DE1166843B - Method for frequency adjustment of a piezoelectric oscillating body and hermetically sealed vessel for use in the practice of this method - Google Patents
Method for frequency adjustment of a piezoelectric oscillating body and hermetically sealed vessel for use in the practice of this methodInfo
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 29
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 21
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 16
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 230000009471 action Effects 0.000 claims description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 claims description 4
- 239000011888 foil Substances 0.000 claims description 4
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 3
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 claims description 3
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 claims description 3
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims description 2
- 238000001883 metal evaporation Methods 0.000 claims 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000010970 precious metal Substances 0.000 description 4
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 3
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 2
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 2
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 239000006187 pill Substances 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000009795 derivation Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 238000010849 ion bombardment Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 229910052756 noble gas Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 1
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H3/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators
- H03H3/007—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators for the manufacture of electromechanical resonators or networks
- H03H3/02—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators for the manufacture of electromechanical resonators or networks for the manufacture of piezoelectric or electrostrictive resonators or networks
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Description
BUNDESREPUBLIK DEUTSCHLANDFEDERAL REPUBLIC OF GERMANY
DEUTSCHESGERMAN
PATENTAMTPATENT OFFICE
AUSLEGESCHRIFTEDITORIAL
Internat. Kl.: H 03 h;Boarding school Kl .: H 03 h;
H 03 j
Deutsche Kl.: 21a4-10H 03 j
German class: 21a4-10
Nummer: 1166 843Number: 1166 843
Aktenzeichen: T 20579 IX d / 21 a4File number: T 20579 IX d / 21 a4
Anmeldetag: 10. August 1961Filing date: August 10, 1961
Auslegetag: 2. April 1964Opening day: April 2, 1964
Verfahren zum Frequenzabgleich eines piezoelektrischen Schwingkörpers und hermetisch abgeschlossenes Gefäß zur Anwendung bei der Ausübung dieses VerfahrensMethod for frequency adjustment of a piezoelectric vibrating body and hermetically closed vessel for use in performing this procedure
Anmelder:
TelefunkenApplicant:
Telefunken
Patentverwertungsgesellschaft m. b. H., Ulm/Donau, Elisabethenstr. 3Patent collecting society m. B. H., Ulm / Danube, Elisabethenstr. 3
Als Erfinder benannt:
Dr. Hans Awender,
Erhard Becker, BerlinNamed as inventor:
Dr. Hans Awender,
Erhard Becker, Berlin
In der Hochfrequenznachrichtentechnik werden bekanntlich piezoelektrische Schwingkörper als Frequenz-Normalien sehr hoher Güte benutzt. Die Abgleichgenauigkeit für die Eigenfrequenz piezoelektrischer Resonatoren, besonders von Schwingquarzen, beträgt ohne Berücksichtigung des Temperatureinflusses, also bei konstanter Temperatur, zur Zeit in der Massenfertigung maximal ±1·10~5. In der Hochfrequenznachrichtentechnik werden jedoch für diese Verwendungszwecke bereits höhere Abgleich- ίο genauigkeiten von ± 1 bis 2· 10~6 gefordert.As is known, piezoelectric vibrating bodies are used as frequency standards of very high quality in high-frequency communications technology. The adjustment accuracy for the natural frequency of piezoelectric resonators, particularly quartz oscillators, is without taking into account the influence of temperature, so at constant temperature, the time in mass production than ± 1 × 10 ~. 5 In high-frequency communications technology, however, higher calibration ίο accuracies of ± 1 to 2 · 10 ~ 6 are required for these purposes.
Eine Schwierigkeit, piezoelektrische Resonatoren und besonders Schwingquarze genau abzugleichen, besteht darin, daß die Eigenfrequenz des Resonators durch Manipulationen an seinem Halter in derOne difficulty in precisely calibrating piezoelectric resonators and especially quartz oscillators, is that the natural frequency of the resonator by manipulation of its holder in the
Schlußphase der Fabrikation, also bei besonders Final phase of manufacture, so with especially
hochwertigen Resonatoren beispielsweise durch den 2high-quality resonators, for example through the 2nd
Verschluß des den Resonator enthaltenden Gefäßes,Closure of the vessel containing the resonator,
in wesentlichem Maße beeinflußt wird. Eine weitere oder von dieser entfernt, wodurch eine Abnahme
Frequenzänderung vollzieht sich in den ersten Tagen 20 bzw. Zunahme der Frequenz des piezoelektrischen
bzw. Wochen nach der Fertigstellung eines derartigen Resonators eintritt. Das den Resonator enthaltende
Resonators infolge eines Alterungsprozesses. In Gefäß wird anschließend evakuiert und der Pumpdieser
Zeit treten gewisse Entspannungsvorgänge der stutzen abgeschmolzen. Eine dadurch wieder eintre-Halterung,
Umkristallisation im Elektrodenmaterial tende Frequenzänderung des Resonators kann dann
und ähnliche Veränderungen ein, die ebenfalls zu 25 allerdings nicht mehr korrigiert werden,
einer Änderung der einmal durch den Abgleich her- Bei einem anderen, ähnlichen Verfahren soll dasis influenced to a significant extent. A further or removed from this, whereby a decrease in frequency change takes place in the first days 20 or an increase in the frequency of the piezoelectric or weeks after the completion of such a resonator occurs. The resonator containing the resonator as a result of an aging process. The vessel is then evacuated and the pump, during this time, certain relaxation processes occur, the nozzle is melted off. A frequency change of the resonator that results in recrystallization in the electrode material can then occur and similar changes, which are also no longer corrected, however,
a change of the once through the comparison
gestellten Eigenfrequenz führen. Beide erwähnten Niederschlagen oder Abtragen von Edelmetall mittels
Einflüsse können relative Frequenzänderungen von einer Glimmentladung in dem Gefäß des Schwingmehreren
10~5 verursachen. quarzes nach dem endgültigen hermetischen Ver-Unter
diesen Umständen besteht ein Bedürfnis 30 schließen dieses Gefäßes vorgenommen werden,
nach einem Abgleichverfahren, welches es erlaubt,
einen bereits in der verschlossenen, vorzugsweise mit
einem Gas unter geringerem Druck als Atmosphärendrack gefüllten Hülle befindlichen piezoelektrischen
Resonator nach einiger Zeit ruhigen Ablagerns einem 35
nochmaligen Feinabgleich zu unterziehen, ohne daß
dadurch gleichzeitig wieder neue Alterungsprozesse
in Gang gesetzt werden.performed natural frequency. Both mentioned deposition or removal of precious metals by means influences can cause relative frequency changes from a glow discharge in the vessel of the vibrating Several ~ 10. 5 quartz after the final hermetic ver- Under these circumstances there is a need to close this vessel, for an adjustment process which allows,
one already in the locked, preferably with
a piezoelectric envelope filled with a gas at a lower pressure than the atmospheric rack
Resonator after some time of quiet deposition a 35
to subject it to fine adjustment again without
thereby at the same time new aging processes
be set in motion.
Es sind bereits Verfahren bekannt, um Schwing-There are already methods known to vibrate
so daß auch die beim Abschmelzen und Verschließen eintretenden Frequenzänderungen ausgeglichen werden können (USA.-Patentschrift 505 370).so that the frequency changes occurring during melting and sealing are also compensated (U.S. Patent 505,370).
Ein Nachteil dieses Verfahrens besteht darin, daß die für die Glimmentladung erforderliche Gasfüllung niederen Druckes in dem Gefäß bleibt, was der Forderung nach einem Hochvakuum zur Erreichung hoher Güte der Resonatoren entgegensteht. HinzuA disadvantage of this method is that the gas filling required for the glow discharge low pressure remains in the vessel, which requires a high vacuum to be achieved the high quality of the resonators. In addition
quarze nach dem Einbau in das später zu evakuie- 40 kommt, daß Ströme ausreichender Stärke, wie sie errende Gefäß einem Feinabgleich zu unterziehen. forderlich sind, um den Materialtransport in einer Nach einem dieser Verfahren wird durch den Pump- nicht zu langen Zeit bewirken zu können, bei niedstutzen in das Gefäß ein Edelgas eingeführt und ein rigerem Innendruck höhere Spannungen erfordern. Druck von einigen Millimetern Quecksilbersäule Außer den Zuführungsleitungen für die Elektroden darin aufrechterhalten. Zwischen einer in dem Gefäß 45 des piezoelektrischen Körpers ist also wenigstens eine befindlichen Elektrode aus Edelmetall und einer der hinreichend spannungsfeste Durchführung für die zuElektroden des piezoelektrischen Körpers wird eine sätzliche Edelmetallelektrode bei allen mit Glimm-Spannung von einigen Kilovolt angelegt und eine enüadungen arbeitenden Verfahren erforderlich, was Glimmentladung bewirkt. Durch die eintretende einen unerwünschten, bei jedem einzelnen abzu-Kathodenzerstäubung wird — je nach der Polung 50 gleichenden Schwingkörper auftretenden Aufwand der Spannung — entweder Edelmetall auf der Elek- verursacht. Außerdem dauert ein Abgleichvorgang trode des piezoelektrischen Körpers niedergeschlagen mit diesen Verfahren zu lange.quartz crystals after installation in the later to be evacuated, that currents of sufficient strength as they errende Fine-tune the vessel. are necessary in order to transport the material in a After one of these methods, the pumping does not cause too long a time to be able to cut down on A noble gas is introduced into the vessel and a riger internal pressure requires higher voltages. Pressure of a few millimeters of mercury. Except for the supply lines for the electrodes maintained in it. There is thus at least one between one in the vessel 45 of the piezoelectric body located electrode made of noble metal and one of the sufficiently voltage-resistant bushings for the electrodes of the piezoelectric body becomes an additional noble metal electrode for all with glow voltage of a few kilovolts applied and a charging procedure required what Causes glow discharge. Due to the ingress of an undesirable cathode sputtering with every single one - depending on the polarity 50 equal oscillating body occurring effort the tension - either precious metal on the elec- caused. In addition, a comparison process takes time trode of the piezoelectric body knocked down with this procedure for too long.
409 557/343409 557/343
Wenn mittels einer Glimmentladung Material von einer Elektrode des piezoelektrischen Körpers nach einem der bekannten Verfahren abgetragen werden soll, wird diese Elektrode als Kathode der Entladungsstrecke benutzt. Dies hat die unerwünschte Folge, daß der piezoelektrische Körper durch Ionenbombardement stark erwärmt wird, so daß ein Abgleich auf die bei seiner gewöhnlichen Gebrauchstemperatur gewünschte Eigenfrequenz kaum möglich ist. In diesem Zusammenhang ist auch auf die Möglichkeit hingewiesen worden, innerhalb der hermetisch verschlossenen Hülle des fertigen piezoelektrischen Bauelementes einen Glühdraht als Träger einer zu verdampfenden Pille aus Edelmetall anzubringen. Durch Heizung des Glühdrahtes mit einem starken Strom kann das Edelmetall verdampft und aus der Dampfphase teilweise auf der Elektrodenfläche niedergeschlagen werden. Diese Abwandlung des Verfahrens hat vor der Anwendung der Glimmentladung den Vorzug, daß Hochvakuum angewendet werden kann, daß der Abgleich schneller vor sich geht und daß die Erwärmung des piezoelektrischen Körpers geringer ist. Nachteilig ist aber, daß zwei dicke Durchführungsdrähte für den starken Heizstrom sowie ein Glühdraht mit einer Edelmetallpille und eine Maske zur Begrenzung der bedampften Elektrodenfläche für jedes einzelne Bauelement aufgewendet werden müssen.If by means of a glow discharge material from an electrode of the piezoelectric body after If one of the known methods is to be removed, this electrode is used as the cathode of the discharge path used. This has the undesirable consequence that the piezoelectric body by ion bombardment is strongly heated, so that an adjustment to the natural frequency desired at its normal usage temperature is hardly possible is. In this context, attention has also been drawn to the possibility of being hermetically sealed within the closed shell of the finished piezoelectric component a filament as a carrier to attach a pill to be vaporized made of precious metal. By heating the filament with a strong current can evaporate the noble metal and partially out of the vapor phase on the electrode surface get knocked down. This modification of the process precedes the use of the glow discharge the advantage that a high vacuum can be used that the adjustment is faster goes and that the heating of the piezoelectric body is less. The disadvantage is that two thick lead-through wires for the strong heating current as well as a glow wire with a precious metal pill and a mask is used to limit the vapor-deposited electrode area for each individual component Need to become.
Infolgedessen ist auch dieses Verfahren für die wirtschaftlich günstige Massenherstellung ungeeignet; außerdem läßt es keine Umkehrung der Abgleichrichtung zu.As a result, this method is also unsuitable for economically favorable mass production; in addition, it does not allow the direction of adjustment to be reversed.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren zum Frequenzabgleich eines piezoelektrischen Schwingkörpers anzugeben, bei welchem nachträgliche Frequenzänderungen durch das Verschließen und gegebenenfalls durch das Evakuieren des Gefäßes oder seiner Füllung mit einem Schutzgas vermieden werden, bei welchem weder eine hochspannungsfeste Durchführung für eine zusätzliche Elektrode noch dicke Durchführungsdrähte für einen Glühdraht noch sonst irgendwelche zusätzliche Anschlußdrähte für Stromzuleitungen erforderlich sind. Das Verfahren soll außerdem die Anwendung eines Hochvakuums gestatten und in beiden Abgleichrichtungen — zur Frequenzerhöhung und Frequenzerniedrigung — anwendbar sein.The invention is based on the object of a method for frequency adjustment of a piezoelectric Specify the vibrating body at which subsequent frequency changes due to the closure and, if necessary, by evacuating the vessel or its filling with a protective gas can be avoided in which neither a high-voltage-resistant implementation for an additional Electrode, thick lead-through wires for a filament or any other additional connecting wires are required for power supply lines. The procedure also seeks to apply a Allow high vacuum and in both alignment directions - to increase and decrease frequency - be applicable.
Die Aufgabe wird dadurch gelöst, daß erfindungsgemäß nach dem Fertigverschließen und gegebenenfalls nach dem Evakuieren oder Füllen mit einem Schutzgas die Gefäßwand durchdringende Strahlungsenergie mit einer zur Metallverdampfung ausreichenden Stärke auf ein in der Nähe einer Fläche des piezoelektrischen Resonators angeordnetes Stück Metall oder auf den Metallüberzug einer Fläche des piezoelektrischen Körpers selbst gerichtet und vorzugsweise auf diesen in einem Brennfleck vereinigt wird.The object is achieved in that, according to the invention, after the final closure and optionally After evacuation or filling with a protective gas, radiation energy penetrating the vessel wall with sufficient strength to vaporize metal onto a near surface of the piezoelectric resonator arranged piece of metal or on the metal coating of a surface of the piezoelectric body itself and is preferably combined on this in a focal point.
Das Verfahren nach der Erfindung weist gegenüber allen sonstigen mit Glimmentladung oder Verdampfung arbeitenden Verfahren den großen Vorteil einer wesentlich gesteigerten Abgleichgeschwindigkeit auf, wobei keine merkliche Erwärmung des piezoelektrischen Körpers eintritt. Es kann auch beliebig oft in den beiden verschiedenen Wirkungsrichtungen hintereinander angewendet und im Bedarfsfall nach längerer Zeit wiederholt werden.The method according to the invention has, compared to all others, with glow discharge or evaporation working processes have the great advantage of a significantly increased synchronization speed on, with no noticeable heating of the piezoelectric body occurs. It can also be arbitrary often used in the two different directions of action one after the other and when necessary be repeated after a long time.
Zur Erzeugung eines Brennfleckes hinreichender Energiedichte wird vorzugsweise fokussierbare Strahlung, beispielsweise Lichtstrahlung, verwendet. Die Strahlung kann intermittierend, beispielsweise in Form periodischer Impulse, zur Wirkung gebracht werden. Als geeignete Strahlungsquelle hat sich eine Blitzlampe, vorzugsweise eine Glimmentladungslampe in Impulsbetrieb, in der Praxis bewährt. To generate a focal point with sufficient energy density, focusable radiation is preferably used, for example light radiation is used. The radiation can be intermittent, for example in Form of periodic impulses. A suitable radiation source has proven to be Flash lamp, preferably a glow discharge lamp in pulse operation, proven in practice.
Das Abgleichverfahren nach der Erfindung läßt sich in an sich bekannter Weise zu einem teilweise selbsttätig ablaufenden Vorgang gestalten, wenn der ίο piezoelektrische Körper während der Einwirkung der Strahlung oder nach den einzelnen Einwirkungsperioden zu Schwingungen erregt wird und die Verringerung der Frequenzdifferenz gegenüber einer Normalschwingung als Kriterium für die selbsttätige Ausschaltung der Strahlungseinwirkung dient.The adjustment method according to the invention can be partially used in a manner known per se design automatically running process if the ίο piezoelectric body during the action of the Radiation or after the individual periods of action is excited to vibrations and the reduction the frequency difference compared to a normal oscillation as a criterion for automatic switch-off the radiation exposure is used.
In der Zeichnung ist eine Anordnung dargestellt, die zur Durchführung des Verfahrens nach der Erfindung dient. Der Halter für den piezoelektrischen Resonator 3 besteht aus dem Fußteil 1, in welchem die Durchführungsdrähte 2 vakuumdicht eingelassen sind. Auf den großen Flächen des piezoelektrischen Resonators, im allgemeinen einer flachen Quarzscheibe, sind die Elektroden 4 als unmittelbar auf diesen Flächen haftende Beläge angebracht. Die Zuführungsdrähte 2 stehen mit je einer dieser Elektroden in leitender Verbindung und bilden gleichzeitig die Haltedrähte für den piezoelektrischen Körper.In the drawing, an arrangement is shown which is used to carry out the method according to the invention serves. The holder for the piezoelectric resonator 3 consists of the foot part 1 in which the lead-through wires 2 are embedded in a vacuum-tight manner. On the large areas of the piezoelectric Resonator, generally a flat quartz disc, the electrodes 4 are considered to be directly on Adhesive coverings attached to these surfaces. The lead wires 2 each have one of these electrodes in a conductive connection and at the same time form the retaining wires for the piezoelectric Body.
Mit dem Fußteil 1 des Halters ist die Hülse 6 vakuumdicht verbunden, so daß ein hermetisch abgeschlossenes Gefäß entsteht, in welchem sich der bereits einem Vorabgleich unterzogene Resonator befindet. Dieses Gefäß kann im Bedarfsfall evakuiert oder mit einem Schutzgas geeigneten Druckes gefüllt werden.With the foot part 1 of the holder, the sleeve 6 is vacuum-tight connected, so that a hermetically sealed vessel is created in which the a pre-adjusted resonator is located. This vessel can be evacuated if necessary or filled with a protective gas of suitable pressure.
Im Innenraum des Gefäßes befindet sich in derIn the interior of the vessel is located in the
Nähe einer der großen Flächen des Resonators 3 die aus Edelmetall, beispielsweise Silber, bestehende Folie 5. In dem dargestellten Ausführungsbeispiel ist sie an die Innenwand der Hülse 6 angeheftet.Close one of the large surfaces of the resonator 3 that is made of noble metal such as silver Foil 5. In the exemplary embodiment shown, it is attached to the inner wall of the sleeve 6.
Im linken Teil der Zeichnung ist eine Anordnung dargestellt, mit der die zum Verdampfen eines Teiles der Folie 5 dienende Strahlungsenergie erzeugt und auf der Folie 5 in einem Brennfleck vereinigt werden kann. Als Strahlungsquelle dient eine Hochspannungs-Glimmentladungslampe 7, die von einem Impulsgeber 10 her in kurzen, aber energiereichen Blitzen zum Aufleuchten gebracht wird. Der Impulsgeber 10 kann mit seinen Klemmen an ein Wechselstromnetz angeschlossen werden. Der von der Blitzlampe 7 nach allen Seiten ausgehende Lichtstrom wird durch das Zusammenwirken des Hohlspiegels 8 mit dem Kondensor 9 auf der Folie 5 in einem Brennfleck vereinigt. Dadurch kommt bei jedem Lichtimpuls eine bestimmte Menge des Metalls zur Verdampfung. Ein Teil der verdampften Metallmenge schlägt sich auf der benachbarten Elektrodenfläche des Resonators 3 nieder, so daß stufenweise die Eigenfrequenz des Resonators erniedrigt wird. Ist eine hinreichende Annäherung an die Sollfrequenz erzielt, so wird der Impulsgeber 10 ausgeschaltet.In the left part of the drawing, an arrangement is shown with which to evaporate a part the film 5 serving radiation energy generated and combined on the film 5 in a focal point can. A high-voltage glow discharge lamp 7, which is provided by a pulse generator, serves as the radiation source 10 is made to light up in short but high-energy flashes. The pulse generator 10 can can be connected to an alternating current network with its terminals. The one from the flash lamp 7 after Luminous flux emanating from all sides is generated by the interaction of the concave mirror 8 with the condenser 9 combined on the foil 5 in a focal point. As a result, there is one with every light pulse certain amount of metal for evaporation. Part of the amount of vaporized metal is knocked out on the adjacent electrode surface of the resonator 3 down, so that the natural frequency gradually of the resonator is lowered. If a sufficient approximation of the target frequency is achieved, the Pulse generator 10 switched off.
Im rechten Teil der Zeichnung ist der Halter für den piezoelektrischen Resonator in derjenigen Lage dargestellt, in welcher er sich in bezug auf die Strahlungsanordnung befinden muß, wenn Material von einer seiner Elektrodenflächen entfernt werden soll, wobei sich eine Erhöhung seiner Eigenfrequenz ergibt. Der Brennfleck wird dabei auf der Elektroden-In the right part of the drawing, the holder for the piezoelectric resonator is in that position shown in which he must be with respect to the radiation arrangement, if material is to be removed from one of its electrode surfaces, with an increase in its natural frequency results. The focal spot is placed on the electrode
fläche 4 des Resonators ausgebildet, so daß dort Material zum Verdampfen kommt, welches sich nur zum Teil wieder auf der gleichen Fläche, zu einem anderen Teil aber auf Teilen der Gefäßwand niederschlägt. surface 4 of the resonator formed so that there material comes to vaporize, which is only partly again on the same surface, but partly on parts of the vessel wall.
Es ist grundsätzlich nicht erforderlich, daß eine Strahlungsquelle im Impulsbetrieb vorausgesetzt wird. Zur Verdampfung des Metalls an der Stelle des Brennfleckes kann auch eine Strahlungsquelle mit kontinuierlicher Strahlung benutzt werden. Der Impulsgeber hat jedoch den Vorteil, daß die Auswirkung auf den Brennfleck beschränkt bleibt und keine nennenswerte Ableitung der Energie durch Wärmeleitung innerhalb der Folienschichten erfolgt. Der Impulsbetrieb erlaubt auch eine sehr feine schrittweise Annäherung an den Abgleichzustand.In principle, it is not necessary that a radiation source in pulsed mode is assumed. A radiation source can also be used to vaporize the metal at the location of the focal point continuous radiation can be used. However, the pulse generator has the advantage that the effect remains limited to the focal point and no significant derivation of the energy through Thermal conduction takes place within the film layers. The pulse operation also allows a very fine step-by-step approach to the matched state.
Im unteren Teil der Zeichnung sind in Blockform die Zusatzgeräte angedeutet, die dazu dienen sollen, beim Erreichen der Sollfrequenz die Wirkung der Strahlungsquelle 7 auszuschalten. Dazu dient die Generatorschaltung 11, in welcher der piezoelektrische Resonator 3 das frequenzbestimmende Element bildet. Die von dem Generator 11 gelieferte elektrische Schwingung weist also eine Frequenz auf, die der Eigenfrequenz dieses Resonators genügend genau entspricht. Die Frequenz wird mit der Ausgangsfrequenz des Normalfrequenzgenerators 12 in dem Modulator 13 gemischt. Die entsprechende Differenzfrequenz wird mit Hilfe eines in 13 befindlichen Frequenzdiskriminators geprüft; bei ihrer Annäherung an den Wert Null, d. h., bei praktischer Übereinstimmung der Frequenzen der Generatoren 11 und 12 wird durch eine auf den Impulsgeber 10 übertragene Steuergröße der letztere ausgeschaltet. Statt auf Frequenzgleichheit der Schwingungen der Generatoren 11 und 12 abzugleichen, kann auch auf eine endliche Differenz dieser beiden Frequenzen abgeglichen werden.In the lower part of the drawing, the additional devices are indicated in block form, which are intended to switch off the effect of the radiation source 7 when the setpoint frequency is reached. This is what the Generator circuit 11 in which the piezoelectric resonator 3 is the frequency-determining element forms. The electrical oscillation supplied by the generator 11 thus has a frequency which corresponds to the natural frequency of this resonator with sufficient accuracy. The frequency is equal to the output frequency of the normal frequency generator 12 is mixed in the modulator 13. The corresponding difference frequency is determined with the aid of one located in FIG Frequency discriminator checked; as they approach zero, d. i.e., at practical Correspondence of the frequencies of the generators 11 and 12 is determined by an on the pulse generator 10 transferred control variable of the latter switched off. Instead of the frequency equality of the vibrations Adjusting generators 11 and 12 can also be based on a finite difference between these two frequencies be matched.
Theoretische Überlegungen und praktische Erfahrungen haben gezeigt, daß die Energie bekannter Blitzgeräte für photographische Zwecke von etwa 60 bis 100 Ws pro Blitz durchaus für die Verdampfung kleiner Mengen von Silber, Gold oder Platin, die als Elektrodenbeläge piezoelektrischer Körper verwendet werden, ausreicht. Dabei ist günstig, daß bespielsweise der Reflektionskoeffizient von Silber im Bereich ultravioletter Strahlung nur noch 0,1 beträgt, während er bekanntlich im sichtbaren Bereich sehr hoch, nämlich gleich 0,98, ist. Ähnlich liegen auch die Verhältnisse bei Platin, bei welchem der Reflektionskoeffizient außerhalb des sichtbaren Bereiches ebenfalls abfällt.Theoretical considerations and practical experience have shown that the energy is more well known Flash units for photographic purposes from around 60 to 100 Ws per flash are quite suitable for evaporation small amounts of silver, gold or platinum that are used as electrode coverings on piezoelectric bodies will be sufficient. It is favorable that, for example, the reflection coefficient of silver in the range ultraviolet radiation is only 0.1, while it is known to be very high in the visible range, namely equal to 0.98. The situation is similar with platinum, where the reflection coefficient is falls outside the visible area as well.
Die Erfindung ist keineswegs auf die Verwendung von Licht als Strahlungsenergie beschränkt. Die Verwirklichung ist auch mit Hilfe der Fokussierung von Elektronenstrahlen möglich, welche durch die Glaswand oder Metallwand des Gefäßes auf die Metallfolien bzw. die Metallelektrode des Resonators gerichtet werden.The invention is in no way restricted to the use of light as radiant energy. The realization is also possible with the help of the focusing of electron beams, which through the glass wall or the metal wall of the vessel directed at the metal foils or the metal electrode of the resonator will.
Während bei der Verwendung von Lichtstrahlung ein ohne wesentliche Verluste durchstrahlbares Material für die Gefäßwand, im allgemeinen Glas, verwendet werden muß, ist diese Beschränkung bei der Anwendung eines Elektronenstrahles, der auch dünne Metallwände durchdringt, nicht erforderlich.Whereas if light radiation is used, one that can be radiated through without significant losses Material for the vessel wall, generally glass, has to be used, this limitation applies the use of an electron beam that penetrates thin metal walls is not required.
Die Erfindung richtet sich auch auf ein Gefäß für einen piezoelektrischen Körper mit durchstrahlbarer Wand zur Ausübung des angegebenen Verfahrens, welches in seinem Innenraum in der Nähe einer der Flächen des piezoelektrischen Körpers ein mit dem Körper nicht in Berührung stehendes Stück Metall, vorzugsweise Edelmetall, in Form einer Folie enthält. Diese Folie kann vorzugsweise an der inneren Oberfläche der Gefäßwand befestigt sein. Da sie keine elektrischen Aufgaben zu erfüllen hat, ist es nicht erforderlich, diese Folie mit einer die Gefäßwand durchdringenden Zuführung zu versehen.The invention is also directed to a vessel for a piezoelectric body with a radiator Wall for performing the specified procedure, which is located in its interior near one of the Surfaces of the piezoelectric body a piece of metal not in contact with the body, preferably noble metal, in the form of a foil. This film can preferably be on the inner Be attached to the surface of the vessel wall. Since they don't Has to perform electrical tasks, it is not necessary for this film to be attached to the vessel wall to provide penetrating feed.
Claims (6)
Deutsche Patentschrift Nr. 872966;
USA.-Patentschriften Nr. 2 505 370, 2 765 765,
816 239.Considered publications:
German Patent No. 872966;
U.S. Patents Nos. 2,505,370, 2,765,765,
816 239.
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DET20579A DE1166843B (en) | 1961-08-10 | 1961-08-10 | Method for frequency adjustment of a piezoelectric oscillating body and hermetically sealed vessel for use in the practice of this method |
| FR903004A FR1327673A (en) | 1961-08-10 | 1962-07-05 | Method for tuning the frequency of a piezoelectric oscillating body, and container holding a vacuum for carrying out this method |
| GB2985062A GB971571A (en) | 1961-08-10 | 1962-08-03 | Improvements in or relating to the manufacture of piezo-electric resonators |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DET20579A DE1166843B (en) | 1961-08-10 | 1961-08-10 | Method for frequency adjustment of a piezoelectric oscillating body and hermetically sealed vessel for use in the practice of this method |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE1166843B true DE1166843B (en) | 1964-04-02 |
Family
ID=7549766
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DET20579A Pending DE1166843B (en) | 1961-08-10 | 1961-08-10 | Method for frequency adjustment of a piezoelectric oscillating body and hermetically sealed vessel for use in the practice of this method |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| DE (1) | DE1166843B (en) |
| GB (1) | GB971571A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5587620A (en) * | 1993-12-21 | 1996-12-24 | Hewlett-Packard Company | Tunable thin film acoustic resonators and method for making the same |
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| US5138214A (en) * | 1989-12-27 | 1992-08-11 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Piezoelectric transducer and method of adjusting oscillation frequency thereof |
| FR2857785B1 (en) * | 2003-07-17 | 2005-10-21 | Commissariat Energie Atomique | ACOUSTIC VOLUME RESONATOR WITH ADJUSTED RESONANCE FREQUENCY AND METHOD OF MAKING SAME |
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- 1961-08-10 DE DET20579A patent/DE1166843B/en active Pending
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| GB971571A (en) | 1964-09-30 |
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