf 3,175 mm bemessen werden. Der letzte Teil der
Durchführung des Verfahrens zur Verfügung. Die zweiten Zuleitung 15 ist so angeordnet, daß er sich
Vorrichtung ist gekennzeichnet durch eine erste koaxial zu dem Teil der Mischleitung 12, der abstrom-Leitung,
die vom Vorratsbehälter für die Kupfer(II)- 40 seitig der Eintrittsstelle der ersten Zuleitung 15 liegt,
Salzlösung direkt in eine Mischleitung führt, eine in die Mischleitung 12 erstreckt,
zweite Leitung, die vom Vorratsbehälter für die Me- Von der Mischleitung 12 gehen abstromseitig der
tallpulversuspension an einer Stelle an die Misch- Eintrittsstelle der zweiten Zuleitung 15 flexible Leileitung
führt, die abstromseitig der Eintrittsstelle der tungen 16 und 17 ab, die zu Spritzköpfen 18 und 19
ersten Zuleitung liegt, und eine dritte, abstromseitig 45 führen. Die Spritzköpfe sind so angeordnet, daß sie
der Eintrittsstelle der zweiten Zuleitung von der Misch- die zu verkupfernden Körper 20 bespritzen. Das Beleitung
an einen Spritzkopf abgehende Leitung, wobei handlungsgut ist auf einem Förderorgan 21 angeordnet,
-die Bohrung der Mischleitung gegenüber der Bohrung welches es in der durch den Pfeil angedeuteten
der ersten Zuleitung unterschiedlich bemessen ist, um Richtung unter den Spritzköpfen 18 und 19 hinweg
die Flüssigkeitsströmung in der Mischleitung turbulent 50 zu bewegen vermag. Die Spritzköpfe 18 und 19 sitzen
zu halten. an einem (nicht eingezeichneten) Rahmen, der quer In weiterer Ausgestaltung der erfindungsgemäßen zur Bewegungsrichtung des Förderorgans 21 hin- und
Vorrichtung führt eine zusätzliche Leitung von einem herbewegbar angeordnet ist. Die Zufuhr der Kupfer(II)-Wasservorratsbehälter
zur Mischleitung abstromseitig salzlösung aus dem Vorratsbehälter 10 und die Zufuhr
der Eintrittsstelle der ersten Leitung, und die vom 55 der Metallpulversuspension aus dem Vorratsbehälter
Vorratsbehälter für die Metallpulversuspension 14 erfolgen unter Druck mittels Druckluft, die durch
kommende Leitung ist mit dieser Leitung verbunden. die Rohrleitungen 22 bzw. 23 eingeführt wird, wobei
Eine Turbulenz tritt in einer eine Leitung durch- die Vorratsbehälter 10 und 14 entsprechend druckfest
strömenden Flüssigkeit auf, wenn die mittlere lineare ausgebildet sind. Der Vorratsbehälter 14 kann, wenn
Geschwindigkeit der Flüssigkeit in der Leitung einen 60 gewünscht, als zusätzliche Vorsichtsmaßregel gegen
bestimmten Wert überschreitet, der von den Eigen- ein Absetzen des Metallpulvers mit einem (nicht einarten
der Flüssigkeit abhängt. Es hat sich gezeigt, daß gezeichneten) Rührer versehen werden,
die Turbulenz in der Mischleitung erzielt werden kann, Die Länge der Mischleitung 12 und der flexiblen
indem man die Bohrung der Mischleitung auf unge- Leitungen 16 und 17 werden so gewählt, daß unter
fähr ein Viertel derjenigen der ersten Zuleitung be- 65 Berücksichtigung der Strömungsgeschwindigkeiten der
mißt; gleichzeitig ist es auch vorteilhaft, die Bohrung Kupfer(II)-salzlösung und der Metallpulversuspension
der zweiten Zuleitung auf ungefähr ein Achtel der die verdünnte Suspension beträchtlich weniger als
Bohrung der ersten Zuleitung zu bemessen. Eine 25 Sekunden benötigt, um die Strecke zwiseneh der
Stelle des Eintritts der zweiten Leitung 15 in die Mischleitung 12 und den Spritzköpfen 18 bzw. 19
zurückzulegen.
Im Betrieb werden die Strömungsgeschwindigkeiten der Metallpulversuspension und der Kupfer(II)-salzlösung
aufeinander und auf die Breite und Bewegungsgeschwindigkeit des Förderorgans 21 eingestellt. Zum
Beispiel hat sich bei einem 1,8 m breiten Förderorgan, das mit einer Geschwindigkeit von 0,9 m/Min, läuft,
eine Strömungsgeschwindigkeit der Metallpulversuspension von 200 cm3/Min. und der Kupfer(II)-salzlösung
von 1500 cm3/Min. bewährt.
Auf Grund der Homogenität der Metallpulversuspension und der Turbulenz des Gemisches, das
auf die zu verkupfernde Fläche aufgespritzt wird, lassen sich die Verteilung und die relativen Anteile
des Metallpulvers und der Kupfer(II)-ionen in der Flüssigkeitsschicht, die sich auf der Fläche durch
Zusammenwachsen der Tröpfchen bildet, leicht während des gesamten Verfahrens im wesentlichen gleichmäßig
halten, so daß die Bildung und Abscheidung von metallischem Kupfer auf der Fläche im wesentlichen
gleichmäßig abläuft.
Claims (12)
1. Verfahren zum Kontaktverkupfern von insbesondere versilberten Glasspiegeln, wobei eine
homogene Suspension eines in der Spannungsreihe über dem Kupfer stehenden pulverförmigen Metalls
mit einer Kupfer(II)-salzlösung gemischt und das Gemisch mittels eines Sprühkopfes auf die zu verkupfernde
Fläche aufgesprüht wird, bevor eine merkliche Kupferabscheidung in dem Gemisch einsetzt, dadurch gekennzeichnet, daß
die jeweils mittels Druckluft unter Druck stehende Metallpulversuspension und die Kupfer(II)-salzlösung
über getrennte Leitungen unterschiedlichen Durchmessers vor der Spühdüse zu einem homogenen,
turbulenten Gemischstrom vereinigt werden.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß als Kupfer(II)-salzlösung eine
mit Schwefelsäure angesäuerte Kupfersulfatlösung verwendet wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Metallpulversuspension vor
dem Vermischen mit der Kupfer(II)-salzlösung durch Einspritzen in einen Strom angesäuerten
Wassers homogen verdünnt wird.
4. Verfahren nach Anspruch 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß mit einem pH-Wert des
Gemisches von 0,5 bis 3 gearbeitet wird.
5. Verfahren nach Anspruch 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß eine Zinkpulversuspension
verwendet wird.
6. Verfahren nach Anspruch 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß eine Eisenpulversuspension
mit einer Korngröße von im Mittel 5 bis 7 Mikron verwendet wird.
7. Verfahren nach Anspruch 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß das Metallpulver in einer
wäßrigen Dispersion eines inerten hydrophilen Kolloids, deren Viskosität ausreicht, um das
Pulver in der Schwebe zu halten, suspendiert wird.
8. Verfahren nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß als hydrophiles Kolloid Carboxymethylcellulose,
Polyvinylalkohol, lösliche Stärke, Gummiharze oder Gelatine verwendet werden.
9. Verfahren nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß eine viskose wäßrige Suspension
mit einem Gehalt an 1 bis 5 Gewichtsprozent Metallpulver, 0,1 bis 0,5 Gewichtsprozent Carboxymethylcellulose
und 0,1 bis 0,5 Gewichtsprotent Formaldehyd (40%ig) verwendet wird.
10. Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach Anspruch 1 bis 9 mit Vorratsbehältern
für die Kupfer(II)-salzlösung und die homogene Metallpulversuspension sowie mit Leitungen, die
von den Behältern zu einem Sprühkopf für die vermischten Flüssigkeiten führen, gekennzeichnet
durch eine erste Leitung (11), die vom Vorratsbehälter (10) für die Kupfer(II)-salzlösung direkt
in eine Mischleitung (12) führt, eine zweite Leitung (15), die vom Vorratsbehälter (14) für die Metallpulversuspension
an einer Stelle an die Mischleitung (12) führt, die abstromseitig der Eintrittsstelle der ersten Zuleitung (11) liegt, und eine
dritte, abstromseitig der Eintrittsstelle der zweiten Zuleitung (15) von der Mischleitung an einen
Spritzkopf (18 und/oder 19) abgehende Leitung (16 und/oder 17).
11. Vorrichtung nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß eine zusätzliche Leitung von
einem Wasservorratsbehälter zur Mischleitung (12) abstromseitig der Eintrittsstelle der ersten Leitung
führt und daß die vom Vorratsbehälter für die Metallpulversuspension kommende Leitung mit
dieser zusätzlichen Leitung verbunden ist.
12. Vorrichtung nach Anspruch 10 oder 11, dadurch gekennzeichnet, daß die von der Mischleitung
(12) zum Spritzkopf (18 und/oder 19) führende Leitung (16 und/oder 17) flexibel ausgebildet
und der Spritzkopf (18 und/oder 19) quer zur Bewegungsrichtung einer zu verkupfernden
Fläche (20) hin- und herbewegbar ausgebildet ist.
In Betracht gezogene Druckschriften:
Belgische Patentschrift Nr. 541610.
Belgische Patentschrift Nr. 541610.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
709 717/522 12.67 © Bundesdruckerei Berlin
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