DE102018109337A1

DE102018109337A1 - Method for producing a TCO layer and article with a TCO coating

Info

Publication number: DE102018109337A1
Application number: DE102018109337.3A
Authority: DE
Inventors: Anmelder Gleich
Original assignee: Individual
Current assignee: Domnick Ralph Dr De
Priority date: 2018-04-19
Filing date: 2018-04-19
Publication date: 2019-10-24

Abstract

Eine transparente, elektrisch leitfähige Oxid-Beschichtung (TCO-Beschichtung), insbesondere Indiumzinnoxid-Beschichtung (ITO-Beschichtung), wird folgendermaßen auf ein Substrat, beispielsweise einen Gegenstand aus Metall oder Glas, aufgebracht:
- Ein flächiges, transparentes, flexibles oder starres Trägerobjekt (4) wird bereitgestellt,
- auf das Trägerobjekt (4) wird im PVD-Verfahren eine metallische Absorptionsschicht (5), insbesondere Zinnschicht, sowie eine TCO-Schicht (6) aufgebracht,
- das Trägerobjekt (4) wird auf einem Substrat (7) platziert,
- Material der TCO-Schicht (6) wird durch Laserbestrahlung vom Trägerobjekt (4) auf das Substrat (7) transferiert.

A transparent, electrically conductive oxide coating (TCO coating), in particular indium tin oxide coating (ITO coating), is applied to a substrate, for example a metal or glass article, as follows:
A flat, transparent, flexible or rigid carrier object (4) is provided,
- On the support object (4), a metallic absorption layer (5), in particular tin layer, and a TCO layer (6) is applied in the PVD method,
the carrier object (4) is placed on a substrate (7),
- Material of the TCO layer (6) is transferred by laser irradiation from the carrier object (4) on the substrate (7).

Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung einer TCO-Schicht, das heißt einer transparenten, elektrisch leitfähigen Schicht, insbesondere einer Indiumzinnoxid-Schicht (ITO-Schicht), auf einem Substrat. Ferner betrifft die Erfindung einen Gegenstand mit einer TCO-Beschichtung, insbesondere einer ITO-Beschichtung.The invention relates to a method for producing a TCO layer, that is to say a transparent, electrically conductive layer, in particular an indium tin oxide layer (ITO layer), on a substrate. Furthermore, the invention relates to an article with a TCO coating, in particular an ITO coating.

Ein Verfahren zur Herstellung einer optisch streuenden TCO-Schicht auf einem Substrat ist beispielsweise aus der DE 10 2011 005 757 B3 bekannt. Die TCO-Schicht soll durch Ätzen strukturierbar sein.A method for producing an optically scattering TCO layer on a substrate is, for example, from DE 10 2011 005 757 B3 known. The TCO layer should be structurable by etching.

Als TCO (Transparent Conductive Oxides)-Schichten werden elektrisch leitfähige Beschichtungen mit einer geringen Absorption von elektromagnetischen Wellen im Bereich des sichtbaren Lichts bezeichnet. Beispiele für transparente leitfähige Oxide sind Indiumzinnoxid (ITO, Indium Tin Oxide), Flourzinnoxid (FTO), Aluminiumzinkoxid (AZO) und Antimonzinnoxid (ATO).Transparent Conductive Oxide (TCO) layers are electrically conductive coatings with low absorption of visible light electromagnetic waves. Examples of transparent conductive oxides are Indium Tin Oxide (ITO), Floortine Oxide (FTO), Aluminum Zinc Oxide (AZO) and Antimony Tin Oxide (ATO).

Ein Verfahren zum Herstellen einer ITO-Schicht ist zum Beispiel in der DE 10 2009 031 483 A1 beschrieben. Im Rahmen dieses Verfahrens werden verschiedene Metalle aus örtlich getrennten Behältern derart verdampft, dass sich die Abdampfkeulen der verdampften Metalle mischen.A method for producing an ITO layer is disclosed, for example, in U.S. Pat DE 10 2009 031 483 A1 described. As part of this process, various metals from locally separated containers are vaporized in such a way that the evaporation lumps of the evaporated metals mix.

Ein weiteres Verfahren zur Herstellung einer ITO-Schicht ist aus der DE 10 2014 003 599 A1 bekannt. In diesem Fall befindet sich eine Indium-Zinn-Oxid-Schicht zunächst auf einem Donorband. Durch Temperatureinwirkung ist die Übertragung von ITO vom Donorband auf ein Substrat vorgesehen.Another method for producing an ITO layer is known from DE 10 2014 003 599 A1 known. In this case, an indium tin oxide layer is initially on a donor ribbon. Due to the effect of temperature, the transfer of ITO from the donor ribbon to a substrate is provided.

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, gegenüber dem Stand der Technik erweiterte Möglichkeiten der Erzeugung von TCO-Schichten, insbesondere ITO-Schichten, anzugeben.The invention is based on the object, compared to the prior art extended possibilities of generating TCO layers, in particular ITO layers specify.

Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß gelöst durch ein Verfahren zum Beschichten eines Substrats mit einer TCO-Schicht, insbesondere ITO-Schicht, gemäß Anspruch 1. Mit diesem Verfahren ist ein Gegenstand nach Anspruch 9 herstellbar. Im Folgenden im Zusammenhang mit dem Gegenstand erläuterte Ausgestaltungen und Vorteile der Erfindung gelten sinngemäß auch für das Beschichtungsverfahren und umgekehrt.This object is achieved by a method for coating a substrate with a TCO layer, in particular ITO layer, according to claim 1. With this method, an article according to claim 9 can be produced. Embodiments and advantages of the invention explained below in connection with the subject matter apply mutatis mutandis to the coating method and vice versa.

Das Beschichtungsverfahren umfasst folgende Schritte:

- Ein flächiges, transparentes Trägerobjekt wird bereitgestellt,
- auf das Trägerobjekt wird im PVD-Verfahren eine metallische Absorptionsschicht sowie eine Schicht aus transparentem, elektrisch leitfähigem Material, das heißt eine TCO-Schicht, insbesondere Indiumzinnoxid-Schicht, aufgebracht,
- das Trägerobjekt wird auf einem Substrat, das heißt zu beschichtendem Gegenstand, platziert,
- das transparente, elektrisch leitfähige Material, insbesondere Indiumzinnoxid, wird durch Laserbestrahlung vom Trägerobjekt auf das Substrat transferiert.

The coating process comprises the following steps:

A flat, transparent carrier object is provided,
a metallic absorption layer and a layer of transparent, electrically conductive material, ie a TCO layer, in particular indium tin oxide layer, are applied to the carrier object in the PVD method,
the carrier object is placed on a substrate, that is to be coated,
- The transparent, electrically conductive material, in particular indium tin oxide, is transferred by laser irradiation from the carrier object to the substrate.

Bei dem flächigen Trägerobjekt kann es sich entweder um ein starres oder um ein flexibles Objekt handeln. Das im PVD (Physical Vapor Deposition)-Verfahren, das heißt durch physikalische Gasphasenabscheidung, beschichtete Trägerobjekt wird auch als Donorobjekt bezeichnet. Zum Thema PVD-Verfahren wird beispielhaft auf das Dokument DE 101 59 907 A1 hingewiesen.The flat carrier object can either be a rigid object or a flexible object. The carrier object coated in the PVD (Physical Vapor Deposition) method, that is to say by physical vapor deposition, is also referred to as donor object. The PVD procedure is exemplified by the document DE 101 59 907 A1 pointed.

Bei der Absorptionsschicht, welche zunächst auf das Trägerobjekt aufgebracht wird, handelt es sich vorzugsweise um eine Zinnschicht. Die Dicke der Absorptionsschicht beträgt in bevorzugter Ausgestaltung mindestens 10 nm und maximal 250 nm beispielsweise ca. 125 nm.The absorption layer, which is first applied to the carrier object, is preferably a tin layer. The thickness of the absorption layer is in a preferred embodiment at least 10 nm and at most 250 nm, for example, about 125 nm.

Die TCO-Schicht, insbesondere ITO-Schicht, welche im PVD-Verfahren auf die Absorptionsschicht, insbesondere Zinnschicht, aufgebracht wird, weist vorzugsweise eine Dicke von mindestens 150 nm und maximal 1 µm, beispielsweise eine Dicke von 300 nm, auf.The TCO layer, in particular ITO layer, which is applied in the PVD method to the absorption layer, in particular tin layer, preferably has a thickness of at least 150 nm and at most 1 .mu.m, for example, a thickness of 300 nm.

Um das elektrisch leitfähige transparente Oxid vom Donorobjekt auf das zu beschichtende Substrat zu übertragen, wird die beschichtete Seite des Trägerobjektes auf das Substrat aufgelegt, so dass die TCO-Schicht die Substratoberfläche möglichst flächig kontaktiert. Bei der anschließenden Laserbestrahlung durchdringt der Laserstrahl das Trägerobjekt nahezu unbeeinflusst, bis er auf die Absorptionsschicht, insbesondere Zinnschicht, trifft. Die Energie der Laserstrahlung wird nahezu vollständig in der Absorptionsschicht aufgenommen. Als Laser ist besonders ein Infrarotlaser, beispielsweise Nd-YAG-Laser, geeignet. Durch die Laserbestrahlung verdampft das Absorptionsmaterial, sodass die TCO-Schicht, insbesondere ITO-Schicht, vom Trägerobjekt abgelöst und auf das Substrat übertragen wird.In order to transfer the electrically conductive transparent oxide from the donor object to the substrate to be coated, the coated side of the carrier object is placed on the substrate, so that the TCO layer contacts the substrate surface as extensively as possible. In the subsequent laser irradiation, the laser beam penetrates the support object almost unaffected until it strikes the absorption layer, in particular the tin layer. The energy of the laser radiation is almost completely absorbed in the absorption layer. Particularly suitable lasers are an infrared laser, for example Nd-YAG lasers. As a result of the laser irradiation, the absorption material evaporates, so that the TCO layer, in particular the ITO layer, is detached from the carrier object and transferred to the substrate.

Es hat sich gezeigt, dass auf diese Art wahlweise eine transparente oder metallisch reflektierende Schicht mit rauer Oberfläche erzeugbar ist, welche sehr haftfest mit der Oberfläche des Substrats verbunden ist. Die Verfahrensparameter sind dabei derart einstellbar, dass wahlweise eine transparente oder eine reflektierende Beschichtung entsteht.It has been shown that in this way either a transparent or metallically reflecting layer with a rough surface can be produced, which adheres very firmly to the surface of the substrate connected is. The process parameters are adjustable so that either a transparent or a reflective coating is formed.

Überraschenderweise hat sich gezeigt, dass die auf das Substrat übertragene TCO-Schicht derart rau ist, dass sie stark ausgeprägte hydrophobe Eigenschaften hat. Befinden sich Wassertropfen auf der beschichteten Substratoberfläche, so kommt es zu keiner oder nur einer minimalen Benetzung der Oberfläche. Die Tropfen weisen sehr hohe Kontaktwinkel von deutlich über 90 Grad auf, was eine Abweisung von der Oberfläche bedeutet. Dieser Effekt ist prinzipiell als Lotus-Effekt bekannt. Hinsichtlich dieses Effekts wird beispielhaft auf die DE 101 38 036 A1 hingewiesen.Surprisingly, it has been found that the TCO layer transferred to the substrate is so rough that it has pronounced hydrophobic properties. If there are drops of water on the coated substrate surface, there is no or only minimal wetting of the surface. The drops have very high contact angles of well over 90 degrees, which means a rejection from the surface. This effect is known in principle as a lotus effect. With regard to this effect is exemplified in the DE 101 38 036 A1 pointed.

Der TCO-beschichtete Gegenstand zeichnet sich nicht nur durch hydrophobe Eigenschaften der Beschichtung aus, sondern auch durch eine hohe Abriebbeständigkeit und Haftfestigkeit. Die TCO-Beschichtung kann beispielsweise auf Brillengläser oder Fensterscheiben aufgebracht werden. Aufgrund der Transparenz sowie der geringen Dicke der TCO-Schicht, insbesondere ITO-Schicht, tritt keine störende Eigenabsorption auf. Sofern reflektierende Eigenschaften der Schicht gewünscht sind, kann zusammen mit der TCO-Schicht eine metallische Schicht übertragen werden. Auch in diesem Fall zeichnet sich die Schicht durch eine hohe Langzeitbeständigkeit und hydrophobe Eigenschaften aus.The TCO-coated article is not only characterized by hydrophobic properties of the coating, but also by a high abrasion resistance and adhesion. The TCO coating can be applied, for example, to spectacle lenses or window panes. Due to the transparency and the small thickness of the TCO layer, in particular ITO layer, no disturbing intrinsic absorption occurs. If reflective properties of the layer are desired, a metallic layer can be transferred together with the TCO layer. Also in this case, the layer is characterized by a high long-term stability and hydrophobic properties.

Die per Laserbestrahlung auf das Substrat übertragene TCO-Schicht wirkt nicht nur auf Wasser, sondern auch auf andere flüssige Stoffe abweisend. Diese flüssigkeitsabweisenden Eigenschaften der Schicht, insbesondere ITO-Schicht, bleiben selbst bei mechanischer Beanspruchung der Beschichtung erhalten. Im Fall einer Anwendung bei Brillengläsern wirkt die Beschichtung dem Beschlagen entgegen.The TCO layer transferred to the substrate by laser irradiation not only acts on water but also repels other liquid substances. These liquid-repellent properties of the layer, in particular ITO layer, are retained even under mechanical stress on the coating. In the case of use in spectacle lenses, the coating counteracts misting.

Mit dem Beschichtungsverfahren können wahlweise strukturierte oder nicht strukturierte, das heißt vollflächige, Beschichtungen erzeugt werden. Eine strukturierte Beschichtung kann beispielsweise in Form von Leiterbahnen gestaltet sein. Ein durch eine solche Leiterbahn fließende elektrischer Strom heizt die Beschichtung auf, womit die hydrophoben, schmutzabweisenden Eigenschaften (easy-to-clean) und die Antibeschlagseigenschaften (antifog) verstärkt werden können.With the coating process, it is optionally possible to produce structured or non-structured, ie full-surface, coatings. A structured coating can be designed for example in the form of conductor tracks. An electric current flowing through such a track heats up the coating, whereby the hydrophobic, dirt-repellent properties (easy-to-clean) and antifogging properties (antifog) can be enhanced.

Auch transparente Behälter für Flüssigkeiten können mit dem erfindungsgemäßen Verfahren derart mit einer TCO-Schicht beschichtet werden, dass die Beschichtung als elektrische Heizung nutzbar ist. Damit ist eine besonders großflächige, gleichmäßige Beheizung der Flüssigkeit sowie eine präzise Temperaturregelung möglich.Transparent containers for liquids can also be coated with a TCO layer using the method according to the invention such that the coating can be used as an electrical heater. This is a particularly large, uniform heating of the liquid and a precise temperature control possible.

Die TCO-Schicht kann beispielsweise auf Glas, Kunststoff, Keramik oder Metall aufgebracht werden. Im Fall einer Beschichtung von Glas sind besonders günstige Anti-Reflex-Eigenschaften erzielbar. Während bei einer herkömmlichen Glasoberfläche ein Teil des einfallenden Lichtes reflektiert wird, wird im Fall der TCO-Schicht einfallendes Licht diffus gestreut. Auf den transmittierten Teil des Lichts ist dies praktisch ohne Einfluss.The TCO layer can for example be applied to glass, plastic, ceramic or metal. In the case of a coating of glass, particularly favorable anti-reflex properties can be achieved. While part of the incident light is reflected in a conventional glass surface, in the case of the TCO layer, incident light is diffused diffusely. This is practically without influence on the transmitted part of the light.

Nachfolgend werden Ausführungsbeispiele der Erfindung anhand einer Zeichnung näher erläutert. Hierin zeigen, teils schematisiert:

1 eine Vorrichtung zur Beschichtung eines Substrats mit einer transparenten elektrisch leitfähigen Schicht (TCO-Schicht),
2 und 3 jeweils einen mit der Vorrichtung nach 1 beschichteten Gegenstand.

Embodiments of the invention will be explained in more detail with reference to a drawing. Herein show, partly schematized:

1 a device for coating a substrate with a transparent electrically conductive layer (TCO layer),
2 and 3 one with the device after 1 coated object.

Die folgenden Erläuterungen beziehen sich, soweit nicht anders angegeben, auf sämtliche Ausführungsbeispiele.Unless otherwise stated, the following explanations relate to all exemplary embodiments.

Ein insgesamt mit dem Bezugszeichen 1 gekennzeichnetes Beschichtungssystem umfasst einen Beschriftungslaser 2, bei dem es sich um einen Nd-YAG-Laser handelt, der einen Laserstrahl L im Infrarotbereich (Wellenlänge > 1000 nm) emittiert.A total with the reference numeral 1 characterized coating system comprises a labeling laser 2 , which is a Nd-YAG laser that uses a laser beam L emitted in the infrared range (wavelength> 1000 nm).

Der Laserstrahl L trifft auf ein Donorobjekt 3, welches auf einem Substrat 7 aufliegt. Das Donorobjekt 3 ist gebildet durch ein für die Laserstrahlung L transparentes Trägerobjekt 4, welches mit einer Absorptionsschicht 5 sowie mit einer TCO-Schicht 6 beschichtet ist.The laser beam L meets a donor object 3 which is on a substrate 7 rests. The donor object 3 is formed by a for the laser radiation L transparent carrier object 4 , which with an absorption layer 5 as well as with a TCO layer 6 is coated.

Als Trägerobjekt 4 wird in den Ausführungsbeispielen eine Kunststofffolie, nämlich PET-Folie, verwendet. Alternativ könnte es sich beim Trägerobjekt 4 um eine Glasplatte handeln. In jedem Fall wird der Laserstrahl L nur zu einem geringen Teil im Trägerobjekt 4 absorbiert. Der Laserstrahl L dringt von der unbeschichteten Seite des Donorobjektes 3 in dieses ein. Die Absorption des Laserstrahls L erfolgt größtenteils in der Absorptionsschicht 5. In den Ausführungsbeispielen dient eine Zinnschicht als Absorptionsschicht 5. Die Dicke der Zinnschicht 5 beträgt 125 nm. Auf der Absorptionsschicht 5 befindet sich die TCO-Schicht 6, bei welcher es sich in den Ausführungsbeispielen um eine Idiumzinnoxidschicht (ITO-Schicht) handelt. Die Dicke der ITO-Schicht 6 beträgt 300 nm.As a carrier object 4 In the exemplary embodiments, a plastic film, namely PET film, is used. Alternatively, it could be the carrier object 4 to act around a glass plate. In any case, the laser beam L only to a small extent in the carrier object 4 absorbed. The laser beam L penetrates from the uncoated side of the donor object 3 into this one. The absorption of the laser beam L takes place mostly in the absorption layer 5 , In the embodiments, a tin layer serves as the absorption layer 5 , The thickness of the tin layer 5 is 125 nm. On the absorption layer 5 is the TCO layer 6 which is an idium tin oxide layer (ITO layer) in the embodiments. The thickness of the ITO layer 6 is 300 nm.

Die Absorptionsschicht 5 sowie die TCO-Schicht 6 sind im PVD-Verfahren auf das Trägerobjekt 4 aufgebracht. Die Dicke des Trägerobjektes 4 ist größer als die Summe aus der Dicke der Absorptionsschicht 5 und der Dicke der TCO-Schicht 6.The absorption layer 5 as well as the TCO layer 6 are in the PVD process on the carrier object 4 applied. The thickness of the carrier object 4 is greater than the sum of the thickness of the absorption layer 5 and the thickness of the TCO layer 6 ,

Als Substrat 7 ist in den Ausführungsbeispielen ein Gegenstand aus Glas vorgesehen. Alternativ könnte zum Beispiel ein Gegenstand aus Keramik oder aus Metall als Substrat 7 verwendet werden. In jedem Fall liegt das Donorobjekt 3 derart auf dem Substrat 7 auf, dass praktisch kein Abstand zwischen Donorobjekt 3 und Substrat 7 gegeben ist. As a substrate 7 In the embodiments, an object made of glass is provided. Alternatively, for example, a ceramic or metal article could be used as the substrate 7 be used. In any case, the donor object lies 3 such on the substrate 7 on that virtually no distance between donor object 3 and substrate 7 given is.

Das durch die Laserstrahlung L verdampfende Material der Absorptionsschicht 5 sorgt dafür, dass die TCO-Schicht 6 vom Donorobjekt 3 gelöst und auf das Substrat 7 übertragen wird. Diese Übertragung kann wahlweise flächig oder strukturiert, etwa in Form von Leiterbahnen, geschehen. Das Ergebnis der Übertragung hängt von den Parametern der Laserbestrahlung ab, wie in den 2 und 3 veranschaulicht ist. Im Fall von 2 wird praktisch ausschließlich Indiumzinnoxid als TCO-Schicht 6 auf das Substrat 7 übertragen. Die TCO-Schicht 6 ist in diesem Fall als transparente Schicht ausgebildet. Im Unterschied hierzu ist gemäß 3 eine TCO-Schicht 6 auf dem Substrat 7 gebildet, welche Einlagerungen 8 enthält, die für reflektierende Eigenschaften der TCO-Schicht 6 sorgen. Die Darstellung der Einlagerungen 8 innerhalb der TCO-Schicht 6, wie in 3 visualisiert, ist als symbolisch zu verstehen.That by the laser radiation L evaporating material of the absorption layer 5 ensures that the TCO layer 6 from the donor object 3 solved and on the substrate 7 is transmitted. This transfer can either be flat or structured, for example in the form of printed conductors done. The result of the transmission depends on the parameters of the laser irradiation, as in the 2 and 3 is illustrated. In case of 2 is almost exclusively indium tin oxide as a TCO layer 6 on the substrate 7 transfer. The TCO layer 6 is formed in this case as a transparent layer. In contrast to this is according to 3 a TCO layer 6 on the substrate 7 formed, what storages 8th contains, for reflecting properties of the TCO layer 6 to care. The representation of the storages 8th within the TCO layer 6 , as in 3 visualized, is to be understood as symbolic.

Sowohl in der Ausgestaltung nach 2 als auch in der Ausgestaltung nach 3 ist durch die TCO-Schicht 6 eine raue, hydrophobe Oberfläche gebildet. Die auf dem Substrat 7 aufgebrachte TCO-Schicht 6 zeichnet sich damit durch eine ausgeprägte Schmutzunempfindlichkeit aus. Gleichzeitig ist die TCO-Schicht 6 äußerst widerstandsfähig gegen Abrieb. Hierbei ist die geringe Dicke der TCO-Schicht 6 von Vorteil. Im Fall einer nicht vollflächigen Beschichtung des Substrats 7 sind zwischen den unbeschichteten und den beschichteten Bereichen praktisch keine Stufen gebildet, da die gesamte Schichtdicke der TCO-Schicht 6 deutlich weniger als 1 um beträgt.Both in the embodiment 2 as well as in the embodiment 3 is through the TCO layer 6 a rough, hydrophobic surface formed. The on the substrate 7 applied TCO layer 6 is characterized by a pronounced dirt resistance. At the same time is the TCO layer 6 extremely resistant to abrasion. Here, the small thickness of the TCO layer 6 advantageous. In the case of a non-all-over coating of the substrate 7 are formed between the uncoated and the coated areas virtually no steps, since the entire layer thickness of the TCO layer 6 is significantly less than 1 micron.

BezugszeichenlisteLIST OF REFERENCE NUMBERS

11: Beschichtungssystemcoating system
22: Beschriftungslasermarking lasers
33: DonorobjektDonorobjekt
44: Trägerobjektcarrier object
55: Absorptionsschichtabsorbing layer
66: TCO-SchichtTCO layer
77: Substratsubstratum
88th: Einlagerung warehousing
LL: Laserstrahlunglaser radiation

ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG QUOTES INCLUDE IN THE DESCRIPTION

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Zitierte PatentliteraturCited patent literature

DE 102011005757 B3 [0002]
DE 102009031483 A1 [0004]
DE 102014003599 A1 [0005]
DE 10159907 A1 [0009]
DE 10138036 A1 [0014]

Claims

Process for coating a substrate with a transparent conductive oxide layer (TCO layer), comprising the following steps: A flat, transparent carrier object (4) is provided, on the carrier object (4), a metallic absorption layer (5) and a TCO layer (6) is applied in the PVD method, the carrier object (4) is placed on a substrate (7), - Material of the TCO layer (6) is transferred by laser irradiation from the carrier object (4) on the substrate (7).

Method according to Claim 1 , characterized in that a tin layer is provided as the absorption layer (5).

Method according to Claim 1 or 2 , characterized in that the absorption layer (5) has a thickness of at least 10 nm and at most 250 nm.

Method according to one of Claims 1 to 3 , characterized in that the TCO layer (6) on the carrier object (4) has a thickness of at least 150 nm and at most 1 μm.

Method according to one of Claims 1 to 4 , characterized in that for the transfer of material of the TCO layer (6), an infrared laser (2), in particular Nd-YAG laser, is used.

Method according to one of Claims 1 to 5 , characterized in that a carrier foil is used as the carrier object (4).

Method according to one of Claims 1 to 5 , characterized in that a carrier object (4) made of glass is used.

Method according to one of Claims 1 to 7 , characterized in that as the transparent conductive oxide layer (6) an indium tin oxide layer (ITO layer) is used.

An article having a hydrophobic TCO coating (6), in particular indium tin oxide coating, produced by the process according to Claim 1 ,

Subject to Claim 9 , characterized in that the TCO coating (6), in particular indium tin oxide coating, is predominantly transparent.

Subject to Claim 9 , characterized in that the TCO coating (6), in particular indium tin oxide coating, is predominantly reflective.