DE102013220674A1 - lighting device - Google Patents

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Abstract

Die Erfindung betrifft eine Leuchtvorrichtung. Die Leuchtvorrichtung weist ein reflektierendes Substrat mit einer Montageseite, und eine auf der Montageseite des reflektierenden Substrats angeordnete isolierende Schicht auf. Die isolierende Schicht weist eine Öffnung mit einer umlaufenden Seitenfläche auf. Die Leuchtvorrichtung weist eine umlaufende reflektierende Abdeckung im Bereich eines Rands der Öffnung der isolierenden Schicht auf, welche die umlaufende Seitenfläche der Öffnung abdeckt. Die Leuchtvorrichtung weist wenigstens eine Halbleiter-Lichtquelle auf, welche in einem von der reflektierenden Abdeckung umgebenen Bereich auf der Montageseite des reflektierenden Substrats angeordnet ist. Die Erfindung betrifft ferner ein Verfahren zum Herstellen einer Leuchtvorrichtung.The invention relates to a lighting device. The lighting device comprises a reflective substrate having a mounting side, and an insulating layer disposed on the mounting side of the reflective substrate. The insulating layer has an opening with a circumferential side surface. The lighting device has a circumferential reflective cover in the region of an edge of the opening of the insulating layer, which covers the circumferential side surface of the opening. The lighting device has at least one semiconductor light source, which is arranged in an area surrounded by the reflective cover on the mounting side of the reflective substrate. The invention further relates to a method for producing a lighting device.

Description

Die Erfindung betrifft eine Leuchtvorrichtung, welche ein reflektierendes Substrat und wenigstens eine Halbleiter-Lichtquelle aufweist. Die Erfindung betrifft des Weiteren ein Verfahren zum Herstellen einer Leuchtvorrichtung. The invention relates to a lighting device which has a reflective substrate and at least one semiconductor light source. The invention further relates to a method for producing a lighting device.

Eine Leuchtvorrichtung kann ein Substrat mit einer Montageseite und wenigstens eine auf der Montageseite angeordnete Halbleiter-Lichtquelle zum Abgeben einer Lichtstrahlung aufweisen. Die wenigstens eine Halbleiter-Lichtquelle kann in Form eines Leuchtdiodenchips (LED, Light Emitting Diode) verwirklicht sein. A lighting device may comprise a substrate with a mounting side and at least one mounted on the mounting side semiconductor light source for emitting a light radiation. The at least one semiconductor light source can be realized in the form of a light-emitting diode chip (LED, light-emitting diode).

Ein oder mehrere Leuchtdiodenchips mit einem strahlungsdurchlässigen Chipsubstrat aus Saphir, bei welchen eine Lichtabgabe auch über das Saphirsubstrat erfolgen kann, können direkt auf einem hochreflektiven Substrat angeordnet werden, um eine effektive Strahlungsreflexion zu ermöglichen. Üblicherweise ist auf der Montageseite des reflektierenden Substrats zusätzlich eine isolierende Schicht angeordnet. Auf der isolierenden Schicht sind Leiterbahnen ausgebildet. Die isolierende Schicht sorgt für eine ausreichende elektrische Isolation zwischen der Leiterbahnebene und dem reflektierenden Substrat. Die isolierende Schicht weist eine Öffnung auf, wodurch ein Teil der Montageseite des reflektierenden Substrats freigestellt ist. In diesem Bereich ist der wenigstens eine lichtemittierende Halbleiterchip auf der Montageseite angeordnet. Die Öffnung der isolierenden Schicht kann ferner als Kavität zum Aufnehmen einer leuchtstoffgefüllten Vergussmasse dienen, so dass eine Konversion von Lichtstrahlung des wenigstens einen Halbleiterchips bewirkt werden kann. One or more light-emitting diode chips with a radiation-transmissive chip substrate made of sapphire, in which a light output can also take place via the sapphire substrate, can be arranged directly on a highly reflective substrate in order to enable effective radiation reflection. Usually, an insulating layer is additionally arranged on the mounting side of the reflective substrate. On the insulating layer tracks are formed. The insulating layer ensures sufficient electrical insulation between the conductor track plane and the reflective substrate. The insulating layer has an opening, whereby a part of the mounting side of the reflective substrate is released. In this area, the at least one light-emitting semiconductor chip is arranged on the mounting side. The opening of the insulating layer may also serve as a cavity for receiving a phosphor-filled potting compound, so that a conversion of light radiation of the at least one semiconductor chip can be effected.

Herkömmlicherweise ist die isolierende Schicht aus einem weißen dielektrischen Material ausgebildet. Als Dielektrikum kommt zumeist ein sogenanntes BT-Material (Bismaleimide-Triazine) zum Einsatz. Ein solches Material ist jedoch relativ teuer. Ein weiterer Nachteil ist eine relativ geringe Reflektivität. Im Betrieb der Leuchtvorrichtung kann es daher zu einer Absorption von Lichtstrahlung an einer innen liegenden Seitenfläche der Öffnung der isolierenden Schicht kommen. Dies ist mit Effizienzeinbußen verbunden. Conventionally, the insulating layer is formed of a white dielectric material. The dielectric used is usually a so-called BT material (bismaleimide triazines). However, such a material is relatively expensive. Another disadvantage is a relatively low reflectivity. During operation of the lighting device, it is therefore possible for absorption of light radiation to occur on an inner side surface of the opening of the insulating layer. This is associated with efficiency losses.

Im Rahmen der Herstellung wird die die Öffnung aufweisende isolierende Schicht mit Hilfe eines Klebstoffs auf das reflektierende Substrat auflaminiert. Bei diesem Prozess kann es passieren, dass ein Teil des Klebstoffs am Rand in die Öffnung hineinläuft und in diesem Bereich die Montageseite des reflektierenden Substrats bedeckt. Einflüsse wie eine Temperatur- und UV-Belastung können eine Vergilbung des hineingelaufenen Klebstoffs hervorrufen. Hierdurch kann es zu einer zusätzlichen Absorption von Lichtstrahlung kommen. Um zu vermeiden, dass Klebstoff in die Öffnung hineinläuft, kann ein „low-flow“-Klebstoff mit hoher Viskosität verwendet werden. Hierdurch lässt sich das Problem der Strahlungsabsorption nur zum Teil lösen. As part of the production, the insulating layer having the opening is laminated to the reflective substrate with the aid of an adhesive. In this process, it may happen that a part of the adhesive runs into the opening at the edge and in this area covers the mounting side of the reflective substrate. Influences such as temperature and UV exposure can cause yellowing of the adhesive that has run into it. This can lead to an additional absorption of light radiation. To avoid adhesive running into the opening, a high viscosity "low flow" adhesive can be used. This can only partially solve the problem of radiation absorption.

Die Aufgabe der vorliegenden Erfindung besteht darin, eine Lösung für eine verbesserte Leuchtvorrichtung anzugeben. The object of the present invention is to provide a solution for an improved lighting device.

Diese Aufgabe wird durch die Merkmale der unabhängigen Patentansprüche gelöst. Weitere vorteilhafte Ausführungsformen der Erfindung sind in den abhängigen Ansprüchen angegeben. This object is solved by the features of the independent claims. Further advantageous embodiments of the invention are specified in the dependent claims.

Gemäß einem Aspekt der Erfindung wird eine Leuchtvorrichtung vorgeschlagen. Die Leuchtvorrichtung weist ein reflektierendes Substrat mit einer Montageseite, und eine auf der Montageseite des reflektierenden Substrats angeordnete isolierende Schicht auf. Die isolierende Schicht weist eine Öffnung mit einer umlaufenden Seitenfläche auf. Die Leuchtvorrichtung weist des Weiteren eine umlaufende reflektierende Abdeckung im Bereich eines Rands der Öffnung der isolierenden Schicht auf, welche die umlaufende Seitenfläche der Öffnung abdeckt. Die Leuchtvorrichtung weist ferner wenigstens eine Halbleiter-Lichtquelle auf, welche in einem von der reflektierenden Abdeckung umgebenen Bereich auf der Montageseite des reflektierenden Substrats angeordnet ist. According to one aspect of the invention, a lighting device is proposed. The lighting device comprises a reflective substrate having a mounting side, and an insulating layer disposed on the mounting side of the reflective substrate. The insulating layer has an opening with a circumferential side surface. The lighting device further comprises a circumferential reflective cover in the region of an edge of the opening of the insulating layer, which covers the circumferential side surface of the opening. The lighting device further comprises at least one semiconductor light source, which is arranged in an area surrounded by the reflective cover on the mounting side of the reflective substrate.

Bei der Leuchtvorrichtung kann eine Absorption von Lichtstrahlung an der innen liegenden Seitenfläche der Öffnung der isolierenden Schicht durch die in diesem Bereich ausgebildete reflektierende Abdeckung verhindert werden. Die reflektierende Abdeckung kann stattdessen eine effektive Strahlungsreflexion ermöglichen. Infolgedessen kann die Leuchtvorrichtung eine höhere Effizienz ausweisen als eine herkömmliche Leuchtvorrichtung. Möglich ist zum Beispiel eine Effizienzsteigerung bis zu 2,5%. In the lighting device, absorption of light radiation at the inner side surface of the opening of the insulating layer can be prevented by the reflective cover formed in this region. The reflective cover may instead allow for effective radiation reflection. As a result, the lighting device can exhibit higher efficiency than a conventional lighting device. For example, an increase in efficiency of up to 2.5% is possible.

Der Einsatz der reflektierenden Abdeckung zur Strahlungsreflexion bietet des Weiteren die Möglichkeit, die isolierende Schicht aus einem Material auszubilden, welches nicht mehr zwingend weiß ist oder eine gewisse Reflektivität besitzt. Das herkömmlicherweise verwendete BT-Material kann daher durch ein kostengünstigeres isolierendes Material bzw. Dielektrikum ersetzt werden. The use of the reflective cover for radiation reflection furthermore offers the possibility of forming the insulating layer from a material which is no longer necessarily white or has a certain reflectivity. The conventionally used BT material can therefore be replaced by a less expensive insulating material or dielectric.

Für die Leuchtvorrichtung können unterschiedliche Ausführungsformen in Betracht kommen, wie im Folgenden näher beschrieben wird. For the lighting device, different embodiments may be considered, as will be described in more detail below.

Die reflektierende Abdeckung kann elektrisch nicht leitfähig bzw. elektrisch isolierend sein. In einer möglichen Ausführungsform weist die reflektierende Abdeckung ein strahlungsdurchlässiges, elektrisch isolierendes Grundmaterial und darin eingebettete reflektierende Partikel auf. Hierdurch kann die Abdeckung hochreflektiv sein. Das Grundmaterial der Abdeckung kann ein temperatur- und/oder UV-stabiles Material sein, so dass eine Zersetzung und ein Vergilben mit einer hohen Zuverlässigkeit vermieden werden können. Ein Grundmaterial mit solchen Eigenschaften ist zum Beispiel Silikon. Bei den reflektierenden Partikeln kann es sich zum Beispiel um TiO2-Partikel handeln. The reflective cover may be electrically non-conductive or electrically insulating. In one possible embodiment, the reflective cover has a radiation-transmissive, electrically insulating base material and therein embedded reflective particles on. As a result, the cover can be highly reflective. The base material of the cover may be a temperature and / or UV-stable material, so that decomposition and yellowing with high reliability can be avoided. A base material with such properties is, for example, silicone. The reflective particles may be, for example, TiO 2 particles.

Das reflektierende Substrat kann in gezielter Weise zum Ermöglichen einer effektiven Strahlungsreflexion im Bereich der Montageseite ausgebildet sein. In diesem Sinne ist gemäß einer weiteren Ausführungsform vorgesehen, dass das reflektierende Substrat eine Spiegelschicht und eine auf der Spiegelschicht angeordnete dielektrische Schicht zur Reflexionsverstärkung aufweist. Die dielektrische Schicht bildet die Montageseite des reflektierenden Substrats. Die Spiegelschicht kann zum Beispiel eine metallische Schicht, beispielsweise eine Silberschicht sein. Bei der dielektrischen Schicht kann es sich zum Beispiel um ein Schichtsystem aus Oxiden handeln. Die dielektrische Schicht kann gleichzeitig als Schutzschicht dienen, um eine Korrosion der Spiegelschicht zu verhindern. Neben diesen Schichten kann das reflektierende Substrat eine metallische Trägerschicht aufweisen. Die Trägerschicht kann zum Beispiel eine Aluminiumschicht sein. Die vorgenannten Schichten können in Form eines Schichtenstapels vorliegen. Anstelle der vorgenannten Materialien können auch andere Materialien zum Einsatz kommen. Es ist zum Beispiel möglich, dass die Spiegelschicht als hochreflektive Keramik, zum Beispiel aus Al2O3, ausgebildet ist. The reflective substrate may be designed in a targeted manner for enabling effective radiation reflection in the area of the mounting side. In this sense, according to a further embodiment, it is provided that the reflective substrate has a mirror layer and a reflection-enhancing dielectric layer arranged on the mirror layer. The dielectric layer forms the mounting side of the reflective substrate. The mirror layer may, for example, be a metallic layer, for example a silver layer. The dielectric layer may be, for example, a layer system of oxides. The dielectric layer can simultaneously serve as a protective layer to prevent corrosion of the mirror layer. In addition to these layers, the reflective substrate may have a metallic carrier layer. The carrier layer may be, for example, an aluminum layer. The aforementioned layers may be in the form of a layer stack. Instead of the aforementioned materials, other materials may be used. It is possible, for example, for the mirror layer to be in the form of highly reflective ceramic, for example of Al 2 O 3.

Die wenigstens eine Halbleiter-Lichtquelle befindet sich innerhalb der Öffnung der isolierenden Schicht und ist von der reflektierenden Abdeckung umschlossen. Die reflektierende Abdeckung, welche beabstandet zu der wenigstens einen Halbleiter-Lichtquelle vorliegen kann, weist eine geschlossene umlaufende Struktur auf. Die Form der reflektierenden Abdeckung kann sich nach der Form der Öffnung der isolierenden Schicht richten. The at least one semiconductor light source is located within the opening of the insulating layer and is enclosed by the reflective cover. The reflective cover, which may be spaced from the at least one semiconductor light source, has a closed circumferential structure. The shape of the reflective cover may depend on the shape of the opening of the insulating layer.

Es ist zum Beispiel möglich, dass die Öffnung der isolierenden Schicht in der Aufsicht eine kreisförmige Kontur aufweist. In dieser Ausgestaltung kann die umlaufende Seitenfläche der Öffnung eine gekrümmte und vollständig umlaufende Fläche sein. Die die Seitenfläche bedeckende reflektierende Abdeckung kann in dieser Ausgestaltung in der Aufsicht eine Kreisringform besitzen. For example, it is possible for the opening of the insulating layer to have a circular contour in plan view. In this embodiment, the circumferential side surface of the opening may be a curved and completely circumferential surface. The reflective cover covering the side surface may have a circular ring shape in plan view in this embodiment.

Alternativ kann die Öffnung der isolierenden Schicht in der Aufsicht auch eine andere Kontur, zum Beispiel eine vieleckige bzw. rechteckige Kontur, aufweisen. Auf diese Weise kann sich die umlaufende Seitenfläche aus mehreren bzw. vier aneinandergrenzenden Teilflächen (Seitenflanken) zusammensetzen. In dieser Ausgestaltung kann die die Seitenfläche bedeckende reflektierende Abdeckung in der Aufsicht eine einem Vieleck bzw. Rechteck entsprechende geschlossene Form bzw. Rahmenform, gegebenenfalls mit abgerundeten Ecken, aufweisen. Alternatively, the opening of the insulating layer in the plan view also have a different contour, for example a polygonal or rectangular contour. In this way, the circumferential side surface of several or four adjoining partial surfaces (side edges) composed. In this embodiment, the reflective cover covering the side surface can have, in plan view, a closed shape or frame shape corresponding to a polygon or rectangle, optionally with rounded corners.

Im Querschnitt kann die reflektierende Abdeckung eine höckerförmige Struktur aufweisen. Die Bedeckung bzw. Umhüllung des Rands der Öffnung der isolierenden Schicht durch die reflektierende Abdeckung kann nicht konform sein, so dass die reflektierende Abdeckung eine variable, nicht gleichmäßige Dicke aufweisen kann. In cross section, the reflective cover may have a hump-shaped structure. The covering of the edge of the opening of the insulating layer by the reflective cover may not be compliant, so that the reflective cover may have a variable, non-uniform thickness.

Die reflektierende Abdeckung kann innerhalb der Öffnung auf dem reflektierenden Substrat bzw. auf der Montageseite des reflektierenden Substrats angeordnet sein. Abhängig von der Herstellung der Leuchtvorrichtung kann in diesem Bereich auch ein Klebstoff vorhanden sein, welcher die Montageseite des reflektierenden Substrats bedeckt. Hierbei kann die reflektierende Abdeckung den Klebstoff bedecken, so dass eine Strahlungsabsorption an dem Klebstoff vermieden werden kann. The reflective cover may be disposed within the opening on the reflective substrate or on the mounting side of the reflective substrate. Depending on the production of the lighting device, an adhesive may also be present in this area, which covers the mounting side of the reflective substrate. In this case, the reflective cover can cover the adhesive, so that a radiation absorption on the adhesive can be avoided.

Die reflektierende Abdeckung kann auch außerhalb der Öffnung der isolierenden Schicht vorliegen. In einer solchen Ausgestaltung kann die reflektierende Abdeckung im Bereich des Rands der Öffnung auf einer der Montageseite abgewandten Seite der isolierenden Schicht angeordnet sein. Hierdurch kann eine Strahlungsabsorption an der isolierenden Schicht mit einer hohen Zuverlässigkeit vermieden werden. The reflective cover may also be present outside the opening of the insulating layer. In such an embodiment, the reflective cover may be arranged in the region of the edge of the opening on a side of the insulating layer facing away from the mounting side. As a result, radiation absorption on the insulating layer can be avoided with high reliability.

In einer weiteren Ausführungsform überragen die isolierende Schicht und die reflektierende Abdeckung die wenigstens eine Halbleiter-Lichtquelle. Diese Ausgestaltung, welche ein in der Herstellung der Leuchtvorrichtung durchgeführtes Vergießen bzw. Verfüllen im Bereich der wenigstens einen Halbleiter-Lichtquelle ermöglicht, kann im Hinblick auf die im Folgenden beschriebene Ausführungsform in Betracht kommen. In a further embodiment, the insulating layer and the reflective cover project beyond the at least one semiconductor light source. This refinement, which makes it possible to cast or fill in the region of the at least one semiconductor light source in the production of the lighting device, may be considered with regard to the embodiment described below.

In einer weiteren Ausführungsform weist die Leuchtvorrichtung eine Vergussmasse auf, von welcher die wenigstens eine Halbleiter-Lichtquelle umhüllt ist. Die Vergussmasse kann zumindest an die wenigstens eine Halbleiter-Lichtquelle, an die Montageseite des reflektierenden Substrats und an die reflektierende Abdeckung angrenzen. Die Vergussmasse, welche die wenigstens eine Halbleiter-Lichtquelle und die isolierende Schicht überragen kann, kann eine leuchtstoffgefüllte Vergussmasse sein. Mit der leuchtstoffgefüllten Vergussmasse kann eine Konversion von Lichtstrahlung der wenigstens einen Halbleiter-Lichtquelle bewirkt werden. In a further embodiment, the lighting device has a potting compound, from which the at least one semiconductor light source is enveloped. The potting compound may adjoin at least the at least one semiconductor light source, the mounting side of the reflective substrate, and the reflective cover. The potting compound, which may project beyond the at least one semiconductor light source and the insulating layer, may be a phosphor-filled potting compound. With the phosphor-filled potting compound, a conversion of light radiation of the at least one semiconductor light source can be effected.

Bei der wenigstens einen Halbleiter-Lichtquelle kann es sich um einen Leuchtdiodenchip handeln. Der Leuchtdiodenchip kann ein Volumenemitter sein und ein strahlungsdurchlässiges Chipsubstrat, zum Beispiel aus Saphir, aufweisen. Das strahlungsdurchlässige Chipsubstrat kann eine Rückseite des Leuchtdiodenchips bilden. Im Bereich der Vorderseite kann der Leuchtdiodenchip eine Halbleiterschichtenfolge mit einer aktiven Zone zur Strahlungserzeugung und zwei Vorderseitenkontakte aufweisen. Der Leuchtdiodenchip kann mit dem strahlungsdurchlässigen Chipsubstrat auf der Montageseite des reflektierenden Substrats angeordnet sein. Eine Lichtabgabe kann nicht nur über die Vorderseite, sondern auch über andere Seiten bzw. über das strahlungsdurchlässige Chipsubstrat erfolgen. The at least one semiconductor light source may be a light-emitting diode chip. The light-emitting diode chip can be a volume emitter and have a radiation-transmissive chip substrate, for example of sapphire. The radiation-transmissive chip substrate can form a rear side of the light-emitting diode chip. In the region of the front side, the light-emitting diode chip may have a semiconductor layer sequence with an active zone for generating radiation and two front side contacts. The light-emitting diode chip can be arranged with the radiation-transmissive chip substrate on the mounting side of the reflective substrate. A light emission can be done not only on the front side, but also on other sides or on the radiation-permeable chip substrate.

Im Betrieb der Leuchtvorrichtung kann die wenigstens eine Halbleiter-Lichtquelle eine primäre Lichtstrahlung emittieren. Bei einer Ausgestaltung der Leuchtvorrichtung mit einer leuchtstoffgefüllten Vergussmasse kann die primäre Lichtstrahlung der wenigstens einen Halbleiter-Lichtquelle wenigstens teilweise in eine oder mehrere sekundäre Lichtstrahlungen konvertiert werden. Auf diese Weise kann eine Mischstrahlung erzeugt werden. Beispielsweise kann die primäre Lichtstrahlung eine blaue Lichtstrahlung sein, welche mit Hilfe der leuchtstoffgefüllten Vergussmasse in eine oder mehrere Lichtstrahlungen im grünen bis roten Spektralbereich konvertiert wird, um eine weiße Mischstrahlung zu erzeugen. Die Mischstrahlung kann über die Vergussmasse abgegeben werden. During operation of the lighting device, the at least one semiconductor light source can emit primary light radiation. In one embodiment of the lighting device with a phosphor-filled potting compound, the primary light radiation of the at least one semiconductor light source can be at least partially converted into one or more secondary light radiations. In this way, a mixed radiation can be generated. For example, the primary light radiation can be a blue light radiation, which is converted with the aid of the phosphor-filled potting compound into one or more light radiations in the green to red spectral range in order to produce a white mixed radiation. The mixed radiation can be delivered via the potting compound.

Bei der Leuchtvorrichtung kann ein Strahlungsanteil, welcher in Richtung der Montageseite des reflektierenden Substrats abgestrahlt wird, an dem reflektierenden Substrat reflektiert werden. Ein in Richtung der isolierenden Schicht bzw. in Richtung der Seitenfläche der Öffnung der isolierenden Schicht abgestrahlter Strahlungsanteil kann an der reflektierenden Abdeckung reflektiert werden. Hieraus resultiert die hohe Effizienz der Leuchtvorrichtung. Bei einer Ausgestaltung der Leuchtvorrichtung mit einer leuchtstoffgefüllten Vergussmasse können jeweils primäre, gestreute und konvertierte Strahlungsanteile reflektiert werden. In the lighting device, a radiation component, which is emitted in the direction of the mounting side of the reflective substrate, may be reflected on the reflective substrate. A radiation component emitted in the direction of the insulating layer or in the direction of the side surface of the opening of the insulating layer can be reflected on the reflective cover. This results in the high efficiency of the lighting device. In one embodiment of the lighting device with a phosphor-filled potting compound each primary, scattered and converted radiation components can be reflected.

In einer weiteren Ausführungsform weist die Leuchtvorrichtung einen auf der isolierenden Schicht angeordneten Rahmen auf. Der Rahmen kann die reflektierende Abdeckung umgeben. Des Weiteren kann der Rahmen zu der reflektierenden Abdeckung beabstandet sein. Die oben erwähnte Vergussmasse ist in einem von dem Rahmen umschlossenen Bereich angeordnet. Der Rahmen kann als Damm dienen, und eine seitliche Begrenzung bei einem in der Herstellung der Leuchtvorrichtung durchgeführten Verfüllen mit der Vergussmasse zur Verfügung stellen. In a further embodiment, the lighting device has a frame arranged on the insulating layer. The frame may surround the reflective cover. Furthermore, the frame may be spaced from the reflective cover. The above-mentioned potting compound is disposed in an area enclosed by the frame. The frame can serve as a dam, and provide a lateral boundary at a performed in the manufacture of the lighting fixtures with the potting compound.

Der Rahmen kann dasselbe Material bzw. dieselbe Materialzusammensetzung wie die reflektierende Abdeckung aufweisen. Auf diese Weise kann Lichtstrahlung mit einer hohen Effektivität an dem Rahmen reflektiert werden. The frame may have the same material or material composition as the reflective cover. In this way, light radiation with high efficiency can be reflected on the frame.

Es ist auch möglich, die reflektierende Abdeckung selbst als Damm zum Bereitstellen einer seitlichen Begrenzung bei einem in der Herstellung der Leuchtvorrichtung durchgeführten Verfüllen mit der Vergussmasse einzusetzen, so dass die Verwendung eines zusätzlichen Rahmens entfallen kann. In diesem Sinne ist gemäß einer weiteren Ausführungsform vorgesehen, dass die reflektierende Abdeckung eine Ausnehmung umschließt, innerhalb derer die Vergussmasse angeordnet ist. It is also possible to use the reflective cover itself as a dam for providing a lateral boundary in a filling carried out in the manufacture of the lighting device with the potting compound, so that the use of an additional frame can be omitted. In this sense, it is provided according to a further embodiment that the reflective cover encloses a recess, within which the potting compound is arranged.

Wie oben angegeben wurde, ermöglicht die reflektierende Abdeckung eine Ausgestaltung der isolierenden Schicht aus einem kostengünstigen Material. Es kann zum Beispiel in Betracht kommen, die isolierende Schicht aus einem kostengünstigen und im Leiterplattenbereich eingesetzten isolierenden Basismaterial, auch als Prepreg-Material bezeichnet, auszubilden. Das Prepreg-Material kann ein Trägermaterial, zum Beispiel in Form eines Gewebes, und ein Harzmaterial aufweisen. Mögliche Trägermaterialien sind zum Beispiel Papier und/oder Glasfasergewebe. Mögliche Harzmaterialien sind zum Beispiel Epoxidharz oder Phenolharz. Bei dem Prepreg-Material kann es sich zum Beispiel um ein FR4-, FR2- oder CEM-Material handeln. As stated above, the reflective cover enables a configuration of the insulating layer of a low-cost material. It may, for example, be considered to form the insulating layer from a cost-effective insulating base material used in the printed circuit board area, also referred to as prepreg material. The prepreg material may comprise a carrier material, for example in the form of a fabric, and a resin material. Possible carrier materials are, for example, paper and / or glass fiber fabric. Possible resin materials are, for example, epoxy resin or phenolic resin. The prepreg material may be, for example, an FR4, FR2 or CEM material.

In einer weiteren Ausführungsform weist die Leuchtvorrichtung auf der isolierenden Schicht angeordnete Leiterbahnen auf. Über die Leiterbahnen kann die wenigstens eine Halbleiter-Lichtquelle mit elektrischer Energie versorgt werden. Eine elektrische Verbindung zwischen den Leiterbahnen und der wenigstens einen Halbleiter-Lichtquelle kann über Bonddrähte verwirklicht sein. Bei einer möglichen Ausgestaltung der Leuchtvorrichtung mit mehreren Halbleiter-Lichtquellen können diese ebenfalls über Bonddrähte elektrisch miteinander verbunden sein. Der oben erwähnte Rahmen und/oder die reflektierende Abdeckung können bereichsweise auch auf den Leiterbahnen angeordnet sein. In a further embodiment, the lighting device has conductor tracks arranged on the insulating layer. About the conductor tracks, the at least one semiconductor light source can be supplied with electrical energy. An electrical connection between the conductor tracks and the at least one semiconductor light source can be realized via bonding wires. In a possible embodiment of the lighting device with a plurality of semiconductor light sources, these can also be electrically connected to one another via bonding wires. The above-mentioned frame and / or the reflective cover may also be arranged in regions on the conductor tracks.

Gemäß einem weiteren Aspekt der Erfindung wird ein Verfahren zum Herstellen einer Leuchtvorrichtung vorgeschlagen. Die Leuchtvorrichtung weist den oben beschriebenen Aufbau bzw. einen Aufbau entsprechend einer oder mehrerer der oben genannten Ausführungsformen auf. Das Verfahren umfasst ein Bereitstellen eines reflektierenden Substrats mit einer Montageseite und ein Anordnen einer isolierenden Schicht auf der Montageseite des reflektierenden Substrats. Die isolierende Schicht weist eine Öffnung mit einer umlaufenden Seitenfläche auf. Das Verfahren umfasst ferner ein Ausbilden einer umlaufenden reflektierenden Abdeckung im Bereich eines Rands der Öffnung der isolierenden Schicht, welche die umlaufende Seitenfläche der Öffnung abdeckt. Das Verfahren umfasst des Weiteren ein Anordnen wenigstens einer Halbleiter-Lichtquelle auf der Montageseite des reflektierenden Substrats. According to a further aspect of the invention, a method for producing a lighting device is proposed. The lighting device has the structure described above or a structure according to one or more of the above-mentioned embodiments. The method includes providing a reflective substrate with a mounting side and disposing an insulating layer on the mounting side of the reflective substrate. The insulating layer has an opening with a circumferential side surface. The method further comprises forming a circumferential one reflective cover in the region of an edge of the opening of the insulating layer, which covers the circumferential side surface of the opening. The method further comprises arranging at least one semiconductor light source on the mounting side of the reflective substrate.

Die auf diese Weise ausgebildete Leuchtvorrichtung zeichnet sich durch eine hohe Effizienz aus. Im Betrieb der Leuchtvorrichtung kann Lichtstrahlung mit einer hohen Effektivität an der Montageseite des reflektierenden Substrats und an der reflektierenden Randabdeckung reflektiert werden. Des Weiteren kann die isolierende Schicht aus einem kostengünstigen Material bzw. einer kostengünstigen Materialzusammensetzung ausgebildet sein. The lighting device formed in this way is characterized by a high efficiency. During operation of the lighting device, light radiation can be reflected with high efficiency on the mounting side of the reflective substrate and on the reflective edge cover. Furthermore, the insulating layer may be formed from a low-cost material or a low-cost material composition.

In einer möglichen Ausführungsform des Verfahrens umfasst das Ausbilden der reflektierenden Abdeckung das Durchführen eines Dosierverfahrens. Hierbei kann ein die Abdeckung bildendes Material mit einer hohen Genauigkeit im Bereich des Rands der Öffnung aufgebracht werden. Bei dem Dosierverfahren kann zum Beispiel ein Nadeldosierer zum Einsatz kommen. In one possible embodiment of the method, forming the reflective cover comprises performing a dosing process. In this case, a material forming the cover can be applied with high accuracy in the region of the edge of the opening. In the metering process, for example, a needle dispenser can be used.

In einer weiteren Ausführungsform umfasst das Ausbilden der reflektierenden Abdeckung das Durchführen eines Druckverfahrens. Hierdurch kann die Abdeckung ebenfalls mit einer hohen Genauigkeit im Bereich des Rands der Öffnung ausgebildet werden. Das Druckverfahren kann zum Beispiel mit Hilfe einer geeigneten Druckvorrichtung durchgeführt werden, welche Tröpfchen eines die Abdeckung bildenden Materials ausstößt (Jetting). Möglich ist es auch, das Drucken unter Verwendung einer geeigneten Druckform durchzuführen. Hierbei kann eine Schablonendruckform oder eine Siebdruckform verwendet werden. In another embodiment, forming the reflective cover includes performing a printing process. As a result, the cover can also be formed with high accuracy in the region of the edge of the opening. The printing process may be carried out, for example, by means of a suitable printing device which ejects droplets of a material forming the cover (jetting). It is also possible to perform printing using a suitable printing form. Here, a stencil printing form or a screen printing form can be used.

Neben den oben genannten Schritten kann das Verfahren weitere Schritte umfassen. Hierunter fällt zum Beispiel ein Ausbilden einer die wenigstens eine Halbleiter-Lichtquelle umhüllenden Vergussmasse. Zuvor kann ein die reflektierende Abdeckung umschließender Rahmen auf der isolierenden Schicht ausgebildet werden, welcher als seitliche Begrenzung für ein Verfüllen mit der Vergussmasse dienen kann. Es ist möglich, die reflektierende Abdeckung und den Rahmen in einem gemeinsamen Verfahren (zum Beispiel Dosieren oder Drucken), oder auch nacheinander auszubilden. Alternativ kann das Ausbilden des Rahmens entfallen, und kann die reflektierende Abdeckung selbst zum Bereitstellen einer seitlichen Begrenzung eingesetzt werden. In addition to the above steps, the method may include further steps. This includes, for example, forming a potting compound surrounding the at least one semiconductor light source. Previously, a frame enclosing the reflective cover can be formed on the insulating layer, which can serve as a lateral boundary for filling with the potting compound. It is possible to form the reflective cover and the frame in a common process (for example, dosing or printing), or also in succession. Alternatively, the formation of the frame may be omitted, and the reflective cover itself may be used to provide a lateral boundary.

Die isolierende Schicht kann mit Leiterbahnen auf einer Seite der isolierenden Schicht bereitgestellt werden. In dieser Hinsicht ist ein weiterer möglicher Schritt des Verfahrens ein Drahtbondprozess, in welchem die wenigstens eine Halbleiter-Lichtquelle an die Leiterbahnen angeschlossen wird. Bei mehreren Halbleiter-Lichtquellen können diese ebenfalls in dem Drahtbondprozess untereinander elektrisch verbunden werden. The insulating layer may be provided with traces on one side of the insulating layer. In this regard, another possible step of the method is a wire bonding process in which the at least one semiconductor light source is connected to the traces. In the case of a plurality of semiconductor light sources, these can likewise be electrically connected to one another in the wire bonding process.

Das Ausbilden der reflektierenden Abdeckung kann zum Beispiel vor dem Anordnen der wenigstens einen Halbleiter-Lichtquelle auf der Montageseite des reflektierenden Substrats durchgeführt werden. Das Ausbilden der reflektierenden Abdeckung kann auch danach und vor dem Drahtbondprozess, oder nach dem Drahtbondprozess erfolgen. The formation of the reflective cover may be performed, for example, prior to arranging the at least one semiconductor light source on the mounting side of the reflective substrate. The formation of the reflective cover can also take place after and before the wire bonding process or after the wire bonding process.

Die Schritte des Verfahrens können in einer geeigneten Reihenfolge durchgeführt werden. In Betracht kommt zum Beispiel der im Folgenden beschriebene Verfahrensablauf. The steps of the method may be performed in a suitable order. Considered, for example, the procedure described below.

Die isolierende Schicht kann mit der Öffnung und mit Leiterbahnen auf einer Seite der isolierenden Schicht bereitgestellt werden, und in einem Laminierungsprozess auf dem reflektierenden Substrat angeordnet werden. Nach dem Laminierungsprozess kann die reflektierende Abdeckung im Bereich des Rands der Öffnung der isolierenden Schicht ausgebildet werden. Hieran anschließend kann die wenigstens eine Halbleiter-Lichtquelle auf der Montageseite des reflektierenden Substrats angeordnet, und in einem nachfolgenden Drahtbondprozess an die Leiterbahnen angeschlossen werden. Bei mehreren Halbleiter-Lichtquellen können diese in dem Drahtbondprozess untereinander elektrisch verbunden werden. Im Anschluss hieran kann das Ausbilden der Vergussmasse erfolgen. Hierfür kann zuvor der Rahmen auf der isolierenden Schicht erzeugt werden. The insulating layer may be provided with the opening and conductive traces on one side of the insulating layer, and disposed on the reflective substrate in a lamination process. After the lamination process, the reflective cover may be formed in the region of the edge of the opening of the insulating layer. Following this, the at least one semiconductor light source can be arranged on the mounting side of the reflective substrate, and connected to the conductor tracks in a subsequent wire bonding process. In the case of a plurality of semiconductor light sources, these can be electrically connected to one another in the wire bonding process. Following this, the formation of the potting compound can take place. For this purpose, the frame can first be produced on the insulating layer.

In einem alternativen Verfahrensablauf kann das Ausbilden der reflektierenden Abdeckung nach dem Anordnen der wenigstens einen Halbleiter-Lichtquelle auf der Montageseite des reflektierenden Substrats und vor dem Durchführen des Drahtbondprozesses durchgeführt werden. In einem weiteren möglichen Verfahrensablauf kann das Ausbilden der reflektierenden Abdeckung nach dem Anordnen der wenigstens einen Halbleiter-Lichtquelle auf der Montageseite des reflektierenden Substrats und nach dem Durchführen des Drahtbondprozesses durchgeführt werden. Diese Variante kann zum Beispiel in Betracht kommen, wenn die reflektierende Abdeckung gleichzeitig als Damm zum Bereitstellen einer seitlichen Begrenzung für das Verfüllen mit der Vergussmasse dient. In an alternative methodology, the formation of the reflective cover may be performed after arranging the at least one semiconductor light source on the mounting side of the reflective substrate and before performing the wire bonding process. In another possible process flow, the formation of the reflective cover may be performed after arranging the at least one semiconductor light source on the mounting side of the reflective substrate and after performing the wire bonding process. This variant can be considered, for example, if the reflective cover serves at the same time as a dam to provide a lateral boundary for filling with the potting compound.

Hinsichtlich des Herstellungsverfahrens besteht des Weiteren die Möglichkeit, eine Vielzahl an Leuchtvorrichtungen in paralleler Weise zu fertigen. Hierbei kann eine isolierende Schicht mit mehreren Öffnungen für die einzelnen Leuchtvorrichtungen bereitgestellt und auf dem reflektierenden Substrat angeordnet werden. Hieran können sich weitere Fertigungsschritte anschließen, um einen zusammenhängenden Verbund aus mehreren Leuchtvorrichtungen zu erzeugen. Unter anderen kann jeweils im Bereich des Rands der einzelnen Öffnungen der isolierenden Schicht eine reflektierende Abdeckung ausgebildet werden, und kann innerhalb jeder Öffnung wenigstens eine Halbleiter-Lichtquelle auf der Montageseite des reflektierenden Substrats angeordnet werden. Nach einem Fertigstellen der Leuchtvorrichtungen kann der zusammenhängende Verbund in separate Leuchtvorrichtungen vereinzelt werden. Furthermore, with regard to the manufacturing method, it is possible to produce a plurality of lighting devices in a parallel manner. Here, an insulating layer with a plurality of openings for the individual lighting devices may be provided and on the reflective substrate to be ordered. This can be followed by further manufacturing steps to produce a coherent composite of several lighting devices. Among others, a reflective cover may be formed in each case in the region of the edge of the individual openings of the insulating layer, and inside each opening at least one semiconductor light source may be arranged on the mounting side of the reflective substrate. After completing the lighting devices, the coherent composite can be separated into separate lighting devices.

Es wird darauf hingewiesen, dass oben in Bezug auf die Leuchtvorrichtung genannte Merkmale und Details auch bei dem Herstellungsverfahren zur Anwendung kommen können. It should be noted that features and details mentioned above with respect to the lighting device can also be used in the manufacturing process.

Die vorstehend erläuterten und/oder in den Unteransprüchen wiedergegebenen vorteilhaften Aus- und Weiterbildungen der Erfindung können – außer zum Beispiel in Fällen eindeutiger Abhängigkeiten oder unvereinbarer Alternativen – einzeln oder aber auch in beliebiger Kombination miteinander zur Anwendung kommen. The above-explained and / or reproduced in the dependent claims advantageous embodiments and refinements of the invention can - except for example in cases of clear dependencies or incompatible alternatives - individually or in any combination with each other are used.

Die oben beschriebenen Eigenschaften, Merkmale und Vorteile dieser Erfindung, sowie die Art und Weise, wie diese erreicht werden, werden klarer und deutlicher verständlich in Zusammenhang mit der folgenden Beschreibung von Ausführungsbeispielen, die im Zusammenhang mit den schematischen Zeichnungen näher erläutert werden. Es zeigen: The above-described characteristics, features and advantages of this invention, as well as the manner in which they are achieved, will become clearer and more clearly understood in connection with the following description of exemplary embodiments, which are explained in more detail in connection with the schematic drawings. Show it:

1 eine Darstellung einer Leuchtvorrichtung aufweisend ein reflektierendes Substrat, eine isolierende Schicht mit einer Öffnung, eine reflektierende Abdeckung im Bereich eines Rands der Öffnung der isolierenden Schicht, mehrere Halbleiter-Lichtquellen, einen Rahmen und eine Vergussmasse; 1 an illustration of a lighting device comprising a reflective substrate, an insulating layer having an opening, a reflective cover in the region of an edge of the opening of the insulating layer, a plurality of semiconductor light sources, a frame and a potting compound;

2 eine Darstellung des in Form eines Schichtenstapels verwirklichten reflektierenden Substrats; 2 a representation of realized in the form of a layer stack reflective substrate;

3 eine Darstellung einer weiteren Leuchtvorrichtung, welche im Unterschied zu der Leuchtvorrichtung von 1 keinen Rahmen aufweist; und 3 a representation of a further lighting device, which in contrast to the lighting device of 1 has no frame; and

4 eine Darstellung von Messergebnissen zum Veranschaulichen einer Effizienzsteigerung durch Einsatz einer reflektierenden Abdeckung. 4 a representation of measurement results to illustrate an increase in efficiency through the use of a reflective cover.

Auf der Grundlage der folgenden schematischen Figuren werden Ausführungsformen von Leuchtvorrichtungen 100, 101 mit Halbleiter-Lichtquellen 150 und von dazugehörigen Herstellungsverfahren beschrieben. Hierbei können Prozesse durchgeführt werden, welche aus der Fertigung von Leuchtvorrichtungen und aus der Halbleitertechnik bekannt sind. Des Weiteren können in diesen Gebieten übliche Materialien zum Einsatz kommen. Daher wird im Folgenden hierauf nur teilweise eingegangen. Es wird ferner darauf hingewiesen, dass die Figuren lediglich schematischer Natur sind und nicht maßstabsgetreu sind. In diesem Sinne können in den Figuren gezeigte Komponenten und Strukturen zum besseren Verständnis übertrieben groß oder verkleinert dargestellt sein. On the basis of the following schematic figures, embodiments of lighting devices 100 . 101 with semiconductor light sources 150 and related manufacturing processes. Here, processes can be carried out, which are known from the production of light-emitting devices and from semiconductor technology. Furthermore, common materials can be used in these areas. Therefore, this is only partially discussed below. It is further noted that the figures are merely schematic in nature and are not to scale. In this sense, components and structures shown in the figures may be exaggerated or oversized for clarity.

1 zeigt eine schematische seitliche Darstellung einer Leuchtvorrichtung 100. Die Leuchtvorrichtung 100 weist ein reflektierendes Substrat 110 auf, welches ein hohes Reflexionsvermögen besitzt. Auf einer in 1 nach oben gerichteten Vorderseite 115 des Substrats 110 sind weitere Komponenten der Leuchtvorrichtung 100 angeordnet. Diese Seite wird im Folgenden als Montageseite 115 bezeichnet. 1 shows a schematic side view of a lighting device 100 , The lighting device 100 has a reflective substrate 110 on, which has a high reflectivity. On a in 1 upward facing front 115 of the substrate 110 are other components of the lighting device 100 arranged. This page is hereafter as a mounting page 115 designated.

Das hochreflektive Substrat 110 ist derart ausgebildet, dass im Bereich der Montageseite 115 eine effektive Reflexion von Lichtstrahlung hervorgerufen werden kann. Zu diesem Zweck ist das Substrat 110 in Form eines Schichtenstapels aus übereinander angeordneten Schichten 111, 112, 113 verwirklicht, dessen Aufbau in 2 gezeigt ist. The highly reflective substrate 110 is designed such that in the area of the mounting side 115 An effective reflection of light radiation can be caused. For this purpose, the substrate 110 in the form of a layer stack of superimposed layers 111 . 112 . 113 realized, whose construction in 2 is shown.

Das reflektierende Substrat 110 weist eine metallische Trägerschicht 111 aus zum Beispiel Aluminium, eine metallische Spiegelschicht 112 aus zum Beispiel Silber und eine dielektrische Schicht 113 auf. Die dielektrische Schicht 113, welche die Montageseite 115 des Substrats 110 bildet, dient zur Reflexionsverstärkung und zum Schutz der Spiegelschicht 112 vor einer Korrosion. Die dielektrische Schicht 113 kann ein Schichtsystem aus Oxiden umfassen. Die Strahlungsreflexion kann mit einer hohen Effektivität über die im Bereich der Montageseite 115 des Substrats 110 vorliegende Spiegelschicht 112 im Zusammenspiel mit der dielektrischen Schicht 113 hervorgerufen werden. Zusätzlich zu den in 2 gezeigten Schichten 111, 112, 113 kann das Substrat 110 ferner eine nicht gezeigte Haftvermittlerschicht zwischen der Trägerschicht 111 und der Spiegelschicht 112 aufweisen. The reflective substrate 110 has a metallic carrier layer 111 made of, for example, aluminum, a metallic mirror layer 112 made of, for example, silver and a dielectric layer 113 on. The dielectric layer 113 showing the mounting side 115 of the substrate 110 forms, serves to reflection enhancement and protection of the mirror layer 112 from corrosion. The dielectric layer 113 may comprise a layer system of oxides. The radiation reflection can with a high effectiveness over in the area of the mounting side 115 of the substrate 110 present mirror layer 112 in interaction with the dielectric layer 113 be caused. In addition to the in 2 shown layers 111 . 112 . 113 can the substrate 110 Further, an adhesive layer, not shown, between the carrier layer 111 and the mirror layer 112 exhibit.

Die Leuchtvorrichtung 100 von 1 weist unterschiedliche Komponenten auf der Montageseite 115 des reflektierenden Substrats 110 auf. Eine dieser Komponenten ist eine auf der Montageseite 115 angeordnete isolierende Schicht 120. Die isolierende Schicht 120 wird zum Tragen von Leiterbahnen 130 eingesetzt. Die Leiterbahnen 130, welche aus Kupfer ausgebildet sein können, sind auf einer der Montageseite 115 des Substrats 110 abgewandten Seite bzw. Vorderseite der isolierenden Schicht 120 angeordnet. Die isolierende Schicht 120 sorgt für eine ausreichende elektrische Isolation zwischen den Leiterbahnen 130 und dem Substrat 110. The lighting device 100 from 1 has different components on the mounting side 115 of the reflective substrate 110 on. One of these components is one on the mounting side 115 arranged insulating layer 120 , The insulating layer 120 is used to carry printed conductors 130 used. The tracks 130 , which may be formed of copper, are on one of the mounting side 115 of the substrate 110 opposite side or front of the insulating layer 120 arranged. The insulating layer 120 makes for a sufficient electrical insulation between the tracks 130 and the substrate 110 ,

Die isolierende Schicht 120 weist eine Öffnung 121 mit einer innen liegenden umlaufenden Seitenfläche 122 auf. Im Querschnitt kann die Seitenfläche 122 bzw. können Seitenflanken derselben senkrecht zur Montageseite 115 des reflektierenden Substrats orientiert sein, wie in 1 dargestellt ist. Die Öffnung 121 der isolierenden Schicht 120 kann in der Aufsicht zum Beispiel eine kreisförmige Kontur besitzen (nicht dargestellt). In dieser Ausgestaltung ist die Seitenfläche 122 der isolierenden Schicht 120 eine gekrümmte und vollständig umlaufende Fläche. The insulating layer 120 has an opening 121 with an inner circumferential side surface 122 on. In cross section, the side surface 122 or can side flanks thereof perpendicular to the mounting side 115 the reflective substrate, as in 1 is shown. The opening 121 the insulating layer 120 For example, in plan view, it may have a circular contour (not shown). In this embodiment, the side surface 122 the insulating layer 120 a curved and completely circumferential surface.

Ein weiterer Bestandteil der Leuchtvorrichtung 100 von 1 ist eine elektrisch nicht leitfähige reflektierende Abdeckung 140, welche im Bereich des Rands der Öffnung 121 der isolierenden Schicht 120 ausgebildet ist. Die Abdeckung 140 besitzt eine umlaufende geschlossene Form und bedeckt die gesamte umlaufende Seitenfläche 122 der Öffnung 121 der isolierenden Schicht 120. Für den Fall, dass die Öffnung 121 der isolierenden Schicht 120 in der Aufsicht wie oben beschrieben kreisförmig ist, kann die Abdeckung 140 in der Aufsicht eine Kreisringform besitzen (nicht dargestellt). Another component of the lighting device 100 from 1 is an electrically non-conductive reflective cover 140 , which are in the area of the edge of the opening 121 the insulating layer 120 is trained. The cover 140 has a circumferential closed shape and covers the entire circumferential side surface 122 the opening 121 the insulating layer 120 , In the event that the opening 121 the insulating layer 120 in the plan view as described above is circular, the cover 140 have a circular ring shape in the plan (not shown).

Im Querschnitt weist die den Randbereich der Öffnung 121 umhüllende Abdeckung 140 eine höcker- bzw. hügelförmige Struktur auf. Wie in 1 gezeigt ist, besitzt die Abdeckung 140 eine variable, ungleichmäßige Dicke. Hierbei bedeckt die Abdeckung 140 am Rand der Öffnung 121 einen Teil der Montageseite 115 des reflektierenden Substrats 110. Die Abdeckung 140 erstreckt sich ferner zum Teil auch außerhalb der Öffnung 121, und bedeckt am Rand der Öffnung 121 einen Teil der Vorderseite der isolierenden Schicht 120. In cross section, which has the edge region of the opening 121 enveloping cover 140 a hump-shaped or hill-shaped structure. As in 1 shown has the cover 140 a variable, uneven thickness. This covers the cover 140 at the edge of the opening 121 a part of the mounting side 115 of the reflective substrate 110 , The cover 140 also extends partially outside the opening 121 , and covered at the edge of the opening 121 a part of the front side of the insulating layer 120 ,

Die reflektierende Abdeckung 140 dient dazu, im Bereich des Rands der Öffnung 121 der isolierenden Schicht 120 eine effektive Reflexion von Lichtstrahlung zu ermöglichen, so dass eine Strahlungsabsorption an der isolierenden Schicht 120 vermieden wird. Die Abdeckung 140 weist zu diesem Zweck, wie in 1 angedeutet ist, ein strahlungsdurchlässiges Grundmaterial 142 und in dem Grundmaterial 142 eingebettete reflektierende Partikel 143 auf. Auf diese Weise kann die Abdeckung 140 hochreflektiv sein. Bei dem Grundmaterial 142 kann es sich zum Beispiel um Silikon handeln. Ein solches Material zeichnet sich durch eine hohe Temperaturstabilität und UV-Beständigkeit aus. Bei den reflektierenden Partikeln 143 kann es sich zum Beispiel um TiO2-Partikel handeln. The reflective cover 140 serves to, in the area of the edge of the opening 121 the insulating layer 120 to allow effective reflection of light radiation, so that a radiation absorption at the insulating layer 120 is avoided. The cover 140 points to this purpose, as in 1 is indicated, a radiolucent base material 142 and in the basic material 142 embedded reflective particles 143 on. That way, the cover can 140 be highly reflective. At the base material 142 For example, it can be silicone. Such a material is characterized by a high temperature stability and UV resistance. With the reflective particles 143 they may be, for example, TiO 2 particles.

Die isolierende Schicht 120 kann mit Hilfe eines Klebstoffs auf der Montageseite 115 des reflektierenden Substrats 110 befestigt sein. Im Zuge eines Aufbringens der isolierenden Schicht 120 auf dem Substrat 110 kann es vorkommen, dass ein Teil des Klebstoffs in den von der Öffnung 121 der isolierenden Schicht 120 umschlossenen Bereich hineinläuft. Dadurch kann ein Teil der Montageseite 115 des Substrats 110 innerhalb der Öffnung 121 mit dem Klebstoff bedeckt sein (nicht dargestellt). Der hineingelaufene Klebstoff kann von der in diesem Bereich vorhandenen reflektierenden Abdeckung 140 bedeckt sein, so dass eine Strahlungsabsorption an dem Klebstoff vermieden werden kann. The insulating layer 120 Can with the help of an adhesive on the mounting side 115 of the reflective substrate 110 be attached. In the course of applying the insulating layer 120 on the substrate 110 It may happen that some of the adhesive in the from the opening 121 the insulating layer 120 enclosed area runs into it. This can be a part of the mounting side 115 of the substrate 110 inside the opening 121 covered with the adhesive (not shown). The embedded adhesive may be from the reflective cover present in this area 140 be covered, so that a radiation absorption on the adhesive can be avoided.

Die Verwendung der reflektierenden Randabdeckung 140 macht möglich, die isolierende Schicht 120 aus einem dielektrischen Material auszubilden, welches nicht zwingend reflektiv ist. Die isolierende Schicht 120 kann zum Beispiel aus einem kostengünstigen und im Leiterplattenbereich eingesetzten isolierenden Prepreg-Material ausgebildet sein. Ein solches Material kann ein Trägermaterial, zum Beispiel in Form eines Gewebeträgers, und ein Harzmaterial aufweisen. Mögliche Trägermaterialien sind zum Beispiel Papier und/oder Glasfasergewebe. Mögliche Harzmaterialien sind zum Beispiel Epoxidharz oder Phenolharz. Das verwendbare Prepreg-Material kann zum Beispiel ein FR4-, FR2- oder CEM-Material sein. The use of the reflective edge cover 140 makes possible the insulating layer 120 from a dielectric material, which is not necessarily reflective. The insulating layer 120 may be formed, for example, from a cost-effective and used in the PCB area insulating prepreg material. Such a material may comprise a carrier material, for example in the form of a fabric carrier, and a resin material. Possible carrier materials are, for example, paper and / or glass fiber fabric. Possible resin materials are, for example, epoxy resin or phenolic resin. The usable prepreg material may be, for example, an FR4, FR2 or CEM material.

In 1 ist veranschaulicht, dass die reflektierende Abdeckung 140 auf der Vorderseite der isolierenden Schicht 120 bis an die Leiterbahnen 130 heranreicht, diese jedoch nicht bedeckt. Es ist jedoch auch möglich, dass sich die Abdeckung 140 nicht bis zu den Leiterbahnen 130 erstreckt, oder dass die Abdeckung 140 eine oder mehrere Leiterbahnen 130 stellenweise bedeckt. Die zweite Variante kann zum Beispiel vorliegen, wenn die Leiterbahnen 130 abweichend von 1 näher an den Rand oder bis zum Rand der Öffnung 121 der isolierenden Schicht 120 heranreichen. In 1 is illustrated that the reflective cover 140 on the front of the insulating layer 120 to the tracks 130 but not covered. However, it is also possible that the cover 140 not up to the tracks 130 extends, or that the cover 140 one or more tracks 130 covered in places. The second variant may be present, for example, if the interconnects 130 deviating from 1 closer to the edge or to the edge of the opening 121 the insulating layer 120 come close.

Die Leuchtvorrichtung 100 von 1 weist des Weiteren mehrere, auf der Montageseite 115 des reflektierenden Substrats 110 angeordnete optoelektronische Halbleiterchips 150 auf. Die Halbleiterchips 150 sind zum Erzeugen einer Lichtstrahlung ausgebildet. Die Halbleiterchips 150 befinden sich innerhalb der Öffnung 121 der isolierenden Schicht 120 und innerhalb eines von der reflektierenden Abdeckung 140 umgebenen Bereichs. Die Halbleiterchips 150 sind beabstandet zu der Abdeckung 140. Die isolierende Schicht 120 und die reflektierende Abdeckung 140 überragen die Halbleiterchips 150. Dies ist bezogen auf eine vorderseitige Lichtaustrittsrichtung der Halbleiterchips 150. The lighting device 100 from 1 furthermore has several, on the mounting side 115 of the reflective substrate 110 arranged optoelectronic semiconductor chips 150 on. The semiconductor chips 150 are designed to generate a light radiation. The semiconductor chips 150 are inside the opening 121 the insulating layer 120 and within one of the reflective cover 140 surrounded area. The semiconductor chips 150 are spaced from the cover 140 , The insulating layer 120 and the reflective cover 140 overhang the semiconductor chips 150 , This is related to a front light exit direction of the semiconductor chips 150 ,

Bei den lichtemittierenden Halbleiterchips 150 kann es sich insbesondere um Leuchtdiodenchips handeln. Die Halbleiterchips 150 können in üblicher Weise hergestellt sein, und nicht gezeigte Komponenten wie ein strahlungsdurchlässiges Chipsubstrat, beispielsweise aus Saphir, aufweisen. In dieser Ausgestaltung können die Halbleiterchips 150 mit dem strahlungsdurchlässigen Chipsubstrat auf dem reflektierenden Substrat 110 angeordnet sein. Vorderseitig können die Halbleiterchips 150 eine auf dem Chipsubstrat angeordnete Halbleiterschichtenfolge mit einer aktiven Zone zur Strahlungserzeugung aufweisen. Des Weiteren können die Halbleiterchips 150 zwei Vorderseitenkontakte aufweisen. Im Betrieb können die Halbleiterchips 150 eine Lichtstrahlung über die Vorderseite und über andere Seiten bzw. über das strahlungsdurchlässige Chipsubstrat abgeben. In the light-emitting semiconductor chips 150 these can be, in particular, light-emitting diode chips. The semiconductor chips 150 may be made in a conventional manner, and not shown Components such as a radiation-transparent chip substrate, such as sapphire have. In this embodiment, the semiconductor chips 150 with the radiation-transmissive chip substrate on the reflective substrate 110 be arranged. Front side, the semiconductor chips 150 a arranged on the chip substrate semiconductor layer sequence having an active zone for generating radiation. Furthermore, the semiconductor chips 150 have two front side contacts. In operation, the semiconductor chips 150 emit light radiation over the front side and over other sides or over the radiation-permeable chip substrate.

Die Halbleiterchips 150 sind wie in 1 gezeigt über Bonddrähte 155, welche an die Vorderseitenkontakte der Halbleiterchips 150 angeschlossen sind, elektrisch miteinander verbunden. Es kann zum Beispiel eine Reihenverbindung, eine Parallelverbindung, oder eine kombinierte Parallel- und Reihenverbindung vorliegen. Halbleiterchips 150 am Rand der Chip-Anordnung bzw. deren Vorderseitenkontakte sind ebenfalls über Bonddrähte 155 an die Leiterbahnen 130 angeschlossen. Die Leiterbahnen 130 können geeignete Kontaktstellen oder Kontaktflächen für das Anschließen der Bonddrähte 155 aufweisen. The semiconductor chips 150 are like in 1 shown via bonding wires 155 , which are connected to the front side contacts of the semiconductor chips 150 are connected, electrically connected. For example, there may be a series connection, a parallel connection, or a combined parallel and series connection. Semiconductor chips 150 at the edge of the chip arrangement or their front side contacts are also via bonding wires 155 to the tracks 130 connected. The tracks 130 can be suitable contact points or contact surfaces for connecting the bonding wires 155 exhibit.

Eine weitere Komponente der Leuchtvorrichtung 100 von 1 ist ein auf der isolierenden Schicht 120 und auf den hier befindlichen Leiterbahnen 130 angeordneter Rahmen 149. Der Rahmen 149, welcher eine umlaufende geschlossene Form besitzt und die reflektierende Abdeckung 140 umgibt, kann beabstandet zu der Abdeckung 140 sein. Bei einer kreisförmigen Kontur der Öffnung 121 der isolierenden Schicht 120 kann der Rahmen 149, vergleichbar zu der Abdeckung 140, in der Aufsicht eine Kreisringform besitzen. Des Weiteren kann der Rahmen 149 die gleiche Materialzusammensetzung aufweisen wie die Abdeckung 140, und daher ebenfalls aus dem Grundmaterial 142 und den hierin enthaltenen reflektierenden Partikeln 143 ausgebildet sein (nicht dargestellt). Another component of the lighting device 100 from 1 is one on the insulating layer 120 and on the tracks here 130 arranged frame 149 , The frame 149 , which has a circumferential closed shape and the reflective cover 140 surrounds, may be spaced from the cover 140 be. For a circular contour of the opening 121 the insulating layer 120 can the frame 149 , comparable to the cover 140 , in the supervision have a circular ring shape. Furthermore, the frame 149 have the same material composition as the cover 140 , and therefore also from the base material 142 and the reflective particles contained therein 143 be formed (not shown).

In einem von dem Rahmen 149 umschlossenen Bereich ist eine Vergussmasse 160 angeordnet, welche ein weiterer Bestandteil der Leuchtvorrichtung 100 von 1 ist. Die Halbleiterchips 150 und die Bonddrähte 155 sind von der Vergussmasse 160 umhüllt. Die seitlich an den Rahmen 149 angrenzende Vergussmasse 160 bedeckt die reflektierende Abdeckung 140, die Montageseite 115 des reflektierenden Substrats 110 in Bereichen neben und zwischen den Halbleiterchips 150, und die isolierende Schicht 120 und die Leiterbahnen 130 in einem Bereich zwischen der Abdeckung 140 und dem Rahmen 149. Der Rahmen 149 wird dazu eingesetzt, als Damm eine seitliche Begrenzung bei einem in der Herstellung der Leuchtvorrichtung 100 durchgeführten Aufbringen der Vergussmasse 160 bereitzustellen. In one of the frame 149 enclosed area is a potting compound 160 arranged, which is another component of the lighting device 100 from 1 is. The semiconductor chips 150 and the bonding wires 155 are from the potting compound 160 envelops. The side of the frame 149 adjacent potting compound 160 covers the reflective cover 140 , the mounting side 115 of the reflective substrate 110 in areas next to and between the semiconductor chips 150 , and the insulating layer 120 and the tracks 130 in an area between the cover 140 and the frame 149 , The frame 149 is used to dam as a lateral boundary at one in the manufacture of the lighting device 100 carried out applying the potting compound 160 provide.

Bei der Vergussmasse 160, welche die Halbleiterchips 150 und die isolierende Schicht 120 überragt, handelt es sich um eine leuchtstoffgefüllte Vergussmasse 160. Auf diese Weise kann eine Konversion von Lichtstrahlung der Halbleiterchips 150 bewirkt werden. Die Vergussmasse 160 kann ein strahlungsdurchlässiges Grundmaterial, erneut zum Beispiel Silikon, und darin enthaltene Leuchtstoffpartikel aufweisen (nicht dargestellt). At the potting compound 160 which the semiconductor chips 150 and the insulating layer 120 surmounted, it is a fluorescent filled potting compound 160 , In this way, a conversion of light radiation of the semiconductor chips 150 be effected. The potting compound 160 may comprise a radiation-transmissive base material, again, for example, silicone, and phosphor particles contained therein (not shown).

Im Betrieb der Leuchtvorrichtung 100 werden die Halbleiterchips 150 über die Leiterbahnen 130 und Bonddrähte 155 mit elektrischer Energie versorgt, wodurch die Halbleiterchips 150 eine primäre Lichtstrahlung emittieren. Die primäre Lichtstrahlung kann über die leuchtstoffgefüllte Vergussmasse 160 wenigstens teilweise in eine oder mehrere sekundäre Lichtstrahlungen konvertiert werden. Auf diese Weise kann eine Mischstrahlung erzeugt werden, welche die Leuchtvorrichtung 100 über die Vergussmasse 160 abstrahlen kann. Es ist zum Beispiel möglich, dass die Halbleiterchips 150 eine blaue primäre Lichtstrahlung abgeben, welche in eine oder mehrere sekundäre Lichtstrahlungen im grünen bis roten Spektralbereich konvertiert wird, so dass eine weiße Mischstrahlung erzeugt wird. During operation of the lighting device 100 become the semiconductor chips 150 over the tracks 130 and bonding wires 155 supplied with electrical energy, causing the semiconductor chips 150 emit a primary light radiation. The primary light radiation can via the fluorescent filled potting compound 160 at least partially converted into one or more secondary light radiations. In this way, a mixed radiation can be generated, which the lighting device 100 about the potting compound 160 can radiate. It is possible, for example, that the semiconductor chips 150 emit a blue primary light radiation, which is converted into one or more secondary light radiation in the green to red spectral range, so that a white mixed radiation is generated.

Das reflektierende Substrat 110 kann dafür sorgen, dass primäre, gestreute und konvertierte Strahlungsanteile, welche in Richtung der Montageseite 115 abgestrahlt werden, mit einer hohen Effektivität hier reflektiert werden. Die reflektierende Abdeckung 140 kann dafür sorgen, dass eine Strahlungsabsorption im Bereich des Rands der Öffnung 121 der isolierenden Schicht 120 vermieden wird und stattdessen in Richtung dieses Bereichs abgestrahlte Strahlungsanteile effektiv reflektiert werden. Auch an dem Rahmen 149 kann eine effektive Strahlungsreflexion hervorgerufen werden. Die Leuchtvorrichtung 100 kann sich infolgedessen durch eine hohe Effizienz auszeichnen. The reflective substrate 110 can ensure that primary, scattered and converted radiation components, which are directed towards the mounting side 115 be radiated here, with a high degree of effectiveness reflected here. The reflective cover 140 can ensure that a radiation absorption in the area of the edge of the opening 121 the insulating layer 120 is avoided and instead radiated in the direction of this range radiation components are effectively reflected. Also on the frame 149 can be caused an effective radiation reflection. The lighting device 100 As a result, it can be characterized by high efficiency.

Im Folgenden wird ein mögliches Fertigungsverfahren zum Herstellen der Leuchtvorrichtung 100 beschrieben. Bei dem Verfahren wird die isolierende Schicht 120 mit der Öffnung 121 und den hierauf angeordneten Leiterbahnen 130 bereitgestellt, und in einem Laminierungsprozess auf der Montageseite 115 des reflektierenden Substrats 110 angeordnet. Das Durchführen des Laminierungsprozesses kann zur Folge haben, dass die Leiterbahnen 130 zum Teil in die isolierende Schicht 120 einsinken und dadurch abweichend von der Darstellung in 1 nicht gegenüber der Vorderseite der isolierenden Schicht 120 hervorstehen können. The following is a possible manufacturing method for manufacturing the lighting device 100 described. In the method, the insulating layer 120 with the opening 121 and the conductor tracks arranged thereon 130 provided, and in a lamination process on the mounting side 115 of the reflective substrate 110 arranged. Performing the lamination process may result in the traces 130 partly in the insulating layer 120 sink in and thus differ from the illustration in 1 not opposite the front of the insulating layer 120 can stand out.

Anschließend bzw. nach einem Erkalten der isolierenden Schicht 120 wird die reflektierende Randabdeckung 140 im Bereich des Rands der Öffnung 121 der isolierenden Schicht 120 ausgebildet. Zu diesem Zweck kann zum Beispiel ein Dispense- bzw. Dosierverfahren durchgeführt werden, bei welchem das Grundmaterial 142 mit den darin enthaltenen reflektierenden Partikeln 143 im Bereich des Rands der Öffnung 121 auf das reflektierende Substrat 110 und die isolierende Schicht 120 aufgebracht wird. Ein solches Verfahren, bei dem zum Beispiel ein Nadeldosierer zum Einsatz kommen kann, lässt sich mit einer hohen Genauigkeit durchführen. Subsequently or after a cooling of the insulating layer 120 becomes the reflective edge cover 140 in the area of the edge of the opening 121 the insulating layer 120 educated. For this purpose, for example, a Dispense- or Dosierverfahren be performed, in which the base material 142 with the reflective particles contained therein 143 in the area of the edge of the opening 121 on the reflective substrate 110 and the insulating layer 120 is applied. Such a method, in which, for example, a needle dispenser can be used, can be carried out with high accuracy.

Dieser Vorteil trifft in gleicher Weise auf ein weiteres mögliches Verfahren zu, in welchem das Ausbilden der reflektierenden Abdeckung 140 durch Drucken erfolgt. Hierbei kann eine geeignete Druckvorrichtung zum Einsatz kommen, welche Tröpfchen des Grundmaterials 142 mit den darin enthaltenen Partikeln 143 ausstößt (Jetting). Möglich ist es auch, das Drucken unter Verwendung einer geeigneten Druckform durchzuführen. Hierbei kann es sich um eine Schablonendruckform, insbesondere eine spezielle 3D-Schablone, handeln. Alternativ kann auch eine Siebdruckform zum Einsatz kommen. This advantage applies equally to another possible method in which the formation of the reflective cover 140 done by printing. In this case, a suitable printing device can be used, which are droplets of the base material 142 with the particles contained therein 143 ejects (jetting). It is also possible to perform printing using a suitable printing form. This can be a stencil printing form, in particular a special 3D stencil. Alternatively, a screen printing form can also be used.

Nachfolgend bzw. nach einem Aushärten der isolierenden Abdeckung 140 werden die Halbleiterchips 150 innerhalb der Öffnung 121 der isolierenden Schicht 120 und innerhalb des von der reflektierenden Abdeckung 140 umgebenen Bereichs auf der Montageseite 115 des Substrats 110 angeordnet. Eine Befestigung der Halbleiterchips 150 kann zum Beispiel mit Hilfe eines Klebstoffs, zum Beispiel Silikonkleber, erfolgen. Anschließend wird ein Drahtbondprozess durchgeführt, in welchem die Bonddrähte 155 an die Chipkontakte und Leiterbahnen 130 angeschlossen werden. Subsequently or after curing of the insulating cover 140 become the semiconductor chips 150 inside the opening 121 the insulating layer 120 and inside of the reflective cover 140 surrounded area on the mounting side 115 of the substrate 110 arranged. An attachment of the semiconductor chips 150 For example, it can be done with the aid of an adhesive, for example silicone glue. Subsequently, a Drahtbondprozess is performed, in which the bonding wires 155 to the chip contacts and tracks 130 be connected.

Im Anschluss hieran wird der Rahmen 149 auf der isolierenden Schicht 120 und den Leiterbahnen 130 ausgebildet, was vergleichbar zu der Abdeckung 140 ein Durchführen eines Dosier- oder Druckverfahrens umfassen kann. Der Rahmen 149 kann abweichend von 1 auch derart gefertigt werden, dass sich an die Leiterbahnen 130 angeschlossene Bonddrähte 155 zum Teil durch den Rahmen 149 hindurch erstrecken. Nachfolgend bzw. nach einem Aushärten des Rahmens 149 wird der gesamte von dem Rahmen 149 umschlossene Bereich mit der Vergussmasse 160, zum Beispiel durch Vergießen, verfüllt. Bei diesem Vorgang dient der Rahmen 149 als seitliche Begrenzung für die Vergussmasse 160. Nach einem Aushärten der Vergussmasse 160 ist die Leuchtvorrichtung 100 fertig gestellt. This will be followed by the frame 149 on the insulating layer 120 and the tracks 130 trained, which is comparable to the cover 140 may comprise performing a dosing or printing process. The frame 149 may differ from 1 Also be made such that to the interconnects 130 connected bonding wires 155 partly through the frame 149 extend through. Subsequently or after hardening of the frame 149 gets the whole of the frame 149 enclosed area with the potting compound 160 , for example, by pouring, filled. In this process, the frame is used 149 as a lateral boundary for the potting compound 160 , After curing of the potting compound 160 is the lighting device 100 finished.

Es ist möglich, mehrere der in 1 gezeigten Leuchtvorrichtungen 100 in paralleler Weise in Form eines zusammenhängenden Verbunds zu fertigen. Hierbei weist die bereitgestellte isolierende Schicht 120 mehrere Öffnungen 121 auf, und wird der in 1 gezeigte Aufbau in entsprechender Weise mehrfach und in einer gemeinsamen Ebene verteilt auf dem reflektierenden Substrat 110 verwirklicht. Nachfolgend kann der Verbund in separate Leuchtvorrichtungen 100 vereinzelt werden. It is possible to have several of the 1 shown lighting devices 100 in a parallel manner in the form of a coherent composite. Here, the provided insulating layer 120 several openings 121 on, and will the in 1 shown construction in a corresponding manner several times and in a common plane distributed on the reflective substrate 110 realized. Subsequently, the composite in separate lighting devices 100 to be isolated.

3 zeigt eine weitere Leuchtvorrichtung 101, welche im Wesentlichen die gleichen Komponenten und den gleichen Aufbau wie die zuvor beschriebene Leuchtvorrichtung 100 aufweist. Übereinstimmende Merkmale und Prozesse sowie gleiche und gleich wirkende Komponenten werden daher im Folgenden nicht erneut detailliert beschrieben. Für Details hierzu wird stattdessen auf die vorstehende Beschreibung Bezug genommen. 3 shows a further lighting device 101 , which essentially the same components and the same structure as the lighting device described above 100 having. Matching features and processes as well as identical and equivalent components will therefore not be described again in detail below. For details, reference is made to the above description instead.

Die Leuchtvorrichtung 101 von 3 weist im Unterschied zu der vorstehend erläuterten Leuchtvorrichtung 100 keinen Rahmen 149 auf. Stattdessen dient die im Bereich des Rands der Öffnung 121 der isolierenden Schicht 120 angeordnete und die umlaufende Seitenfläche 122 der Öffnung 121 bedeckende reflektierende Abdeckung 140 selbst als Rahmen zum Bereitstellen einer seitlichen Begrenzung. Die Abdeckung 140 kann zu diesem Zweck mit einer größeren Dicke bzw. Höhe und Breite ausgebildet werden, und sich insbesondere weiter nach außen über die isolierende Schicht 120 erstrecken, wie sich anhand eines Vergleichs der 1 und 3 ergibt. Die reflektierende Abdeckung 140 umschließt eine als Kavität dienende Ausnehmung, innerhalb derer die leuchtstoffgefüllte Vergussmasse 160 angeordnet ist. The lighting device 101 from 3 has, in contrast to the above-described lighting device 100 no frame 149 on. Instead, it serves the area near the edge of the opening 121 the insulating layer 120 arranged and the circumferential side surface 122 the opening 121 covering reflective cover 140 even as a framework for providing a lateral boundary. The cover 140 can be formed for this purpose with a greater thickness or height and width, and in particular further outward over the insulating layer 120 extend, as can be seen from a comparison of 1 and 3 results. The reflective cover 140 encloses a recess serving as a cavity, within which the phosphor-filled potting compound 160 is arranged.

Bei der Leuchtvorrichtung 101 von 3 sind die Leiterbahnen 130 ferner bereichsweise von der reflektierende Abdeckung 140 bedeckt. Des Weiteren erstrecken sich die an die Leiterbahnen 130 angeschlossenen Bonddrähte 155 zum Teil durch die Abdeckung 140 hindurch. At the lighting device 101 from 3 are the tracks 130 also partially from the reflective cover 140 covered. Furthermore, they extend to the tracks 130 connected bonding wires 155 partly through the cover 140 therethrough.

Im Folgenden wird ein mögliches Fertigungsverfahren zum Herstellen der Leuchtvorrichtung 101 beschrieben. Hierbei wird die isolierende Schicht 120 mit der Öffnung 121 und den hierauf angeordneten Leiterbahnen 130 bereitgestellt, und in einem Laminierungsprozess auf der Montageseite 115 des reflektierenden Substrats 110 angeordnet. Nachfolgend werden die Halbleiterchips 150 auf der Montageseite 115 des reflektierenden Substrats 110 angeordnet, und wird der Drahtbondprozess durchgeführt. Anschließend wird die reflektierende Abdeckung 140 im Bereich des Rands der Öffnung 121 der isolierenden Schicht 120 ausgebildet, was mit Hilfe eines Dosier- oder Druckverfahrens erfolgen kann. Auf diese Weise sind die an die Leiterbahnen 130 angeschlossenen Bonddrähte 155 zum Teil von der Abdeckung 140 umhüllt. Im Anschluss hieran wird der gesamte von der Abdeckung 140 umschlossene Bereich mit der Vergussmasse 160 verfüllt. Bei diesem Vorgang dient die Abdeckung 140 als seitliche Begrenzung für die Vergussmasse 160. The following is a possible manufacturing method for manufacturing the lighting device 101 described. Here, the insulating layer 120 with the opening 121 and the conductor tracks arranged thereon 130 provided, and in a lamination process on the mounting side 115 of the reflective substrate 110 arranged. The following are the semiconductor chips 150 on the mounting side 115 of the reflective substrate 110 and the wire bonding process is performed. Subsequently, the reflective cover 140 in the area of the edge of the opening 121 the insulating layer 120 trained, which can be done by means of a dosing or printing process. In this way are the to the tracks 130 connected bonding wires 155 partly from the cover 140 envelops. Following this will be the entire from the cover 140 enclosed area with the potting compound 160 filled. In this process, the cover is used 140 as a lateral boundary for the potting compound 160 ,

Die Verwendung der reflektierenden Abdeckung 140 im Bereich des Rands der Öffnung 121 der isolierenden Schicht 120, wie es bei den Leuchtvorrichtungen 100, 101 der 1, 3 der Fall ist, ermöglicht eine Effizienzsteigerung gegenüber einer herkömmlichen Leuchtvorrichtung ohne eine solche Randumhüllung. Zur Veranschaulichung dieses Vorteils zeigt 4 den anhand von Lichtmessungen ermittelten relativen Lichtstrom F von herkömmlichen Leuchtvorrichtungen, welcher normiert ist auf den Lichtstrom einer Leuchtvorrichtung mit reflektierender Abdeckung. Die Messungen beziehen sich auf eine Farbtemperatur von 3000K. The use of the reflective cover 140 in the area of the edge of the opening 121 the insulating layer 120 as with the lighting devices 100 . 101 of the 1 . 3 the case allows an increase in efficiency over a conventional lighting device without such edge wrapping. To illustrate this advantage shows 4 the determined by light measurements relative luminous flux F of conventional lighting devices, which is normalized to the luminous flux of a lighting device with reflective cover. The measurements refer to a color temperature of 3000K.

Die Messergebnisse 181, 182 betreffen zwei herkömmliche Leuchtvorrichtungen, bei denen die umlaufende Seitenfläche einer Öffnung einer isolierenden Schicht nicht abgedeckt ist und ein zum Befestigen der isolierenden Schicht auf einem reflektierenden Substrat eingesetzter Klebstoff innerhalb der Öffnung auf das reflektierende Substrat ausgelaufen ist. Im Vergleich zu der als Referenz dienenden Leuchtvorrichtung mit reflektierender Abdeckung liegt ein im Bereich von 2,5% geringerer Lichtstrom vor. Anders ausgedrückt, ermöglicht der Einsatz der reflektierenden Abdeckung eine Effizienzsteigerung von 2,5% The measurement results 181 . 182 refer to two conventional light emitting devices in which the circumferential side surface of an opening of an insulating layer is not covered and an adhesive used for fixing the insulating layer on a reflective substrate has leaked to the reflective substrate within the opening. Compared to the reflective cover lighting device, there is less luminous flux in the range of 2.5%. In other words, the use of the reflective cover allows an increase in efficiency of 2.5%

Die beiden anderen Messergebnisse 191, 192 beziehen sich auf eine weitere Lichtmessung der zwei herkömmlichen Leuchtvorrichtungen, wobei zuvor der innerhalb der Öffnung ausgelaufene Klebstoff entfernt wurde. Dadurch weisen die Leuchtvorrichtungen einen höheren Lichtstrom auf, welcher jedoch weiterhin kleiner ist als der Lichtstrom der Leuchtvorrichtung mit reflektierender Randabdeckung. Denn infolge des Entfernens des Klebstoffs findet zwar keine Strahlungsabsorption mehr an dem Klebstoff statt. Eine Strahlungsabsorption erfolgt jedoch weiterhin im Bereich der nicht abgedeckten Seitenfläche der Öffnung der isolierenden Schicht. The other two results 191 . 192 relate to a further light measurement of the two conventional light-emitting devices, wherein previously the leaked within the opening adhesive has been removed. As a result, the lighting devices have a higher luminous flux, which, however, continues to be smaller than the luminous flux of the luminous device with reflective edge cover. Because due to the removal of the adhesive, no radiation absorption takes place on the adhesive. However, radiation absorption continues to occur in the area of the uncovered side surface of the opening of the insulating layer.

Die anhand der Figuren erläuterten Ausführungsformen stellen bevorzugte bzw. beispielhafte Ausführungsformen der Erfindung dar. Neben den beschriebenen und abgebildeten Ausführungsformen sind weitere Ausführungsformen vorstellbar, welche weitere Abwandlungen und/oder Kombinationen von Merkmalen umfassen können. Es ist zum Beispiel möglich, anstelle der oben angegebenen Materialien andere Materialien zu verwenden. Beispielsweise kann die Spiegelschicht 112 eine hochreflektive keramische Schicht, zum Beispiel aus Al2O3, sein. Des Weiteren können obige Angaben zu Farben von Lichtstrahlungen und obige Zahlenangaben durch andere Angaben ersetzt werden. The embodiments explained with reference to the figures represent preferred or exemplary embodiments of the invention. In addition to the described and illustrated embodiments, further embodiments are conceivable which may include further modifications and / or combinations of features. For example, it is possible to use other materials instead of the above materials. For example, the mirror layer 112 a highly reflective ceramic layer, for example of Al 2 O 3. Furthermore, the above information on colors of light radiation and the above figures can be replaced by other information.

In einer weiteren Abwandlung kann die isolierende Schicht 120 eine in der Aufsicht viel- oder viereckige Öffnung 121 aufweisen. Dadurch kann auch die reflektierende Abdeckung 140 in der Aufsicht eine viel- oder viereckige Form, gegebenenfalls mit abgerundeten Ecken, aufweisen. In a further modification, the insulating layer 120 a multi-sided or quadrangular opening in the supervision 121 exhibit. This also allows the reflective cover 140 in the supervision of a multi-or quadrangular shape, possibly with rounded corners have.

In einer weiteren möglichen Abwandlung kann eine Leuchtvorrichtung mit lediglich einem einzelnen Halbleiterchip 150 auf der Montageseite 115 des reflektierenden Substrats 110 verwirklicht werden. In a further possible modification, a lighting device with only a single semiconductor chip 150 on the mounting side 115 of the reflective substrate 110 be realized.

Des Weiteren wird auf die Möglichkeit hingewiesen, oben beschriebene Fertigungsprozesse gegebenenfalls in einer anderen Reihenfolge durchzuführen. In dieser Hinsicht ist es zum Beispiel denkbar, bei der Leuchtvorrichtung 100 von 1 die reflektierende Randabdeckung 140 erst nach dem Anordnen der Halbleiterchips 150 auf der Montageseite 115 des reflektierenden Substrats 110 und vor dem Durchführen des Drahtbondprozesses auszubilden. Die Randabdeckung 140 kann hierbei zum Beispiel durch Drucken unter Verwendung einer geeigneten Druckform, beispielsweise einer Schablonen- oder Siebdruckform, ausgebildet werden. Furthermore, attention is drawn to the possibility of carrying out the manufacturing processes described above, if necessary in a different order. In this regard, it is conceivable, for example, in the lighting device 100 from 1 the reflective edge cover 140 only after arranging the semiconductor chips 150 on the mounting side 115 of the reflective substrate 110 and form before performing the wire bonding process. The edge cover 140 may be formed, for example, by printing using a suitable printing form, for example a stencil or screen printing form.

Obwohl die Erfindung im Detail durch bevorzugte Ausführungsbeispiele näher illustriert und beschrieben wurde, so ist die Erfindung nicht durch die offenbarten Beispiele eingeschränkt und andere Variationen können vom Fachmann hieraus abgeleitet werden, ohne den Schutzumfang der Erfindung zu verlassen. While the invention has been further illustrated and described in detail by way of preferred embodiments, the invention is not limited by the disclosed examples, and other variations can be derived therefrom by those skilled in the art without departing from the scope of the invention.

BezugszeichenlisteLIST OF REFERENCE NUMBERS

100, 101 100, 101
Leuchtvorrichtung lighting device
110 110
Substrat substratum
111 111
Trägerschicht backing
112 112
Spiegelschicht mirror layer
113 113
Dielektrische Schicht Dielectric layer
115 115
Montageseite mounting side
120 120
Isolierende Schicht Insulating layer
121 121
Öffnung opening
122 122
Seitenfläche side surface
130 130
Leiterbahn conductor path
140 140
Reflektierende Abdeckung Reflective cover
142 142
Grundmaterial base material
143 143
Partikel particle
149 149
Rahmen frame
150 150
Halbleiterchip Semiconductor chip
155 155
Bonddraht bonding wire
160 160
Vergussmasse potting compound
181, 182 181, 182
Messergebnis measurement result
191, 192 191, 192
Messergebnis measurement result
F F
Relativer Lichtstrom Relative luminous flux

Claims (10)

Leuchtvorrichtung (100, 101), aufweisend: ein reflektierendes Substrat (110) mit einer Montageseite (115); eine auf der Montageseite (115) des reflektierenden Substrats (110) angeordnete isolierende Schicht (120), aufweisend eine Öffnung (121) mit einer umlaufenden Seitenfläche (122); eine umlaufende reflektierende Abdeckung (140) im Bereich eines Rands der Öffnung (121) der isolierenden Schicht (120), welche die umlaufende Seitenfläche (122) der Öffnung (121) abdeckt; und wenigstens eine Halbleiter-Lichtquelle (150), welche in einem von der reflektierenden Abdeckung (140) umgebenen Bereich auf der Montageseite (115) des reflektierenden Substrats (110) angeordnet ist. Lighting device ( 100 . 101 ), comprising: a reflective substrate ( 110 ) with a mounting side ( 115 ); one on the mounting side ( 115 ) of the reflective substrate ( 110 ) insulating layer ( 120 ), having an opening ( 121 ) with a circumferential side surface ( 122 ); a circumferential reflective cover ( 140 ) in the region of an edge of the opening ( 121 ) of the insulating layer ( 120 ), which the circumferential side surface ( 122 ) of the opening ( 121 ) covers; and at least one semiconductor light source ( 150 ), which in one of the reflective cover ( 140 ) area on the mounting side ( 115 ) of the reflective substrate ( 110 ) is arranged. Leuchtvorrichtung nach Anspruch 1, wobei die reflektierende Abdeckung (140) ein Grundmaterial (142), insbesondere Silikon, und darin eingebettete reflektierende Partikel (143) aufweist. Lighting device according to claim 1, wherein the reflective cover ( 140 ) a basic material ( 142 ), in particular silicone, and embedded therein reflective particles ( 143 ) having. Leuchtvorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei das reflektierende Substrat (110) eine Spiegelschicht (112) und eine die Montageseite (115) bildende dielektrische Schicht (113) zur Reflexionsverstärkung aufweist. Lighting device according to one of the preceding claims, wherein the reflective substrate ( 110 ) a mirror layer ( 112 ) and one the mounting side ( 115 ) forming dielectric layer ( 113 ) for reflection enhancement. Leuchtvorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die isolierende Schicht (120) und die reflektierende Abdeckung (140) die wenigstens eine Halbleiter-Lichtquelle (150) überragen. Lighting device according to one of the preceding claims, wherein the insulating layer ( 120 ) and the reflective cover ( 140 ) the at least one semiconductor light source ( 150 ). Leuchtvorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, weiter aufweisend eine Vergussmasse (160), von welcher die wenigstens eine Halbleiter-Lichtquelle (150) umhüllt ist. Lighting device according to one of the preceding claims, further comprising a potting compound ( 160 ), from which the at least one semiconductor light source ( 150 ) is wrapped. Leuchtvorrichtung nach Anspruch 5, weiter aufweisend einen auf der isolierenden Schicht (120) angeordneten Rahmen (149), wobei die Vergussmasse (160) in einem von dem Rahmen (149) umschlossenen Bereich angeordnet ist. Lighting device according to claim 5, further comprising one on the insulating layer ( 120 ) ( 149 ), the casting compound ( 160 ) in one of the frames ( 149 ) enclosed area is arranged. Leuchtvorrichtung nach Anspruch 5, wobei die reflektierende Abdeckung (140) eine Ausnehmung umschließt, innerhalb derer die Vergussmasse (160) angeordnet ist. Lighting device according to claim 5, wherein the reflective cover ( 140 ) encloses a recess, within which the potting compound ( 160 ) is arranged. Leuchtvorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die isolierende Schicht (120) aus einem Prepreg-Material ausgebildet ist. Lighting device according to one of the preceding claims, wherein the insulating layer ( 120 ) is formed from a prepreg material. Verfahren zum Herstellen einer Leuchtvorrichtung (100, 101) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, umfassend die Verfahrensschritte: Bereitstellen eines reflektierenden Substrats (110) mit einer Montageseite (115); Anordnen einer isolierenden Schicht (120) auf der Montageseite (115) des reflektierenden Substrats (110), welche eine Öffnung (121) mit einer umlaufenden Seitenfläche (122) aufweist; Ausbilden einer umlaufenden reflektierenden Abdeckung (140) im Bereich eines Rands der Öffnung (121) der isolierenden Schicht (120), welche die umlaufende Seitenfläche (122) der Öffnung (121) abdeckt; und Anordnen wenigstens einer Halbleiter-Lichtquelle (150) auf der Montageseite (115) des reflektierenden Substrats (110). Method for producing a lighting device ( 100 . 101 ) according to one of the preceding claims, comprising the method steps: providing a reflective substrate ( 110 ) with a mounting side ( 115 ); Placing an insulating layer ( 120 ) on the mounting side ( 115 ) of the reflective substrate ( 110 ), which has an opening ( 121 ) with a circumferential side surface ( 122 ) having; Forming a circumferential reflective cover ( 140 ) in the region of an edge of the opening ( 121 ) of the insulating layer ( 120 ), which the circumferential side surface ( 122 ) of the opening ( 121 ) covers; and arranging at least one semiconductor light source ( 150 ) on the mounting side ( 115 ) of the reflective substrate ( 110 ). Verfahren nach Anspruch 9, wobei das Ausbilden der reflektierenden Abdeckung (140) das Durchführen eines Dosierverfahrens oder das Durchführen eines Druckverfahrens umfasst. The method of claim 9, wherein forming the reflective cover (10). 140 ) comprises performing a dosing process or performing a printing process.
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