DE102014204159B3 - RF electrode device - Google Patents

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DE102014204159B3 DE102014204159.7A DE102014204159A DE102014204159B3 DE 102014204159 B3 DE102014204159 B3 DE 102014204159B3 DE 102014204159 A DE102014204159 A DE 102014204159A DE 102014204159 B3 DE102014204159 B3 DE 102014204159B3
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Klaus Vissing
Ralph Wilken
Levent Özkan
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Abstract

Die vorliegende Erfindung betrifft eine Hochfrequenzelektrodenvorrichtung für eine Niederdruck-Plasmabearbeitungsvorrichtung und eine Niederdruck-Plasmabearbeitungsvorrichtung mit einer solchen Hochfrequenzelektrodenvorrichtung sowie ein Verfahren zur Bereitstellung einer Hochfrequenzelektrodenvorrichtung für eine Niederdruck-Plasmabearbeitungsvorrichtung. Um eine einfache und schnelle Handhabung erlaubende Flexibilität zu erreichen, bei der weder die Funktionalität noch die Haltbarkeit der Elektrode durch ungewollte Plasmaeinwirkungen eingeschränkt wird, wird eine Hochfrequenzelektrodenvorrichtung für eine Niederdruck-Plasmabearbeitungsvorrichtung vorgeschlagen: mit einem ersten und einem zweiten Elektrodenelement, die relativ zueinander beweglich sind und von denen eines für einen festen Anschluss an eine Hochfrequenzquelle der Niederdruck-Plasmabearbeitungsvorrichtung ausgestaltet ist, wobei das erste Elektrodenelement eine erste Kontaktfläche aufweist und das zweite Elektrodenelement eine zweite Kontaktfläche aufweist, die der ersten Kontaktfläche gegenüberliegt und im Betriebszustand in elektrischem Flächenkontakt mit der ersten Kontaktfläche ist, wobei eines der Elektrodenelemente ein Bewegungselement aufweist und das andere der Elektrodenelemente eine Führung für das Bewegungselement aufweist, wobei das Bewegungselement und die Führung eine relative Bewegung der Elektrodenelemente erlauben, mit der die Elektrodenelemente in den Betriebszustand gebracht werden können, wobei das Bewegungselement und wenigstens ein Teil der Führung im Betriebszustand durch den Flächenkontakt gegenüber Plasma abgeschirmt sind.The present invention relates to a high-frequency electrode apparatus for a low-pressure plasma processing apparatus and a low-pressure plasma processing apparatus having such a high-frequency electrode apparatus, and a method for providing a high-frequency electrode apparatus for a low-pressure plasma processing apparatus. In order to achieve a flexibility allowing easy and quick handling, in which neither the functionality nor the durability of the electrode is restricted by unwanted plasma effects, a high-frequency electrode device is proposed for a low-pressure plasma processing apparatus having a first and a second electrode element which are movable relative to each other and one of which is configured for fixed connection to a high frequency source of the low pressure plasma processing apparatus, the first electrode member having a first contact surface and the second electrode member having a second contact surface opposite the first contact surface and in operative contact with the first contact surface wherein one of the electrode elements has a moving element and the other of the electrode elements has a guide for the moving element, wherein the moving element nt and the guide allow a relative movement of the electrode elements, with which the electrode elements can be brought into the operating state, wherein the moving member and at least a part of the guide are shielded in the operating state by the surface contact to plasma.

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft eine Hochfrequenzelektrodenvorrichtung für eine Niederdruck-Plasmabearbeitungsvorrichtung und eine Niederdruck-Plasmabearbeitungsvorrichtung mit einer solchen Hochfrequenzelektrodenvorrichtung sowie ein Verfahren zur Bereitstellung einer Hochfrequenzelektrodenvorrichtung für eine Niederdruck-Plasmabearbeitungsvorrichtung.The present invention relates to a high-frequency electrode apparatus for a low-pressure plasma processing apparatus and a low-pressure plasma processing apparatus having such a high-frequency electrode apparatus, and a method for providing a high-frequency electrode apparatus for a low-pressure plasma processing apparatus.

Zur Durchführung von Plasmaprozessen mittels Hochfrequenztechnik (Hochfrequenz (typ. 13,56 MHz), ähnlich bei Mittelfrequenz) werden in der Regel Elektroden verwendet, die innerhalb des Plasmareaktors verbaut sind. Bekannt sind z. B. scheibenförmige Elektroden zur Aufnahme eines Wafers oder stabförmige Elektroden zum Betreiben eines floatenden Plasmaprozesses. Weiterhin kennt man Bauformen, die der Geometrie des zu beschichtenden Bauteils angepasst sind oder auch Rahmengestelle auf die das zu bearbeitende Objekt gesetzt wird.In order to carry out plasma processes by means of high-frequency technology (high frequency (typically 13.56 MHz), similar to medium frequency) electrodes are usually used, which are installed within the plasma reactor. Are known z. B. disk-shaped electrodes for receiving a wafer or rod-shaped electrodes for operating a floating plasma process. Furthermore, one knows designs that are adapted to the geometry of the component to be coated or frame racks on which the object to be processed is set.

Erstere sind dadurch gekennzeichnet, dass sie zur Herstellung eines guten elektrischen HF-Kontaktes fest im Reaktor verbaut sind. Dazu werden sie üblicherweise verschraubt, verschweißt oder anderweitig fest mit der HF-Durchführung verbunden. Letztere stellen den HF-Kontakt lokal im Bereich der HF-Durchführung her. Hierzu werden z. B. federnde metallische Laschen verwendet, in die ein Kontaktblech einfährt.The former are characterized in that they are permanently installed in the reactor to produce a good electrical RF contact. They are usually screwed, welded or otherwise firmly connected to the RF implementation. The latter produce the RF contact locally in the area of the RF feedthrough. For this purpose, for. B. resilient metallic tabs, in which a contact plate enters.

Nachteilig an fest verbauten Elektroden (siehe beispielsweise DE 196 02 634 A1 ) ist, dass der Austausch der zu bearbeitenden, primär der zu beschichtenden Produkte erschwert ist. Dies trifft insbesondere für großvolumige Anlagen mit einer Vielzahl kleinerer Produkte zu. Je größer die Anlage ist, desto schwerer ist es, eine einfache und schnelle Handhabung zu gewährleisten. Hierdurch wird die Produktivität der Plasmabearbeitungsanlage, insbesondere Plasmapolymerisationsanlage beschränkt.A disadvantage of permanently installed electrodes (see, for example DE 196 02 634 A1 ) is that the replacement of the processed, primarily the products to be coated is difficult. This is especially true for large-volume plants with a large number of smaller products. The larger the system, the harder it is to ensure easy and quick handling. As a result, the productivity of the plasma processing plant, in particular plasma polymerization plant is limited.

Nachteilig an beweglichen Rahmen, wie sie z. B. aus EP 01 704 756 B1 bekannt sind, ist, dass die Hochfrequenz lokal in einem sehr kleinen Bereich (der gegenüber der gesamten Elektrodenanordnung nahezu als punktförmig betrachtet werden kann) übertragen wird. Hierdurch fließen lokal große Ströme und insbesondere kann es je nach Bauform zu Inhomogenitäten bei der HF-Ausbreitung kommen. Zudem besteht die Gefahr, dass sich die Übergangswiderstände durch die Einwirkung des Plasmas im Bereich des Kontaktes verändern. Ferner muss der Rahmen elektrisch gegen die Masse des Vakuumkessels isoliert werden. Hierbei ist darauf zu achten, dass die Isolationsstrecken mehrere Zentimeter betragen, da die Hochfrequenz sonst unkontrolliert überkoppeln kann. Zudem besteht an dieser Stelle die Gefahr von Kriechströmen aufgrund von Alterung des Isolationsmaterials. Letztendlich werden im Betrieb ungewollt sowohl die Räder mit den Lagern als auch die Laufbahnen für die Räder beschichtet, so dass feiner Staub bei der Bewegung des Rahmens auf den Laufbahnen entstehen kann, insbesondere bei Beschichtungsprozessen.A disadvantage of moving frame, as they are z. B. off EP 01 704 756 B1 are known, that the high frequency is transmitted locally in a very small area (which can be considered almost point-like with respect to the entire electrode arrangement). As a result, locally large currents flow and in particular, depending on the design, inhomogeneities in the HF propagation can occur. In addition, there is a risk that the contact resistances change due to the action of the plasma in the area of the contact. Furthermore, the frame must be electrically insulated against the mass of the vacuum vessel. It is important to ensure that the insulation distances are several centimeters, as otherwise the high frequency can couple over uncontrolled. In addition, there is the risk of leakage currents due to aging of the insulation material at this point. Ultimately, both the wheels with the bearings and the raceways for the wheels are inadvertently coated during operation, so that fine dust can arise during the movement of the frame on the raceways, especially in coating processes.

Aus der US 7 454 92 B2 , DE 11 2009 002 717 T5 , US 2008/0061035 A1 und der DE 44 12 902 A1 sind Hochfrequenzelektrodenvorrichtungen mit gegeneinander verschiebbaren Elektroden bekannt.From the US 7 454 92 B2 . DE 11 2009 002 717 T5 . US 2008/0061035 A1 and the DE 44 12 902 A1 are known high-frequency electrode devices with mutually displaceable electrodes.

Eine der Erfindung zu Grunde liegende Zielsetzung ist es, eine Hochfrequenzelektrodenvorrichtung für eine Niederdruck-Plasmabearbeitungsvorrichtung und eine Niederdruck-Plasmabearbeitungsvorrichtung mit einer solchen Hochfrequenzelektrodenvorrichtung sowie ein Verfahren zur Bereitstellung einer Hochfrequenzelektrodenvorrichtung für eine Niederdruck-Plasmabearbeitungsvorrichtung bereitzustellen, mit denen die Nachteile aus dem bekannten Stand der Technik vermieden oder zumindest reduziert werden können, wobei eine einfache und schnelle Handhabung erlaubende Flexibilität angestrebt wird, bei der weder die Funktionalität noch die Haltbarkeit der Elektrode durch ungewollte Plasmaeinwirkungen eingeschränkt wird.An object underlying the invention is to provide a high-frequency electrode apparatus for a low-pressure plasma processing apparatus and a low-pressure plasma processing apparatus having such a high-frequency electrode apparatus, and a method for providing a high-frequency electrode apparatus for a low-pressure plasma processing apparatus, with which the disadvantages of the prior art be avoided or at least reduced, with a simple and fast handling permitting flexibility is sought, in which neither the functionality nor the durability of the electrode is limited by unwanted plasma effects.

Ein Aspekt der Erfindung sieht eine Hochfrequenzelektrodenvorrichtung für eine Niederdruck-Plasmabearbeitungsvorrichtung vor, mit einem ersten und einem zweiten Elektrodenelement, die relativ zueinander beweglich sind und von denen eines für einen festen Anschluss an eine Hochfrequenzquelle der Niederdruck-Plasmabearbeitungsvorrichtung ausgestaltet ist, wobei das erste Elektrodenelement eine erste Kontaktfläche aufweist und das zweite Elektrodenelement eine zweite Kontaktfläche aufweist, die der ersten Kontaktfläche gegenüberliegt und im Betriebszustand in elektrischem Flächenkontakt mit der ersten Kontaktfläche ist, wobei eines der Elektrodenelemente ein Bewegungselement aufweist und das andere der Elektrodenelemente eine Führung für das Bewegungselement aufweist, wobei das Bewegungselement und die Führung eine relative Bewegung der Elektrodenelemente erlauben, mit der die Elektrodenelemente in den Betriebszustand gebracht werden können, wobei das Bewegungselement und wenigstens ein Teil der Führung im Betriebszustand durch den Flächenkontakt gegenüber Plasma abgeschirmt sind. Der bewegliche Elektrodenteil nimmt üblicherweise die Ware auf und kann im Außenraum aufgrund der guten Zugänglichkeit be- und entstückt werden. Dabei kann es von Vorteil sein, wenn das bewegliche Elektrodenelement in mehrere, unabhängig bewegliche Einzelelemente aufgeteilt wird.One aspect of the invention provides a high frequency electrode apparatus for a low pressure plasma processing apparatus having first and second electrode members movable relative to one another and one configured for fixed connection to a high frequency source of the low pressure plasma processing apparatus, the first electrode member having a first electrode member and the second electrode element has a second contact surface which is opposite to the first contact surface and is in electrical contact with the first contact surface in the operating state, one of the electrode elements having a movement element and the other of the electrode elements having a guide for the movement element Movement element and the guide allow relative movement of the electrode elements, with which the electrode elements can be brought into the operating state, wherein the moving element and weni At least part of the guide in the operating state are shielded by the surface contact with respect to plasma. The movable electrode part usually picks up the goods and can be moved in the outer space due to the good accessibility and entstückt. It may be advantageous if the movable electrode element is divided into several, independently movable individual elements.

Ein anderer Aspekt der Erfindung sieht eine Niederdruck-Plasmabearbeitungsvorrichtung mit einer solchen Hochfrequenzelektrodenvorrichtung vor. Another aspect of the invention provides a low-pressure plasma processing apparatus having such a high-frequency electrode apparatus.

Ein weiterer Aspekt sieht ein Verfahren zur Bereitstellung einer Hochfrequenzelektrodenvorrichtung für eine Niederdruck-Plasmabearbeitungsvorrichtung vor, mit: Bereitstellen eines ersten und eines zweiten Elektrodenelement, die relativ zueinander beweglich sind, wobei das erste Elektrodenelement eine erste Kontaktfläche aufweist und das zweite Elektrodenelement eine zweite Kontaktfläche aufweist, die der ersten Kontaktfläche gegenüberliegt, wobei eines der Elektrodenelemente ein Bewegungselement aufweist und das andere der Elektrodenelemente eine Führung für das Bewegungselement aufweist, wobei das Bewegungselement und die Führung eine relative Bewegung der Elektrodenelemente erlauben, Anschließen eines der Elektrodenelemente an eine Hochfrequenzquelle der Niederdruck-Plasmabearbeitungsvorrichtung und Bewegen des anderen Elektrodenelements gegenüber dem angeschlossenen Elektrodenelement in einen Betriebszustand, wobei im Betriebszustand die Kontaktflächen miteinander in elektrischem Flächenkontakt sind, wobei das Bewegungselement und wenigstens ein Teil der Führung im Betriebszustand durch den Flächenkontakt gegenüber Plasma abgeschirmt sind. Dies ist von großer Bedeutung, da dadurch sowohl Staubbildung während des Bewegungsvorganges vermieden wird als auch die elektrischen Kontaktflächen und die Bewegungselemente unbeschichtet bleiben.A further aspect provides a method for providing a high-frequency electrode device for a low-pressure plasma processing device, comprising: providing a first and a second electrode element which are movable relative to one another, wherein the first electrode element has a first contact surface and the second electrode element has a second contact surface, facing the first contact surface, wherein one of the electrode elements has a moving member and the other of the electrode members has a guide for the moving member, the moving member and the guide allowing relative movement of the electrode members, connecting one of the electrode members to a high frequency source of the low pressure plasma processing apparatus and Moving the other electrode element relative to the connected electrode element in an operating state, wherein in the operating state, the contact surfaces with each other in elec are trischem surface contact, wherein the moving member and at least a part of the guide are shielded in the operating state by the surface contact to plasma. This is of great importance, as it prevents both dust formation during the movement process and the electrical contact surfaces and the movement elements remain uncoated.

Im Zusammenhang mit der Erfindung wurde die Einsicht gewonnen, dass eine modulare Ausführung einer Hochfrequenzelektrodenvorrichtung gegenüber der oben diskutierten festen Montage von Elektroden die gewünschte Flexibilität erlaubt, wobei diese modulare Ausführung aber durch eine geeignete Anordnung von Führung und Bewegungselement in einen Betriebszustand gebracht werden kann, bei dem empfindliche Teile der Hochfrequenzelektrodenvorrichtung (insbesondere Führung und Bewegungselement, zumindest teilweise) wie bei einer festen Montage gegenüber Plasmaeinwirkung geschützt werden können. Zudem hat sich herausgestellt, dass es von Vorteil ist, wenn die gesamte Anordnung zu Plasmaprozessen mit geringem Self-Bias führt. Dies wird dadurch erreicht, dass die Elektrodenoberfläche eine ähnlich große oder sogar größere Fläche aufweist als die Fläche der elektrischen Masse, welche dem Plasma zugänglich ist.In the context of the invention, it has been realized that a modular design of a radio frequency electrode device allows the desired flexibility over the fixed assembly of electrodes discussed above, but this modular design can be brought into an operative state by a suitable arrangement of guide and moving element the sensitive parts of the high-frequency electrode device (in particular guide and moving element, at least partially) can be protected against plasma action as in a fixed assembly. In addition, it has been found to be advantageous for the entire assembly to result in plasma processes with low self-bias. This is achieved in that the electrode surface has a surface that is of similar or even larger area than the surface of the electrical mass that is accessible to the plasma.

Es ist zu bemerken, dass die Kontaktflächen der Elektrodenelemente nicht notwendigerweise eben bzw. plan sein müssen, solange der vorgesehene Flächenkontakt gewährleistet ist. Es ist möglich, dass die Kontaktflächen zueinander passende Ausnehmungen bzw. Vorsprünge aufweisen. Es ist ebenfalls möglich, dass die Kontaktflächen gekrümmt sind, wobei die jeweiligen Krümmungen zueinander komplementär sind, um den Flächenkontakt zu erlauben. Da sich plane Oberflächen allerdings im Allgemeinen einfacher erstellen lassen, kann mit solche planen Kontaktflächen die vorliegende Erfindung besonders vorteilhaft realisiert werden.It should be noted that the contact surfaces of the electrode elements need not necessarily be flat or planar, as long as the intended surface contact is ensured. It is possible that the contact surfaces have matching recesses or projections. It is also possible that the contact surfaces are curved with the respective curvatures being complementary to one another to allow surface contact. However, since planar surfaces are generally easier to create, with such planar contact surfaces, the present invention can be realized particularly advantageous.

In einer Ausführungsform der Erfindung umfasst das Bewegungselement eine in der Kontaktfläche angeordnete gelagerte Kugel und/oder Rolle und die Führung eine Spur zur Führung der Kugel und/oder Rolle, wobei die Spur einen ersten Führungsteil umfasst, in dem die Kugel und/oder Rolle abrollen kann, so dass die erste und zweite Kontaktfläche voneinander beabstandet sind, und einen zweiten Führungsteil umfasst, der zum Inkontaktbringen der ersten und zweiten Kontaktfläche in elektrischen Flächenkontakt gegenüber dem ersten Führungsteil vertieft ausgeführt ist.In one embodiment of the invention, the movement element comprises a bearing ball and / or roller arranged in the contact surface, and the guide has a track for guiding the ball and / or roller, the track comprising a first guide part in which the ball and / or roller roll can, so that the first and second contact surface are spaced apart from each other, and a second guide part, which is designed to be contacted for contacting the first and second contact surface in electrical surface contact relative to the first guide part.

Im gegenüber dem zweiten Führungsteil flacher (d. h. weniger tief) ausgeführten ersten Führungsteil kann die Rolle und/oder Kugel abrollen, so dass die Elektrodenelemente gegeneinander bewegt werden können, wobei insbesondere nur die Rolle und/oder Kugel und die Führung miteinander in Kontakt stehen, während die Elektrodenelemente anderweitig voneinander beabstandet sind. Bei Einlaufen der Kugel und/oder Rolle in den zweiten Führungsteil, der eine größere Tiefe aufweist, werden die Kontaktflächen der Elektrodenelemente miteinander in Kontakt gebracht, so dass der Betriebszustand erreicht wird.In comparison with the second guide part flat (ie less deep) executed first guide member, the roller and / or ball roll, so that the electrode elements can be moved against each other, in particular, only the roller and / or ball and the guide are in contact while the electrode elements are otherwise spaced apart. Upon entry of the ball and / or roller in the second guide part, which has a greater depth, the contact surfaces of the electrode elements are brought into contact with each other, so that the operating state is reached.

In einer Ausgestaltung der obigen Ausführungsform umfasst das Bewegungselement mehrere gelagerte Kugeln und/oder Rollen, vorzugsweise drei oder vier Kugeln und/oder Rollen, wobei die Führung eine Spur mit einem ersten und zweiten Führungsteil für jeweils eine der mehreren gelagerten Kugeln und/oder Rollen umfasst.In one embodiment of the above embodiment, the movement element comprises a plurality of bearing balls and / or rollers, preferably three or four balls and / or rollers, wherein the guide comprises a track with a first and second guide part for each one of the plurality of bearing balls and / or rollers ,

Das Vorsehen einer Mehrzahl von Kugeln und/oder Rollen erlaubt eine einfachere Handhabung, wobei insbesondere mit drei oder vier derartigen Elementen eine einfache und stabile Bewegung erlaubt wird.The provision of a plurality of balls and / or rollers allows easier handling, in particular, with three or four such elements a simple and stable movement is allowed.

In einer alternativen und/oder ergänzenden Ausführungsform der Erfindung umfasst das Bewegungselement eine von der Kontaktfläche durch ein Abstandselement beabstandete und gelagerte Kugel und/oder Rolle, wobei die Führung eine das Abstandselement aufnehmende Nut oder einen das Abstandselemente aufnehmenden Schlitz zur Führung des Abstandselements, der Kugel und/oder der Rolle umfasst, wobei die Nut einen ersten Führungsteil umfasst, in dem die Kugel und/oder Rolle abrollen kann, so dass die erste und zweite Kontaktfläche voneinander beabstandet sind, und einen zweiten Führungsteil umfasst, der zum Inkontaktbringen der ersten und zweiten Kontaktfläche in elektrischen Flächenkontakt gegenüber dem ersten Führungsteil vertieft ausgeführt ist.In an alternative and / or supplementary embodiment of the invention, the movement element comprises a ball and / or roller spaced from the contact surface by a spacer and supported, the guide comprising a spacer receiving groove or a spacer receiving slot for guiding the spacer, the ball and / or the roller, wherein the groove comprises a first guide part, in which the ball and / or roller can roll, so that the first and second contact surfaces are spaced from each other, and a second Guiding part comprises, which is designed for contacting the first and second contact surface recessed in electrical surface contact relative to the first guide member.

Es ist gegenüber der obigen Ausführungsform ergänzend oder alternativ möglich, dass das Bewegungselement nicht direkt in der Kontaktfläche selbst angeordnet ist, wobei bei einer entsprechenden Beabstandung etwa eine Nut oder ein Schlitz vorgesehen werden kann, in dem das Abstandelement geführt wird, was letztlich einem einfachen Versatz des Kontaktbereiches zwischen Führung und Bewegungselement gleichkommt.It is compared to the above embodiment additionally or alternatively possible that the moving element is not arranged directly in the contact surface itself, wherein at a corresponding spacing about a groove or a slot can be provided in which the spacer is guided, which ultimately a simple offset the contact area between the guide and the movement element is the same.

Bei einer weiteren Ausführungsform ist die Führung als eine Schiene oder ein Steg ausgebildet, der in eine in der gegenüberliegenden Kontaktfläche vorgesehene Nut (oder entsprechenden Schlitz) eingreift, wobei am Boden der Nut das Bewegungselement vorgesehen ist.In another embodiment, the guide is formed as a rail or a web, which engages in a groove provided in the opposite contact surface (or corresponding slot), wherein at the bottom of the groove, the moving element is provided.

In einer weiteren Ausführungsform der Erfindung weisen das erste Elektrodenelement und das zweite Elektrodenelement jeweils eine Fluidleitung mit einer Öffnung zur jeweiligen Kontaktfläche auf, wobei die Fluidleitungen im Betriebszustand miteinander gekoppelt sind.In a further embodiment of the invention, the first electrode element and the second electrode element each have a fluid line with an opening to the respective contact surface, wherein the fluid lines are coupled together in the operating state.

Durch den Flächenkontakt wird ein durch den Rand des Flächenkontakts umschlossener Bereich zwischen den Kontaktflächen gegenüber der Umwelt (insbesondere gegenüber dem Plasma) abgeschirmt bzw. abgedichtet. Innerhalb dieses Bereichs kann wiederum ein Rand des Flächenkontakts vorsehen sein. Es ist somit möglich, eine Fluiddurchführung vorzusehen, so dass beispielsweise ein Prozessgas während des Betriebs durch die Elektrodenelemente hindurch geleitet werden kann, um an geeigneten Stellen der Elektrodenoberfläche auszutreten. Die Fluitleitung bzw. Fluiddurchführung kann alternativ oder ergänzend zur Durchleitung von Gas auch zur Durchleitung von Flüssigkeit(en) verwendet werden. Auf diese Weisung kann eine Kühlung oder Heizung des ersten Elektrodenelements bzw. eines darauf angebrachten Produkts bewirkt werden.As a result of the surface contact, a region enclosed by the edge of the surface contact between the contact surfaces against the environment (in particular with respect to the plasma) is shielded or sealed. Within this area, in turn, an edge of the surface contact can be provided. It is thus possible to provide a fluid feedthrough so that, for example, a process gas can be passed through the electrode elements during operation in order to exit at suitable points on the electrode surface. The Fluitleitung or fluid passage may alternatively or additionally be used for the passage of gas for the passage of liquid (s). On this instruction, a cooling or heating of the first electrode element or a product mounted thereon can be effected.

In einer anderen Ausführungsform ist ergänzend oder alternativ zur oben angesprochenen Fluiddurchführung eine gegenüber den Kontaktflächen isolierte elektrische Leitungsführung vorgesehen, mit der beispielsweise Signale von einer im Elektrodenelement vorgesehenen Sensorik nach außen geführt werden können oder Motoren im Elektrodenelement angetrieben werden können. In entsprechender Weise können auch anderen Kopplungen vorgesehen sein, beispielsweise eine optische Leitung oder eine elektromagnetische Wellenhohlleitung.In another embodiment, in addition or as an alternative to the above-mentioned fluid feedthrough, an electrical line guide insulated from the contact surfaces is provided, with which, for example, signals from a sensor element provided in the electrode element can be led to the outside or motors in the electrode element can be driven. In a corresponding manner, other couplings can also be provided, for example an optical line or an electromagnetic waveguide line.

In einer weiteren Ausführungsform der Erfindung ist wenigstens ein Elektrodenelement mit einer Dichtung versehen, die im Betriebszustand den Flächenkontakt zwischen den Elektrodenelementen wenigstens teilweise gegenüber Plasma abdichtet.In a further embodiment of the invention, at least one electrode element is provided with a seal which, in the operating state, at least partially seals the surface contact between the electrode elements with respect to plasma.

Der Flächenkontakt selbst stellt bereits eine Dichtung dar, wobei allerdings die Dichtwirkung durch Vorsehen einer zusätzlichen Dichtung (z. B. ein O-Ring) weiter verbessert werden kann.The surface contact itself already constitutes a seal, although the sealing effect can be further improved by providing an additional seal (eg an O-ring).

In einer weiteren Ausführungsform der Erfindung umfasst die Hochfrequenzelektrodenvorrichtung Befestigungselemente, die zu einer Fixierung der Elektrodenelemente miteinander im Betriebszustand ausgestaltet sind.In a further embodiment of the invention, the high-frequency electrode device comprises fastening elements which are designed to fix the electrode elements together in the operating state.

In einer bevorzugten und einfachen Ausgestaltung der Erfindung ergibt sich ein Aufeinanderpressen (und damit eine relative Fixierung) schon allein durch die Schwerkraftwirkung auf das obere Elektrodenelement. Bei Anordnungen der Elektrodenelemente zueinander, bei denen die Schwerkraft nicht in gewünschter Weise wirkt (Größe der Kraft und/oder Richtung), kann eine Fixierung auch gesondert vorgenommen werden. Die Befestigungselemente können zudem zur Reproduzierbarkeit der Positionierung beitragen.In a preferred and simple embodiment of the invention, a pressing together (and thus a relative fixation) results solely by the effect of gravity on the upper electrode element. In arrangements of the electrode elements to each other, in which the force of gravity does not act in the desired manner (size of the force and / or direction), a fixation can also be made separately. The fasteners can also contribute to the reproducibility of the positioning.

In einer weiteren Ausführungsform der Erfindung umfasst die Hochfrequenzelektrodenvorrichtung ein mit dem Elektrodenelement, das für den Anschluss an die Hochfrequenzquelle ausgestaltet ist, und/oder der Niederdruck-Plasmabearbeitungsvorrichtung koppelbares Trägerelement, wobei das Trägerelement eine/ein dem Elektrodenelement, das für den Anschluss an die Hochfrequenzquelle ausgestaltet ist, entsprechende Führung bzw. entsprechendes Bewegungselement aufweist, wobei bei einer Kopplung des Trägerelements das andere Elektrodenelement auf das Trägerelement bewegt werden kann.In a further embodiment of the invention, the high-frequency electrode device comprises a carrier element that can be coupled to the electrode element that is designed for connection to the high-frequency source and / or the low-pressure plasma processing device, wherein the carrier element is an electrode element that is suitable for connection to the high-frequency source is configured, corresponding guide or corresponding movement element, wherein in a coupling of the carrier element, the other electrode element can be moved onto the support element.

Das separat vorgesehene Elektrodenelement (d. h. das Elektrodenelement, das nicht direkt und fest an die Hochfrequenzquelle angeschlossen ist) kann mit dem Trägerelement bereitgestellt werden, so dass es in einfacher Weise vom Trägerelement auf das angeschlossene Elektrodenelement überführt werden kann.The separately provided electrode member (i.e., the electrode member which is not directly and firmly connected to the high frequency source) may be provided with the support member so that it can be easily transferred from the support member to the connected electrode member.

In einer weiteren Ausführungsform der Erfindung umfasst die Hochfrequenzelektrodenvorrichtung ein Abdeckelement, mit dem wenigstens ein Teil des nicht durch den Flächenkontakt der Elektrodenelemente im Betriebszustand gegenüber Plasma abgeschirmten Teils der Führung gegenüber Plasma abschirmbar ist.In a further embodiment of the invention, the high-frequency electrode device comprises a cover element with which at least part of the part of the guide not shielded by plasma from the surface contact of the electrode elements in the operating state can be shielded from plasma.

Die vorliegende Erfindung sieht nicht notwendigerweise vor, dass die Elektrodenelemente eine jeweils zur Verfügung stehende Kontaktfläche vollständig abdecken, wobei ggf. freiliegende Teile insbesondere von Führung und/oder Bewegungselement mit einem oder mehreren zusätzlichen Abschirm- oder Abdeckelementen abgedeckt werden können. The present invention does not necessarily provide that the electrode elements completely cover a respective available contact surface, wherein optionally exposed parts can be covered in particular of leadership and / or movement element with one or more additional shielding or covering.

In einer Ausführung ist ein gemeinsames Elektrodenelement für zwei oder mehr relativ dazu bewegliche Elektrodenelemente vorgesehen, das mit der Hochfrequenzquelle verbunden ist. Wenn nun nur eine kleinere Zahl von beweglichen Elektrodenelementen genutzt werden soll, werden die dadurch freibleibenden Bereiche durch das Abdeckelement abgeschirmt.In one embodiment, a common electrode element is provided for two or more relatively movable electrode elements connected to the radio frequency source. If only a smaller number of movable electrode elements is to be used, the areas that remain free thereby are shielded by the covering element.

Vorzugsweise ist ein solches Abdeckelement aus Materialien wie Polyethylen (PE), Polyamid (PA) oder Polyoxymethylen (POM) in für eine Isolierung ausreichender Materialstärke gebildet.Such a cover element is preferably formed from materials such as polyethylene (PE), polyamide (PA) or polyoxymethylene (POM) in sufficient material thickness for insulation.

Die Hochfrequenzelektrodenvorrichtung für eine Niederdruck-Plasmabearbeitungsvorrichtung nach Anspruch 1, die Niederdruck-Plasmabearbeitungsvorrichtung nach Anspruch 9 und das Verfahren zur Bereitstellung einer Hochfrequenzelektrodenvorrichtung für eine Niederdruck-Plasmabearbeitungsvorrichtung nach Anspruch 10 haben identische oder ähnliche bevorzugte Ausführungsformen, wie sie insbesondere in den abhängigen Ansprüchen definiert sind. Weitere bevorzugte Ausführungsformen ergeben sich zudem durch Kombinationen der verschiedenen Unteransprüche.The high-frequency electrode apparatus for a low-pressure plasma processing apparatus according to claim 1, the low-pressure plasma processing apparatus according to claim 9 and the method for providing a high-frequency electrode apparatus for a low-pressure plasma processing apparatus according to claim 10 have identical or similar preferred embodiments as defined in particular in the dependent claims. Further preferred embodiments also result from combinations of the various subclaims.

Im Folgenden wird die vorliegende Erfindung anhand von Ausführungsbeispielen unter Bezug auf die Zeichnungen weiter erläutert. Hierbei zeigtIn the following, the present invention will be further explained by means of embodiments with reference to the drawings. This shows

1a eine Vordersicht eines ersten Elektrodenelements einer Hochfrequenzelektrodenvorrichtung gemäß einem Ausführungsbeispiel der Erfindung, 1a a front view of a first electrode element of a high-frequency electrode device according to an embodiment of the invention,

1b eine Untersicht des Elektrodenelements aus 1a, 1b a bottom view of the electrode element 1a .

1c eine Draufsicht des Elektrodenelements aus 1a, 1c a plan view of the electrode element 1a .

1d eine Seitenansicht des Elektrodenelements aus 1a, 1d a side view of the electrode element 1a .

2a eine Draufsicht eines zum ersten Elektrodenelement aus den 1a bis 1d passenden zweiten Elektrodenelements gemäß dem Ausführungsbeispiel der Erfindung, 2a a plan view of the first electrode element of the 1a to 1d matching second electrode element according to the embodiment of the invention,

2b einen Querschnitt durch das zweite Elektrodenelement aus 2a, 2 B a cross section through the second electrode element 2a .

2c eine teilweise Vergrößerung des Querschnitts aus 2b, 2c a partial enlargement of the cross section 2 B .

2d eine Seitenansicht des zweiten Elektrodenelements aus 2a, 2d a side view of the second electrode element 2a .

2e eine teilweise Vergrößerung der Seitenansicht aus 2d, 2e a partial enlargement of the side view 2d .

3a eine Draufsicht eines ersten Trägerelements passend zu den Elektrodenelementen aus den 1a bis 1d und 2a bis 2e gemäß dem Ausführungsbeispiel der Erfindung, 3a a plan view of a first support member suitable for the electrode elements of the 1a to 1d and 2a to 2e according to the embodiment of the invention,

3b eine Draufsicht eines zweiten Trägerelements passend zu den Elektrodenelementen aus den 1a bis 1d und 2a bis 2e gemäß dem Ausführungsbeispiel der Erfindung und 3b a plan view of a second carrier element suitable for the electrode elements of the 1a to 1d and 2a to 2e according to the embodiment of the invention and

4 ein schematisches Ablaufdiagramm eines Verfahrens zur Bereitstellung einer Hochfrequenzelektrodenvorrichtung für eine Niederdruck-Plasmabearbeitungsvorrichtung gemäß einem weiteren Ausführungsbeispiel der Erfindung. 4 a schematic flow diagram of a method for providing a high-frequency electrode device for a low-pressure plasma processing apparatus according to another embodiment of the invention.

1a zeigt eine Vordersicht eines ersten Elektrodenelements einer Hochfrequenzelektrodenvorrichtung gemäß einem Ausführungsbeispiel der Erfindung. 1a shows a front view of a first electrode element of a high frequency electrode device according to an embodiment of the invention.

Das erste Elektrodenelement 10 umfasst einen in der Vorderansicht U-förmigen Metallkörper 11 aus Aluminium, der an den Seiten und im unteren Bereich jeweils mit Isolierungen 12 aus Polyethylen versehen ist und einen Warenträger 13 trägt, auf den ein zu bearbeitendes Objekt (z. B. Rohr, nicht gezeigt) aufgezogen werden kann. Der Metallkörper 11 weist auf seiner Unterseite eine plane Kontaktfläche 14 auf, in die vier gelagerte Kugeln 15 als Bewegungselemente so eingelassen sind, dass die Kugeln nur zu einem geringen Teil über die Kontaktfläche 14 erhaben sind.The first electrode element 10 includes a U-shaped metal body in front view 11 made of aluminum, on the sides and in the lower area each with insulation 12 made of polyethylene and a product carrier 13 on which an object to be processed (eg pipe, not shown) can be mounted. The metal body 11 has a flat contact surface on its underside 14 on, in the four balls stored 15 are admitted as movement elements so that the balls only to a small extent on the contact surface 14 are sublime.

1b zeigt eine Untersicht des Elektrodenelements aus 1a. 1b shows a bottom view of the electrode element 1a ,

In der Darstellung von 1b ist zu erkennen, dass die Kugeln 15 jeweils paarweise symmetrisch zu einer Längsachse des Elektrodenelements 10 vorgesehen sind, wobei der Abstand eines Paares von Kugeln 15 geringer gewählt ist als der Abstand des anderen Paares von Kugeln 15.In the presentation of 1b you can see that the balls 15 in pairs symmetrically to a longitudinal axis of the electrode element 10 are provided, wherein the distance of a pair of balls 15 is chosen smaller than the distance of the other pair of balls 15 ,

Die Unterseite des Elektrodenelements 10 bildet hier – mit Ausnahme der Kugeln 15 und deren Lagerung und der Isolierungen 12 – die Kontaktfläche zur Kontaktierung mit dem zweiten Elektrodenelement (siehe unten).The underside of the electrode element 10 forms here - with the exception of bullets 15 and their storage and insulation 12 - The contact surface for contacting with the second electrode element (see below).

1c zeigt eine Draufsicht des Elektrodenelements 10 aus 1a, während 1d eine Seitenansicht des Elektrodenelements 10 aus 1a zeigt, wobei wie schon in 1b die symmetrische Anordnung der Kugeln 15 und den paarweise unterschiedlichen Abstand von der Mitte des Elektrodenelements 10 zu erkennen ist. 1c shows a plan view of the electrode element 10 out 1a , while 1d a side view of the electrode element 10 out 1a shows, as in 1b the symmetrical arrangement of the balls 15 and the pairwise different distance from the center of the electrode element 10 can be seen.

2a zeigt eine Draufsicht eines zum ersten Elektrodenelement aus den 1a bis 1d passenden zweiten Elektrodenelements gemäß dem Ausführungsbeispiel der Erfindung. 2a shows a plan view of the first electrode element of the 1a to 1d matching second electrode element according to the embodiment of the invention.

Das zweite Elektrodenelement 20 wird im Wesentlichen durch eine plane Aluminiumplatte gebildet, die mit Führungen 21, 22 entsprechend den Kugeln 15 des ersten Elektrodenelements 10 (siehe 1a bis 1d) versehen ist.The second electrode element 20 is essentially formed by a flat aluminum plate, with guides 21 . 22 according to the balls 15 of the first electrode element 10 (please refer 1a to 1d ) is provided.

Das hier dargestellte Elektrodenelement 20, das zum Anschluss die Hochfrequenzquelle der Niederdruck-Plasmabearbeitungsvorrichtung (nicht dargestellt) vorgesehen ist, ist für die Aufnahme (und Führung) von zwei ersten Elektrodenelementen 10 (siehe oben) ausgestaltet. Insofern umfasst das Elektrodenelement 20 zwei Kontaktflächen 23, an die hier jeweils von (in der Darstellung von 2a) oben bzw. unten Nebenflächen 24 anstoßen. Die Kontaktflächen 23 sind zum Inkontaktkommen mit den entsprechenden Kontaktflächen 14 der ersten Elektrodenelemente 10 ausgestaltet, wobei dies in diesem Ausführungsbeispiel eine Planfräsung umfasst, um eine möglichst plane Oberfläche zu erreichen. Eine derartige Bearbeitung ist für die Nebenflächen 24 nicht vorgesehen.The electrode element shown here 20 which is provided for connection to the high-frequency source of the low-pressure plasma processing device (not shown), is for receiving (and guiding) two first electrode elements 10 (see above) configured. In this respect, the electrode element comprises 20 two contact surfaces 23 , to which here in each case of (in the representation of 2a ) above or below secondary surfaces 24 nudge. The contact surfaces 23 are in contact with the corresponding contact surfaces 14 the first electrode elements 10 configured, which in this embodiment comprises a face milling, in order to achieve the most planar surface possible. Such a treatment is for the ancillary areas 24 not provided.

In die Kontaktflächen 23 sind die Führungen 21, 22 eingearbeitet, wobei sich die Führungen 21, 22 jeweils derart unterschiedlich weit entlang der Kontaktflächen 23 erstrecken, dass die Kontaktfläche 14 eines ersten Elektrodenelement 10, dessen Kugeln am Ende der Führungen 21, 22 positioniert sind, vollständig der entsprechenden Kontaktfläche 23 gegenüberliegt (genauer liegen die Kontaktflächen aufeinander auf, siehe unten).In the contact areas 23 are the guides 21 . 22 incorporated, with the guides 21 . 22 each such different distances along the contact surfaces 23 extend that contact surface 14 a first electrode element 10 whose balls are at the end of the guides 21 . 22 are positioned completely the corresponding contact surface 23 opposite (more precisely, the contact surfaces lie on each other, see below).

Das Elektrodenelement 20 weist eine Anzahl Bohrungen 25 auf, durch die das Elektrodenelement in der Niederdruck-Plasmabearbeitungsvorrichtung (nicht dargestellt) fixiert werden kann.The electrode element 20 has a number of holes 25 by which the electrode member can be fixed in the low-pressure plasma processing apparatus (not shown).

Das Elektrodenelement 20 weist zudem an einem Rand zwei Ausnehmungen 26 zur Aufnahme entsprechender Nasen eines Trägerelements (siehe unten) auf.The electrode element 20 also has two recesses on one edge 26 for receiving corresponding lugs of a support element (see below).

2b zeigt einen Querschnitt durch das zweite Elektrodenelement 20 aus 2a entlang der Linie A-A, wobei 2c eine teilweise Vergrößerung des mit B bezeichneten Bereichs aus 2b zeigt. 2 B shows a cross section through the second electrode element 20 out 2a along the line AA, where 2c a partial enlargement of the designated B area 2 B shows.

In 2c ist der Endbereich der Führung 22 vergrößert dargestellt. An ihrem (hier linken) Ende besitzt die Führung 22 einen zweiten Führungsteil 22'', der gegenüber dem sonstigen, ersten Führungsteil 22' der Führung 22 vertieft ausgebildet ist.In 2c is the end of the guide 22 shown enlarged. At its (left here) end has the lead 22 a second guide part 22 '' , the opposite of the other, the first guide part 22 ' the leadership 22 is trained in depth.

Der erste Führungsteil 22', der sich zwischen dem zweiten Führungsteil 22'' und der (hier rechten) Kante des zweiten Elektrodenelements 20 erstreckt, ist so ausgelegt, dass dessen Tiefe ein Abrollen der entsprechenden Kugeln 15 des ersten Elektrodenelements 10 (siehe oben) erlauben, ohne dass die Kontaktflächen 14, 23 einander berühren würden. Der zweite Führungsteil 22'' hingegen ist vertieft ausgeführt, so dass die dort einlaufende Kugel 15 tiefer in die Kontaktfläche 23 eindringt, bis die Kontaktfläche 23 und 14 miteinander in Kontakt kommen, d. h. aufeinander zu liegen kommen, so dass ein elektrischer (Flächen-)Kontakt zwischen dem ersten und zweiten Elektrodenelement 10, 20 gebildet ist. Durch eine entsprechende Verschiebung (hier nach rechts) des Elektrodenelement 10 gegenüber dem Elektrodenelement 20 heben die Kugeln 15 das erste Elektrodenelement 10 wieder ab, so dass das erste Elektrodenelement entlang der Führungen 21, 22 bewegt werden kann.The first guide part 22 ' that is between the second guide part 22 '' and the (here right) edge of the second electrode element 20 extends, is designed so that its depth is a rolling of the corresponding balls 15 of the first electrode element 10 (see above), without the contact surfaces 14 . 23 would touch each other. The second guide part 22 '' on the other hand, it is recessed, so that the ball entering there 15 deeper into the contact area 23 penetrates until the contact surface 23 and 14 come into contact with each other, ie come to rest on each other, so that an electrical (surface) contact between the first and second electrode element 10 . 20 is formed. By a corresponding displacement (here to the right) of the electrode element 10 opposite the electrode element 20 lift the balls 15 the first electrode element 10 again, leaving the first electrode element along the guides 21 . 22 can be moved.

2d zeigt eine Seitenansicht des zweiten Elektrodenelements aus 2a, wobei insbesondere die Ausnehmungen 26 und die Querschnitte der Führungen 21, 22 zu erkennen sind. 2d shows a side view of the second electrode element 2a , wherein in particular the recesses 26 and the cross sections of the guides 21 . 22 can be seen.

2e zeigt eine teilweise Vergrößerung des Bereichs C der Seitenansicht aus 2d, wobei die Führungen 21, 22 im Querschnitt erkennbar sind, wobei die Führungen 21, 22 an die Kugeln 15 des ersten Elektrodenelements 10 angepasst sind. 2e shows a partial enlargement of the area C of the side view 2d , where the guides 21 . 22 can be seen in cross-section, wherein the guides 21 . 22 to the balls 15 of the first electrode element 10 are adjusted.

3a zeigt eine Draufsicht eines ersten Trägerelements passend zu den Elektrodenelementen aus den 1a bis 1d und 2a bis 2e gemäß dem Ausführungsbeispiel der Erfindung. 3a shows a plan view of a first support member suitable for the electrode elements of the 1a to 1d and 2a to 2e according to the embodiment of the invention.

Das erste Trägerelement 30 ist – ähnlich zum zweiten Elektrodenelement – in Aluminium ausgeführt und besitzt in diesem Ausführungsbeispiel mit Ausnahme der Nasen 33 einen konstanten Querschnitt (in Richtung oben-unten in der Darstellung von 3), der zudem im Wesentlichen dem Querschnitt des zweiten Elektrodenelements 20 an dessen rechtem Rand aus 2a entspricht (mit Ausnahme der Ausnehmungen 26).The first carrier element 30 is - similar to the second electrode element - designed in aluminum and has in this embodiment, except for the lugs 33 a constant cross section (in the direction of top-bottom in the illustration of 3 ), which also essentially the cross section of the second electrode element 20 at its right edge 2a corresponds (with the exception of the recesses 26 ).

Das Trägerelement 30 umfasst hierbei Führungen 31, 32 zur Aufnahme und Führung der Kugeln 15 des ersten Elektrodenelements 10 (siehe oben).The carrier element 30 includes guides 31 . 32 for receiving and guiding the balls 15 of the first electrode element 10 (see above).

Das Trägerelement 30 und das zweite Elektrodenelement 20 können mit Hilfe der Ausnehmungen 26 und der Nasen 33 zueinander ausgerichtet werden, so dass ein erstes Elektrodenelement 10 vom Trägerelement 30 auf das zweite Elektrodenelement 20 und zurück bewegt werden kann.The carrier element 30 and the second electrode element 20 can with the help of the recesses 26 and the noses 33 aligned with each other be, so that a first electrode element 10 from the carrier element 30 on the second electrode element 20 and can be moved back.

3b zeigt eine Draufsicht eines zweiten Trägerelements passend zu den Elektrodenelementen aus den 1a bis 1d und 2a bis 2e gemäß dem Ausführungsbeispiel der Erfindung. 3b shows a plan view of a second support member suitable for the electrode elements of the 1a to 1d and 2a to 2e according to the embodiment of the invention.

Das zweite Trägerelement 30 ist – wie schon das erste Trägerelement 30' aus 3a – in Aluminium aufgeführt. Anders als das erste Trägerelement 30' hat es jedoch keinen im Wesentlichen konstanten Querschnitt. Die Führungen 31' und 32', die das zweite Trägerelement 30' – wiederum vergleichbar zum ersten Trägerelement 30 aufweist – erstrecken sich nicht über die gesamte Länge und weisen an ihren Enden vertiefte Bereiche, die dem oben diskutierten zweiten Führungsteil 22'' entsprechen, so dass ein erstes Elektrodenelement hier ebenfalls mit dem zweiten Trägerelement 30' in Flächenkontakt gebracht werden kann. Auf diese Weise wird eine einfache Fixierung des ersten Elektrodenelements auf dem zweiten Trägerelement 30' erreicht, so dass das erste Elektrodenelement sicher auf dem zweiten Trägerelement fixiert transportiert werden kann.The second carrier element 30 is - like the first carrier element 30 ' out 3a - listed in aluminum. Unlike the first carrier element 30 ' however, it does not have a substantially constant cross-section. The guides 31 ' and 32 ' that the second support element 30 ' - Again comparable to the first carrier element 30 - do not extend over the entire length and have at their ends recessed areas, the above-discussed second guide part 22 '' correspond, so that a first electrode element here also with the second carrier element 30 ' can be brought into surface contact. In this way, a simple fixation of the first electrode element on the second carrier element 30 ' achieved, so that the first electrode element can be transported securely fixed on the second support member.

Hinsichtlich der Nasen 33' unterscheidet sich das zweiten Trägerelement 30 ebenfalls vom ersten Trägerelement 30, da hier die Nasen 33' als gesonderte Bauteile in entsprechende Ausnehmungen des Trägerelement eingelassen sind, was eine einfachere Herstellung erlaubt.Regarding the noses 33 ' the second carrier element differs 30 also from the first carrier element 30 because here are the noses 33 ' are admitted as separate components in corresponding recesses of the support element, which allows a simpler production.

Es ist zu bemerken, dass die Ausführung der Nasen des ersten Trägerelement 30 auch anstelle der Ausführung der Nasen beim zweiten Trägerelement 30' genutzt werden kann, was ebenso umgekehrt gilt.It should be noted that the execution of the noses of the first support element 30 also instead of the execution of the lugs in the second carrier element 30 ' can be used, which also applies vice versa.

Es ist zudem möglich, lediglich eine der Führungen 31', 32' mit Vertiefungen vorzusehen, womit zwar kein vollständiger Flächenkontakt erreicht wird, aber gleichwohl eine gewisse Fixierung gegen eine ungewollte Relativbewegung beim Transport geleistet wird.It is also possible, just one of the guides 31 ' . 32 ' to provide with depressions, which although no complete surface contact is achieved, but nevertheless a certain fixation is made against unwanted relative movement during transport.

4 zeigt ein schematisches Ablaufdiagramm eines Verfahrens zur Bereitstellung einer Hochfrequenzelektrodenvorrichtung für eine Niederdruck-Plasmabearbeitungsvorrichtung gemäß einem weiteren Ausführungsbeispiel der Erfindung. 4 shows a schematic flow diagram of a method for providing a high-frequency electrode device for a low-pressure plasma processing apparatus according to another embodiment of the invention.

Das Verfahren 100 zur Bereitstellung einer Hochfrequenzelektrodenvorrichtung für eine Niederdruck-Plasmabearbeitungsvorrichtung umfasst ein Bereitstellen 101, 102 eines erstes und eines zweiten Elektrodenelement, die relativ zueinander beweglich sind.The procedure 100 for providing a high-frequency electrode device for a low-pressure plasma processing apparatus comprises providing 101 . 102 a first and a second electrode member which are movable relative to each other.

Wie oben diskutiert weisen das erste Elektrodenelement eine erste Kontaktfläche und das zweite Elektrodenelement eine zweite Kontaktfläche auf, die der ersten Kontaktfläche gegenüberliegt. Hierbei weist eines der Elektrodenelemente ein Bewegungselement auf, während das andere der Elektrodenelemente eine Führung für das Bewegungselement aufweist, wobei das Bewegungselement und die Führung eine relative Bewegung der Elektrodenelemente erlauben.As discussed above, the first electrode member has a first contact surface and the second electrode member has a second contact surface opposite the first contact surface. In this case, one of the electrode elements has a movement element, while the other of the electrode elements has a guide for the movement element, wherein the movement element and the guide allow a relative movement of the electrode elements.

In einem folgenden Schritt erfolgt ein Anschließen 103 eines der Elektrodenelemente an eine Hochfrequenzquelle der Niederdruck-Plasmabearbeitungsvorrichtung.In a following step, a connection is made 103 one of the electrode elements to a high-frequency source of the low-pressure plasma processing apparatus.

Ein weiterer Schritt umfasst ein Bewegen 104 des anderen Elektrodenelements gegenüber dem angeschlossenen Elektrodenelement in einen Betriebszustand 105, wobei im Betriebszustand 105 die Kontaktflächen miteinander in elektrischem Flächenkontakt sind und das Bewegungselement und wenigstens ein Teil der Führung im Betriebszustand 105 durch den Flächenkontakt gegenüber Plasma abgeschirmt sind. Bevorzugt wird Aluminum als Material gewählt, da es eine sehr gute elektrische Leitfähigkeit (insbesondere für HF) aufweist, einfach zu bearbeiten ist, leicht ist und eine hohe Stabilität im Plasmaprozess aufweist.Another step involves moving 104 of the other electrode element with respect to the connected electrode element in an operating state 105 , wherein in the operating state 105 the contact surfaces are in electrical surface contact with each other and the moving element and at least a part of the guide in the operating state 105 shielded by the surface contact to plasma. Preferably, aluminum is chosen as the material, since it has a very good electrical conductivity (in particular for HF), is easy to work with, is light and has a high stability in the plasma process.

In einer Modifikation der obigen Ausführungsbeispiele kann zur Verbesserung des elektrischen Übergangs im Flächenkontakt eine Leitpaste vorgesehen sein, wobei idealerweise allerdings die Kontaktflächen so ausgestaltet sind, dass eine Leitpaste o. ä. nicht nötig ist.In a modification of the above embodiments may be provided to improve the electrical transition in the surface contact a conductive paste, but ideally the contact surfaces are designed so that a conductive paste o. Ä. Is not necessary.

Im oben diskutierten Ausführungsbeispiel sind die Kugeln im oberen Elektrodenelement vorgesehen, während das untere Elektrodenelement Führungen aufweist. Es ist auch möglich, die Kugeln (allgemeiner die Bewegungselemente) im unteren Elektrodenelement vorzusehen, während das oberen Elektrodenelement die Führungen aufweist. Eine Mischung dieser Ansätze ist ebenfalls möglich.In the embodiment discussed above, the balls are provided in the upper electrode member while the lower electrode member has guides. It is also possible to provide the balls (more generally the moving elements) in the lower electrode element while the upper electrode element has the guides. A mixture of these approaches is also possible.

Im oben diskutierten Ausführungsbeispiel sind Kugeln als Bewegungselemente vorgesehen, wobei die Bewegungselemente (zumindest teilweise) ebenso als Rollen o. ä. ausgebildet sein können. Auch hier sind Kombinationen möglich. Dadurch, dass die Bewegungselemente im Betriebszustand der Einwirkung des Plasmaprozesses entzogen sind, ist es möglich, diese Elemente zu schmieren. Dies würde der Fachmann angesichts des Vakuums und auch insbesondere angesichts des Plasmaprozesses möglichst vermeiden oder zumindest aufwändige Abschirmungen vorsehen.In the embodiment discussed above, balls are provided as moving elements, wherein the moving elements (at least partially) can also be designed as rollers or the like. Again, combinations are possible. The fact that the moving elements are removed in the operating state of the action of the plasma process, it is possible to lubricate these elements. This would avoid the expert in view of the vacuum and also in particular in view of the plasma process as possible or at least provide elaborate shields.

Es kann vorgesehen sein, dass die Bewegungselemente einen eigenen Antrieb aufweisen, wobei die Bewegungselemente und die Führung zudem für eine besondere Kraftübertragung ausgestaltet sein können (z. B. Zahnrad und Zahnstange). It can be provided that the movement elements have their own drive, wherein the movement elements and the guide can also be designed for a special power transmission (eg gear and toothed rack).

Im obigen Ausführungsbeispiel ist für jede der Kugeln des ersten Elektrodenelements eine eigene Führungsspur vorgesehen. Es ist auch möglich, dass mehrere Kugeln bzw. Bewegungselemente sich eine gemeinsame Führung teilen. Es ist beispielsweise möglich, unterschiedlich große Kugel und unterschiedlich tiefe zweite Führungsteile in einer Führung vorzusehen.In the above embodiment, a separate guide track is provided for each of the balls of the first electrode member. It is also possible that several balls or moving elements share a common leadership. It is for example possible to provide different sized ball and different depth second guide members in a guide.

Die Anordnung der Führungen und Bewegungselemente muss nicht notwendigerweise symmetrisch sein.The arrangement of the guides and moving elements does not necessarily have to be symmetrical.

In einer weiteren Abwandlung ist es möglich, auf die zweiten Führungsteile zu verzichten, wenn beispielsweise die Kugeln (oder allgemeiner Bewegungselemente) mit einer Federung gelagert sind, so dass durch entsprechende Befestigungselemente, die die Federkraft überwinden, die Kontaktflächen miteinander in Flächenkontakt gebracht werden können.In a further modification, it is possible to dispense with the second guide parts when, for example, the balls (or more generally moving elements) are mounted with a suspension, so that by appropriate fastening elements that overcome the spring force, the contact surfaces can be brought into surface contact with each other.

Es ist ebenfalls möglich, die Kontaktierung hängend oder gar seitlich auszuführen. So kann beispielsweise das ersten Elektrodenelement mit einer im Querschnitt T- oder umgekehrt-L-förmigen Aufhängung versehen sein, die sich durch einen Schlitz im zweiten Elektrodenelement erstreckt.It is also possible to carry out the contacting hanging or even laterally. Thus, for example, the first electrode element may be provided with a cross-section T or reverse L-shaped suspension which extends through a slot in the second electrode element.

Das Trägerelement kann aus jedem geeigneten Material herstellt sein, da hier keine elektrische Leitfähigkeit oder Kontaktierbarkeit gefordert ist.The carrier element can be made of any suitable material, since no electrical conductivity or contactability is required here.

Das Trägerelement kann analog zum zweiten Elektrodenelement ebenfalls zweite Führungsteile aufweisen, so dass das erste Elektrodenelement durch entsprechendes Absenken auf dem Trägerelement fixiert werden kann.The carrier element may likewise have second guide parts analogously to the second electrode element, so that the first electrode element can be fixed on the carrier element by corresponding lowering.

Das Ausmaß der Fixierung durch die zweiten Führungsteile, d. h. die benötigte Kraft, um die Elektrodenelement aus dem Betriebszustand in den beweglichen Zustand zu überführen, kann den Umständen entsprechend eingestellt werden, indem die Form und Tiefe der zweiten Führungsteile in Relation zu den ersten Führungsteilen angepasst wird. Gegebenenfalls kann eine mechanische oder sonstige Krafteinwirkung zusätzlich vorgesehen werden, beispielsweise durch einen Linearmotor oder eine Winde.The extent of fixation by the second guide parts, d. H. the force required to bring the electrode element from the operating state in the movable state, can be adjusted according to the circumstances by the shape and depth of the second guide members is adjusted in relation to the first guide members. Optionally, a mechanical or other force can be additionally provided, for example by a linear motor or a winch.

Man kann bei einer Umsetzung der vorliegenden Erfindung von beispielsweise einer Plasmapolymerisationsanlage ausgehen, die zunächst mit einer Flächenelektrode ausgerüstet ist. Diese wird vorzugsweise elektrisch isoliert auf den ebenen Boden der Anlage aufgebracht und ist fest mit einer HF-Durchführung der Plasmapolymerisationsanlage (als einem Beispiel einer Niederdruck-Plasmabearbeitungsvorrichtung) verbunden.It can be assumed in an implementation of the present invention, for example, a plasma polymerization, which is initially equipped with a surface electrode. This is preferably applied electrically isolated on the flat bottom of the plant and is firmly connected to an RF implementation of the plasma polymerization plant (as an example of a low-pressure plasma processing apparatus).

Diese Flächenelektrode kann nun ferner mit einer Führungsbahn versehen sein, die in die Oberfläche z. B. durch Fräsen eingebracht wurde.This surface electrode can now be further provided with a guideway, which in the surface z. B. was introduced by milling.

Auf der Flächenelektrode kann sich nun ein Elektrodenkörper bewegen, dessen Basisfläche kleiner oder gleich der der Flächenelektrode ist. Auf der Unterseite der Basisfläche des beweglichen Elektrodenkörpers sind Elemente eingelassen, die eine Bewegung auf der Flächenelektrode ermöglichen, beispielsweise Kugellager. Ist die Fläche der beweglichen Elektrode kleiner als die der Flächenelektrode, so kann die restliche Fläche derart abgedeckt werden, dass einerseits die Flächenelektrode niemals dem Beschichtungsprozess ausgesetzt wird und andererseits die Plasmabildung unterdrückt und damit die Reinigungsintervalle verlängert werden. Hierzu bieten sich z. B. Polyethylen-Kunststoffplatten mit ca. 10 cm Dicke an.An electrode body whose base area is smaller than or equal to that of the area electrode can now move on the surface electrode. On the underside of the base surface of the movable electrode body elements are embedded, which allow movement on the surface electrode, such as ball bearings. If the area of the movable electrode is smaller than that of the area electrode, the remaining area can be covered in such a way that on the one hand the area electrode is never exposed to the coating process and on the other hand the plasma formation is suppressed and thus the cleaning intervals are lengthened. For this purpose, z. B. polyethylene plastic plates with about 10 cm thickness.

Zur Herstellung des HF-Kontaktes während des Plasmaprozesses sind in der Führungsbahn Vertiefungen so eingebracht, dass die bewegliche Hochfrequenzelektrode auf der Flächenelektrode flächig aufsetzt. Hierbei ist in der Umsetzung darauf achten, dass eine möglichst hohe Ebenheit von Flächenelektrode und beweglicher Elektrode gegeben ist, um nicht nur die Bewegung zu ermöglichen, sondern insbesondere auch einen gleichmäßigen HF-Kontakt zu gewährleisten. Damit ist ein flächiger Hochfrequenzkontakt hergestellt, welcher sich selbst und auch die Führungsbahn effektiv vor Verschmutzung und insbesondere vor einer Plasmaeinwirkung (primär schichtbildende Prozesse) schützt.For the production of the RF contact during the plasma process, depressions are introduced in the guide track in such a way that the movable radio-frequency electrode lies flat on the surface electrode. In this case, care must be taken in the implementation that the greatest possible flatness of surface electrode and movable electrode is provided in order not only to allow the movement, but in particular to ensure a uniform HF contact. Thus, a surface high-frequency contact is made, which protects itself and the guideway effectively against contamination and especially against a plasma (primary layer-forming processes).

Die Vertiefung ist so gestaltet, dass die Hochfrequenzelektrode auf der Flächenelektrode an der gewünschten Position zum Halten kommt und dass die Kräfte, die zum Bewegen der Hochfrequenzelektrode auf der Führungsbahn notwendig sind, möglichst manuell überwunden werden können. Trotzdem ist natürlich auch eine motorisierte Bewegung möglich. Die Kräfte zur freien Bewegung der Elektrode lassen sich über die Steigung der Vertiefung gezielt einstellen. Die initial zum Bewegen der Hochfrequenzelektrode notwendige Kraft wird über die Haftreibung bestimmt und kann über die Oberflächengüte und die eingesetzte Materialpaarung (beweglicher Teil der Hochfrequenzelektrode und Flächenelektrode) eingestellt werden.The depression is designed so that the high-frequency electrode on the surface electrode comes to rest at the desired position and that the forces necessary for moving the high-frequency electrode on the guide path can be overcome as manually as possible. Nevertheless, of course, a motorized movement is possible. The forces for free movement of the electrode can be adjusted over the slope of the recess targeted. The force which is initially necessary for moving the high-frequency electrode is determined by the static friction and can be adjusted via the surface quality and the material pairing used (movable part of the high-frequency electrode and surface electrode).

Die bewegliche Hochfrequenzelektrode kann in mehrere Einzelelektroden unterteilt werden, um dem Anwender eine leichte Rundumbestückung zu ermöglichen. Ferner kann und sollte die Führungsbahn nach dem Öffnen der Plasmaanlage durch weitere Elemente, z. B. auf einem beweglichen Wagen, erweitert werden, damit die Hochfrequenzelektroden mit der damit verknüpften Ware schnell ausgetauscht werden können.The movable radio-frequency electrode can be subdivided into a plurality of individual electrodes in order to allow the user a slight all-round placement. Furthermore, the guide track can and should after opening the plasma system by further elements, for. B. on a moving car, be extended so that the high-frequency electrodes can be quickly replaced with the associated goods.

Besonders vorteilhaft ist die Verwendung der erfindungsgemäßen Hochfrequenzelektrodenvorrichtung für großvolumige Plasmapolymerisationsanlagen (> 1 m3), bei denen es auf den schnellen Austausch der Ware ankommt. Zudem ist es vorteilhaft, wenn die Prozessführung so erfolgt, dass sogenannte Null-Bias Prozesse verwendet werden. Null-Bias Prozesse zeichnen sich durch einen sehr geringen Self-Bias von < 30 V, vorzugsweise < 20 V und weiter bevorzugt < 10 V aus.Particularly advantageous is the use of the high-frequency electrode device according to the invention for large-volume plasma polymerization systems (> 1 m 3 ), where it depends on the rapid replacement of the goods. In addition, it is advantageous if the process is carried out in such a way that so-called zero-bias processes are used. Zero-bias processes are characterized by a very low self-bias of <30 V, preferably <20 V and more preferably <10 V.

Ein bevorzugtes Material für die Elektrodenelemente ist Aluminium, da damit ein preiswertes, stabiles und insbesondere sehr gut leitfähiges Material gegeben ist. Grundsätzlich sind auch andere Metalle und Legierungen, wie z. B. Kupfer, Messing und Edelstahl, denkbar. Auch könnte man die Kontaktflächen versilbern, um einen besonders guten elektrischen Kontakt herzustellen. Dies ist durch die vorgeschlagene Bauform und den damit verbundenen Selbstschutz jetzt sinnvoll möglich.A preferred material for the electrode elements is aluminum, since this is an inexpensive, stable and in particular very good conductive material. In principle, other metals and alloys, such as. As copper, brass and stainless steel, conceivable. You could also silver the contact surfaces to make a particularly good electrical contact. This is now possible due to the proposed design and the associated self-protection.

Durch die sich selbst schützende Hochfrequenzelektrodenvorrichtung ist es sogar möglich, die beweglichen Einheiten der Hochfrequenzelektrodenvorrichtung zu ölen und/oder zu fetten, auch wenn bisher üblicherweise in einem Vakuumprozess davon Abstand genommen wurde, da Vakuumfette kein gutes Schmiermittel sind, Öle und Fette schnell durch das Plasma verändert werden und insbesondere den Plasmaprozess unkontrollierbar beeinflussen. Die Abschirmung reduziert oder verhindert eine gegenseitige Einwirkung von Plasma/Niederdruck und Schmiermittel.By the self-protecting high-frequency electrode device, it is even possible to lubricate and / or grease the movable units of the high-frequency electrode device, even if it has usually been omitted in a vacuum process, since vacuum greases are not a good lubricant, oils and fats quickly through the plasma be changed and in particular uncontrollably influence the plasma process. The shield reduces or prevents the interaction of plasma / low pressure and lubricant.

Eine Möglichkeit besteht darin, das bewegliche Elektrodenelement als Warenträger auszuführen, so dass sowohl ein schneller Warenaustausch gewährleistet als auch die Zugänglichkeit verbessert wird.One possibility is to carry out the movable electrode element as a product carrier, so that both a rapid exchange of goods ensured and the accessibility is improved.

Die in den vorstehenden Absätzen beschriebene beispielhafte Umsetzung einer Hochfrequenzelektrodenvorrichtung zeichnet sich durch Vertiefungen in einem Führungssystem aus, womit die folgenden Möglichkeiten bzw. Vorteile eröffnet sind:

  • • Flächiger, gleichmäßig verteilter HF-Kontakt
  • • Schutz des Kontaktes durch Materialschluss während des Plasmaprozesses
  • • Einfaches und geführtes Austauschen der beweglichen Hochfrequenzelektrode durch ein Führungssystem, welches im Bereich der fest eingebauten Basiselektrode angeordnet ist
  • • Manuelles Manipulieren auch sehr schwerer Elektroden (mit zu beschichtenden Komponenten)
  • • Kein isoliertes Schienensystem notwendig
  • • Keine Verschraubungen oder Schleifkontakte zur Herstellung des Hochfrequenzkontaktes notwendig
  • • Keine Reinigung der HF-Kontakte oder des Bewegungsmechanismus notwendig
  • • Es ist sogar eine Schmierung der Bewegungselemente möglich
  • • Besonders interessant für großflächige Bauteile und Prozess mit niedrigem Self-Bias, insbesondere mit Self-Bias < 10 V.
The exemplary implementation of a high-frequency electrode device described in the preceding paragraphs is characterized by depressions in a guide system, which opens up the following possibilities or advantages:
  • • Flat, uniformly distributed RF contact
  • • Protection of the contact due to material shortage during the plasma process
  • • Simple and guided replacement of the movable high-frequency electrode by a guide system, which is arranged in the region of the fixed base electrode
  • • Manual manipulation of very heavy electrodes (with components to be coated)
  • • No insulated rail system necessary
  • • No screw connections or sliding contacts necessary for the production of high frequency contact
  • • No cleaning of the RF contacts or the movement mechanism necessary
  • • It is even possible to lubricate the movement elements
  • • Particularly interesting for large components and process with low self-bias, especially with self-bias <10 V.

Claims (10)

Hochfrequenzelektrodenvorrichtung für eine Niederdruck-Plasmabearbeitungsvorrichtung, mit einem ersten und einem zweiten Elektrodenelement, die relativ zueinander beweglich sind und von denen eines für einen festen Anschluss an eine Hochfrequenzquelle der Niederdruck-Plasmabearbeitungsvorrichtung ausgestaltet ist, wobei das erste Elektrodenelement eine erste Kontaktfläche aufweist und das zweite Elektrodenelement eine zweite Kontaktfläche aufweist, die der ersten Kontaktfläche gegenüberliegt und im Betriebszustand in elektrischem Flächenkontakt mit der ersten Kontaktfläche ist, wobei eines der Elektrodenelemente ein Bewegungselement aufweist und das andere der Elektrodenelemente eine Führung für das Bewegungselement aufweist, wobei das Bewegungselement und die Führung eine relative Bewegung der Elektrodenelemente erlauben, mit der die Elektrodenelemente in den Betriebszustand gebracht werden können, wobei das Bewegungselement und wenigstens ein Teil der Führung im Betriebszustand durch den Flächenkontakt gegenüber Plasma abgeschirmt sind.High frequency electrode apparatus for a low pressure plasma processing apparatus, a first and a second electrode member which are movable relative to one another and one of which is configured for a fixed connection to a high-frequency source of the low-pressure plasma processing apparatus, wherein the first electrode element has a first contact surface and the second electrode element has a second contact surface, which is opposite to the first contact surface and, in the operating state, is in electrical surface contact with the first contact surface, wherein one of the electrode elements has a movement element and the other of the electrode elements has a guide for the movement element, wherein the movement element and the guide allow a relative movement of the electrode elements, with which the electrode elements can be brought into the operating state, wherein the moving element and at least a part of the guide are shielded in the operating state by the surface contact with respect to plasma. Hochfrequenzelektrodenvorrichtung nach Anspruch 1, wobei das Bewegungselement eine in der Kontaktfläche angeordnete gelagerte Kugel und/oder Rolle umfasst und die Führung eine Spur zur Führung der Kugel und/oder Rolle umfasst, wobei die Spur einen ersten Führungsteil umfasst, in dem die Kugel und/oder Rolle abrollen kann, so dass die erste und zweite Kontaktfläche voneinander beabstandet sind, und einen zweiten Führungsteil umfasst, der zum Inkontaktbringen der ersten und zweiten Kontaktfläche in elektrischen Flächenkontakt gegenüber dem ersten Führungsteil vertieft ausgeführt ist.High-frequency electrode device according to claim 1, wherein the moving element comprises a bearing ball and / or roller arranged in the contact surface and the guide comprises a track for guiding the ball and / or roller, wherein the track comprises a first guide member in which the ball and / or roller can roll so that the first and second contact surfaces are spaced from each other, and a second guide member adapted to contact the first and second contact surfaces in electrical contact with the first Guide part is carried out deepened. Hochfrequenzelektrodenvorrichtung nach Anspruch 2, wobei das Bewegungselement mehrere gelagerte Kugeln und/oder Rollen, vorzugsweise drei oder vier Kugeln und/oder Rollen, umfasst, wobei die Führung eine Spur mit einem ersten und zweiten Führungsteil für jeweils eine der mehreren gelagerten Kugeln und/oder Rollen umfasst.A high frequency electrode device according to claim 2, wherein said moving element has a plurality of mounted balls and / or rollers, preferably three or four balls and / or rollers, wherein the guide comprises a track with a first and second guide part for each one of the plurality of stored balls and / or rollers. Hochfrequenzelektrodenvorrichtung nach einem der vorstehenden Ansprüche, wobei das erste Elektrodenelement und das zweite Elektrodenelement jeweils eine Fluidleitung mit einer Öffnung zur jeweiligen Kontaktfläche aufweisen und die Fluidleitungen im Betriebszustand miteinander gekoppelt sind.High-frequency electrode device according to one of the preceding claims, wherein the first electrode member and the second electrode member each having a fluid line having an opening to the respective contact surface and the fluid lines are coupled together in the operating state. Hochfrequenzelektrodenvorrichtung nach einem der vorstehenden Ansprüche, wobei wenigstens ein Elektrodenelement mit einer Dichtung versehen ist, die im Betriebszustand den Flächenkontakt zwischen den Elektrodenelementen wenigstens teilweise gegenüber Plasma abdichtet.High-frequency electrode device according to one of the preceding claims, wherein at least one electrode element is provided with a seal which seals in the operating state, the surface contact between the electrode elements at least partially against plasma. Hochfrequenzelektrodenvorrichtung nach einem der vorstehenden Ansprüche, mit Befestigungselementen, die zu einer Fixierung der Elektrodenelemente miteinander im Betriebszustand ausgestaltet sind.High-frequency electrode device according to one of the preceding claims, with fastening elements, which are designed to fix the electrode elements together in the operating state. Hochfrequenzelektrodenvorrichtung nach einem der vorstehenden Ansprüche, mit einem mit dem Elektrodenelement, das für den Anschluss an die Hochfrequenzquelle ausgestaltet ist, und/oder der Niederdruck-Plasmabearbeitungsvorrichtung koppelbaren Trägerelement, wobei das Trägerelement eine/ein dem Elektrodenelement, das für den Anschluss an die Hochfrequenzquelle ausgestaltet ist, entsprechende Führung bzw. entsprechendes Bewegungselement aufweist, wobei bei einer Kopplung des Trägerelements das andere Elektrodenelement auf das Trägerelement bewegt werden kann.High-frequency electrode device according to one of the preceding claims, comprising a with the electrode element, which is designed for connection to the high-frequency source, and / or the low-pressure plasma processing device couplable support member, wherein the support member / a the electrode element, which is designed for connection to the high frequency source is, corresponding guide or corresponding movement element, wherein in a coupling of the carrier element, the other electrode element can be moved onto the support element. Hochfrequenzelektrodenvorrichtung nach einem der vorstehenden Ansprüche, mit einem Abdeckelement, mit dem wenigstens ein Teil des nicht durch den Flächenkontakt der Elektrodenelemente im Betriebszustand gegenüber Plasma abgeschirmten Teils der Führung gegenüber Plasma abschirmbar ist.High-frequency electrode device according to one of the preceding claims, comprising a cover element, with which at least part of the part of the guide not shielded by the surface contact of the electrode elements in the operating state from plasma can be shielded from plasma. Niederdruck-Plasmabearbeitungsvorrichtung mit einer Hochfrequenzelektrodenvorrichtung nach einem der vorstehenden Ansprüche.A low pressure plasma processing apparatus comprising a high frequency electrode apparatus according to any one of the preceding claims. Verfahren zur Bereitstellung einer Hochfrequenzelektrodenvorrichtung für eine Niederdruck-Plasmabearbeitungsvorrichtung, mit: Bereitstellen eines erstes und eines zweiten Elektrodenelement, die relativ zueinander beweglich sind, wobei das erste Elektrodenelement eine erste Kontaktfläche aufweist und das zweite Elektrodenelement eine zweite Kontaktfläche aufweist, die der ersten Kontaktfläche gegenüberliegt, wobei eines der Elektrodenelemente ein Bewegungselement aufweist und das andere der Elektrodenelemente eine Führung für das Bewegungselement aufweist, wobei das Bewegungselement und die Führung eine relative Bewegung der Elektrodenelemente erlauben, Anschließen eines der Elektrodenelemente an eine Hochfrequenzquelle der Niederdruck-Plasmabearbeitungsvorrichtung und Bewegen des anderen Elektrodenelements gegenüber dem angeschlossenen Elektrodenelement in einen Betriebszustand, wobei im Betriebszustand die Kontaktflächen miteinander in elektrischem Flächenkontakt sind, wobei das Bewegungselement und wenigstens ein Teil der Führung im Betriebszustand durch den Flächenkontakt gegenüber Plasma abgeschirmt sind.A method of providing a high frequency electrode apparatus for a low pressure plasma processing apparatus, comprising: Providing a first and a second electrode element that are movable relative to one another, wherein the first electrode element has a first contact surface and the second electrode element has a second contact surface, which lies opposite the first contact surface, wherein one of the electrode elements has a movement element and the other of the electrode elements has a guide for the movement element, wherein the movement element and the guide allow a relative movement of the electrode elements, Connecting one of the electrode elements to a high-frequency source of the low-pressure plasma processing apparatus and Moving the other electrode element relative to the connected electrode element into an operating state, wherein in the operating state the contact surfaces are in electrical surface contact with one another, wherein the moving element and at least a part of the guide are shielded in the operating state by the surface contact with respect to plasma.
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