DE1207798B - Process for the production of printing forms - Google Patents

Process for the production of printing forms

Info

Publication number
DE1207798B
DE1207798B DEW26753A DEW0026753A DE1207798B DE 1207798 B DE1207798 B DE 1207798B DE W26753 A DEW26753 A DE W26753A DE W0026753 A DEW0026753 A DE W0026753A DE 1207798 B DE1207798 B DE 1207798B
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
grid
negative
layer
film
raster
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
DEW26753A
Other languages
German (de)
Inventor
Francis Ernest Wattier
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Individual
Original Assignee
Individual
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from US741245A external-priority patent/US3122436A/en
Priority claimed from CH7961559A external-priority patent/CH369970A/en
Application filed by Individual filed Critical Individual
Priority to DEW26753A priority Critical patent/DE1207798B/en
Publication of DE1207798B publication Critical patent/DE1207798B/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F5/00Screening processes; Screens therefor
    • G03F5/20Screening processes; Screens therefor using screens for gravure printing

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)

Description

BUNDESREPUBLIK DEUTSCHLANDFEDERAL REPUBLIC OF GERMANY

DEUTSCHESGERMAN

PATENTAMTPATENT OFFICE

AUSLEGESCHRIFTEDITORIAL

Int. Cl.:Int. Cl .:

G03fG03f

Deutsche KL: STd-I German KL: STd-I

Nummer 1207 798Number 1207 798

Aktenzeichen: W 26753IX a/57 dFile number: W 26753IX a / 57 d

Anmeldetag: 20. November 1959 Filing date: November 20, 1959

Auslegetag: 23. Dezember 1965Opening day: December 23, 1965

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung ebener oder zylindrischer Druckformen unter Verwendung von Rasternegativen, die im Kontaktverfahren von retuschierten Halbtonpositiven gewonnen wurden und anschließend ebenfalls im Kontaktverfahren in Rasterpositive umgewandelt werden.The invention relates to a method of manufacture flat or cylindrical printing forms using halftone negatives produced in the contact process were obtained from retouched halftone positives and then also using the contact method can be converted into grid positives.

Es ist bekannt, zur Herstellung einer Druckform von einem transparenten Halbtonbild auf eine Ätzplatte zuerst einen Raster allein und danach das transparente Halbtonbild unter Belassung des Rasters zwischen dem Halbtonbild und der Ätzplatte aufzubelichten. It is known to produce a printing form from a transparent halftone image on an etching plate first a raster alone and then the transparent halftone image leaving the raster as it is to expose between the halftone image and the etching plate.

Demgegenüber besteht das Wesen der Erfindung darin, daß als Träger der lichtempfindlichen Schicht ein Lith-Film verwendet wird, gegen dessen Schichtseite die Trägerseite eines Negativ-Filmrasters anliegt, dessen Gitterstege durch lichtdurchlässige, einen gleichmäßigen Dichtewert von etwa 0,20 aufweisende Schichtstreifen gebildet werden, und als Halbtonbild ein Halbtonpositiv verwendet wird, dessen Schicht gegen die Schicht des Filmrasters anliegt, und von dem so hergestellten Rasternegativ in an sich bekannter Weise im Kontaktverfahren ein Rasterpositiv hergestellt wird.In contrast, the essence of the invention is that as a support of the photosensitive layer a lith film is used, against the layer side of which the carrier side of a negative film grid rests, whose bars are translucent and have a uniform density of about 0.20 Layer strips are formed, and a halftone positive is used as a halftone image whose Layer rests against the layer of the film grid, and from the grid negative produced in this way in on In a known manner, a grid positive is produced in the contact process.

Die Dicke der durchsichtigen Trägerschicht des Filmrasters, die vorteilhafterweise etwa 0,1 mm im Fall eines 60er-Rasters und etwa 0,25 mm im Fall eines 30er-Rasters liegt, ist von besonderer Bedeutung, da hierdurch der Abstand des Rasters von dem Lith-Film bestimmt wird. Die einzelnen undurchsichtigen Punkte des Filmrasters, die vorteilhafterweise einen gleichmäßigen Dichtewert von etwa 4,00 aufweisen, werden vorzugsweise durch im wesentlichen quadratische Flächen gebildet, an die sich unmittelbar die lichtdurchlässigen Flächen anschließen.The thickness of the transparent carrier layer of the film grid, which is advantageously about 0.1 mm in In the case of a 60 grid and about 0.25 mm in the case of a 30 grid, it is of particular importance because this determines the distance between the grid and the lith film. The individual opaque Points of the film grid, which advantageously have a uniform density value of about 4.00, are preferably formed by essentially square surfaces that are directly attached to connect the translucent surfaces.

Das Verhältnis der gesamten lichtdurchlässigen Fläche zu den einzelnen lichtundurchlässigen Punkten wird durch die Anzahl der Rasterstriche je Zentimeter bestimmt. Bei allen Rastern mit 30 bis 60 Linien je Zentimeter haben die die lichtdurchlässige Fläche bildenden Streifen eine Breite von etwa 0,05 mm, so daß sich die Breite der einzelnen lichtundurchlässigen quadratischen Punkte dementsprechend ändert.The ratio of the total translucent area to the individual opaque points is determined by the number of grid lines per centimeter. For all grids with 30 to The strips forming the translucent surface have a width of 60 lines per centimeter about 0.05 mm, so that the width of the individual opaque square points is accordingly changes.

Dieses Verhältnis ergibt sich beispielsweise bei einem 40er-Raster mit einer Breite der lichtdurchlässigen Streifen von etwa 0,05 mm und einer dementsprechenden Breite der lichtundurchlässigen Punkte von etwa 0,2 mm zu 1:4, während bei einem 60er-Raster mit einer Breite der lichtdurchlässigen Streifen von etwa 0,05 mm sich ein Verhältnis von etwa 1:2,5 ergibt.This ratio arises, for example, with a 40 grid with a width of the translucent Strips of about 0.05 mm and a corresponding width of the opaque Points of about 0.2 mm to 1: 4, while with a 60 grid with a width of the translucent Strips of about 0.05 mm gives a ratio of about 1: 2.5.

Verfahren zur Herstellung von DruckformenProcess for the production of printing forms

Anmelder:Applicant:

Francis Ernest Wattier,Francis Ernest Wattier,

New York, N. Y. (V. St. A.)New York, N.Y. (V. St. A.)

Vertreter:Representative:

Dr.-Ing. E. Maier, Patentanwalt,Dr.-Ing. E. Maier, patent attorney,

Stuttgart 1, Werastr. 24Stuttgart 1, Werastr. 24

Als Erfinder benannt:
Francis Ernest Wattier,
New York, N. Y. (V. St. A.)
Named as inventor:
Francis Ernest Wattier,
New York, NY (V. St. A.)

so Das Rasternegativ wird erfindungsgemäß auf folgende Weise hergestellt:so The screen negative is produced according to the invention in the following way:

Der Kontakt-Filmraster wird mit der Fläche der durchsichtigen Grundschicht gegen die Schicht eines unbelichteten Kontrast-Strich-Filmes (Lith-Filmes) oder einer solchen Filmplatte gelegt. Darauf wird der so abgedeckte Kontrast-Strich-Film vorzugsweise mittels einer Punktlichtlampe belichtet, um auf diese Weise auf dem Rasternegativ die Stege zu bilden und auf der Ätzplatte bzw. dem Ätzzylinder die einzelnen Punkte bzw. Zellen voneinander zu trennen. Dann wird der retuschierte Halbton-Positivfihn mit seiner Schichtseite mit der Schichtseite des Kontakt-Filmrasters in Kontakt gebracht, wobei dieser seine Lage gegenüber dem Kontrast-Strich-Film nicht verändert. Hierauf wird dieser vorzugsweise mittels einer Punktlichtlampe durch das retuschierte Halbtonpositiv und den Kontakt-Filmraster ein zweites Mal belichtet, um auf diese Weise ein Rasternegativ zu erhalten.The contact film grid is made with the face of the clear base layer against the layer of a unexposed contrast line film (lith film) or such a film plate. On it will the contrast line film covered in this way is preferably exposed by means of a point light lamp in order to focus on it Way to form the webs on the grid negative and the individual ones on the etching plate or the etching cylinder Separate points or cells from one another. Then the retouched halftone positive flag brought with its layer side with the layer side of the contact film grid in contact, this its position in relation to the contrast line film does not change. This is then preferably by means of a point light lamp through the retouched halftone positive and the contact film grid a second Times exposed in order to obtain a halftone negative in this way.

Die übrigen Verfahrensschritte sind die üblichen. Von dem Rasternegativ wird im Kontaktverfahren ein Rasterpositiv gefertigt, das genau deckend auf das bereits auf das Pigmentpapier aufgedruckte retuschierte Halbtonpositiv aufgedruckt wird.The remaining process steps are the usual. The raster negative is made in the contact process a positive raster produced, which is exactly covering on the already printed on the pigment paper retouched halftone positive is printed.

In den Zeichnungen sind in schematischer Weise die einzelnen Verfahrensschritte dargestellt. Es zeigt F i g. 1 eine Draufsicht auf den besonderen Kontakt-Filmraster, The individual process steps are shown schematically in the drawings. It shows F i g. 1 is a plan view of the particular contact film grid;

Fig. 2 eine Seitenansicht des Rasters nach Fig. 1,FIG. 2 is a side view of the grid according to FIG. 1,

Fig. 3 eine Seitenansicht des auf einen Lith-Film aufbelichteten Kontakt-Filmrasters,3 shows a side view of the contact film grid exposed onto a lith film;

509 759/331509 759/331

Claims (1)

3 * 43 * 4 F i g. 4 eine Draufsicht auf das Rasternegativ Streifen W des Rasterfilmes S,. also etwa 0,05 mm.F i g. 4 shows a plan view of the screen negative strip W of the screen film S,. so about 0.05 mm. nach aufbelichteter Stegstruktur, Die aufkopierten Gitterstege sind mit 21, die unbe-according to the exposed bar structure, the copied lattice bars are 21, the uncovered Fig. 5 eine Seitenansicht des Rasternegativs mit lichteten Flächen mit 23 bezeichnet,5 shows a side view of the raster negative with cleared areas designated by 23, dem Kontakt-Filmraster und auf diesem aufgelegten In derselben gegenseitigen Lage des Rasters und retuschierten Halbtonpositjv zur Durchführung des 5'des.einmal belichteten Filmes wird ein retuschiertesthe contact film grid and placed on this in the same mutual position of the grid and retouched halftone positive for carrying out the 5 'of the once exposed film becomes a retouched one nächsten Verfahrensschrittes, der Belichtung'" des Halbtonpositiv mit der Schichtseite PE auf dieNext step, the exposure '"of the halftone positive with the layer side PE on the Rasternegativs, ; . \ ... Schichtseite SE des Rasterfilmes S aufgelegt und dasRaster negative; . \ ... layer side SE of the raster film S is placed and the F i g. 6 eine Draufsicht auf das Rasternegativ nach Negativ N so ein zweites Mal belichtet,F i g. 6 a plan view of the raster negative after negative N exposed a second time, durchgeführter Belichtung, ' Die -verschiedenen Dichtegrade PE der Silber-performed exposure, 'The -different degrees of density PE of the silver- F i g. 7 eine Seitenahsicht eines Freistellers im io körner der Emulsionsschicht des Halbtonpositivs P F i g. 7 is a side view of a cutout in the grain of the emulsion layer of the halftone positive P. Kontakt mit dem Rasternegativ, nachdem der Kon- sind in Fig. 5 in einem Schnitt schematisch darge-Contact with the raster negative after the con are shown schematically in a section in FIG. takt-Filmraster und das Halbtonpositiv entfernt stellt. Diese Dichteunterschiede PE bestimmen dietact film grid and the halftone positive is removed. These differences in density PE determine the wurden, und auf das Negativ fallende Lichtintensität und so daßwere, and light intensity falling on the negative and so that Fig. 8 eine Draufsicht auf einen Ausschnitt eines Verhältnis der lichtundurchlässigen Fläche 21 zu der8 shows a plan view of a section of a ratio of the opaque surface 21 to that nach dem erfindungsgemäßen Verfahren hergestellten 15 lichtdurchlässigen 23 des Rasternegativs. Diese15 translucent 23 of the raster negative produced according to the method according to the invention. These Rasternegativs. Flächen entsprechen in ihrer Ausdehnung und FormRaster negatives. Areas correspond in their size and shape Der in den Fig. 1 und 2 dargestellte besondere den Tonwerten des retuschierten Halbtonpositivs.
Kontakt-Filmraster 5 wurde auf fotografischem Die lichtdurchlässigen Flächen 23 ergeben später Wege im Kontaktverfahren mittels eines Glas- die Zellen in der geätzten Druckform bzw. der Ätzgravurrasters hergestellt und besteht aus einer durch- 20 platte. In F i g. 6 sind die durch die erste Belichtung sichtigen Grundschicht 15, auf der in gitterförmiger hervorgerufenen Rasterstege mit 21 und die durch Anordnung eine Anzahl lichtundurchlässiger Qua- die zweite Belichtung hervorgerufenen schraffiert gedrate 17 mit dazwischenliegenden, sich kreuzenden zeichneten Flächen mit 21^4 bezeichnet,
durchscheinenden Streifen 19 aufgebracht sind. Der Um Teile oder Stellen, die beim Drucken unwirk-Original-Glasgravurraster besteht aus unter einem 25 sam bleiben sollen, auszuscheiden, beispielsweise Winkel von 90° sich kreuzenden lichtundurchlässigen um einen weißen Hintergrund in einem Rasternegativ Linien und zwischen diesen Linien gebildeten qua- zu vermeiden, werden das retuschierte Halbtondratischen lichtdurchlässigen Flächen. positiv P und der Kontakt-Filmraster entfernt und an
The particular one shown in FIGS. 1 and 2 corresponds to the tonal values of the retouched halftone positive.
Contact film grid 5 was produced on a photographic The translucent surfaces 23 later result in paths in the contact process by means of a glass, the cells in the etched printing form or the etching engraving grid and consists of a through-plate. In Fig. 6 are the base layer 15 visible through the first exposure, on which the grid-shaped raster webs are marked with 21 and the hatched dated 17 caused by the arrangement of a number of opaque qua- the second exposure, with intersecting, intersecting marked areas marked with 21 ^ 4,
translucent strips 19 are applied. In order to separate out parts or places that should remain ineffective original glass engraving grid during printing, for example, opaque angles of 90 ° intersecting opaque to avoid a white background in a negative grid and lines formed between these lines , the retouched halftone become dramatic translucent surfaces. positive P and the contact film grid removed and on
Die Breite der sich kreuzenden lichtundurchlässi- deren Stelle eine Platte DP mit lichtundurchlässigen gen Linien des Original-Glasgravurrasters beträgt 30 Flächen 41 und lichtdurchlässigen Flächen 43, ein 0,05 mm. Die durchscheinenden Zwischenflächen sogenannter Freisteller oder eine Schablone, in gehaben eine der Strichzahl des Rasters entsprechende nauer Deckung mit dem Rasternegativ Schicht gegen Ausdehnung. Schicht auf dieses aufgelegt und das RasternegativThe width of the intersecting opaque point of a plate DP with opaque lines of the original glass engraving grid is 30 areas 41 and translucent areas 43, a 0.05 mm. The translucent intermediate surfaces of so-called cut-outs or a stencil, in which the number of lines of the grid correspond to the exact coverage with the grid negative layer against expansion. Layer placed on this and the raster negative Zur Herstellung des Kontakt-Filmrasters wird der ein drittes Mal belichtet (Fig. 7).To produce the contact film grid, it is exposed a third time (FIG. 7). Film einer gleichmäßigen Belichtung ausgesetzt, so 35 Bei dem erfindungsgemäß hergestellten Raster-Film exposed to a uniform exposure, so 35 With the screen produced according to the invention daß eine Dichte von 0,20 erzielt wird. Auf diesen so negativ entsprechen die Konturen sowohl der licht-that a density of 0.20 is achieved. On these so negatively, the contours correspond to both the light- vorbelichteten Film wird der Original-Glasgravur- durchlässigen, 23, als auch der lichtundurchlässigenThe pre-exposed film will be transparent to the original engraved glass, 23 as well as the opaque one raster aufbelichtet, so daß für die lichtundurch- Flächen 21 exakt den Tonwerten des retuschiertenraster exposed, so that for the opaque areas 21 exactly the tonal values of the retouched lässigen quadratischen Einzelfelder eine gleichmäßige Halbtonpositivs, wie aus Fig. 8 ersichtlich ist. Dar-casual square individual fields produce a uniform halftone positive, as can be seen from FIG. 8. Dar- Dichte von 4,00 erhalten wird. 40 über hinaus sind die Kontraste zwischen den vonDensity of 4.00 is obtained. 40 beyond are the contrasts between the Ein Raster mit nur durchscheinenden Zwischen- unterschiedlicher Lichtintensität getroffenen FlächenA grid with only translucent surfaces between different light intensities flächen an Stelle eines solchen mit klar durchsich- deutlich und die hellen und dunklen Flächen scharfareas in place of one with clear, clear and the light and dark areas sharp tigen Flächen wird deshalb benutzt, weil bei der er- begrenzt.term area is used because it is limited. findungsgemäßen Herstellung eines Rasternegativs Die übrigen Schritte des Verfahrens sollen, auch ein Raster mit nur durchscheinenden Flächen auf 45 wenn sie an sich herkömmlicher Art sind, im Hin-Grund der geringfügigen Lichtzerstreuung zu einem blick auf ihre besondere Bedeutung im Zusammen-Negativ mit viel besseren Hochlichtdetails führt als hang mit dem erfindungsgemäßen Verfahren noch ein Raster mit durchsichtigen Zwischenflächen. erwähnt werden.Production of a Screen Negative According to the Invention The remaining steps of the process should, too a grid with only translucent surfaces on 45 if they are conventional in themselves, in the back ground the slight scattering of light to a view of its special meaning in the collective-negative with much better highlight details than with the method according to the invention still leads a grid with transparent intermediate surfaces. be mentioned. Zweck und Wirkungsweise des Rasters ergeben Von dem in Fig. 8 dargestellten RasternegativThe purpose and mode of operation of the grid result from the grid negative shown in FIG sich aus der folgenden Beschreibung des erfindungs- 50 wird auf der Druckplatte ein Rasterpositiv herge-from the following description of the invention, a raster positive is produced on the printing plate. gemäßen Verfahrens. stellt, daß alle Einzelheiten des Rasternegativs zeigt.according to the procedure. represents that shows all the details of the halftone negative. Zuerst wird das Rasternegativ wie folgt hergestellt: Die lichtundurchlässige Raster-Punktstruktur weistFirst the screen negative is produced as follows: The opaque screen dot structure shows Der Rasterfilm S wird mit seiner Unterseite SB eine gleichmäßige Dichte und scharfe UmrißlinienThe screen film S with its underside SB has a uniform density and sharp outlines gegen die Schichtseite NE des nicht belichteten auf.against the layer side NE of the unexposed. FilmesN gelegt (Fig. 3). Der RasterabstandSS zwi- 55 Patentansprüche:
sehen der Schicht SE und der Schicht NE ist überall
Film N placed (Fig. 3). The grid spacing SS between 55 patent claims:
see the layer SE and the layer NE is everywhere
derselbe und ist durch die Dicke der durchsichtigen 1. Verfahren zur Herstellung einer Druckformthe same and is through the thickness of the transparent 1. Process for the production of a printing form Schicht 15 des Kontakt-Raster S gegeben. In der An- von einem transparenten Halbtonbild, bei demLayer 15 of the contact grid S given. In the form of a transparent halftone image in which Ordnung gemäß Fig. 3 wird der FilmN durch den auf eine lichtempfindliche Schicht zuerst einIn order as shown in Fig. 3, the film N is first applied to a photosensitive layer Raster S mittels einer Punktlichtlampe L belichtet. 60 Raster allein und danach das transparente HaIb-Grid S exposed by means of a point light lamp L. 60 grid alone and then the transparent half Diese Belichtung erfolgt zu dem Zweck, auf dem tonbild unter Belassung des Rasters zwischenThis exposure is done for the purpose of leaving the grid in between on the tone image späteren Rasternegativ ein Steggitter aufzubringen, dem Halbtonbild und der lichtempfindlichenlater raster negative to apply a web grating, the halftone image and the light-sensitive und die einzelnen Punkte bzw. Zellen auf der ge- Schicht aufbelichtet wird, dadurch gekenn-and the individual points or cells on the layer are exposed, thereby identifying ätzten Druckform oder -platte voneinander zu zeichnet, daß als Träger der lichtempfind-etched printing form or plate to draw from each other that the light-sensitive trennen. 65 liehen Schicht ein Lith-Flm verwendet wird,separate. 65 borrowed layer a lith film is used, Die Belichtung wird dabei in dieser Stufe nur so gegen dessen Schichtseite die Trägerseite einesIn this case, the exposure is only the carrier side of a layer against the layer side stark gewählt, daß die aufbelichteten Gitterstege Negativ-Filmrasters anliegt, dessen Gitterstegestrongly chosen that the exposed lattice bars are applied to the negative film grid, the bars of which dieselbe Breite aufweisen wie die durchscheinenden durch lichtdurchlässige, einen gleichmäßigenhave the same width as the translucent through translucent, a uniform one Dichtewert von etwa 0,20 aufweisende Schichtstreifen gebildet werden, und als Halbtonbild ein Halbtonpositiv verwendet wird, dessen Schicht gegen die Schicht des Fihnrasters anliegt, und von dem so hergestellten Rasternegativ in an sich bekannter Weise im Kontaktverfahren ein Rasterpositiv hergestellt wird.Layer strips having a density value of about 0.20 can be formed, and as a halftone image a halftone positive is used, the layer of which lies against the layer of the screen grid, and from the screen negative produced in this way in a manner known per se in the contact process a grid positive is produced. 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Dicke der durchsichtigen Trägerschicht des Filmrasters etwa 0,1 bis 0,25 mm beträgt.2. The method according to claim 1, characterized in that the thickness of the transparent Carrier layer of the film grid is about 0.1 to 0.25 mm. 3. Verfahren nach den Ansprüchen 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß die lichtundurchlässigen, einen gleichmäßigen Dichtewert von etwa 4,00 aufweisenden Flächen des Fihnrasters Quadrate sind und die zwischen den Quadraten verlaufenden lichtdurchlässigen Streifen eine Breite von etwa 0,05 mm aufweisen.3. The method according to claims 1 and 2, characterized in that the opaque, a uniform density value of about 4.00 having areas of the screen raster Are squares and the translucent strips running between the squares are one Have a width of about 0.05 mm. In Betracht gezogene Druckschriften:
Deutsche Patentschrift Nr. 45 654.
Considered publications:
German patent specification No. 45 654.
Hierzu 2 Blatt Zeichnungen For this purpose 2 sheets of drawings 509 759ß31 12.65 © Bundesdruckerei Berlin509 759ß31 12.65 © Bundesdruckerei Berlin
DEW26753A 1958-06-11 1959-11-20 Process for the production of printing forms Pending DE1207798B (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DEW26753A DE1207798B (en) 1958-06-11 1959-11-20 Process for the production of printing forms

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US741245A US3122436A (en) 1958-06-11 1958-06-11 Making rotogravure cylinders or plates
CH7961559A CH369970A (en) 1959-10-19 1959-10-19 Process for reproducing a half-tone engraving on a rotogravure plate or cylinder, device for carrying out the process and plate or cylinder provided with an engraving reproduced by said process
DEW26753A DE1207798B (en) 1958-06-11 1959-11-20 Process for the production of printing forms

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE1207798B true DE1207798B (en) 1965-12-23

Family

ID=27178591

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DEW26753A Pending DE1207798B (en) 1958-06-11 1959-11-20 Process for the production of printing forms

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE1207798B (en)

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE45654C (en) * F. C. GLASER, Königl. Kommissionsrath in Berlin SW., Lindenstr. 80 Gas firing for flame ovens

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE45654C (en) * F. C. GLASER, Königl. Kommissionsrath in Berlin SW., Lindenstr. 80 Gas firing for flame ovens

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE2733332A1 (en) COLOR PICTURE TUBE, PROCESS FOR MANUFACTURING SUCH A COLOR PICTURE TUBE WITH A SLIT MASK AND REPRODUCTION MASK FOR USE IN SUCH A PROCESS
DE424835C (en) Method and device for duplicating with templates
DE1166935B (en) Method for producing masks on semiconductor bodies
DE1207798B (en) Process for the production of printing forms
EP0000571A1 (en) Process for the production of an original
DE874247C (en) Three-color screen for photographic and cinematographic purposes and its manufacture
DE522338C (en) Process for the production of printing forms
DE559685C (en) Process to produce tinted and rasterized partial plates for multi-color printing
DE410447C (en) Process for the printable decomposition of halftone images for rubber printing
DE958480C (en) Process and film for the production of prepared screened clichés
DE293218C (en)
DE842004C (en) Stencil film, in particular for lettering or the like to be copied onto movies.
DE457203C (en) Process for making autotypes by copying
DE934864C (en) Process for the production of printing forms for doctor blade gravure printing
DE92835C (en)
DE1422487B1 (en) Contact grid for gravure printing
AT204572B (en) Process for the production of positive transfer films for printing rollers for textile printing
DE505256C (en) Process for the production of screen negatives
DE1255492B (en) Contact grid for reproduction purposes and process for its manufacture
AT152356B (en) Screen, especially for gravure printing technology and process for its production.
DE487150C (en) Process for the production of line, grain and line raster copy templates, which can also be used as printing plates
DE961680C (en) Process for the production of autotypical intaglio printing forms for the autotypical intaglio printing process and the grids for the execution of the same
DE531130C (en) Process for the production of printing, transfer printing and copying raster slides
AT142244B (en) Process for the production of master copies for printing and similar purposes.
DE567997C (en) Process for the production of master copies for direct and indirect printing processes in single and multi-color printing with simultaneous use of silver and chromate pixels