DE10343333A1 - Illumination system for microlithography projection exposure system, has mirror arrangement with array of individual mirrors that is controlled individually by changing angular distribution of light incident on mirror arrangement - Google Patents

Illumination system for microlithography projection exposure system, has mirror arrangement with array of individual mirrors that is controlled individually by changing angular distribution of light incident on mirror arrangement

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DE10343333A1
DE10343333A1 DE2003143333 DE10343333A DE10343333A1 DE 10343333 A1 DE10343333 A1 DE 10343333A1 DE 2003143333 DE2003143333 DE 2003143333 DE 10343333 A DE10343333 A DE 10343333A DE 10343333 A1 DE10343333 A1 DE 10343333A1
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light
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lighting system
mirror
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DE2003143333
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Markus Brotsack
Jess Dr. Köhler
Wolfgang Dr. Singer
Johannes Wangler
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Carl Zeiss SMT GmbH
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    • G03F7/702Reflective illumination, i.e. reflective optical elements other than folding mirrors

Abstract

A light distribution device (25) receives light from a primary light source (11) e.g. laser and produces two-dimensional intensity distribution which is set variably in pupil-shaped surface (31). The mirror arrangement (20) has array of individual mirrors (21) that is controlled individually by changing the angular distribution of light incident on mirror arrangement. An independent claim is also included for method of producing semiconductor components.

Description

  • Die Erfindung bezieht sich auf ein Beleuchtungssystem für eine Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage zur Beleuchtung eines Beleuchtungsfeldes mit dem Licht einer primären Lichtquelle. The invention relates to an illumination system for a microlithography projection exposure apparatus for illuminating an illumination field with the light from a primary light source.
  • Die Leistungsfähigkeit von Projektionsbelichtungsanlagen für die mikrolithographische Herstellung von Halbleiterbauelementen und anderen fein strukturierten Bauteilen wird wesentlich durch die Abbildungseigenschaften der Projektionsobjektive bestimmt. The performance of projection exposure apparatuses for the microlithographic fabrication of semiconductor components and other finely structured components is essentially determined by the imaging properties of projection lenses. Darüber hinaus werden die Bildqualität und der mit der Anlage erzielbare Wafer-Durchsatz wesentlich durch Eigenschaften des dem Projektionsobjektiv vorgeschalteten Beleuchtungssystems mitbestimmt. Moreover, the image quality and the achievable with the system wafer throughput be greatly influenced by properties of the projection objective upstream the illumination system. Dieses muss in der Lage sein, das Licht einer primären Lichtquelle, beispielsweise eines Lasers, mit möglichst hohem Wirkungsgrad zu präparieren und dabei in einem Beleuchtungsfeld des Beleuchtungssystems eine möglichst gleichmäßige Intensitätsverteilung zu erzeugen. This must be able to prepare the light from a primary light source such as a laser with the highest possible efficiency and thereby produce an optimally uniform intensity distribution in an illumination field of the illumination system. Zudem soll es möglich sein, am Beleuchtungssystem verschiedene Beleuchtungsmodi einzu stellen, um beispielsweise die Beleuchtung entsprechend der Strukturen der einzelnen abzubildenden Vorlagen (Masken, Retikel) zu optimieren. In addition, it should be possible to provide different illumination einzu the lighting system in order to optimize for example the lighting according to the structures of the individual imaged templates (masks, reticles). Üblich sind Einstellmöglichkeiten zwischen unterschiedlichen konventionellen Settings mit verschiedenen Kohärenzgraden sowie Ringfeldbeleuchtung und Dipol- oder Quadrupolbeleuchtung. Common settings are between different conventional settings with different degrees of coherence and ring field illumination and dipole or quadrupole illumination. Die nichtkonventionellen Beleuchtungssettings zur Erzeugung einer außeraxialen, schiefen Beleuchtung können unter anderem der Erhöhung der Tiefenschärfe durch Zweistrahlinterferenz sowie der Erhöhung des Auflösungsvermögens dienen. The non-conventional illumination settings for generating an off-axis, oblique illumination can be used, among other things to increase the depth of field by two-beam interference and the increase of the resolving power.
  • Die The EP 0 747 772 EP 0747772 beschreibt ein Beleuchtungssystem mit einem Zoom-Axicon-Objektiv, in dessen Objektebene ein erstes diffraktives Rasterelement mit zweidimensionaler Rasterstruktur angeordnet ist. describes an illumination system with a zoom-axicon lens, a first diffractive grating element with two-dimensional grid structure is disposed in the object plane. Dieses Rasterelement dient dazu, den Lichtleitwert der auftreffenden Laserstrahlung leicht zu erhöhen und die Form der Lichtverteilung so zu verändern, dass sich beispielsweise eine angenäherte Kreisverteilung, Ringverteilung oder Quadrupolverteilung ergibt. This grid element is used to slightly increase the etendue of the incident laser radiation, and to change the shape of the light distribution so that, for example, an approximate circular distribution, or quadrupole distribution ring results. Zum Wechsel zwischen diesen Beleuchtungsmodi werden erste Rasterelemente ausgetauscht. To switch between these illumination modes first raster elements are replaced. Ein zweites Rasterelement, welches sich in der Austrittspupille des Objektivs befindet, wird mit der entsprechenden Lichtverteilung ausgeleuchtet und formt eine rechteckige Lichtverteilung, deren Form der Eintrittsfläche eines nachfolgenden stabförmigen Lichtmischelements entspricht. A second scanning element, which is located in the exit pupil of the objective is illuminated by the respective light distribution and forms a rectangular light distribution, the shape of which corresponds to the entrance surface of a following rod-shaped light mixing element. Durch Verstellung des Zoom-Axicons lassen sich die Annularität der Beleuchtung und die Größe des ausgeleuchteten Bereiches verstellen. By adjusting the zoom axicon the Annularität the lighting and the size of the illuminated area can be adjusted.
  • Die The EP 1 109 067 EP 1109067 (entsprechend (corresponding US 2001001247 US 2001001247 ) beschreibt ein Beleuchtungssystem, bei dem eine Wechseleinrichtung zur wahlweisen Einwechslung unterschiedlicher diffraktiver optischer Elemente in den Lichtweg des Beleuchtungssystems vorgesehen ist. ) Describes a lighting system in which an alternating means for selectively Substitutes different diffractive optical elements is provided in the light path of the illumination system. Durch Auswechslung der diffraktiven optischen Elemente können verschiedene Beleuch tungsmodi eingestellt werden. By exchanging the diffractive optical elements different BL LEVEL can be set tungsmodi. Das System kommt ohne Zoom-Axicon-Modul aus. The system does not need a zoom axicon module.
  • Andere bekannte Möglichkeiten zur Erzeugung außeraxialer Beleuchtungen sind beispielsweise in den Patenten Other known ways of generating off-axis illumination are described in the patents US 5,638,211 US 5,638,211 , . EP 500 393 B1 EP 500 393 B1 (entsprechend (corresponding US 5,305,054 US 5,305,054 ) ) US 6,252,647 US 6,252,647 oder or US 6,211,944 US 6,211,944 gezeigt. shown.
  • Bei den Beleuchtungssystemen, die zur Einstellung unterschiedlicher Beleuchtungsmodi mit auswechselbaren optischen Elementen (zB diffraktiven optischen Elementen oder Raumfiltern) arbeiten, ist die Anzahl unterschiedlicher Beleuchtungssettings durch die Anzahl der unterschiedlichen einwechselbaren Elemente begrenzt. In the lighting systems that work for setting different illumination modes with interchangeable optical elements (for example, diffractive optical elements or room filters), the number of different illumination settings is limited by the number of different exchangeable elements. Entsprechende Wechselvorrichtungen können konstruktiv aufwendig sein. Appropriate changing devices may be structurally complex.
  • Aus der From the DE 199 44 760 A1 DE 199 44 760 A1 ist eine Belichtungseinrichtung für Druckplatten bekannt, die eine Modulation der Belichtungsintensität beim Integrated-Digital-Screen-Imaging-Verfahren (IDSI) erlaubt. is known an exposure apparatus for printing plates which allows a modulation of the exposure intensity at the Integrated Digital screen imaging method (IDSI). Dabei trifft das Licht einer Lichtquelle auf einen digitalen Lichtmodulator mit einem zweidimensionalen Feld von Zellen, die über eine Computersteuerung aktiviert bzw. deaktiviert werden können, um ein bestimmtes Muster auf ein lichtempfindliches Substrat zu lenken, welches relativ zum Lichtmodulator bewegt wird. In this case, the light from a light source impinges on a digital light modulator having a two dimensional array of cells that can be activated via a computer control or disable to draw a predetermined pattern onto a photosensitive substrate which is moved relative to the light modulator. Bei einer Ausführungsform besteht der Lichtmodulator aus einer Mikrospiegelanordnung (Digital-Mirror-Device, DMD) mit einer Vielzahl von individuell ansteuerbaren Einzelspiegeln. In one embodiment, the light modulator of a micro-mirror arrangement (digital mirror device, DMD) having a plurality of individually controllable individual mirrors. Beim Drucken werden diejenigen Spiegel, die nicht für die Belichtung des lichtempfindlichen Materials genutzt werden, derart gekippt, dass sie den auf sie fallenden Lichtstrahl vom lichtempfindlichen Material weglenken. When printing those levels that are not used for the exposure of the photosensitive material are tilted so that they weglenken falling on them light beam from the light-sensitive material. Durch die Steuerung wird somit die Anzahl der für die Belichtung genutzten Einzelspiegel verändert. By controlling the number of mirrors used for exposure thus is changed. Ein ähnliches System ist aus der WO 00/36470 bekannt. A similar system is known from WO 00/36470.
  • Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Beleuchtungssystem für eine Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage bereitzustellen, das bei einfacher Konstruktion eine große Variabilität bei der Einstellung unterschiedlicher Beleuchtungsmodi ermöglicht. the object of the invention seeks to provide an illumination system for a microlithography projection exposure system which allows a simple construction a large variability in the setting of different lighting.
  • Zur Lösung dieser Aufgabe stellt die Erfindung ein Beleuchtungssystem mit den Merkmalen von Anspruch 1 bereit. To achieve this object, the invention provides an illumination system having the features of claim. 1 Vorteilhafte Weiterbildungen sind in den abhängigen Ansprüchen angegeben. Advantageous further developments are specified in the dependent claims. Der Wortlaut sämtlicher Ansprüche wird durch Bezugnahme zum Inhalt der Beschreibung gemacht. The wording of all claims is incorporated by reference into the description.
  • Ein erfindungsgemäßes Beleuchtungssystem hat eine optische Achse und eine Lichtverteilungseinrichtung zum Empfang von Licht einer primären Lichtquelle und zur Erzeugung einer variabel einstellbaren, zweidimensionalen räumlichen Intensitätsverteilung in einer Pupillenformungsfläche des Beleuchtungssystems. An inventive illumination system has an adjustable optical axis and a light distribution device for receiving light from a primary light source and for generating variable, two-dimensional spatial intensity distribution in a pupil shaping surface of the illumination system. Die Lichtverteilungseinrichtung hat mindestens eine Lichtmodulationseinrichtung zur steuerbaren Veränderung der Winkelverteilung der auf die Lichtmodulationseinrichtung auftreffenden Strahlung. The light distribution device has at least one light modulation device for controllably varying the angular distribution of the incident on the light modulating means radiation. Die Lichtmodulationseinrichtung kann ein Feld (Array) von individuell ansteuerbaren Einzelelementen umfassen, die jeweils am Ort ihrer Einbauposition eine gezielte Winkelveränderung der Strahlung bewirken können. The light modulation means may comprise a field (array) of individual individually controllable elements that can produce a selective angular displacement of the radiation in each case at the location of their installation position. Die Lichtmodulationseinrichtung wird auch als Ortsvariante Lichtmodulationseinrichtung bezeichnet, da das Ausmaß der Winkelveränderung ortsabhängig einstellbar ist. The light modulator device is also called a local variant light modulator device, since the amount of angular change is location-dependent adjustable. Vorzugsweise ist das Feld zweidimensional, zB mit mehreren Reihen und Spalten von Einzelelementen. Preferably, the array is two-dimensional, for example with a plurality of rows and columns of individual elements. Dabei erfolgt die Ansteuerung der Einzelelemente vorzugsweise derart, dass bei allen eingestellten Beleuchtungsmodi die gesamte, auf die Einzelelemente der Lichtmodulationseinrichtung auftreffende Lichtintensität in den nutzbaren Bereich der Pupillenformungsfläche gelenkt wird und somit zur Beleuchtung des Beleuchtungsfeldes beitragen kann. In this case, the actuation of the individual elements is preferably such that in all lighting modes set the entire incident on the individual elements of the light modulation means intensity of light is directed into the usable area of ​​the pupil shaping surface and thus may contribute to the illumination of the illumination field. Durch die Lichtmodulationseinrichtung kann somit eine ortsabhängige Umverteilung der Lichtintensität bewirkt werden, ohne dass auftreffendes Licht „verworfen" wird. Damit ist eine prinzipiell weitgehend verlustfreie, variable Einstellung unterschiedlicher Beleuchtungsmodi möglich. By the light modulation device thus a location-dependent redistribution of the light intensity can be effected, "rejected" without incident light is. Thus, a principle largely lossless, variable adjustment of different illumination modes is possible.
  • Durch die erfindungsgemäße Möglichkeit, kleine Ausschnitte des auf die Lichtmodulationseinrichtung fallenden Lichtes gezielt in vorbestimmbare Bereiche der Pupillenformungsfläche umzulenken, können in der Pupillenformungsfläche fast beliebige Beleuchtungsintensitätsverteilungen eingestellt werden. redirect targeted in pre-definable areas of the pupil shaping surface by the inventive way to small sections of light incident on the light modulator device light, almost any illumination intensity distributions can be set in the pupil shaping surface. Dazu gehören beispielsweise bei den konventionellen Beleuchtungssettings runde, um die optische Achse zentrierte Beleuchtungsflecke unterschiedlicher Durchmesser und bei den nichtkonventionellen, außeraxialen Beleuchtungsarten die Ringbeleuchtung (oder annulare Beleuchtung) sowie polare Intensitätsverteilungen, beispielsweise Dipolbeleuchtung oder Quadrupolbeleuchtung. These include, for example, in the conventional illumination settings round to the optical axis centered illumination spots of different diameters and for the non-conventional, off-axis illumination modes, the ring illumination (or annular illumination), as well as polar intensity distributions, for example, dipole illumination or quadrupole illumination. Mit erfindungsgemäßen Beleuchtungssystemen sind jedoch auch hiervon abweichende Intensitätsverteilungen möglich, zB Multipolbeleuchtung mit mehr als vier Polen, zB Hexapolbeleuchtung. With inventive lighting systems, however, deviating intensity distributions are also possible, for example, multipole with more than four poles, for example Hexapolbeleuchtung. Die Beleuchtungsverteilungen müssen gegebenenfalls keine Symmetrie in Bezug auf die optische Achse aufweisen. The illumination distributions may need to have no symmetry with respect to the optical axis.
  • Die Pupillenformungsfläche des Beleuchtungssystems, in welcher die gewünschte Intensitätsverteilung vorliegen soll, kann bei einem in eine Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage eingebauten Beleuchtungssystem an oder nahe einer Position sitzen, die optisch konjugiert zu einer Pupillenebene eines nachfolgenden Projektionsobjektivs ist. The pupil shaping surface of the illumination system in which the desired intensity distribution to be present, can sit with a built in a microlithography projection exposure apparatus illumination system at or near a position which is optically conjugate with a pupil plane of a downstream projection objective. Im Allgemeinen kann die Pupillenformungsfläche einer Pupillenfläche des Beleuchtungssystems entsprechen oder in deren Nähe liegen. In general, the pupil forming area may correspond to a pupil surface of the illumination system or are close to them. Sofern die zwischenliegenden optischen Komponenten winkelerhaltend arbeiten, wird somit die räumliche Lichtverteilung in der Pupille des Projektionsobjektivs durch die räumliche Lichtverteilung (Ortsverteilung) in der Pupillenformungsfläche des Beleuchtungssystems bestimmt. Provided that the intervening optical components operate angle preserving, thus, the spatial light distribution in the pupil of the projection lens by the spatial light distribution (spatial distribution) in the pupil shaping surface of the illumination system is determined. Umfasst das Beleuchtungssystem zB einen Wabenkondensor als Lichtmischele ment (Lichtintegrator), so kann die Pupillenformungsfläche in der Nähe von dessen Eintrittsseite liegen oder mit dieser zusammenfallen. Includes the lighting system such as a honeycomb condenser as Lichtmischele ment (light integrator), the pupil shaping surface may be in the vicinity of the inlet side or coincide with this. Bei Systemen, die einen oder mehrere, mit innerer Reflexion arbeitende, stabförmige Lichtintegratoren umfassen, kann die Pupillenformungsfläche eine zur Eintrittsfläche des Lichtintegrators Fourier-transformierte Ebene sein oder in deren Nähe liegen. In systems which comprise one or more, operating with internal reflection, rod-shaped light integrators, the pupil shaping surface may be a to the entrance surface of the optical integrator Fourier-transformed plane or lie in the vicinity thereof. Es sind auch Systeme möglich, bei denen keines der genannten, klassischen Lichtmischelemente vorhanden ist. There are also possible systems in which none of these classic light mixing elements is present. Hier kann eine Homogenisierung der Intensitätsverteilung gegebenenfalls durch geeignete Überlagerung von Teilstrahlen mittels Prismen oder dergleichen erfolgen. Here, a homogenization of the intensity distribution can be carried out optionally by suitable superposition of partial beams by means of prisms or the like.
  • Die Begriffe „Strahlung" und „Licht" im Sinne dieser Anmeldung sind weit zu interpretieren und sollen insbesondere elektromagnetische Strahlung aus dem Ultraviolettbereich umfassen, beispielsweise bei Wellenlängen von ca. 365 nm, 248 nm, 193 nm, 157 nm oder 126 nm. Ebenfalls umfasst ist elektromagnetische Strahlung aus dem extremen Ultraviolettbereich (EUV), beispielsweise weiche Röntgenstrahlung mit Wellenlängen von unterhalb 20 nm. The terms "radiation" and "light" in the context of this application should be interpreted widely and are in particular electromagnetic radiation from the ultraviolet region include, for example, at wavelengths of about 365 nm, 248 nm, 193 nm, 157 nm or 126 nm. Also included is electromagnetic radiation from the extreme ultraviolet (EUV) range, for example, soft X-rays with wavelengths below 20 nm.
  • Bei einer Weiterbildung ist die Lichtmodulationseinrichtung als Spiegelanordnung mit einem Feld von individuell steuerbaren Einzelspiegeln zur Veränderung der Winkelverteilung der auf die Spiegelanordnung auftreffenden Strahlung ausgebildet. In a further development the light modulation means is configured as a mirror array comprising an array of individually controllable individual mirrors for changing the angular distribution of the incident on the mirror array radiation. Die Einzelspiegel, die die Einzelelemente der Modulationseinrichtung bilden, können rasterartig in einem ein- oder zweidimensionalen Feld angeordnet sein. The individual mirrors which form the individual elements of the modulation means can be a grid-like arranged in a one- or two-dimensional array. Gemäß einer anderen Weiterbildung ist die Lichtmodulationseinrichtung als elektrooptisches Element ausgebildet, welches vorzugsweise eine ein- oder zweidimensionale Feldanordnung (Array) von schaltbaren Beugungsgittern oder ein entsprechendes Feld von akustooptischen Elementen umfasst. According to another embodiment, the light modulation device is configured as electro-optical element, which preferably comprises a one or two dimensional array (array) of switchable diffraction gratings or a corresponding array of acousto-optical elements. Jedes dieser Einzelelemente, die rasterartig angeordnet sein und entsprechend auch als Rasterelemente bezeichnet werden können, führt am Ort des Rasterelementes einen spezifischen Winkel der abgegebenen Strahlung ein, wobei in der Regel eine Strahlumlenkung der eintreffenden Strahlung, dh eine Änderung der Laufrichtung, eingeführt wird. Each of these individual elements that will be arranged in a grid-like and can also be called raster elements corresponding leads at the location of the grid element a specific angle of the emitted radiation, where usually a beam deflection of the incident radiation, that is, a change in the running direction, is inserted. Durch zB elektrische Ansteuerung der Einzelelemente kann die Winkelverteilung der abgegebenen Strahlung variabel eingestellt werden. For example, by electrical actuation of the individual elements, the angular distribution of the emitted radiation can be variably set.
  • Der Raum zwischen der Lichtmodulationseinrichtung und der Pupillenformungsfläche kann frei von optischen Komponenten, wie Linsen oder anderen abbildenden Elementen sein. The space between the light modulation device and the pupil shaping surface may be free of optical components, such as lenses or other imaging elements. In diesem Fall ist es günstig, den Abstand zwischen Lichtmodulationseinrichtung und Pupillenformungsfläche so groß zu wählen, dass die Pupillenformungsfläche im Fernfeldbereich der Lichtmodulationseinrichtung liegt. In this case, it is advantageous to select the distance between the light modulator device and pupil forming surface such that the pupil forming surface lies in the far field region of the light modulation device. Unter dieser Bedingung stellt sich in der Pupillenformungsfläche automatisch die gewünschte räumliche Intensitätsverteilung ein. Under this condition, automatically adjusts to the desired spatial intensity distribution in the pupil shaping surface.
  • Bei einer Weiterbildung ist zwischen der Lichtmodulationseinrichtung und der Pupillenformungsfläche ein optisches System zur Umwandlung der auftreffenden Winkelverteilung in eine räumliche Verteilung (Verteilung im Ortsraum) in der Pupillenformungsfläche vorgesehen. In a development of an optical system for converting the incident angle distribution is provided in a spatial distribution (distribution in the spatial domain) in the pupil shaping surface between the light modulation device and the pupil shaping surface. Dieses optische System soll somit eine Fourier-Transformation der Winkelverteilung in die Pupillenformungsfläche vornehmen. This optical system is thus intended to carry out a Fourier transform of the angular distribution in the pupil shaping surface. Es kann sich dabei um ein einzelnes optische Element, beispielsweise eine Linse fester Brennweite und damit definierter Vergrößerung handeln. These may be a single optical element, for example a lens of fixed focal length and thus a defined magnification. Vorzugsweise hat das der Fourier-Transformation dienende optische System eine variable einstellbare Brennweite. Preferably, the serving of the Fourier transform optical system has a variable adjustable focal length. Es kann als Zoom-Objektiv ausgestaltet sein. It can be configured as a zoom lens. Dadurch kann bei gegebener Beleuchtungsverteilung die Größe des mit dieser Beleuchtungsverteilung ausgeleuchteten Bereichs in der Pupillenformungsfläche, vorzugsweise stufenlos, eingestellt werden. As a result, for a given illumination distribution, the size of the illuminated with this illumination distribution region in the pupil shaping surface, preferably be adjusted continuously. Wird zwischen der Lichtmodulationseinrichtung und der Pupillenformungsfläche ein Axicon-System mit konischen Flächen vorgesehen, so kann durch Verstellung des Axicon-Systems ein gewünschter Grad des Ringfeldcharakters (Annularität) der Beleuchtung, gegebenenfalls stufenlos, eingestellt werden. Is an axicon system provided with conical surfaces between the light modulation device and the pupil shaping surface, can be obtained by adjusting the axicon system, a desired degree of the ring field character (Annularität) of the illumination can be set optionally steplessly. Bei einer Ausführungsform ist zwischen der Lichtmodulationseinrichtung und der Pupillenformungsfläche ein Zoom-Axicon-Objektiv angeordnet, dessen Aufbau beispielsweise dem Aufbau des in der In one embodiment, a zoom axicon lens is located between said light modulating means and the pupil shaping surface, the structure such as the structure of the EP 0 747 772 EP 0747772 beschriebenen Zoom-Axicon-Objektivs entsprechen kann. may correspond described zoom axicon lens. Dabei kann die Lichtmodulationseinrichtung an Stelle des dort gezeigten ersten diffraktiven Rasterelements eingesetzt werden. The light modulation means may be used in place of the first diffractive grating element shown there. Der Offenbarungsgehalt der The disclosure of the EP 0 747 772 EP 0747772 wird durch Bezugnahme zum Inhalt dieser Beschreibung gemacht. is incorporated by reference into the present description.
  • Die Lichtmodulationseinrichtung kann reflektiv arbeiten und nach Art eines Umlenkspiegels schräg zur optischen Achse ausgerichtet sein, um beispielsweise im Mittel eine angenäherte 90°-Umlekung (oder eine Umlenkung um einen kleineren oder größeren Winkel) zu erreichen. The light modulation device can operate reflective and be aligned in the manner of a deflecting mirror inclined to the optical axis, for example, on average, an approximate 90 ° -Umlekung (or a deflection of a smaller or larger angle) to achieve.
  • Für die Funktion der der Pupillenformungsfläche nachfolgenden optischen Komponenten des Beleuchtungssystems ist es in der Regel günstig, wenn die Winkel, unter denen die Strahlen in die Pupillenformungsfläche einfallen, so klein wie möglich sind. For the function of the pupil shaping surface of the subsequent optical components of the illumination system, it is generally favorable when the angles at which the beams are incident in the pupil shaping surface are as small as possible. Hierzu ist bei bevorzugten Ausführungsformen vorgesehen, den optischen Abstand zwischen Lichtmodulationseinrichtung und der Pupillenformungsfläche so groß zu wählen, dass die Winkel zwischen der optischen Achse und Lichtstrahlen der Winkelverteilung im Bereich der Pupillenformungsfläche weniger als ca. 5°, insbesondere weniger als ca. 3° betragen. For this purpose there is provided in preferred embodiments, to select the optical distance between the light modulation device and the pupil shaping surface such that the angle between the optical axis and light beams of the angular distribution in the pupil shaping surface of less than about 5 °, in particular less than about 3 ° be , Je kleiner die Winkel gewählt werden, desto steiler können zB die Flanken am Hell-Dunkel-Übergang zwischen dem beleuchteten Bereich und dem angrenzenden, nicht beleuchteten Bereich sein. The smaller the angle can be selected, the steeper example, can be the edge on the light-dark transition between the illuminated region and the adjacent non-illuminated area.
  • Eine feinteilige, gezielte Einstellung verschiedener Formen eines zu beleuchtenden Bereiches der Pupillenformungsfläche kann gerade bei Systemen, die Wabenkondensoren als Lichtmischelemente verwenden, von großem Nutzen sein. A finely divided, controlled adjustment of various forms one to be illuminated area of ​​the pupil shaping surface may be just in systems that use honeycomb condensers as a light mixing elements of great benefit. Bei solchen Systemen kann bekanntlich die gewünschte Vergleichmäßigung der Intensitätsverteilung hinter dem Wabenkondensor nur dann erreicht werden, wenn die einzelnen, durch die „Waben" gebildeten Strahlungskanäle entweder vollständig oder gar nicht genutzt werden. Die Strahlung eines nur teilweise genutzten Strahlungskanals verschlechtert dagegen die Gleichmäßigkeit (Uniformity). Aus diesem Grunde arbeiten herkömmliche Systeme mit Blenden, um zB teilweise beleuchtete Kanäle am Rande eines Ausleuchtungsbereiches zu blockieren. Dies kann zu Lichtverlusten führen. In such systems, the desired equalization of the intensity distribution of the radiation of a radiation channel only partially used can only be achieved behind the honeycomb condenser is well known, if the individual, formed by the "honeycomb" radiation channels are either completely or not used. On the other hand impairs the evenness (uniformity ). for this reason, conventional systems use iris to block, for example, partially illuminated channels at the edge of a coverage area. this can lead to light losses.
  • Bei Ausführungsformen der Erfindung mit Wabenkondensoren, bei denen die Pupillenformungsfläche normalerweise im Bereich der Eintrittsfläche des Wabenkondensors oder in einer dazu optisch konjugierten Fläche liegt, kann dagegen die räumliche Intensitätsverteilung in der Pupillenformungsfläche so gesteuert bzw. eingestellt werden, dass gezielt nur vollständig beleuchtete und vollständig unbeleuchtete Kanäle bzw. Waben existieren und teilweise beleuchtete Waben vermieden werden. In embodiments of the invention with honeycomb condensers in which the pupil shaping surface is normally in the region of the entrance surface of the fly's eye condenser or in an optically conjugate surface, however, the spatial intensity distribution can be controlled in the pupil shaping surface so or set that specifically only fully illuminated and completely unlit channels or honeycomb exist and partly illuminated honeycomb be avoided. Auf den Einsatz von Blenden zur Blockierung einzelner Kanäle kann dann verzichtet werden. can then be dispensed with the use of apertures for blocking individual channels. Somit wird bei vereinfachter Konstruktion eine weitgehend verlustfreie Beleuchtungssteuerung möglich. Thus, with a simplified construction, a largely loss-free lighting control is possible.
  • Wird eine Spiegelanordnung der Lichtmodulationseinrichtung verwendet, so wird die minimale Größe der beleuchteten Flächen, die durch die Einzelspiegel der Spiegelanordnung erzeugt werden, wesentlich durch die Größe der Einzelspiegel bestimmt, die zB Planspiegel sein können. Is a mirror arrangement of the light modulation device is used, is primarily determined by the size of the individual mirrors, the minimum size of the illuminated areas that are generated by the individual mirrors of the mirror arrangement, which may be for example a plane mirror. Es ist möglich, die minimale Ausdehnung der erzeugten Lichtflecke zu verkleinern, indem die Einzelspiegel nicht als Planspiegel, sondern als gekrümmte Spiegel mit einer endlichen Spiegelbrennweite ausgebildet sind. It is possible to reduce the minimum dimension of the light spots generated by the individual mirrors are not formed as a plane mirror, but as a curved mirror having a finite focal length mirror. Die Brennweite kann so bemessen sein, dass die auf die Einzelspiegel auftreffende Strahlung im wesentlichen fokussiert auf die Pupillenformungsfläche trifft. The focal length can be sized so that the incident radiation to the individual mirrors substantially focused incident on the pupil shaping surface. Dadurch wird eine sehr differenzierte Einstellung verschiedener räumlicher Intensitätsverteilungen in der Pupillenformungsfläche möglich. This provides a very sophisticated setting different spatial intensity distributions in the pupil shaping surface is possible.
  • Die Einzelspiegel der Spiegelanordnung können alle die gleiche Form und Größe haben, was fertigungstechnisch günstig sein kann. The individual mirror of the mirror array, all the same shape and size have what may be manufacturing technology affordable. Es ist auch möglich, dass die Einzelspiegel eine erste Spiegelgruppe und mindestens eine zweite Spiegelgruppe mit jeweils einem oder mehreren Einzelspiegeln umfassen und dass die Einzelspiegel der Spiegelgruppen unterschiedliche Größe und/oder unterschiedliche Form und/oder unterschiedliche Krümmung haben. It is also possible that the individual mirrors comprise a first mirror group and at least one second mirror group each having one or a plurality of individual mirrors and that the individual mirrors of the mirror groups have different size and / or different shape and / or different curvature. Wird beispielsweise die Größe der Einzelspiegel variiert, so kann dies für eine Aufgabenteilung unter den Einzelspiegeln der Spiegelanordnung genutzt werden. For example, the size of the individual mirrors varies, it can be used for a division of labor among the individual mirrors of the mirror array. Beispielsweise können die flächenmäßig größeren Einzelspiegel die großen Anteile der erzeugten Lichtflecken erzeugen, während kleinere Einzelspiegelchen die Erzeugung einer Feinstruktur der Lichtverteilung ermöglichen. For example, the larger area, individual mirrors can generate large portions of the light spots produced, while smaller Einzelspiegelchen allow the production of a fine structure of the light distribution.
  • Allgemein können die Einzelspiegel jeweils als Erzeuger bestimmter Basislichtverteilungen angesehen werden, die dann zur gewünschten Verteilung in der Pupillenformungsfläche des Beleuchtungssystems zusammengesetzt werden, indem die erzeugten Lichtverteilungen relativ zueinander verschoben werden. In general, the individual mirrors, may be regarded as producers of certain basic light distributions, which are then assembled to the desired distribution in the pupil shaping surface of the illumination system by the light distributions generated are shifted relative to each other. Die Variation der Winkelverteilung, und damit die Verschiebung von Lichtflecken in der Pupillenformungsfläche, kann beispielsweise durch geeignete Kippung von Einzelspiegeln um mindestens eine Kippachse erreicht werden. The variation of the angular distribution, and thus the displacement of the light spots in the pupil shaping surface may, for example be achieved through suitable tilting of individual mirrors is at least one tilting axis.
  • Ein weiterer Freiheitsgrad bei der Erzeugung von räumlichen Lichtverteilungen kann dadurch geschaffen werden, dass mindestens ein Teil der Einzelspiegel eine diffraktive optische Struktur oder eine Struktur vergleichbarer Wirkung zur Formung der Verteilung der von dem Einzelspiegel reflektierten Strahlung aufweist. A further degree of freedom in the generation of spatial light distribution can be created in that at least a portion of the individual mirrors has a diffractive optical structure or a structure similar effect to form the distribution of the reflected light from the individual mirrors radiation. Dadurch kann die „Basisverteilung", welche durch diesen Einzelspiegel erzeugt wird, noch in sich geformt werden. Beispielsweise kann ein Einzelspiegel so ausgelegt sein, dass er eine Basisverteilung erzeugt, die aus mehreren Lichtflecken bestehen kann, die nicht zusammenhängend sein müssen. This can still formed in the "basic distribution", which is generated by this single mirror. For example, may be adapted to an individual mirror to generate a basic distribution, which may consist of a plurality of light spots, which do not have to be contiguous.
  • Die Einzelspiegel der Spiegelanordnung grenzen vorzugsweise unmittelbar aneinander, so dass sie eine facettierte, im wesentlichen geschlossene, zusammenhängende reflektierende Oberfläche bilden. The individual mirror of the mirror assembly preferably directly adjoin one another, so that they form a faceted, essentially closed, continuous reflective surface. Um eine relative Beweglichkeit benachbarter Einzelspiegel zu erleichtern, kann es günstig sein, wenn sich zwischen den Einzelspiegeln kleine Abstände befinden, die schmale, nicht reflektierende Bereiche ergeben. In order to facilitate a relative movement of adjacent separate mirrors, it may be favorable if there are small gaps between the individual mirrors, give the narrow non-reflective areas. Insbesondere bei solchen Ausführungsformen ist es günstig, wenn vor der Spiegelanordnung eine zweidimensionale Rasteranordnung von optischen Elementen zur Konzentration von auf die optischen Elemente auftreffender Strahlung auf zugeordnete Einzelspiegel der Spiegelanordnung angeordnet ist. In particular, in such embodiments, it is advantageous if a two-dimensional grid-type arrangement of optical elements for concentrating incident radiation on the optical elements is arranged to associated individual mirror of the mirror arrangement in front of the mirror assembly. Auf diese Weise kann einfallendes Licht, beispielsweise eines Lasers, gebündelt auf die Einzelspiegel geführt werden, wodurch Reflexionsverluste an der Spiegelanordnung auf ein Minimum reduziert werden können. In this manner, incident light such as a laser, focused onto the individual mirrors can be performed, whereby reflection loss can be reduced at the mirror assembly to a minimum. Es kann eine 1:1 Zuordnung zwischen den optischen Elementen der Rasteranordnung und den nachfolgenden Einzelspiegeln vorliegen. It can be a 1: 1 assignment are present between the optical elements of the grid assembly and the subsequent individual mirrors. Die zweidimensionale Rasteranordnung kann beispielsweise ein zweidimensionales Feld (Array) mit Teleskop-Linsensystemen umfassen, welches vorzugsweise im weitgehend parallelisierten Strahlengang vor der Spiegelanordnung angeordnet ist. The two-dimensional grid-type arrangement may for example comprise a two dimensional array (array) with telescopic lens systems, which is preferably arranged in the substantially collimated beam path in front of the mirror assembly.
  • Insbesondere in Verbindung mit Einzelspiegeln unterschiedlicher Form und/oder Größe kann es günstig sein, die einzelnen optischen Elemente der Rasteranordnung ebenfalls unterschiedlich auszulegen. Especially in conjunction with individual mirrors of different shape and / or size, it may be beneficial to the individual optical elements of the raster arrangement also interpreted differently. Indem beispielsweise unterschiedlich große Bereich des von der Lichtquelle kommenden, aufgeweiteten Strahls zu Lichtstrahlen gebündelt werden, die dann auf die Einzelspiegel gerichtet werden, kann eine Variation der Lichtenergie auf den Einzelspiegeln der Spiegelanordnung erreicht werden. For example, by different-sized area of ​​the coming from the light source, the expanded beam are bundled into light beams which are then directed to the individual mirror, a variation of the light energy can be achieved in the individual mirrors of the mirror array. Auf diese Weise kann der Strahlungsenergieinhalt der einzelnen Basislichtverteilungen verändert werden. In this way, the radiation energy content of each basic light distribution patterns can be changed. Eine vergleichbare Wirkung könnte auch durch einen geeigneten Transmissionsfilter vor und/oder nach der zweidimensionalen Rasteranordnung erreicht werden, wobei allerdings Lichtverluste in Kauf gekommen werden müssten. A similar effect could be achieved by a suitable transmission filter before and / or after the two-dimensional grid arrangement, although light losses would have to be come into account.
  • Im übrigen kann für den Aufbau und/oder die Ansteuerung der Einzelspiegel der Spiegelanordnung auf bekannte Konzepte des Standes der Technik zurückgegriffen werden, wobei gegebenenfalls bezüglich der Dimensionierung Anpassungen an das jeweilige Beleuchtungssystem vorzunehmen sind. Incidentally, may be resorted to building and / or actuation of the individual mirrors of the mirror arrangement on known concepts of the prior art, wherein optionally the dimensions of adjustments to the respective illumination system must be made with respect to. Spiegelanordnungen mit individuell ansteuerbaren Einzelspiegeln, die häufig auch als Digital-Mirror-Array (DMD) bezeichnet werden, sind beispielsweise aus Systemen zur maskenlosen Lithographie bekannt (vgl. zB Mirror arrays with individually controllable individual mirrors, which are often referred to as digital mirror array (DMD), are known for example from systems for maskless lithography (see. Eg US 5,523,193 US 5,523,193 ; ; US 5,691,541 US 5,691,541 ; ; US 5,870,176 US 5,870,176 oder or US 6,060,224 US 6,060,224 ). ).
  • Einige der am Beispiel der Einzelspiegel erläuternden Maßnahmen zur Gestaltung der von der Lichtmodulationseinrichtung erzeugten Austrittsstrahlung können sinngemäß auch bei einem elektrooptischen Element mit schaltbaren Beugungsgittern oder akustooptischen Elementen vorgesehen sein. Some of the illustrative example of the individual mirrors measures to design the outgoing radiation generated by the light modulation device can accordingly also be provided in an electro-optic element with switchable diffraction gratings or acousto-optical elements. Hierzu gehören die Möglichkeit der Kippung der Einzelelemente relativ zueinander, die Möglichkeit, durch geeignete Ausgestaltung der Einzelelemente eine Basisverteilung des von einem Einzelelement abgegebenen Lichtes zu beeinflussen oder die Maßnahme, zur effizienten Nutzung von schaltbaren Beugungsgittern oder akustooptischen Elementen vor der entsprechenden Lichtmodulationseinrichtung optische Elemente zur Konzentration der eintreffenden Strahlung auf die winkelverändernden Einzelelemente vorzusehen. These include the possibility of tilting of the individual elements relative to each other, the possibility to influence by suitable design of the individual elements of a basic distribution of light emitted from a single element light, or the measure for the efficient use of switchable diffraction gratings or acousto-optical elements in front of the corresponding light modulation device, optical elements to the concentration of the incoming radiation to the angle varying individual elements provide. Die Einzelelemente des elektrooptischen Elementes können identisch oder untereinander verschieden ausgestaltet sein. The individual elements of the electro-optical element may be configured the same or different from each other.
  • Insbesondere bei Ausführungsformen von Beleuchtungssystemen für die Mikrolithographie ist es günstig, im Beleuchtungssystem eine Lichtmischeinrichtung einzusetzen, um einen hohen Grad von Gleichmäßigkeit bzw. Homogenität der auf das Beleuchtungsfeld fallenden Beleuch tung zu erzielen. In particular, in embodiments of illumination systems for microlithography, it is advantageous to use a light mixing device in the lighting system in order to achieve a high degree of uniformity and homogeneity of the incident on the illumination field Ligh ting. In erfindungsgemäßen Beleuchtungssystemen können sowohl Lichtmischeinrichtungen mit Wabenkondensoren als auch Lichtmischeinrichtungen mit einem oder mehreren Integratorstäben bzw. Lichtmischstäben oder Kombinationen daraus genutzt werden. In the inventive lighting systems, both light mixing devices with honeycomb condensers as well as light mixing devices with one or more integrator rods or light mixing rod, or combinations thereof can be used. Solche Lichtmischeinrichtungen sind sowohl jeweils in refraktiver Ausführung (Wabenkondensor mit Linsenelementen, Integratorstab aus transparentem Material) als auch in reflektiver Ausführung (Wabenkondensor mit Konkavspiegeln, Stab mit Innenverspiegelung) verfügbar. Such light mixing devices are available in both embodiments refractive respectively (honeycomb condenser with lens elements, the integrator rod of transparent material) as well as in reflective type (honeycomb condenser with concave mirrors rod with internal mirror) available.
  • Die Erfindung betrifft auch ein Verfahren zur Beleuchtung eines Beleuchtungsfeldes mit dem Licht einer primären Lichtquelle, wobei das Beleuchtungsfeld insbesondere die Objektebene eines Mikrolithographie-Projektionsobjektivs oder eine dazu konjugierte Ebene ist. The invention also relates to a method for illuminating an illumination field with the light from a primary light source, wherein the illumination field is in particular the object plane of a microlithography projection lens or a conjugate plane thereto. Das Beleuchtungsverfahren umfasst eine Änderung der Winkelverteilung des in das Beleuchtungsfeld einfallenden Lichtes im Lichtweg zwischen Lichtquelle und Beleuchtungsfeld. The illuminating method includes a change in the angular distribution of the incident in the field of illumination light in the light path between the light source and the illumination field. Die Veränderung wird dadurch herbeigeführt, dass das Licht einer primären Lichtquelle auf eine Lichtmodulationseinrichtung mit mindestens zwei unabhängig voneinander veränderbaren Einzelelementen gelenkt wird und diese Einzelelemente relativ zueinander geeignet eingestellt werden. The change is brought about by that the light from a primary light source to a light modulation device having at least two independently alterable individual elements is directed and these individual elements are appropriately adjusted relative to each other. Diese Einstellung kann zB eine Verkippung mindestens eines der Einzelelemente gegenüber dem anderen Einzelelement um eine oder mehrere Kippachsen oder die Veränderung der beugenden Eigenschaften von Beugungselementen umfassen. This can include, for example, a tilting of at least one of the individual elements relative to the other individual element around one or more pivot axes, or the change of the diffracting properties of diffraction elements. Dadurch ergibt sich hinter der Lichtmodulationseinrichtung eine von der Relativeinstellung der Einzelelemente abhängige Winkelverteilung des Lichtes, die durch nachfolgende optische Komponenten in eine Winkelverteilung des in das Beleuchtungsfeld auftreffenden Lichtes transformiert wird. This results in behind the light modulation means is dependent on the relative adjustment of the individual elements of angular distribution of light that is transformed by subsequent optical components in an angular distribution of the incident in the field of illumination light. Vorzugsweise hat das von der Lichtmodulationseinrichtung abgegebene Licht deutlich mehr als zwei unabhängig voneinander einstellbare Strahlbündel, beispielsweise mindestens 10 oder mindestens 50 oder mindestens 100 individuell einstellbare Strahlbündel. Preferably, the output from the light modulation device of light substantially more than two independently adjustable beam, for example at least 10 or at least 50 or at least 100 individually adjustable beam.
  • Die vorstehenden und weitere Merkmale gehen außer aus den Ansprüchen auch aus der Beschreibung und den Zeichnungen hervor, wobei die einzelnen Merkmale jeweils für sich alleine oder zu mehreren in Form von Unterkombinationen bei Ausführungsformen der Erfindung und auf anderen Gebieten verwirklicht sein und vorteilhafte sowie für sich schutzfähige Ausführungen darstellen können. The foregoing and other features will become apparent from the claims and from the description and drawings, the individual features may be realized each alone or together in the form of subcombinations in embodiments of the invention and in other fields and can represent advantageous, protectable can display versions.
  • 1 1 zeigt eine schematische Übersicht einer Ausführungsform eines Beleuchtungssystems für eine Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage mit einer Ausführungsform einer Lichtmodulationseinrichtung, die eine Spiegelanordnung mit vielen Einzelspiegeln umfasst; shows a schematic overview of one embodiment of an illumination system for a microlithography projection exposure apparatus having an embodiment of a light modulator device comprising a mirror arrangement with many individual mirrors;
  • 2 2 zeigt eine schematische Darstellung zur Erläuterung der Funktionsweise der Spiegelanordnung; shows a schematic diagram for explaining the operation of the mirror assembly; und and
  • 3 3 zeigt eine einfache Ausführungsform eines Beleuchtungssystems, bei dem die gewünschte Lichtverteilung ohne optische Abbildungselemente im Fernfeld der Lichtmodulationseinrichtung erzeugt wird. shows a simple embodiment of an illumination system in which the desired light distribution is produced without optical imaging elements in the far field of the light modulation device.
  • 4 4 zeigt eine schematische Übersicht einer anderen Ausführungsform eines Beleuchtungssystems für eine Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage, bei der die Lichtmodulationseinrichtung eine Rasteranordnung schaltbarer Beugungsgitter umfasst und ein in der Pupillenformungsfläche angeordnetes Rasterelement der Lichtmischeinrichtung dient. shows a schematic overview of another embodiment of an illumination system for a microlithography projection exposure apparatus, wherein the light modulation means includes a scanning assembly switchable diffraction grating, and a valve disposed in the pupil shaping surface scanning element of the light mixing device is used.
  • In In 1 1 ist ein Beispiel eines Beleuchtungssystems is an example of an illumination system 10 10 einer Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie gezeigt, welche bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen und anderen fein strukturierten Bauteilen einsetzbar ist und zur Erzielung von Auflösungen bis zu Bruchteilen von Mikrometern mit Licht aus dem tiefen Ultraviolettbereich arbeitet. shown a projection exposure system for microlithography, which can be used in the production of semiconductor components and other finely structured components and to achieve resolutions down to fractions of microns operates with light from the deep ultraviolet region. Als Lichtquelle As a light source 11 11 dient ein F 2 -Excimer-Laser mit einer Arbeitswellenlänge von ca. 157 nm, dessen Lichtstrahl koaxial zur optischen Achse is a F 2 excimer laser having an operating wavelength of about 157 nm whose light beam is coaxial with the optical axis 12 12 des Beleuchtungssystems ausgerichtet ist. is aligned with the illumination system. Andere UV-Lichtquellen, beispielsweise ArF-Excimer-Laser mit 193 nm Arbeitswellenlänge, KrF-Excimer-Laser mit 248 nm Arbeitswellenlänge oder Quecksilberdampflampen mit 365nm bzw. 436 nm Arbeitwellenlänge oder Lichtquellen mit Wellenlängen unterhalb 157 nm sind ebenfalls möglich. Other UV light sources, such as ArF excimer laser with 193 nm operating wavelength, KrF excimer laser with 248 nm working wavelength or mercury vapor lamps with 365 nm and 436 nm working wavelength or light sources having wavelengths below 157 nm are also possible.
  • Das Licht der Lichtquelle The light from the light source 11 11 tritt zunächst in einen Strahlaufweiter first enters a beam expander 13 13 ein, welcher den Laserstrahl aufweitet und aus dem ursprünglichen Strahlprofil mit 20 mm × 15mm Querschnitt ein aufgeweitetes Profil a, which expands the laser beam and beam from the original profile of 20 mm × 15 mm cross section, a flared profile 14 14 mit einem Querschnitt von 80 mm × 80 mm erzeugt. produced 80 mm with a cross section of 80 mm ×. Die Divergenzwinkel reduzieren sich dabei von ca. 4 mrad × 2 mrad auf ca. 1 mrad × 0,4 mrad. The divergence angle will be reduced to about 4 mrad x 2 mrad to about 1 mrad x 0.4 mrad.
  • Hinter dem Strahlaufweiter folgt eine zweidimensionale Rasteranordnung Behind the beam follows a two-dimensional grid arrangement 15 15 von Teleskoplinsensystemen of telescopic lens systems 16 16 , die aus dem aufgeweiteten Strahlbündel Consisting of the expanded beam bundle 14 14 einen Satz regelmäßig angeordneter, zueinander paralleler Strahlbündel a set of regularly arranged, mutually parallel beam 17 17 erzeugt, die jeweils einen lateralen Abstand zueinander haben. generated, each having a lateral distance from one another.
  • Das in Strahlbündel The in beam 17 17 bzw. Teilstrahlen or partial beams 17 17 aufgeteilte Licht trifft auf eine als ortsvariante Lichtmodulationseinrichtung dienende Spiegelanordnung split light is incident on a stationary serving as variant light modulation device mirror assembly 20 20 , die makroskopisch in einem Winkel von ca. 45° zur optischen Achse , The macroscopically at an angle of approximately 45 ° to the optical axis 12 12 ausgerichtet ist und nach Art eines Umlenkspiegels im Mittel eine 90°-Faltung der optischen Achse bewirkt. is oriented and brings the manner of a deflecting mirror on average a 90 ° fold the optical axis. Auch andere Winkelstellungen und Umlenkwinkel sind möglich. Other angular positions and deflection are possible. Ein Vorteil kleiner Winkel ist die Tatsache, dass die Objektebene des nachfolgenden Zoom-Systems günstiger liegt und somit der Aufwand für das Zoom- System reduziert werden kann. An advantage of small angles is the fact that the object plane of the zoom system following is cheap and thus the effort for the zoom system may be reduced. Die Spiegelanordnung The mirror assembly 20 20 umfasst eine Vielzahl einzelner, kleiner, im Beispielsfall ebener Einzelspiegel includes a plurality of discrete, small, planar mirror in the example single 21 21 , die mit sehr kleinen Zwischenräumen unmittelbar aneinander angrenzen und der Spiegelanordnung Which are adjacent with very small interstices directly against one another and the mirror assembly 20 20 insgesamt eine facettierte Spiegeloberfläche verleihen. total lend a faceted mirror surface. Jeder der Einzelspiegel Each of the individual mirrors 21 21 ist um zwei senkrecht zueinander ausgerichtete Kippachsen unabhängig von den anderen Einzelspiegeln kippbar. is tiltable about two mutually perpendicular tilt axes aligned independently of the other individual mirrors. Die Kippbewegungen der Einzelspiegel können von einer Steuereinrichtung The tilting movements of the individual mirrors can by a control device 22 22 über elektrische Signale zu entsprechenden individuellen Antrieben gesteuert werden. are controlled by electrical signals to respective individual actuators. Die Spiegelanordnung The mirror assembly 20 20 ist wesentlicher Bestandteil einer Lichtverteilungseinrichtung is an essential component of a light distribution device 25 25 und dient dazu, die Winkelverteilung der auf die Spiegelanordnung auftreffenden Strahlung ortsaufgelöst gezielt zu verändern. and serves the angular distribution of the incident radiation on the mirror assembly spatially resolved to selectively change.
  • Die Spiegelanordnung The mirror assembly 20 20 ist im Bereich der Objektebene eines im Strahlengang dahinter angeordneten Zoom-Axicon-Objektivs is in the range of the object plane in the beam path of an arranged behind zoom axicon lens 30 30 angeordnet, in dessen Austrittspupille arranged in the exit pupil 31 31 ein diffraktives optisches Rasterelement a diffractive optical grid element 32 32 angeordnet ist. is arranged. Die Austrittspupille The exit pupil 31 31 wird hier auch als Pupillenformungsfläche des Beleuchtungssystems bezeichnet. also referred to herein as a pupil shaping surface of the illumination system. Die im Lichtweg davor angeordneten Komponenten dienen dazu, in dieser Pupillenformungsfläche eine zweidimensionale räumliche Intensitätsverteilung einzustellen, die variabel einstellbar ist. The arranged in the light path before components serve to adjust a two-dimensional spatial intensity distribution in the pupil shaping surface which is variably adjustable.
  • Im Detail kann dieser Grundaufbau zB wie folgt realisiert sein. In detail, this basic structure can be realized, for example, as follows. Der auf das Teleskoplinsen-Array The on the telescope lens array 15 15 auftreffende, aufgeweitete Laserstrahl incident, expanded laser beam 14 14 wird durch die Segmente des Teleskop-Arrays in eine Vielzahl einzelner Strahlbündel aufgeteilt. is divided by the segments of the telescopic array into a plurality of individual beams. Ein Teilbereich von 4 mm × 4 mm des aufgeweiteten Laserstrahls wird dabei durch ein Teleskop-Segment des Teleskop-Arrays auf einem Strahl A portion of 4 mm × 4 mm of the expanded laser beam is carried a telescoping segment of the telescopic array on a beam 17 17 mit den Maßen von 2 mm × 2 mm verkleinert. reduced with dimensions of 2 mm x 2 mm. Auf diese Weise werden 20 × 20 = 400 Teilstrahlen bzw. Strahlenbündel In this way, 20 × 20 = 400 sub-beams or radiation beam 17 17 erzeugt. generated. Diese treffen auf die zugeordneten Einzelspiegel These meet the assigned individual mirrors 21 21 der Spiegelanordnung, die jeweils eben sind und eine Größe von 3 mm × 3 mm aufweisen. the mirror assembly which are each flat and have a size of 3 mm × 3 mm. Jeder der Einzelspiegel befindet sich in einem quadratischen Bereich von 4 mm × 4 mm. Each of the individual mirrors is located in a square area of ​​4 mm x 4 mm. Diese Bereiche liegen auf einem quadratischen Raster nebeneinander, so dass insgesamt 20 × 20 = 400 Einzelspiegel vorliegen. These areas lie side by side on a square grid so that a total of 20 × 20 = 400 are present single mirror.
  • Bei der Ausführungsform beträgt der axiale Abstand zwischen dem Teleskoplinsen-Array In the embodiment, the axial distance between the telescope lens array is 15 15 und der Spiegelanordnung and the mirror assembly 20 20 ca. 100 mm. about 100 mm. Der axiale Abstand zwischen der Spiegelanordnung und der Pupillenformungsfläche The axial distance between the mirror array and the pupil shaping surface 31 31 , in der das refraktive optische Rasterelement In which the refractive optical raster element 32 32 sitzt, beträgt mehr als 1000 mm. sits, is more than 1000 mm. Der maximale Durchmesser des in der Pupillenformungsfläche The maximum diameter of the pupil shaping surface 31 31 ausgeleuchteten Bereiches ist auf ca. 100 mm ausgelegt. the illuminated area is designed to be about 100 mm. Bei dieser Geometrie treten in der Pupillenformungsfläche In this geometry occur in the pupil shaping surface 31 31 nur relativ kleine Strahlwinkel mit Werten von weniger als ca. 2,9° auf. only relatively small beam angle with values ​​of less than about 2.9 °. Dies kann unter der Vorraussetzung erreicht werden, dass die (in This can be achieved under the condition that (in 2 2 ) oberhalb der optischen Achse liegenden Einzelspiegel nur die Lichtverteilung in der oberen Hälfte der Pupillenformungsfläche ) Individual mirrors lying above the optical axis, only the light distribution in the upper half of the pupil shaping surface 31 31 und die unterhalb der optischen Achse liegenden Einzelspiegel nur die untere Hälfte dieses Beleuchtungsbereiches beeinflussen. and the individual mirror located below the optical axis affect only the lower half of this illumination area. Ein Teilstrahl bzw. ein einzelnes Strahlbündel wird auf dem Lichtweg von ca. 1100 mm normalerweise um maximal ca. 1,1 mm aufgeweitet. A partial beam or a single beam is usually widened to the optical path of about 1100 mm to a maximum of about 1.1 mm. Dieser Wert begrenzt die minimale Größe des Lichtfleckes, den ein von einem Einzelspiegel reflektierter Einzelstrahl in der Pupillenformungsfläche This value limits the minimum size of the light spot, the a reflected by an individual mirror single beam in the pupil shaping surface 31 31 erzeugt. generated.
  • Eine hinter der Pupillenformungsfläche A behind the pupil shaping surface 31 31 angeordnete Einkoppeloptik arranged coupling optics 40 40 überträgt das Licht der Intensitätsverteilung auf die rechteckige Eintrittsfläche transmits the light of the intensity distribution on the rectangular entrance surface 44 44 eines aus synthetischem Quarzglas (oder Kalziumfluorid) gefertigten stabförmigen Lichtintegrators of a synthetic silica glass (or calcium fluoride) manufactured rod-shaped light integrator 45 45 , der das durchtretende Licht durch mehrfache innere Reflexion mischt und homogenisiert. Which mixes the transmitted light by multiple internal reflection and homogenized. Die Pupillenformungsfläche The pupil shaping surface 31 31 ist eine Fourier-transformierte Ebene zur Eintrittsfläche is a Fourier-transformed plane relative to the incident surface 44 44 , so dass eine räumliche Intensitätsverteilung in Ebene So that a spatial intensity distribution in plane 31 31 in eine Winkelverteilung am Stabeintritt in an angular distribution at the bar entrance 44 44 transformiert wird. is transformed. Unmittelbar an der Austrittsfläche Directly at the exit surface 46 46 des Stabes the rod 45 45 liegt eine Zwischen feldebene is an intermediate field level 47 47 , in der ein Retikel-Masking-System (REMA) , In which a reticle masking system (REMA) 50 50 angeordnet ist, welches als verstellbare Feldblende dient. is arranged, which serves as an adjustable field stop. Das nachfolgende Objektiv The following lens 55 55 bildet die Zwischenfeldebene the intermediate field plane 47 47 mit dem Maskierungssystem with the masking system 50 50 auf eine Ebene to a plane 65 65 ab, die hier auch als Retikelebene bezeichnet wird. from which is also referred to as a reticle. In der Retikelebene In the reticle 65 65 wird ein Retikel is a reticle 66 66 angeordnet. arranged. Die Ebene The level 47 47 des Retikel-Masking-Systems und die Retikelebene the reticle masking system and the reticle 65 65 sind Ebenen, in denen ein Beleuchtungsfeld des Beleuchtungssystems liegt. are planes in which an illumination field of the illumination system is located. Die Retikelebene the reticle 65 65 fällt mit der Objektebene eines Projektionsobjektives coincides with the object plane of a projection lens 67 67 zusammen, welches das Retikelmuster in seine Bildebene along which the reticle pattern in its image plane 68 68 abbildet, in der ein mit einer Photolackschicht beschichteter Wafer depicts, in a coated with a photoresist layer wafer 69 69 angeordnet ist. is arranged. Das Objektiv The objective 55 55 enthält eine erste Linsengruppe includes a first lens group 56 56 , eine Pupillenzwischenebene , A pupil intermediate level 57 57 , in die Filter oder Blenden eingebracht werden können, eine zweite und eine dritte Linsengruppe Can be introduced into the filter or diaphragm, a second and a third lens group 58 58 , . 59 59 und einen dazwischen liegenden Umlenkspiegel and a reflecting mirror interposed 60 60 , der es ermöglicht, die große Beleuchtungseinrichtung horizontal einzubauen und das Retikel waagrecht zu lagern. Which makes it possible to install the large lighting device horizontally and store the reticle horizontally.
  • Das Beleuchtungssystem The lighting system 10 10 bildet zusammen mit dem Projektionsobjektiv together with the projection lens 67 67 , einem verstellbaren Retikel-Halter, der das Retikel , An adjustable reticle holder that the reticle 66 66 in der Objektebene in the object plane 65 65 des Projektionsobjektivs hält, und einem verstellbaren Wafer-Halter eine Projektionsbelichtungsanlage für die mikrolithographische Herstellung von elektronischen Bauteilen, aber auch von optisch diffraktiven Elementen und anderen mikrostrukturierten Teilen. of the projection lens holding, and an adjustable wafer holder a projection exposure system for the microlithographic fabrication of electronic components, but also of optically diffractive elements and other microstructured components. Das Beleuchtungssystem kann sowohl in einem Wafer-Stepper als auch in einem Wafer-Scanner verwendet werden. The lighting system can be used both in a wafer stepper and a wafer scanner.
  • Das Beleuchtungssystem ist so aufgebaut, dass es den kompletten Lichtleitwert in mehreren Stufen einführt. The lighting system is designed so that it introduces the complete Etendu in several stages. Der vom Laser abgegebene Laserstrahl hat aufgrund der weitgehenden Parallelität der Strahlung und des geringen Strahlquerschnitts einen sehr geringen Lichtleitwert, der durch die Strahlaufweitung und durch die Strahlaufteilung mit Hilfe des Teleskop-Arrays The laser beam emitted from the laser has virtue of the substantial parallelism of the radiation beam and the low cross-section of a very low etendue defined by the beam expander and through the beam splitting with the aid of the telescopic array 15 15 ggf. erhöht wird. is possibly increased. Je nach Stellung der Einzel spiegel Depending on the position of the individual mirror 21 21 und der dadurch erzielbaren Winkelverteilung wird durch die Spiegelanordnung and characterized achievable angular distribution is determined by the mirror assembly 20 20 der Lichtleitwert weiter erhöht, wobei die Strahlungsverteilung auch in ihrer Form verändert wird. further increases the light guidance factor, wherein the radiation distribution is also varied in shape. Das Zoom-Axicon-System The zoom axicon system 30 30 ist für eine Abbildung ins Unendliche ausgelegt. is designed to infinity for a picture. Die im Bereich der vorderen Brennebene des Zoom-Axicon-Systems The area in the front focal plane of the zoom axicon system 30 30 angeordnete Spiegelanordnung präpariert zusammen mit der Zoom-Axicon-Optik eine zweidimensionale Intensitätsverteilung variabler Größe in der Austrittspupille arranged mirror assembly prepared along with the zoom-axicon optics a two-dimensional intensity distribution of variable size in the exit pupil 31 31 des Zoom-Systems, die als Pupillenformungsfläche dient. the zoom system that serves as a pupil shaping surface. Das hier angeordnete, refraktive Rasterelement The arranged here refractive raster element 32 32 hat eine rechteckige Abstrahlcharakteristik, erzeugt den Hauptanteil des Lichtleitwerts und adaptiert den Lichtleitwert über die Einkoppeloptik has a rectangular radiation pattern, generates the majority of the Lichtleitwerts and adapts the etendue via the coupling optics 40 40 an die Feldgröße, dh an die Form der rechteckigen Eintrittsfläche to the field size, that is to the shape of the rectangular entrance surface 44 44 des Stabintegrators the rod integrator 45 45 . ,
  • Die Kipppositionen der Einzelspiegel The tilt positions of the individual mirrors 21 21 werden von der Steuereinrichtung are determined by the control means 22 22 über geeignete elektrische Signale eingestellt, wobei aufgrund der Verkippmöglichkeit um zwei Achsen beliebige Orientierungen der Einzelspiegel möglich sind. adjusted by appropriate electric signals, wherein arbitrary orientations of the individual mirrors are possible due to the Verkippmöglichkeit about two axes. Die Verkippungen sind jedoch mechanisch oder elektronisch auf derart kleine Kippwinkel begrenzt, dass bei jeder möglichen Einstellung der Einzelspiegel die gesamte von der Spiegelanordnung reflektierte Strahlung in das Objektiv The tilting, however, are mechanically or electronically limited to such a small tilt angle, that at every possible setting of the individual mirrors of the mirror arrangement, the entire radiation reflected into the lens 30 30 eintreten kann. may occur. Durch die Verkippung der Einzelspiegel By tilting the individual mirrors 21 21 werden die von diesen ausgehenden Strahlbündel an verschiedene Orte der Pupillenformungsfläche are emanating from this beam to different locations of the pupil shaping surface 31 31 (eine Pupillenebene des Beleuchtungssystems) gelenkt. steered (a pupil plane of the illumination system). Die Charakteristika der zweidimensionalen Lichtverteilungen The characteristics of the two-dimensional light distributions 35 35 , die auf diese Weise erzeugt werden können, sind prinzipiell nur durch die Größe der einzelnen Lichtflecke begrenzt. Which can be produced in this way are in principle limited only by the size of the individual light spots. Die gewünschte Größe der erzeugbaren Leuchtflecke kann beispielsweise durch geeignete Wölbung von Einzelspiegeln erreicht werden. The desired size of the producible light spots can be achieved for example by suitable curvature of individual mirrors. Denkbar wäre auch, die Einzelspiegel als adaptive Spiegel auszulegen, bei denen die Form der Spiegelfläche im begrenzten Umfang über geeignete Aktuatoren, beispielsweise piezoelektrisch, veränderbar ist. It is also conceivable to design the individual mirrors as an adaptive mirror, in which the shape of the mirror surface to a limited extent by means of suitable actuators, for example piezo-electrically, is variable.
  • Bei der hier dargestellten Anwendung der Erfindung ist es von entscheidender Bedeutung, dass die Verteilung des Lichtes in der Pupillenformungsfläche In the illustrated application of the invention, it is crucial that the distribution of light in the pupil shaping surface 31 31 (einer Pupillenebene des Beleuchtungssystems) in Abhängigkeit von der Struktur der Maske (A pupil plane of the illumination system), depending on the structure of the mask 66 66 in der Retikelebene in the reticle 65 65 eingestellt werden kann. can be set. Durch geeignete, computergesteuerte Ausrichtung der Einzelspiegel können alle gängigen zweidimensionalen Beleuchtungslichtverteilungen in der ersten Pupillenformungsfläche By suitable computer-controlled alignment of the individual mirrors all standard two-dimensional illumination light distributions in the first pupil shaping surface 31 31 eingestellt werden, beispielsweise konventionelle Beleuchtungen unterschiedlicher Durchmesser, annulare Settings, Quadrupol- oder Dipol-Settings. be set, for example, conventional lights of different diameter, annular settings, quadrupole or dipole settings. Anders als bei bekannten Systemen sind darüber hinaus auch beliebige andere Lichtverteilungen in der Pupillenformungsfläche Unlike prior art systems in addition, any other light distributions in the pupil shaping surface 31 31 variabel einstellbar. variably adjustable. Für den Wechsel zwischen den Settings ist kein Austausch optischer Komponenten notwendig. To switch between the settings no exchange of optical components is necessary. Vor allem kann die Lichtverteilung in der Pupillenebene Especially the light distribution in the pupil plane 31 31 ohne Zuhilfenahme von Filtern, Blenden oder anderen, Lichtverluste verursachenden Elementen eingestellt werden. be adjusted without the aid of filters, shutters or other light losses causing elements. Dies gilt insbesondere auch für andere Ausführungsformen, bei denen als Lichtmischelement ein Wabenkondensor eingesetzt wird, dessen Eintrittsseite vorzugsweise im Bereich der Pupillenformungsfläche This is particularly true for other embodiments in which a honeycomb condenser is used as light mixing element, whose inlet side is preferably in the region of the pupil shaping surface 31 31 anzuordnen ist. is to be arranged. Die gezielte Einstellbarkeit fast beliebiger Lichtverteilungen in der Pupillenformungsfläche The targeted adjustability almost any light distributions in the pupil shaping surface 31 31 kann auch dazu genutzt werden, um manche Pupilleneigenschaften wie Pupillenelliptizität oder Polbalance zu beeinflussen. can also be used in order to influence some pupils properties as Pupillenelliptizität or Polbalance. Dies kann sehr vorteilhaft sein, da die Intensitätsverteilung üblicher Laserstrahlen keineswegs die gewünschte Form mit scharfem Hell-Dunkel-Übergang (Form einer Top-Head-Funktion) hat. This can be very advantageous because the intensity distribution of conventional laser beams not having the desired shape with a sharp light-dark transition (the form of a top-head function). Bei der Ausführungsform betragen die Winkel, unter denen die Lichtstrahlen in die Pupillenebene In the embodiment, the angles under which the light beams in the pupil plane 31 31 einmünden, maximal ca. 3°. open out, a maximum of about 3 °. Dies wirkt sich positiv auf die Füllung des Stabintegrators This has a positive effect on the filling of the rod integrator 45 45 aus. out.
  • Anhand von Based on 3 3 wird eine vereinfachte Ausführungsform eines Beleuchtungssystems beschrieben. a simplified embodiment of a lighting system will be described. Bei dem Beleuchtungssystem In the lighting system 100 100 trifft das Licht einer Laser-Lichtquelle meets the light of a laser light source 111 111 unter einem Einfallswinkel von ca. 25° auf eine schräg zur optischen Achse at an incident angle of approximately 25 ° to an obliquely to the optical axis 112 112 ausgerichtete Spiegelanordnung aligned mirror assembly 120 120 mit einer Vielzahl individuell ansteuerbarer und jeweils um zwei Kippachsen verkippbarer Einzelspiegel with a plurality of individually addressable and are each tiltable about two tilting axes of the individual mirrors 121 121 . , Je kleiner hier der Anstellwinkel der Spiegelanordnung zur Einstrahlrichtung ist, desto geringer sind bei dieser Ausführungsform die Lichtverluste, da keine Mittel zur Fokussierung der Strahlung auf die Einzelspiegel vorhanden sind. The smaller this angle of attack of the mirror assembly to the irradiation, the less in this embodiment, the light losses because there is no means for focusing the radiation present on the individual mirrors. Die Spiegelanordnung The mirror assembly 120 120 dient als Ortsvariante Lichtmodulationseinrichtung und bildet die Lichtverteilungseinrichtung serves as the local variant light modulation device and forms the light distribution device 125 125 dieses Systems, wird von der Steuereinrichtung this system is, by the control device 122 122 angesteuert und hat von der Pupillenformungsfläche driven and has the pupil shaping surface 131 131 des Beleuchtungssystems, in der die gewünschte zweidimensionale Intensitätsverteilung vorliegen soll, einen so großen Abstand, dass die Pupillenformungsfläche of the illumination system, in which the desired two-dimensional intensity distribution is to present such a great distance that the pupil shaping surface 131 131 im Bereich des Fernfeldes der Spiegelanordnung in the range of the far field of the mirror assembly 120 120 liegt. lies. In diesem Fall stellt sich die gewünschte Intensitätsverteilung im Bereich der Pupillenformungsfläche In this case, the desired intensity distribution in the pupil shaping surface 131 131 automatisch ein, ohne dass die von der Spiegelanordnung automatically, without the arrangement of the mirror 120 120 abgegebene Winkelverteilung mittels einer Linse oder einer Optik vergleichbarer Wirkung durch Fourier-Transformation in eine räumliche Verteilung umgewandelt werden muss. output angle distribution by means of a lens or an optical system similar effect by Fourier transformation has to be converted into a spatial distribution. Eine der Pupillenformungsfläche One of the pupil shaping surface 131 131 nachgeschaltete Feldlinse subsequent field lens 140 140 transformiert die Intensitätsverteilung in eine nachfolgende Feldebene transforming the intensity distribution in a subsequent field plane 165 165 , in der beispielsweise eine zu beleuchtende Maske liegt, die dabei aus den gewünschten Richtungen beleuchtet wird. In which for example a mask is to be illuminated, which is illuminated from the desired directions. Eine nachfolgende Projektionsoptik A subsequent projection optics 170 170 bildet das Muster des Retikels auf einen mit einer lichtempfindlichen Beschichtung belegten Wafer in der Bildebene the pattern of the reticle forms on a coated with a photosensitive coating wafer in the image plane 180 180 des Projektionsobjektivs the projection lens 170 170 ab. from.
  • Der Aufbau des Beleuchtungssystems The structure of the lighting system 210 210 in in 4 4 ist aus dem Aufbau des in is made of the structure of the in 1 1 gezeigten Beleuchtungssystems abgeleitet, weshalb einander entsprechende Merkmale und Bauelemente entsprechende Bezugszeichen, erhöht um derived lighting system shown, which is why corresponding features and components corresponding reference numerals increased to 200 200 , aufweisen. , respectively. Unterschiede zum System gemäß Differences to the system according to 1 1 bestehen einerseits beim Aufbau der Ortsvarianten Lichtmodulationseinrichtung consist on the one hand the construction of the spatial light modulator device variants 220 220 und andererseits beim Konzept der Lichtmischung. and on the other hand, the concept of color mix. Hierzu ist bemerkenswert, dass das Beleuchtungssystem For this is noteworthy that the illumination system 210 210 ohne gesondertes Lichtmischelement, dh ohne Integratorstab oder Wabenkondensor, aufgebaut ist. is constructed without a separate light mixing element, ie without integrator rod or honeycomb condenser. Wie bei der Ausführungsform gemäß As in the embodiment according to 1 1 liegt das Licht der Laserlichtquelle is the light from the laser light source 211 211 nach Durchtritt durch einen Strahlaufweiter after passing through a beam expander 213 213 und eine zweidimensionale Rasteranordnung and a two-dimensional grid arrangement 215 215 von Teleskoplinsensystemen als Satz regelmäßig angeordneter, zueinander paralleler Strahlbündel of telescopic lens systems as a set of regularly arranged, mutually parallel beam 217 217 vor, die jeweils einen lateralen Abstand zueinander haben. before each having a lateral distance from one another. Die Strahlbündel bzw. Teilstrahlen The beams or partial beams 217 217 sind jeweils auf Einzelelemente are respectively formed on the individual elements 221 221 der Lichtmodulationseinrichtung the light modulator device 220 220 gerichtet. directed. Diese ist als elektrooptisches Element ausgebildet und hat eine Vielzahl von schaltbaren, reflektiven Beugungsgittern This is formed as electro-optical element and having a plurality of switchable reflective diffraction gratings 221 221 , die die Einzelelemente der Lichtmodulationseinrichtung bilden, in einem zweidimensionalen Raster räumlich angeordnet sind und durch die Steuereinrichtung Which form the individual elements of the light modulating means are spatially arranged in a two-dimensional grid, and by the control means 222 222 bezüglich ihrer Beugungseigenschaften unabhängig voneinander einstellbar und veränderbar sind. with respect to its diffraction properties are adjustable independently of each other and changeable. Mit Hilfe elektrischer Signale lässt sich somit die Winkelverteilung der von der Lichtmodulationseinrichtung With the aid of electrical signals from the angular distribution of the light modulator device can be 220 220 in Richtung des Zoom-Axicon-Objektivs in the direction of the zoom-axicon objective 230 230 reflektierten Strahlung variabel einstellen. Setting the reflected radiation is variable. Bei einer anderen Ausführungsform werden die Einzelelemente der Lichtmodulationseinrichtung durch akustooptische Elemente gebildet. In another embodiment, the individual elements of the light modulating means are formed by acousto-optical elements.
  • Die Lichtmodulationseinrichtung The light modulator device 220 220 ist im Bereich der Objektebene des Zoom-Axicon-Objektivs is in the object plane of the zoom axicon lens 230 230 angebracht, dessen Austrittpupille attached, whose exit pupil 231 231 die Pupillenformungsfläche des Beleuchtungssystems ist. is the pupil shaping surface of the illumination system. In der Pupillenformungsfläche In the pupil shaping surface 231 231 oder in ihrer Nähe ist ein Rasterelement or in its vicinity is a grid element 232 232 mit einer zweidimensionalen Anordnung diffraktiver oder refraktiver optischer Elemente angeordnet, das bei dieser Ausführungsform mehrere Funktionen hat. arranged with a two-dimensional array of diffractive or refractive optical elements, which has several functions in this embodiment. Einerseits wird durch das Rasterelement On the one hand through the grid element 232 232 die eintretende Strahlung so geformt, dass sie nach Durchtritt durch die nachfolgende Einkoppeloptik the incoming radiation so formed that after the passage through the subsequent coupling optics 240 240 im Bereich der Feldebene in the field level 250 250 des Beleuchtungssystems ein rechteckförmiges Beleuchtungsfeld ausleuchtet. the lighting system illuminates a rectangular illumination field. Das Rasterelement The grid element 232 232 mit rechteckiger Abstrahlcharakteristik erzeugt dabei den Hauptanteil des Lichtleitwertes und adaptiert diesen an die gewünschte Feldgröße und Feldform in der zur Retikelebene with a rectangular radiation pattern thereby producing the majority of the Lichtleitwertes and adapts it to the desired field size and shape in the field to the reticle 265 265 optisch konjugierten Feldebene optically conjugate field plane 250 250 , in der das Retikel-Masken-System angeordnet ist. In which the reticle-mask system is arranged. Das Rasterelement The grid element 232 232 kann als Prismenarray ausgeführt sein, bei dem die in einem zweidimensionalen Feld angeordneten Einzelprismen lokal bestimmte Winkel einführen, um die Feldebene may be embodied as a prism array in which arranged in a two dimensional array individual prisms introduce locally certain angle to the field plane 250 250 wie gewünscht auszuleuchten. illuminate as desired. Die durch die Einkoppeloptik By the coupling optics 240 240 durchgeführte Fourier-Transformation bewirkt, dass jeder spezifische Winkel am Austritt des Rasterelementes carried out Fourier transform causes each specific angle at the exit of the grid element 232 232 einem Ort in der Feldebene a place at the field level 250 250 entspricht, während der Ort des Rasterelementes, dh seine Position in Bezug auf die optische Achse corresponds, while the location of the grid element, that is, its position with respect to the optical axis 212 212 , den Beleuchtungswinkel in der Feldebene , The angle of illumination at the field level 250 250 bestimmt. certainly. Die von den einzelnen Rasterelementen ausgehenden Strahlbündel überlagern sich dabei in der Feldebene Emanating from the individual grid elements beams superimpose each other at the field level 250 250 . , Durch geeignete Auslegung des Rasterelementes bzw. seiner Einzelelemente kann erreicht werden, dass das Rechteckfeld in der Feldebene By appropriate design of the scanning element or of its individual elements can be achieved that the rectangular field in the field plane 250 250 im wesentlichen homogen ausgeleuchtet wird. is illuminated substantially homogeneously. Das Rasterelement The grid element 232 232 dient somit auch der Homogenisierung der Feldausleuchtung, so dass auf ein gesondertes Lichtmischelement, wie beispielsweise den Integratorstab thus also serves the homogenization of the illumination field so that a separate light mixing element, such as the integrator rod 45 45 der Ausführungsform gemäß the embodiment according to 1 1 , verzichtet werden kann. can be dispensed with. Da zwischen der Pupillenformungsfläche As between the pupil shaping surface 231 231 und der Austrittsebene and the exit plane 265 265 des Beleuchtungssystems (Retikelebene) kein gesondertes Lichtmischelement erforderlich ist, können Beleuchtungssysteme dieser Art in diesem Bereich besonders kompakt ausgeführt sein. the lighting system (reticle) no separate light mixing element is required, lighting systems of this type can be particularly compact in this area.
  • Ein Feldformungs- und Homogenisierungselement vom Typ des Rasterelementes A Feldformungs- and homogenizing the type of grid element 232 232 , welches einerseits in Kombination mit einer nachgeschalteten Fourier-Optik zur Einstellung einer Feldgröße und -form und andererseits zur Homogenisierung der Beleuchtung in diesem Feld dient, kann selbstverständlich auch bei Ausführungsform gemäß , Which on the one hand in combination with a downstream Fourier optics for adjusting a field size and shape, and on the other hand is used for homogenization of the lighting in this field, can of course also at embodiment according to 1 1 in Kombination mit einer Spiegelanordnung als Lichtmodulationseinrichtung verwendet werden. be used in combination with a mirror array as a light modulation device. In diesem Fall kann auf den Integratorstab In this case, the integrator rod 45 45 verzichtet werden. be omitted. Andererseits kann die Spiegelanordnung gemäß On the other hand, the mirror assembly may according
  • 1 1 auch durch eine elektrooptische Lichtmodulationseinrichtung mit schaltbaren Beugungsgittern oder optoakustischen Elementen ersetzt werden. also be replaced by an electro-optical light modulator device with switchable diffraction gratings or acousto-optic elements. Alternativ zu den reflektiven Beugungsgittern gemäß As an alternative to the reflective diffraction gratings according 4 4 ist auch die Verwendung von Transmissionsbeugungsgittern bei einer Lichtmodulationseinrichtung möglich. the use of transmission diffraction gratings at a light modulator device is possible.

Claims (32)

  1. Beleuchtungssystem für eine Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage zur Beleuchtung eines Beleuchtungsfeldes mit dem Licht einer primären Lichtquelle mit: einer optischen Achse ( An illumination system for a microlithography projection exposure apparatus for illuminating an illumination field with the light from a primary light source comprising: an optical axis ( 12 12 , . 112 112 , . 212 212 ) und einer Lichtverteilungseinrichtung ( ) And a light distribution device ( 25 25 , . 125 125 , . 225 225 ) zum Empfang von Licht der primären Lichtquelle ( ) (For receiving light from the primary light source 11 11 , . 111 111 , . 211 211 ) und zur Erzeugung einer variabel einstellbaren zweidimensionalen Intensitätsverteilung ( ) And (for generating a variably adjustable two-dimensional intensity distribution 35 35 ) in einer Pupillenformungsfläche ( ) (In a pupil shaping surface 31 31 , . 131 131 , . 231 231 ) des Beleuchtungssystems, wobei die Lichtverteilungseinrichtung mindestens eine Lichtmodulationseinrichtung ( ) Of the illumination system, the light distribution device (at least one light modulating device 20 20 , . 120 120 , . 220 220 ) zur steuerbaren Veränderung einer Winkelverteilung des auf die Lichtmodulationseinrichtung auftreffenden Lichtes aufweist. ) For controllably varying the angular distribution of light incident on the light modulator device light.
  2. Beleuchtungssystem nach Anspruch 1, bei dem die Lichtmodulationseinrichtung ( Lighting system according to claim 1, wherein (the light modulation means 20 20 , . 120 120 , . 220 220 ) ein Feld (Array) von individuell ansteuerbaren Einzelelementen ( ) A field (array) of individually controllable individual elements ( 21 21 , . 121 121 , . 221 221 ) zur Winkelveränderung der auf ein Einzelelemente auffallenden Strahlung aufweist. ) For angular displacement of the incident on a single element radiation.
  3. Beleuchtungssystem nach Anspruch 1 oder 2, bei dem die Lichtmodulationseinrichtung derart ausgebildet und ansteuerbar ist, dass im wesentlichen die gesamte, auf die Lichtmodulationseinrichtung auftreffende Lichtintensität in einen nutzbaren Bereich der Pupillenformungsfläche ( Lighting system according to claim 1 or 2, wherein the light modulation means is configured and controlled such that essentially (the entire incident on the light modulation means intensity of light in a useful range of the pupil shaping surface 31 31 , . 131 131 , . 231 231 ) gelenkt wird. ) Is directed.
  4. Beleuchtungssystem nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei dem zwischen der Lichtmodulationseinrichtung ( Lighting system according to one of the preceding claims, in which (between the light modulation device 20 20 , . 120 120 , . 220 220 ) und der Pupillenformungsfläche ( ) And the pupil shaping surface ( 31 31 , . 231 231 ) ein optisches System ( ) An optical system ( 30 30 , . 230 230 ) zur Umwandlung der von der Lichtmodulationsein richtung erzeugten Winkelverteilung in eine räumliche Verteilung in der Pupillenformungsfläche ( ) (For converting the angular distribution produced by the Lichtmodulationsein direction in a spatial distribution in the pupil shaping surface 31 31 , . 231 231 ) vorgesehen ist. ) is provided.
  5. Beleuchtungssystem nach Anspruch 4, bei dem das optische System ( Lighting system according to claim 4, wherein the optical system ( 30 30 , . 231 231 ) eine variabel, einstellbare Brennweite hat, die vorzugsweise stufenlos einstellbar ist. ) Has a variable, adjustable focal length, which is preferably continuously adjustable.
  6. Beleuchtungssystem nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei dem zwischen der Lichtmodulationseinrichtung ( Lighting system according to one of the preceding claims, in which (between the light modulation device 20 20 , . 220 220 ) und der Pupillenformungsfläche ( ) And the pupil shaping surface ( 31 31 , . 231 231 ) ein Axicon-System angeordnet ist. ) An axicon system is arranged.
  7. Beleuchtungssystems nach einem der Ansprüche 1 bis 3, bei dem ein Raum zwischen der Lichtmodulationseinrichtung ( Lighting system according to one of claims 1 to 3, wherein a space between the light modulation means ( 120 120 ) und der Pupillenformungsfläche ( ) And the pupil shaping surface ( 131 131 ) frei von optischen Komponenten ist. ) Is free of optical components.
  8. Beleuchtungssystem nach Anspruch 7, bei dem ein Abstand zwischen der Lichtmodulationseinrichtung ( Lighting system according to claim 7, wherein a distance between the light modulator device ( 120 120 ) und der Pupillenformungsfläche ( ) And the pupil shaping surface ( 131 131 ) derart groß ist, dass die Pupillenformungsfläche ( ) Is such large that the pupil shaping surface ( 131 131 ) im Fernfeldbereich der Lichtmodulationseinrichtung ( ) (In the far field region of the light modulation device 121 121 ) liegt. ) lies.
  9. Beleuchtungssystem nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei dem die Lichtmodulationseinrichtung eine reflektive Lichtmodulationseinrichtung ( Lighting system according to one of the preceding claims, wherein said light modulation device (a reflective light modulation device 20 20 , . 120 120 , . 220 220 ) ist, die nach Art eines Umlenkspiegels schräg zur optischen Achse ( ), The obliquely in the manner of a deflecting mirror (the optical axis 12 12 , . 112 112 , . 212 212 ) ausgerichtet ist. ) Is aligned.
  10. Beleuchtungssystem nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei dem zwischen der Lichtmodulationseinrichtung ( Lighting system according to one of the preceding claims, in which (between the light modulation device 20 20 , . 120 120 , . 220 220 ) und der Pupillenformungsfläche ( ) And the pupil shaping surface ( 31 31 , . 131 131 , . 231 231 ) ein optischer Abstand besteht, der so gewählt ist, dass die Winkel zwischen der optischen Achse ( ) Is an optical distance which is selected so that the angle between the optical axis ( 12 12 , . 112 112 , . 212 212 ) und Lichtstrahlen der Winkelverteilung im Bereich der Pupillenformungsfläche ( ) And light beams of the angular distribution in the pupil shaping surface ( 31 31 , . 131 131 , . 231 231 ) weniger als ca. 5°, insbesondere weniger als ca. 3° betragen. ) Less than about 5 °, in particular less than about 3 °.
  11. Beleuchtungssystem nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei dem die Lichtmodulationseinrichtung mindestens eine Spiegelanordnung ( Lighting system according to one of the preceding claims, wherein the light modulation means (at least one mirror assembly 20 20 , . 120 120 ) mit einem Feld von individuell steuerbaren Einzelspiegeln ( ) With a field (of individually controllable individual mirrors 21 21 , . 121 121 ) zur Veränderung einer Winkelverteilung des auf die Spiegelanordnung auftreffenden Lichtes aufweist. ) For varying an angular distribution of light incident on the mirror assembly light.
  12. Beleuchtungssystem nach Anspruch 11, bei dem mindestens ein Teil der Einzelspiegel, insbesondere alle Einzelspiegel ( Lighting system according to claim 11, wherein at least a portion of the individual mirrors, in particular all of the individual mirrors ( 21 21 ), eine ebene Spiegelfläche haben. ) Have a flat mirror surface.
  13. Beleuchtungssystem nach Anspruch 11 oder 12, bei dem mindestens ein Teil der Einzelspiegel, insbesondere alle Einzelspiegel, als gekrümmte Spiegel mit einer endlichen Spiegelbrennweite ausgebildet sind, wobei die Spiegelbrennweite vorzugsweise so bemessen ist, dass die auf die Einzelspiegel auftreffende Strahlung im wesentlichen fokussiert auf die Pupillenformungsfläche trifft. Lighting system according to claim 11 or 12, wherein at least a portion of the individual mirrors, in particular all individual mirrors are formed as a curved mirror having a finite mirror focal length, wherein the mirror focal length is preferably sized so that the light incident on the individual mirrors radiation is substantially focused on the pupil shaping surface meets.
  14. Beleuchtungssystem nach einem der Ansprüche 11 bis 13, bei dem die Einzelspiegel der Spiegelanordnung ( Lighting system according to one of claims 11 to 13, in which the individual mirror of the mirror assembly ( 20 20 , . 120 120 ) alle die gleiche Form und Größe haben. ) All have the same shape and size.
  15. Beleuchtungssystem nach einem der Ansprüche 11 bis 13, bei dem die Einzelspiegel eine erste Spiegelgruppe und mindestens eine zweite Spiegelgruppe mit jeweils einem oder mehreren Einzelspiegeln umfassen, wobei die Einzelspiegel der Spiegelgruppen unterschiedliche Größe und/oder unterschiedliche Form und/oder unterschiedliche Krümmung haben. Lighting system according to one of claims 11 to 13, in which the individual mirrors comprise a first mirror group and at least one second mirror group each having one or a plurality of individual mirrors, which have the individual mirror of the mirror groups of different size and / or different shape and / or different curvature.
  16. Beleuchtungssystem nach einem der Ansprüche 11 bis 15, bei dem mindestens ein Teil der Einzelspiegel der Spiegelanordnung eine optische Struktur, insbesondere eine diffraktive optische Struktur, zur Formung der Verteilung der von dem Einzelspiegel reflektierten Strahlung aufweist. Lighting system according to one of claims 11 to 15, wherein at least a portion of the individual mirrors of the mirror arrangement has an optical structure, in particular a diffractive optical structure to form the distribution of the reflected light from the individual mirrors radiation.
  17. Beleuchtungssystem nach einem der Ansprüche 11 bis 16, bei dem Einzelspiegel der Spiegelanordnung ( Lighting system according to one of claims 11 to 16, (in which the individual mirrors of the mirror arrangement 20 20 , . 120 120 ) relativ zu anderen Einzelspiegeln der Spiegelanordnung verkippbar sind, vorzugsweise um zwei quer zueinander verlaufende Kippachsen. ) To other individual mirrors of the mirror arrangement are relatively tilted, preferably transverse to each other extending about two tilt axes.
  18. Beleuchtungssystem nach einem der Ansprüche 1 bis 10, bei dem die Lichtmodulationseinrichtung ( Lighting system according to one of claims 1 to 10, wherein (the light modulation means 220 220 ) ein elektrooptisches Element ( ) An electro-optical element ( 220 220 ) mit einem Feld (Array) von Einzelelementen ( ) (With a field (array) of individual elements 221 221 ) ist, die als schaltbare Beugungsgitter und/oder als akustooptische Elemente ausgebildet sind. ) Is formed as a switchable diffraction grating and / or as acousto-optical elements.
  19. Beleuchtungssystem nach einem der Ansprüche 2 bis 18, bei dem zwischen der Lichtquelle und der Lichtmodulationseinrichtung eine zweidimensionale Rasteranordnung ( Lighting system according to one of claims 2 to 18, in which (a two-dimensional grid-type arrangement between the light source and the light modulator device 15 15 , . 215 215 ) von optischen Elementen zur Konzentration von auf die optischen Elemente auftreffender Strahlung auf zugeordnete Einzelelemente ( () Of optical elements for concentrating incident radiation on to the optical elements associated with individual elements 21 21 , . 221 221 ) der Lichtmodulationseinrichtung ( () Of the light modulation device 20 20 , . 220 220 ) angeordnet ist. ) Is arranged.
  20. Beleuchtungssystem nach Anspruch 19, bei dem die Rasteranordnung ( Lighting system according to claim 19, wherein (the grid assembly 15 15 , . 215 215 ) ein zweidimensionales Feld mit Teleskop-Linsensystemen ( ) A two dimensional array with telescopic lens systems ( 16 16 ) umfasst. ) Includes.
  21. Beleuchtungssystem nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei dem zwischen der Pupillenformungsfläche ( Lighting system according to one of the preceding claims, in which (between the pupil shaping surface 31 31 ) und einer Ebene ( ) And a plane ( 65 65 ) des Beleuchtungsfeldes eine Lichtmischeinrichtung ( ) Of the illumination field a light mixing device ( 45 45 ) zur Durchmischung von Licht der Intensitätsverteilung angeordnet ist. ) Is arranged for mixing the light of the intensity distribution.
  22. Beleuchtungssystem nach Anspruch 21, bei dem die Lichtmischeinrichtung mindestens einen Integratorstab ( Lighting system according to claim 21, wherein the light mixing device (at least one integrator rod 45 45 ) mit einer Eintrittsfläche ( ) (Having an entrance surface 44 44 ) umfasst und vorzugsweise die Pupillenformungsfläche ( ), And preferably (the pupil shaping surface 31 31 ) im Bereich einer vor der Eintrittsfläche liegenden Ebene liegt, die eine Fourier-transformierte Ebene zu der Eintrittsfläche ist. ) Is in the range of lying in front of the entrance surface plane that is a Fourier-transformed plane relative to the entrance face.
  23. Beleuchtungssystem nach Anspruch 21, bei dem die Lichtmischeinrichtung mindestens einen Wabenkondensor mit einer Eintrittsfläche umfasst und vorzugsweise die Pupillenformungsfläche im Bereich der Eintrittsfläche oder einer zur Eintrittsfläche optisch konjugierten Fläche liegt. Lighting system according to claim 21, wherein the light mixing device comprises at least one fly's eye condenser having an entrance surface and preferably the pupil forming surface in the area of ​​the entrance surface or an optically conjugate to the entrance surface area.
  24. Beleuchtungssystem nach Anspruch 23, gekennzeichnet durch eine Steuerung der Lichtmodulationseinrichtung derart, dass einzelne Strahlungskanäle des Wabenkondensors entweder im wesentlichen vollständig bestrahlt oder im wesentlichen vollständig unbestrahlt sind. Lighting system according to claim 23, characterized by controlling the light modulating means such that individual channels of the honeycomb condenser radiation either substantially completely exposed or substantially completely unirradiated.
  25. Beleuchtungssystem nach Anspruch 23 oder 24, bei dem dem Wabenkondensor keine Blenden zur individuellen Blockierung von Strahlungskanälen zugeordnet sind. Lighting system according to claim 23 or 24, wherein the honeycomb condenser is assigned a shutter for individually blocking radiation channels.
  26. Beleuchtungssystem nach einem der Ansprüche 1 bis 20, bei dem zwischen der Pupillenformungsfläche ( Lighting system according to one of claims 1 to 20, in which (between the pupil shaping surface 231 231 ) und einer Ebene ( ) And a plane ( 265 265 ) des Beleuchtungsfeldes kein Wabenkondensator und kein Integratorstab angeordnet ist. ) Of the illumination field no honeycomb condenser and no integrator rod is arranged.
  27. Beleuchtungssystem nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei dem in oder in der Nähe der Pupillenformungsfläche ( Lighting system according to one of the preceding claims, in which (in or near the pupil shaping surface 231 231 ) ein Rasterelement ( ) Is a grid element ( 232 232 ) zur Formung und Homogenisierung der Intensitätsverteilung in einer nachfolgenden Feldebene ( ) (For shaping and homogenization of the intensity distribution in a subsequent field plane 250 250 ) des Beleuchtungssystems angeordnet ist. ) Is arranged the illumination system.
  28. Beleuchtungssystem nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei dem zur Ansteuerung von Einzelelementen ( Lighting system according to one of the preceding claims, in which (for the control of individual elements 21 21 , . 121 121 , . 221 221 ) der Lichtmodulationseinrichtung eine Steuereinrichtung ( ) Of the light modulation means includes control means ( 22 22 , . 122 122 , . 222 222 ) vorgesehen ist, die so konfiguriert ist, dass Steuersignale zur Steuerung der Einzelelemente in Abhängigkeit von der Struktur einer zu belichtenden Maske ( ) is provided which is configured to control signals for controlling the individual elements depending on the structure of a mask to be exposed ( 66 66 ) variierbar sind. ) Are variable.
  29. Verfahren zur Herstellung von Halbleiterbauelementen und anderen fein strukturierten Bauteilen mit folgenden Schritten: Beleuchtung eines in einer Objektebene eines Projektionsobjektivs angeordneten Retikels mit Hilfe eines Beleuchtungssystems, welches mindestens eine Lichtmodulationseinrichtung mit einer Vielzahl von individuell steuerbaren Einzelelementen zur Veränderung der Winkelverteilung der auf die Lichtmodulationseinrichtung auftreffenden Strahlung aufweist; A process for the production of semiconductor components and other finely structured components, comprising the steps: illuminating a arranged in an object plane of a projection objective reticle with the aid of an illumination system having at least a light modulation device having a plurality of individually controllable individual elements for varying the angular distribution of the incident on the light modulating means radiation ; Erzeugung eines Bildes des Retikels auf einem lichtempfindlichen Substrat; Forming an image of the reticle on a photosensitive substrate; wobei der Schritt der Beleuchtung des Retikels eine Einstellung der Winkelverteilung des auf das Retikel einfallenden Lichtes durch Relativeinstellung von mindestens zwei der Einzelelemente gegeneinanderumfasst. wherein the step of illuminating the reticle gegeneinanderumfasst adjustment of the angular distribution of the incident light onto the reticle by relative adjustment of at least two of the individual elements.
  30. Verfahren nach Anspruch 29, bei dem die Lichtmodulationseinrichtung eine Spiegelanordnung mit einer Vielzahl von individuell steuerbaren Einzelspiegeln umfasst und die Relativeinstellung der Einzelelemente eine Verkippung mindestens eines der Einzel spiegel gegenüber anderen Einzelspiegeln um eine oder mehrere Kippachsen umfasst. The method of claim 29, wherein the light modulation means includes a mirror array having a plurality of individually controllable individual mirrors and the relative adjustment of the individual elements of a tilting at least one of the individual mirrors on other individual mirrors to comprising one or more pivot axes.
  31. Verfahren nach Anspruch 29, bei dem die Lichtmodulationseinrichtung eine Vielzahl von individuell steuerbaren Beugungsgittern aufweist und die Relativeinstellung unterschiedliche Änderungen der Beugungswirkungen von mindestens zwei der Beugungsgitter umfasst. The method of claim 29, wherein the light modulation means comprises a plurality of individually controllable diffraction gratings and the relative setting includes various changes in the effects of diffraction of at least two of the diffraction grating.
  32. Verfahren nach einem der Ansprüche 29 bis 31, bei dem das Beleuchtungssystem einen Wabenkondensor mit einer Vielzahl von Strahlungskanälen umfasst und bei dem die Einzelelemente derart gesteuert werden, dass Strahlungskanäle entweder im wesentlichen vollständig ausgeleuchtet oder im wesentlichen vollständig unausgeleuchtet sind. Method according to one of claims 29 to 31, wherein the illumination system comprises a honeycomb condenser with a plurality of radiation channels and in which the individual elements are controlled such that radiation channels are completely unausgeleuchtet either substantially completely illuminated or substantially.
DE2003143333 2003-09-12 2003-09-12 Illumination system for microlithography projection exposure system, has mirror arrangement with array of individual mirrors that is controlled individually by changing angular distribution of light incident on mirror arrangement Withdrawn DE10343333A1 (en)

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US10571475 US7714983B2 (en) 2003-09-12 2004-09-13 Illumination system for a microlithography projection exposure installation
EP20040765110 EP1668421A2 (en) 2003-09-12 2004-09-13 Illumination system for a microlithography projection exposure installation
US12758554 US20100195077A1 (en) 2003-09-12 2010-04-12 Illumination system for a microlithography projection exposure installation

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CN (1) CN1879062A (en)
DE (1) DE10343333A1 (en)

Cited By (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008104516A1 (en) 2007-02-28 2008-09-04 Carl Zeiss Smt Ag Imaging apparatus with replaceable shutters and method
EP1975724A1 (en) * 2007-03-30 2008-10-01 ASML Netherlands BV Lithographic apparatus and method
WO2008145568A1 (en) * 2007-06-01 2008-12-04 Carl Zeiss Smt Ag Illumination system with at least one acoustooptical mirror
EP2009501A2 (en) 2007-06-26 2008-12-31 Carl Zeiss SMT AG Method and apparatus for controlling a plurality of actuators and imaging device for lithography
DE102008001909A1 (en) 2007-07-11 2009-01-15 Carl Zeiss Smt Ag Projection exposure system, has multipolar lighting adjustment of imaging device and compensation unit is provided for compensation of image defect induced by multipolar lighting adjustment
WO2009048170A1 (en) * 2007-10-12 2009-04-16 Nikon Corporation Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
WO2009080231A1 (en) * 2007-12-21 2009-07-02 Carl Zeiss Smt Ag Illumination system for illuminating a mask in a microlithographic exposure apparatus
DE102008023763A1 (en) * 2008-05-09 2009-11-12 Carl Zeiss Smt Ag Illumination system for use in microlithographic-projection illumination system during production of semiconductor component, has Fourier optics system including ratio of overall length to bandwidth less than specific value
DE102008028416A1 (en) * 2008-06-17 2009-12-24 Carl Zeiss Smt Ag Illumination system for a projection exposure system in the Halbleiterlitographie and projection exposure system
DE102008049556A1 (en) * 2008-09-30 2010-04-01 Carl Zeiss Smt Ag Microlithographic projection exposure system
EP2203778A2 (en) * 2007-10-24 2010-07-07 Nikon Corporation Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
DE102008054844A1 (en) * 2008-12-17 2010-07-15 Carl Zeiss Smt Ag Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus, as well as microlithographic projection exposure method
DE102009000099A1 (en) * 2009-01-09 2010-07-22 Carl Zeiss Smt Ag Micromirror array with double beam arrangement and electronic actuators
DE102008050446B4 (en) * 2008-10-08 2011-07-28 Carl Zeiss SMT GmbH, 73447 Methods and devices for the control of micromirrors
US8040492B2 (en) 2007-11-27 2011-10-18 Carl Zeiss Smt Gmbh Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus
US8081295B2 (en) 2005-03-15 2011-12-20 Carl Zeiss Smt Gmbh Projection exposure method and projection exposure system therefor
US8339575B2 (en) 2006-03-07 2012-12-25 Carl Zeiss Smt Gmbh Off-axis objectives with rotatable optical element
US8446579B2 (en) 2008-05-28 2013-05-21 Nikon Corporation Inspection device and inspecting method for spatial light modulator, illumination optical system, method for adjusting the illumination optical system, exposure apparatus, and device manufacturing method
US8451427B2 (en) 2007-09-14 2013-05-28 Nikon Corporation Illumination optical system, exposure apparatus, optical element and manufacturing method thereof, and device manufacturing method
US8462317B2 (en) 2007-10-16 2013-06-11 Nikon Corporation Illumination optical system, exposure apparatus, and device manufacturing method
US8675177B2 (en) 2003-04-09 2014-03-18 Nikon Corporation Exposure method and apparatus, and method for fabricating device with light amount distribution having light larger in first and second pairs of areas
US8854601B2 (en) 2005-05-12 2014-10-07 Nikon Corporation Projection optical system, exposure apparatus, and exposure method
US9116346B2 (en) 2007-11-06 2015-08-25 Nikon Corporation Illumination apparatus, illumination method, exposure apparatus, and device manufacturing method
US9140992B2 (en) 2003-10-28 2015-09-22 Nikon Corporation Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus
US9140990B2 (en) 2004-02-06 2015-09-22 Nikon Corporation Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method
US9164209B2 (en) 2003-11-20 2015-10-20 Nikon Corporation Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method with optical member with optical rotatory power having different thicknesses to rotate linear polarization direction
US9250536B2 (en) 2007-03-30 2016-02-02 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and method
DE102016213025A1 (en) 2016-07-18 2016-09-08 Carl Zeiss Smt Gmbh Control for micromirror arrays in lithography systems

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101796460B (en) 2007-08-30 2013-05-01 卡尔蔡司Smt有限责任公司 Illumination system for illuminating a mask in a microlithographic projection exposure apparatus
DE102007043958B4 (en) 2007-09-14 2011-08-25 Carl Zeiss SMT GmbH, 73447 Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus
CN101681125B (en) 2007-10-16 2013-08-21 株式会社尼康 Illumination optical system, exposure apparatus, and device manufacturing method
JP2010004008A (en) 2007-10-31 2010-01-07 Nikon Corp Optical unit, illumination optical device, exposure apparatus, exposure method and production process of device
KR101386353B1 (en) 2008-05-09 2014-04-16 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하 Illumination system comprising a fourier optical system
EP2146248B1 (en) 2008-07-16 2012-08-29 Carl Zeiss SMT GmbH Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus
DE102009010560A1 (en) 2009-02-17 2010-08-26 Carl Zeiss Smt Ag The projection exposure method, projection exposure system, laser radiation source and bandwidth narrowing module for a laser radiation source
DE102009045217B3 (en) * 2009-09-30 2011-04-07 Carl Zeiss Smt Gmbh Catadioptric projection objective
CN102540752B (en) * 2010-12-28 2014-02-19 上海微电子装备有限公司 Photoetching illumination system
CN102859440B (en) * 2010-12-28 2015-04-22 卡尔蔡司Smt有限责任公司 Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus
DE102012218221A1 (en) * 2012-10-05 2014-04-10 Carl Zeiss Smt Gmbh Monitor system for determining orientations of mirror elements and EUV lithography system
DE102013223935A1 (en) 2013-11-22 2015-05-28 Carl Zeiss Smt Gmbh Illumination system for EUV lithography exposure
EP2876499B1 (en) * 2013-11-22 2017-05-24 Carl Zeiss SMT GmbH Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0747772A1 (en) * 1995-06-06 1996-12-11 Carl Zeiss Illumination device for a projection microlithography tool
WO2002027406A2 (en) * 2000-09-29 2002-04-04 Carl Zeiss Illumination system particularly for microlithography
US6428940B1 (en) * 1998-03-02 2002-08-06 Micronic Laser Systems Ab Method for pattern generation with improved image quality
US6469827B1 (en) * 1998-08-06 2002-10-22 Euv Llc Diffraction spectral filter for use in extreme-UV lithography condenser
US20030038225A1 (en) * 2001-06-01 2003-02-27 Mulder Heine Melle Lithographic apparatus, device manufacturing method, device manufactured thereby, control system, computer program, and computer program product

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0747772A1 (en) * 1995-06-06 1996-12-11 Carl Zeiss Illumination device for a projection microlithography tool
US6428940B1 (en) * 1998-03-02 2002-08-06 Micronic Laser Systems Ab Method for pattern generation with improved image quality
US6469827B1 (en) * 1998-08-06 2002-10-22 Euv Llc Diffraction spectral filter for use in extreme-UV lithography condenser
WO2002027406A2 (en) * 2000-09-29 2002-04-04 Carl Zeiss Illumination system particularly for microlithography
US20030038225A1 (en) * 2001-06-01 2003-02-27 Mulder Heine Melle Lithographic apparatus, device manufacturing method, device manufactured thereby, control system, computer program, and computer program product

Cited By (74)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9678437B2 (en) 2003-04-09 2017-06-13 Nikon Corporation Illumination optical apparatus having distribution changing member to change light amount and polarization member to set polarization in circumference direction
US9885959B2 (en) 2003-04-09 2018-02-06 Nikon Corporation Illumination optical apparatus having deflecting member, lens, polarization member to set polarization in circumference direction, and optical integrator
US8675177B2 (en) 2003-04-09 2014-03-18 Nikon Corporation Exposure method and apparatus, and method for fabricating device with light amount distribution having light larger in first and second pairs of areas
US9164393B2 (en) 2003-04-09 2015-10-20 Nikon Corporation Exposure method and apparatus, and method for fabricating device with light amount distribution having light larger in four areas
US9146474B2 (en) 2003-04-09 2015-09-29 Nikon Corporation Exposure method and apparatus, and method for fabricating device with light amount distribution having light larger and different linear polarization states in an on-axis area and a plurality of off-axis areas
US9760014B2 (en) 2003-10-28 2017-09-12 Nikon Corporation Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus
US9146476B2 (en) 2003-10-28 2015-09-29 Nikon Corporation Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus
US9244359B2 (en) 2003-10-28 2016-01-26 Nikon Corporation Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus
US9140992B2 (en) 2003-10-28 2015-09-22 Nikon Corporation Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus
US9423697B2 (en) 2003-10-28 2016-08-23 Nikon Corporation Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus
US9140993B2 (en) 2003-10-28 2015-09-22 Nikon Corporation Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus
US9423698B2 (en) 2003-10-28 2016-08-23 Nikon Corporation Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus
US9885872B2 (en) 2003-11-20 2018-02-06 Nikon Corporation Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method with optical integrator and polarization member that changes polarization state of light
US9164209B2 (en) 2003-11-20 2015-10-20 Nikon Corporation Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method with optical member with optical rotatory power having different thicknesses to rotate linear polarization direction
US9429848B2 (en) 2004-02-06 2016-08-30 Nikon Corporation Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method
US9140990B2 (en) 2004-02-06 2015-09-22 Nikon Corporation Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method
US9423694B2 (en) 2004-02-06 2016-08-23 Nikon Corporation Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method
US10007194B2 (en) 2004-02-06 2018-06-26 Nikon Corporation Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method
US8081295B2 (en) 2005-03-15 2011-12-20 Carl Zeiss Smt Gmbh Projection exposure method and projection exposure system therefor
US9110383B2 (en) 2005-03-15 2015-08-18 Carl Zeiss Smt Gmbh Projection exposure method and projection exposure system therefor
US9891539B2 (en) 2005-05-12 2018-02-13 Nikon Corporation Projection optical system, exposure apparatus, and exposure method
US9360763B2 (en) 2005-05-12 2016-06-07 Nikon Corporation Projection optical system, exposure apparatus, and exposure method
US9310696B2 (en) 2005-05-12 2016-04-12 Nikon Corporation Projection optical system, exposure apparatus, and exposure method
US8854601B2 (en) 2005-05-12 2014-10-07 Nikon Corporation Projection optical system, exposure apparatus, and exposure method
US9429851B2 (en) 2005-05-12 2016-08-30 Nikon Corporation Projection optical system, exposure apparatus, and exposure method
US8339575B2 (en) 2006-03-07 2012-12-25 Carl Zeiss Smt Gmbh Off-axis objectives with rotatable optical element
DE102007009867A1 (en) 2007-02-28 2008-09-11 Carl Zeiss Smt Ag Imaging device with interchangeable aperture and method therefor
WO2008104516A1 (en) 2007-02-28 2008-09-04 Carl Zeiss Smt Ag Imaging apparatus with replaceable shutters and method
US9250536B2 (en) 2007-03-30 2016-02-02 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and method
US9778575B2 (en) 2007-03-30 2017-10-03 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and method
EP1975724A1 (en) * 2007-03-30 2008-10-01 ASML Netherlands BV Lithographic apparatus and method
US8937706B2 (en) 2007-03-30 2015-01-20 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and method
WO2008145568A1 (en) * 2007-06-01 2008-12-04 Carl Zeiss Smt Ag Illumination system with at least one acoustooptical mirror
US8102506B2 (en) 2007-06-26 2012-01-24 Carl Zeiss Smt Gmbh Method and device for controlling a plurality of actuators and an illumination device for lithography
EP2009501A2 (en) 2007-06-26 2008-12-31 Carl Zeiss SMT AG Method and apparatus for controlling a plurality of actuators and imaging device for lithography
DE102008001909A1 (en) 2007-07-11 2009-01-15 Carl Zeiss Smt Ag Projection exposure system, has multipolar lighting adjustment of imaging device and compensation unit is provided for compensation of image defect induced by multipolar lighting adjustment
US8451427B2 (en) 2007-09-14 2013-05-28 Nikon Corporation Illumination optical system, exposure apparatus, optical element and manufacturing method thereof, and device manufacturing method
US9366970B2 (en) 2007-09-14 2016-06-14 Nikon Corporation Illumination optical system, exposure apparatus, optical element and manufacturing method thereof, and device manufacturing method
US9057963B2 (en) 2007-09-14 2015-06-16 Nikon Corporation Illumination optical system, exposure apparatus, optical element and manufacturing method thereof, and device manufacturing method
EP2498132A1 (en) * 2007-10-12 2012-09-12 Nikon Corporation Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
US9097981B2 (en) 2007-10-12 2015-08-04 Nikon Corporation Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
WO2009048170A1 (en) * 2007-10-12 2009-04-16 Nikon Corporation Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
CN101681117B (en) 2007-10-12 2014-05-14 株式会社尼康 Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
US8462317B2 (en) 2007-10-16 2013-06-11 Nikon Corporation Illumination optical system, exposure apparatus, and device manufacturing method
US8508717B2 (en) 2007-10-16 2013-08-13 Nikon Corporation Illumination optical system, exposure apparatus, and device manufacturing method
EP2203778A2 (en) * 2007-10-24 2010-07-07 Nikon Corporation Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
US9857599B2 (en) 2007-10-24 2018-01-02 Nikon Corporation Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
US9057877B2 (en) 2007-10-24 2015-06-16 Nikon Corporation Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
EP2203778B1 (en) * 2007-10-24 2016-09-14 Nikon Corporation Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
US8379187B2 (en) 2007-10-24 2013-02-19 Nikon Corporation Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
US9341954B2 (en) 2007-10-24 2016-05-17 Nikon Corporation Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
US9678332B2 (en) 2007-11-06 2017-06-13 Nikon Corporation Illumination apparatus, illumination method, exposure apparatus, and device manufacturing method
US9116346B2 (en) 2007-11-06 2015-08-25 Nikon Corporation Illumination apparatus, illumination method, exposure apparatus, and device manufacturing method
US8040492B2 (en) 2007-11-27 2011-10-18 Carl Zeiss Smt Gmbh Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus
US9599904B2 (en) 2007-12-21 2017-03-21 Carl Zeiss Smt Gmbh Illumination system for illuminating a mask in a microlithographic exposure apparatus
US9977333B2 (en) 2007-12-21 2018-05-22 Carl Zeiss Smt Gmbh Illumination system for illuminating a mask in a microlithographic exposure apparatus
WO2009080231A1 (en) * 2007-12-21 2009-07-02 Carl Zeiss Smt Ag Illumination system for illuminating a mask in a microlithographic exposure apparatus
US8467031B2 (en) 2007-12-21 2013-06-18 Carl Zeiss Smt Gmbh Illumination system for illuminating a mask in a microlithographic exposure apparatus
US9310694B2 (en) 2007-12-21 2016-04-12 Carl Zeiss Smt Gmbh Illumination system for illuminating a mask in a microlithographic exposure apparatus
EP2388649A1 (en) * 2007-12-21 2011-11-23 Carl Zeiss SMT GmbH Illumination system for illuminating a mask in a microlithographic exposure apparatus
DE102008023763A1 (en) * 2008-05-09 2009-11-12 Carl Zeiss Smt Ag Illumination system for use in microlithographic-projection illumination system during production of semiconductor component, has Fourier optics system including ratio of overall length to bandwidth less than specific value
US8456624B2 (en) 2008-05-28 2013-06-04 Nikon Corporation Inspection device and inspecting method for spatial light modulator, illumination optical system, method for adjusting the illumination optical system, exposure apparatus, and device manufacturing method
US8446579B2 (en) 2008-05-28 2013-05-21 Nikon Corporation Inspection device and inspecting method for spatial light modulator, illumination optical system, method for adjusting the illumination optical system, exposure apparatus, and device manufacturing method
DE102008028416A1 (en) * 2008-06-17 2009-12-24 Carl Zeiss Smt Ag Illumination system for a projection exposure system in the Halbleiterlitographie and projection exposure system
DE102008049556B4 (en) * 2008-09-30 2011-07-07 Carl Zeiss SMT GmbH, 73447 Microlithographic projection exposure system
DE102008049556A1 (en) * 2008-09-30 2010-04-01 Carl Zeiss Smt Ag Microlithographic projection exposure system
US8345224B2 (en) 2008-10-08 2013-01-01 Carl Zeiss Smt Gmbh Methods and devices for driving micromirrors
DE102008050446B4 (en) * 2008-10-08 2011-07-28 Carl Zeiss SMT GmbH, 73447 Methods and devices for the control of micromirrors
DE102008054844A1 (en) * 2008-12-17 2010-07-15 Carl Zeiss Smt Ag Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus, as well as microlithographic projection exposure method
DE102008054844B4 (en) * 2008-12-17 2010-09-23 Carl Zeiss Smt Ag Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus, as well as microlithographic projection exposure method
US8351023B2 (en) 2008-12-17 2013-01-08 Carl Zeiss Smt Gmbh Illumination device of a microlithographic projection exposure apparatus, and microlithographic projection exposure method
US9013676B2 (en) 2009-01-09 2015-04-21 Carl Zeiss Smt Gmbh Individual mirror for constructing a faceted mirror, in particular for use in a projection exposure system for microlithography
DE102009000099A1 (en) * 2009-01-09 2010-07-22 Carl Zeiss Smt Ag Micromirror array with double beam arrangement and electronic actuators
DE102016213025A1 (en) 2016-07-18 2016-09-08 Carl Zeiss Smt Gmbh Control for micromirror arrays in lithography systems

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CN1879062A (en) 2006-12-13 application

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