DE1193366B - Entwickler fuer photomechanische Druckformen - Google Patents
Entwickler fuer photomechanische DruckformenInfo
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
- G03F7/32—Liquid compositions therefor, e.g. developers
- G03F7/322—Aqueous alkaline compositions
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Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2353992A1 (de) * | 1972-11-02 | 1974-05-16 | Polychrome Corp | Verfahren zur entwicklung belichteter lichtempfindlicher schichten und entwickler zur durchfuehrung dieses verfahrens |
| EP0008394A1 (de) * | 1978-08-10 | 1980-03-05 | Hoechst Aktiengesellschaft | Verfahren zum Entwickeln von belichteten lichtempfindlichen Druckplatten auf Basis von o-Naphthochinondiaziden |
Families Citing this family (10)
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|---|---|---|---|---|
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| DE3100259A1 (de) * | 1981-01-08 | 1982-08-05 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Verfahren und entwicklergemisch zum entwickeln von belichteten negativ arbeitenden diazoniumsalzschichten |
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| JPS5854341A (ja) * | 1981-09-28 | 1983-03-31 | Fuji Photo Film Co Ltd | 現像方法および現像液 |
| DE3140186A1 (de) * | 1981-10-09 | 1983-04-28 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Entwickler und verfahren zum entwickeln fuer belichtete negativ-arbeitende reproduktionsschichten |
| JPS58190952A (ja) * | 1982-04-30 | 1983-11-08 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性印刷版の現像液 |
| JPS59121336A (ja) * | 1982-12-28 | 1984-07-13 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性平版印刷版の現像液 |
| DE3410522A1 (de) * | 1984-03-22 | 1985-10-03 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Einbrenngummierung fuer offsetdruckplatten und verfahren zur herstellung einer offsetdruckform |
| DE3439597A1 (de) * | 1984-10-30 | 1986-04-30 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Entwickler fuer belichtete negativ arbeitende reproduktionsschichten sowie verfahren zur herstellung von druckformen und verwendung des entwicklers |
| US20210364924A1 (en) * | 2020-05-21 | 2021-11-25 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Photoresist developer and method of manufacturing a semiconductor device |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE943928C (de) * | 1954-04-05 | 1956-06-01 | Time Inc | Entwickler fuer das Entwickeln belichteter Flaechen lichtempfindlicher, synthetischer, linearer Polyamidmischungen mit durch Lichteinwirkung unloeslich gemachten Stellen und gegenueber der Entwicklerfluessigkeit Loeslichen Stellen |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2062273A (en) * | 1933-11-28 | 1936-11-24 | Lithographic Technical Fond In | Method for removing colloids from lithographic printing surfaces |
| US2564414A (en) * | 1949-05-14 | 1951-08-14 | Interchem Corp | Developer for bichromated colloids |
| DE907739C (de) * | 1949-07-23 | 1954-02-18 | Kalle & Co Ag | Verfahren zur Herstellung von Kopien, besonders Druckformen, mit Hilfe von Diazoverbindungen und dafuer verwendbares lichtempfindliches Material |
| US3046121A (en) * | 1949-07-23 | 1962-07-24 | Azoplate Corp | Process for the manufacture of printing plates and light-sensitive material suttablefor use therein |
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| CH307356A (de) * | 1951-08-08 | 1955-05-31 | Kalle & Co Ag | Lichtempfindliches Material für die photomechanische Reproduktion. |
| US2732299A (en) * | 1952-07-22 | 1956-01-24 | Light sensitive | |
| US2931724A (en) * | 1956-10-22 | 1960-04-05 | Oscar D Lantz | Correction fluid and method for correcting blueprints |
| US2958599A (en) * | 1958-02-14 | 1960-11-01 | Azoplate Corp | Diazo compounds and printing plates manufactured therefrom |
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- 1961-07-27 CH CH883161A patent/CH404404A/de unknown
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE943928C (de) * | 1954-04-05 | 1956-06-01 | Time Inc | Entwickler fuer das Entwickeln belichteter Flaechen lichtempfindlicher, synthetischer, linearer Polyamidmischungen mit durch Lichteinwirkung unloeslich gemachten Stellen und gegenueber der Entwicklerfluessigkeit Loeslichen Stellen |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2353992A1 (de) * | 1972-11-02 | 1974-05-16 | Polychrome Corp | Verfahren zur entwicklung belichteter lichtempfindlicher schichten und entwickler zur durchfuehrung dieses verfahrens |
| EP0008394A1 (de) * | 1978-08-10 | 1980-03-05 | Hoechst Aktiengesellschaft | Verfahren zum Entwickeln von belichteten lichtempfindlichen Druckplatten auf Basis von o-Naphthochinondiaziden |
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