DE102012101643A1 - Electromagnetic radiation deflecting device for e.g. laser machining apparatus, for irradiating object such as workpiece, has second beam deflector that deflects turned electromagnetic radiation along second and third directions - Google Patents

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Abstract

The electromagnetic radiation deflecting device (10) has a first beam deflector (16) comprising a deflector unit (30) for deflecting electromagnetic radiation (14) along a first direction, and an image field rotator (34) for turning the deflected electromagnetic radiation (32) by a predetermined rotational angle. A second beam deflector (20) deflects turned electromagnetic radiation along second and third directions, such that directional component of second direction is vertical to third direction. An independent claim is included for electromagnetic radiation deflecting method.

Description

Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Ablenken von elektro-magnetischer Strahlung mit einer ersten Strahlablenkeinheit und mit einer zweiten Strahlablenkeinheit. Die erste Strahlablenkeinheit hat einen ersten Ablenker zum Ablenken der elektro-magnetischen Strahlung entlang einer ersten Richtung. Die zweite Strahlablenkeinheit lenkt die abgelenkte elektro-magnetische Strahlung entlang einer zweiten Richtung und entlang einer dritten Richtung ab, wobei zumindest eine Richtungskomponente der zweiten Richtung auf der dritten Richtung senkrecht steht. Ferner betrifft die Erfindung ein Verfahren zum Ablenken von elektro-magnetischer Strahlung und eine Vorrichtung und ein Verfahren zum Bestrahlen eines Körpers.The invention relates to a device for deflecting electromagnetic radiation with a first beam deflection unit and with a second beam deflection unit. The first beam deflecting unit has a first deflector for deflecting the electromagnetic radiation along a first direction. The second beam deflection unit deflects the deflected electromagnetic radiation along a second direction and along a third direction, wherein at least one direction component of the second direction is perpendicular to the third direction. Furthermore, the invention relates to a method for deflecting electromagnetic radiation and to a device and a method for irradiating a body.

Die Vorrichtung zum Ablenken von elektro-magnetischer Strahlung kann beispielsweise in der Vorrichtung zum Bestrahlen des Körpers genutzt werden. Ferner können das Verfahren zum Ablenken der elektro-magnetischen Strahlung und/oder das Verfahren zum Bestrahlen des Körpers mit Hilfe der Vorrichtung zum Ablenken von elektro-magnetischer Strahlung durchgeführt werden.The device for deflecting electromagnetic radiation can be used, for example, in the device for irradiating the body. Further, the method for deflecting the electromagnetic radiation and / or the method for irradiating the body may be performed by means of the device for deflecting electromagnetic radiation.

Die Vorrichtung zum Bestrahlen des Körpers kann beispielsweise eine Bearbeitungsvorrichtung zum Bearbeiten, beispielsweise zum Laserbearbeiten, des Körpers, eine Vorrichtung zur optischen Abtastung, eine Vorrichtung zum Belichten und/oder eine Vorrichtung zum Beleuchten des Körpers sein. Ferner kann die Vorrichtung zum Bestrahlen des Körpers beispielsweise zur Bildgebung genutzt werden. Ferner kann die Vorrichtung zum Bestrahlen des Körpers in der Mikroskopie zum Anregung und/oder Beobachten von Fluoreszenzeffekten oder bei Lithographieverfahren zum Belichten von Fotolack verwendet werden. Der Körper kann beispielsweise ein Werkstück, eine Probe oder ein Substrat sein.The device for irradiating the body may be, for example, a processing device for processing, for example for laser processing, the body, an apparatus for optical scanning, a device for exposing and / or a device for illuminating the body. Furthermore, the device can be used to irradiate the body, for example, for imaging. Furthermore, the apparatus can be used for irradiating the body in microscopy for exciting and / or observing fluorescence effects or in lithography methods for exposing photoresist. The body may be, for example, a workpiece, a sample or a substrate.

Eine Bearbeitungsvorrichtung eignet sich beispielsweise zum Bearbeiten eines Werkstücks. Die Bearbeitungsvorrichtung erzeugt als elektro-magnetische Strahlung einen Bearbeitungs-Laserstrahl, mit dessen Hilfe das Werkstück bearbeitet werden kann. Das Bearbeiten des Werkstücks umfasst beispielsweise ein Schneiden des Werkstücks oder ein Behandeln der Oberfläche des Werkstücks oder einen Materialabtrag an der Oberfläche. Das Bearbeiten der Oberfläche des Werkstücks kann beispielsweise auch als Schreiben auf der Oberfläche bezeichnet werden. Beispielsweise kann das Werkstück entlang einer vorgegebenen Linie geschnitten werden und/oder in die Oberfläche des Werkstücks kann ein vorgegebenes Bestrahlungsmuster eingebracht werden.A processing device is suitable, for example, for processing a workpiece. The processing device generates as electro-magnetic radiation, a machining laser beam, with the aid of which the workpiece can be edited. The machining of the workpiece includes, for example, cutting the workpiece or treating the surface of the workpiece or a material removal on the surface. The machining of the surface of the workpiece may, for example, also be referred to as writing on the surface. For example, the workpiece can be cut along a predetermined line and / or a predetermined irradiation pattern can be introduced into the surface of the workpiece.

Als elektro-magnetische Strahlung kann beispielsweise gepulste elektro-magnetische Strahlung erzeugt werden. In diesem Zusammenhang kann eine Strahlungsquelle zum Erzeugen der elektro-magnetischen Strahlung beispielsweise ein Ultrakurzpuls(UKP)-Laser sein. Beispielsweise bei der Anregung oder Untersuchung von Fluoreszenzeffekten in einer Probe oder bei der Materialbearbeitung eines Werkstücks mit UKP-Lasern kann es vorteilhaft oder notwendig sein, einzelne Laserpulse mit ausreichender räumlicher oder zeitlicher Trennung oder zumindest einer begrenzten räumlichen und/oder zeitlichen Überlappung auf das Werkstück einwirken zu lassen, z. B. um bestimmte Effekte beobachten zu können und/oder um schädliche thermische Effekte zu vermeiden. Eine hohe Bearbeitungsgeschwindigkeit (beleuchtete Fläche pro Zeit) kann durch eine ausreichend hohe mittlere Leistung der Strahlungsquelle erreicht werden. Dabei erweist sich der Ansatz, eine hohe Repetitionsrate (Pulsrate, Pulse pro Zeit) zu verwenden, gegenüber dem Ansatz, eine hohe Pulsenergie zu verwenden, in vielen Fällen als attraktiver. Gründe hierfür sind, dass die Skalierung der Repetitionsrate technisch besser handhabbar ist, als die Skalierung der Pulsenergie, und dass intensivere Pulse auf eine größere Fläche verteilt werden müssten, was entweder unflexiblere und aufwändigere parallele Bearbeitung mit mehreren kleinen Laserspots oder ungenauere Bearbeitung mit größeren Spots erfordern würde. Eine ausreichende räumliche Trennung bei einer hohen Repetitionsrate kann erreicht werden, indem eine sehr schnelle Strahlablenkung erfolgt.As electro-magnetic radiation, for example, pulsed electromagnetic radiation can be generated. In this context, a radiation source for generating the electromagnetic radiation may be, for example, an ultrashort pulse (UKP) laser. For example, in the excitation or investigation of Fluoreszenzeffekten in a sample or in the material processing of a workpiece with UKP lasers, it may be advantageous or necessary to act on individual laser pulses with sufficient spatial or temporal separation or at least a limited spatial and / or temporal overlap on the workpiece to let, for. B. in order to observe certain effects and / or to avoid harmful thermal effects. A high processing speed (illuminated area per time) can be achieved by a sufficiently high average power of the radiation source. In this case, the approach of using a high repetition rate (pulse rate, pulses per time) proves to be more attractive than the approach of using a high pulse energy in many cases. The reasons for this are that the scaling of the repetition rate is technically more manageable than the scaling of the pulse energy, and that more intense pulses would have to be distributed over a larger area, which would either require more inflexible and more complex parallel processing with several small laser spots or inaccurate processing with larger spots would. A sufficient spatial separation at a high repetition rate can be achieved by a very fast beam deflection takes place.

Auch im Falle kontinuierlicher elektro-magnetischer Strahlung kann eine schnelle Ablenkung der elektro-magnetischen Strahlung dazu beitragen die Bestrahlungsleistung auf einem zu bestrahlenden Körper ausreichend schnell zu verteilen, um für die jeweilige Anwendung unerwünschte Akkumulationseffekte zu vermeiden. So kann für die jeweilige Anwendung der Einsatz leistungsstarker Strahlungsquellen und damit eine Verkürzung der Bearbeitungsdauer ermöglicht werden.Even in the case of continuous electro-magnetic radiation, a rapid deflection of the electro-magnetic radiation can help to distribute the irradiation power on a body to be irradiated sufficiently quickly to avoid undesired accumulation effects for the respective application. Thus, the use of powerful radiation sources and thus shortening the processing time can be made possible for the respective application.

Es sind bereits unterschiedliche schnelle Strahlablenkeinheiten bekannt, beispielsweise akusto-optische, elektro-optische oder mechanische, beispielsweise piezo-mechanische, Ablenker. Derartige schnelle Ablenksysteme sind teuer und/oder wenig flexibel bezüglich der möglichen Scanwinkel und/oder weisen einen schlechten Auslastungsgrad (Duty Cycle) auf und/oder sind bezüglich der maximal möglichen Scanwinkel beschränkt. Beispielsweise kann hier die Anzahl der im Scanfeld getrennt optisch auflösbaren Punkte die ausschlaggebende Größe sein, welche im Gegensatz zum Scanwinkel von Apertur und Optik unabhängig sein kann.Different fast beam deflection units are already known, for example acousto-optical, electro-optical or mechanical, for example piezo-mechanical, deflectors. Such fast deflection systems are expensive and / or not very flexible with regard to the possible scan angles and / or have a poor duty cycle and / or are limited with regard to the maximum possible scan angles. By way of example, the number of optically resolvable dots separated in the scan field may be the decisive factor here, which, in contrast to the scanning angle, may be independent of the aperture and the optics.

Ein Ansatz, um große Ablenkwinkel und eine schnelle Ablenkung zu erreichen, ist, eine schnelle Ablenkung mit beispielsweise geringem Ablenkwinkel und eine beispielsweise langsame Ablenkung um große Ablenkwinkel zu kombinieren. Die Ablenkung um die großen Ablenkwinkel kann beispielsweise mit Hilfe eines Galvanometerscanners erzielt werden.One approach to achieving large deflection angles and fast deflection is to have a fast deflection with, for example, a low deflection angle and, for example, a slow deflection to combine large deflection angle. The deflection around the large deflection angle can be achieved for example with the aid of a galvanometer scanner.

Die schnelle Ablenkung ist für allgemeine Anwendungen, beispielsweise in einem Vektor-Beschriftungsmodus, auf der Werkstückoberfläche in zwei Dimensionen möglich. Die Umsetzung eines schnellen zweidimensionalen Scanners mit beliebig einstellbarer Scanrichtung ist aus verschiedenen Gründen bei allen genannten Ansätzen schwieriger als die Realisierung eines schnellen eindimensionalen Scanners. Gründe hierfür sind, dass bei der zweistufigen Auslegung (zwei Scan-Achsen nacheinander für zwei zu überlagernde Scanrichtungen) eines schnellen zweidimensionalen Scanners der Akzeptanzwinkel des zweiten Scanners (zweite Scanachse) eingangsseitig mindestens den Scanwinkel des ersten Scanners (erste Scanachse) aufweisen muss. Dieses Problem kann mit Hilfe einer Zwischenoptik auf die erforderliche Eingangsapertur verlagert, jedoch nicht beseitigt werden. Des Weiteren müssen die beiden Scanachsen eines zweistufigen schnellen Scanners trotz unterschiedlicher und variabler Scanamplituden synchron betrieben werden, was bei hohen Scangeschwindigkeiten bei gleichzeitig hohen Anforderungen an die Genauigkeit in der Praxis mit technischen Schwierigkeiten und enormem zusätzlichen Aufwand verbunden ist. Nicht zuletzt weisen bei einigen Technologien schnelle Scanner typisch hohe Verluste in der Laserleistung (Akusto-Optical-Deflector (AOD): ca. 30%) pro Stufe/Achse auf und pro Achse werden aufwändige und/oder teure Ansteuerkomponenten benötigt.The fast deflection is possible for general applications, for example in a vector labeling mode, on the workpiece surface in two dimensions. The implementation of a fast two-dimensional scanner with arbitrarily adjustable scanning direction is more difficult for all of these approaches than the realization of a fast one-dimensional scanner for various reasons. The reasons for this are that in the two-stage design (two scan axes in succession for two scan directions to be overlaid) of a fast two-dimensional scanner, the acceptance angle of the second scanner (second scan axis) must have at least the scan angle of the first scanner (first scan axis) on the input side. This problem can be relocated to the required input aperture by means of intermediate optics, but can not be eliminated. Furthermore, the two scanning axes of a two-stage fast scanner must be operated synchronously despite different and variable scan amplitudes, which is associated with technical difficulties and enormous additional expense at high scanning speeds with high demands on accuracy in practice. Last but not least, in some technologies fast scanners typically show high losses in the laser power (AOD) (approx. 30%) per level / axis and complex and / or expensive drive components are required per axis.

Für viele Anwendungen, insbesondere auch UKP-Anwendungen, kann es ausreichen, eine schnelle lineare Scanbewegung mit kleiner Amplitude mit einer langsamen Beschriftungsbewegung, auch Vorschub genannt, zu überlagern. Es besteht im Vektor-Beschriftungsmodus (Linienzüge) aber der Bedarf, die Richtung der schnellen Ablenkung, die nachfolgend auch als Bestrahlungsrichtung bezeichnet wird, relativ zur Richtung jedes zu schreibenden Vektors, also relativ zur Vorschubrichtung, ausrichten zu können, um flexible Beschriftungsmuster zu ermöglichen.For many applications, especially UKP applications, it may be sufficient to superimpose a fast linear scanning movement with small amplitude with a slow labeling movement, also called feed. However, in the vector labeling mode (lines) there is a need to be able to align the direction of the fast deflection, hereinafter also referred to as the direction of irradiation, relative to the direction of each vector to be written, ie relative to the direction of advance, in order to allow flexible labeling patterns.

Auch bei einer flächigen Beschriftung in einem Rasterartigen Beschriftungsmodus ist eine Wählbarkeit der Richtung der schnellen linearen Ablenkung vorteilhaft, u. a. da durch die Zeitabfolge der Laserpulse eine Ungleichmäßigkeit der Beschriftungsergebnisse entstehen kann, die durch mehrfache Beschriftung in verschiedenen Schreibrichtungen behoben werden kann. Dies könnte durch eine Drehung des Werkstücks erreicht werden. Eine Drehung des Werkstücks kann i. a. aus Gründen der Trägheit aber nur langsam erfolgen.Even with a flat inscription in a grid-like inscription mode is a selectability of the direction of the fast linear deflection advantageous u. a. since the timing of the laser pulses can result in unevenness of the inscription results, which can be remedied by multiple inscriptions in different writing directions. This could be achieved by a rotation of the workpiece. A rotation of the workpiece can i. a. but only slowly because of inertia.

Aus DE 10 2007 012 815 A1 ist die Kombination eines schnellen und eines langsamen Ablenkungssystem für die Materialbearbeitung mittels UKP-Laser bekannt.Out DE 10 2007 012 815 A1 is the combination of a fast and a slow deflection system for material processing by means of UKP laser known.

US 2009/0045176 A1 beschreibt die Nutzung eines Bildfelddrehers aus Spiegeln für das Bohren von Löchern mittels eines Bearbeitungs-Laserstrahls. Beim Bearbeiten des Werkstücks und insbesondere beim Bohren eines Lochs in das Werkstück dreht sich der Bildfelddreher permanent und kontinuierlich um eine Drehachse. US 2009/0045176 A1 describes the use of an image field rotator of mirrors for drilling holes by means of a machining laser beam. When editing the workpiece, and in particular when drilling a hole in the workpiece, the field rotator rotates permanently and continuously about an axis of rotation.

US 6,584,218 B2 zeigt eine Kombination eines akusto-optischen Deflektors (AOD), einer Bildfelddrehung und einer Werkstückbewegung beim Bearbeiten des Werkstücks. Zum Zweck der Untersuchung wird das Werkstücks flächig abgerastert. US 6,584,218 B2 shows a combination of an acousto-optical deflector (AOD), an image field rotation and a workpiece movement when machining the workpiece. For the purpose of the examination, the workpiece is scanned flat.

Das Dokument „Experimental nonmechanical image rotation to 20 angles using an acousto-optic dove prism” von Yong-Seok, Eung GI Paek und Xiao Tang, Opt. Eng. 39(11) 2909–2914 (Nov 2000) zeigt einen Bildfelddreher, der einen Polygonspiegel und einen Satz schnell einstellbarer und/oder umschaltbarer optischer Elemente aufweist, durch die ein elektro-magnetischer Strahl schnell um einen diskreten Rotationswinkel, beispielsweise um 90°, gedreht werden kann.The document Yong-Seok, Eung GI Paek and Xiao Tang, Opt. Eng. "Experimental nonmechanical image rotation to 20 angles using an acousto-optic dove prism". 39 (11) 2909-2914 (Nov 2000) shows a field-rotator comprising a polygon mirror and a set of rapidly adjustable and / or switchable optical elements by which an electro-magnetic beam can be rotated rapidly by a discrete angle of rotation, for example by 90 °.

In verschiedenen Ausführungsformen wird eine Vorrichtung zum Ablenken von elektro-magnetischer Strahlung bereitgestellt, die einfach und kompakt ausgebildet ist und die auf einfache Weise ein flexibles Ablenken der elektro-magnetischen Strahlung ermöglicht.In various embodiments, a device for deflecting electromagnetic radiation is provided which is simple and compact and which allows a flexible deflection of the electromagnetic radiation in a simple manner.

In verschiedenen Ausführungsformen wird eine Vorrichtung zum Bestrahlen eines Körpers bereitgestellt, die einfach und kompakt ausgebildet ist und die auf einfache Weise ein flexibles Beobachten oder Bearbeiten einer Probe bzw. eines Werkstücks ermöglicht. Die Vorrichtung zum Bestrahlen eines Körpers ist beispielsweise eine Bearbeitungsvorrichtung, eine Belichtungsvorrichtung, eine Beleuchtungsvorrichtung und/oder eine Beobachtungsvorrichtung, beispielsweise ein Mikroskop.In various embodiments, an apparatus for irradiating a body is provided, which is simple and compact and which allows a flexible way to easily observe or process a sample or a workpiece. The device for irradiating a body is, for example, a processing device, an exposure device, a lighting device and / or an observation device, for example a microscope.

In verschiedenen Ausführungsformen wird ein Verfahren zum Ablenken von elektro-magnetischer Strahlung bereitgestellt, das einfach ausgestaltet ist und das auf einfache Weise ein flexibles Ablenken der elektro-magnetischen Strahlung ermöglicht.In various embodiments, there is provided a method of deflecting electromagnetic radiation that is simple in design and that readily allows flexible deflection of the electromagnetic radiation.

In verschiedenen Ausführungsformen wird ein Verfahren zum Bestrahlen eines Körpers bereitgestellt, das einfach ausgestaltet ist und das auf einfache Weise ein flexibles Beobachten oder Bearbeiten des Körpers ermöglicht. Der Körper ist beispielsweise ein Werkstück, ein Substrat oder eine Probe.In various embodiments, a method of irradiating a body is provided that is simple in design and that allows for easy flexible viewing or manipulation of the body. The body is for example a workpiece, a substrate or a sample.

In verschiedenen Ausführungsformen weist eine Vorrichtung zum Ablenken von elektro-magnetischer Strahlung eine erste Strahlablenkeinheit und eine zweite Strahlablenkeinheit auf. Die erste Strahlablenkeinheit hat einen ersten Ablenker zum Ablenken der elektro-magnetischen Strahlung entlang einer ersten Richtung und einen Bildfelddreher zum Drehen der abgelenkten elektro-magnetischen Strahlung um einen vorgegebenen Drehwinkel, wodurch die elektro-magnetische Strahlung in eine effektive Ablenkrichtung abgelenkt ist, die gegenüber der ersten Richtung gedreht ist. Die zweite Strahlablenkeinheit lenkt die gedrehte elektro-magnetische Strahlung entlang einer zweiten Richtung und entlang einer dritten Richtung ab, wobei zumindest eine Richtungskomponente der zweiten Richtung auf der dritten Richtung senkrecht steht. In various embodiments, an apparatus for deflecting electromagnetic radiation comprises a first beam deflection unit and a second beam deflection unit. The first beam deflecting unit has a first deflector for deflecting the electro-magnetic radiation along a first direction and a field rotator for rotating the deflected electromagnetic radiation by a predetermined angle of rotation, thereby deflecting the electromagnetic radiation in an effective deflecting direction first direction is turned. The second beam deflection unit deflects the rotated electromagnetic radiation along a second direction and along a third direction, wherein at least one direction component of the second direction is perpendicular to the third direction.

Ferner kann die Vorrichtung zum Ablenken der elektro-magnetischen Strahlung ein, zwei oder mehr optische Elements zum Beeinflussen der elektro-magnetischen Strahlung in deren Strahlengang aufweisen. Das bzw. die optischen Elements weisen beispielsweise Filter, Spiegel und/oder Linsen auf, beispielsweise ein Objektiv, einen Polarisationsfilter, eine Fokussierlinse, eine Streulinse, eine Kollimationslinse, eine Linse zur Strahlaufweitung, die einen Durchmesser eines kollimierten Strahls vergrößert und/oder eine abbildende Zwischenoptik (Relay-Optik), beispielsweise eine Teleskopoptik, die beispielsweise zwei Linsen, deren Brennpunkt zusammenfällt, aufweist. Die elektro-magnetische Strahlung kann beispielsweise ein Bearbeitungsstrahl, ein Beleuchtungsstrahl, ein Belichtungsstrahl, ein Anregungsstrahl oder ein Beobachtungsstrahl sein. Dass die Ablenkung „entlang” der ersten, zweiten bzw. dritten Richtung erfolgt, kann beispielsweise bedeuten, dass die Ablenkung in der entsprechenden Richtung und genau entgegen der entsprechenden Richtung und/oder entlang einer Richtung oszillierend erfolgt.Furthermore, the device for deflecting the electro-magnetic radiation may have one, two or more optical elements for influencing the electromagnetic radiation in its beam path. The optical element (s) comprise, for example, filters, mirrors and / or lenses, for example an objective, a polarizing filter, a focusing lens, a diffusing lens, a collimating lens, a beam widening lens which increases a diameter of a collimated beam and / or an imaging beam Intermediate optics (relay optics), for example, a telescope optics, for example, two lenses whose focal point coincides has. The electro-magnetic radiation may be, for example, a processing beam, an illumination beam, an exposure beam, an excitation beam or an observation beam. The fact that the deflection takes place "along" the first, second or third direction may mean, for example, that the deflection takes place in the corresponding direction and exactly in the opposite direction and / or along one direction in an oscillating manner.

Der Bildfelddreher ermöglicht auf einfache und kostengünstige Weise, die entlang der ersten Richtung abgelenkte elektro-magnetische Strahlung zu drehen. In anderen Worten ermöglicht der Bildfelddreher eine Drehung des Bildfeldes der entlang der ersten Richtung abgelenkten elektro-magnetischen Strahlung. Direkt nach dem Bildfelddreher wird die elektro-magnetische Strahlung somit in die effektive Ablenkrichtung abgelenkt, die gegenüber der ersten Richtung gedreht ist. Der vorgegebene Drehwinkel wird beispielsweise von einem Vorschub ab. Falls der Vorschub diskret ist und/oder schritt- oder stufenweise erfolgt, so kann der Drehwinkel dazu korrespondierend sich diskret bzw. schritt- oder stufenweise ändernd vorgegeben werden. Falls der Vorschub kontinuierlich ist und/oder erfolgt, so kann der Drehwinkel dazu korrespondierend sich kontinuierlich verändernd vorgegeben werden.The image field rotator enables a simple and cost-effective way to rotate the deflected along the first direction of electromagnetic radiation. In other words, the image field rotator allows rotation of the image field of the deflected along the first direction of electro-magnetic radiation. Immediately after the field rotator, the electromagnetic radiation is thus deflected in the effective deflection direction, which is rotated with respect to the first direction. The predetermined angle of rotation, for example, from a feed. If the feed is discrete and / or stepwise or stepwise, so the rotation angle can be given correspondingly discrete or stepwise or stepwise changing. If the feed is continuous and / or takes place, the angle of rotation can be correspondingly set to be continuously changing.

Auf einem zu bestrahlenden Körper erzeugt die elektro-magnetische Strahlung einen Strahlungspunkt, der auch als Projektionspunkt, Auftreffpunkt oder Lichtpunkt bezeichnet werden kann und/oder der ein Fokus der elektro-magnetischen Strahlung sein kann. Der Strahlungspunkt kann beispielsweise punktförmig, kreisförmig, elliptisch, polygonförmig oder ringförmig sein. Zusätzlich zu dem Strahlungspunkt können mit Hilfe der elektro-magnetischen Strahlung und geeigneten optischen Mitteln mehrere, beispielsweise mehrere nebeneinander liegende, Strahlungspunkte auf dem Körper erzeugt werden. Ferner kann ein Strahlprofil der auf den Körper auftreffenden Strahlung vorgegeben werden, beispielsweise flat-top und/oder rechteckig, so dass jeder der Strahlungspunkte über seine gesamte Fläche eine homogene Intensität aufweist. Dadurch kann beispielsweise ein evtl. notwendiger Überlapp zwischen den einzelnen Strahlungspunkten vermindert werden. Die Verteilung der Intensität innerhalb eines Strahlungspunkt auf dem Körper kann beispielsweise gaußförmig, rechteckig oder zumindest nahezu rechteckig oder ringförmig sein, wobei die ringförmige Intensitätsverteilung beispielsweise in der STET-Mikroskopie Anwendung finden kann.On a body to be irradiated, the electromagnetic radiation generates a radiation point, which can also be referred to as a projection point, point of impingement or point of light, and / or which can be a focus of the electromagnetic radiation. The radiation point may, for example, be punctiform, circular, elliptical, polygonal or annular. In addition to the radiation point, with the aid of the electro-magnetic radiation and suitable optical means several, for example several adjacent, radiation points can be generated on the body. Furthermore, a beam profile of the radiation impinging on the body can be predetermined, for example flat-top and / or rectangular, so that each of the radiation points has a homogeneous intensity over its entire area. As a result, for example, a possibly necessary overlap between the individual radiation points can be reduced. The distribution of the intensity within a radiation spot on the body may, for example, be Gaussian, rectangular or at least nearly rectangular or annular, wherein the annular intensity distribution can be used, for example, in STET microscopy.

Der Strahlungspunkt wird aufgrund der Ablenkung der elektro-magnetischen Strahlung entlang der ersten Richtung auf dem Körper entlang einer Bestrahlungsrichtung bewegt. Die Drehung der effektiven Ablenkrichtung aufgrund der Drehung des Bildfeldes bewirkt eine Drehung der Bestrahlungsrichtung auf dem Körper. In anderen Worten treffen die Strahlungspunkte aufeinanderfolgender Strahlungspulse entlang der Bestrahlungsrichtung auf den Körper. Die Drehbarkeit der Bestrahlungsrichtung ermöglicht, die Bestrahlungsrichtung an eine Vorschubrichtung anzupassen. Die Vorschubrichtung wird dabei beispielsweise durch den Verlauf einer Bestrahlungslinie oder abhängig von einem Bestrahlungsmuster, gemäß dem eine Oberfläche des Körpers bestrahlt werden soll, vorgegeben. Beispielsweise kann mit dem auf den Körper treffenden elektro-magnetischen Strahlung eine Bestrahlung des Körpers entlang einer gekrümmte Bestrahlungslinie durch Drehen der Bestrahlungsrichtung in Abhängigkeit von dem Verlauf und/oder der Krümmung der Bestrahlungslinie bzw. in Abhängigkeit von einem aktuell zu bestrahlenden Abschnitt des Bestrahlungsmusters schnell und präzise erfolgen. Die Drehung der effektiven Ablenkrichtung und eine daran gekoppelte Drehung der Bestrahlungsrichtung kann dabei schneller und präziser erfolgen als eine dazu alternative Drehung des Werkstücks.The radiation spot is moved along an irradiation direction due to the deflection of the electro-magnetic radiation along the first direction on the body. The rotation of the effective deflection direction due to the rotation of the image field causes rotation of the irradiation direction on the body. In other words, the radiation points of successive radiation pulses strike the body along the direction of irradiation. The rotatability of the irradiation direction makes it possible to adapt the irradiation direction to a feed direction. The feed direction is predetermined, for example, by the course of an irradiation line or depending on an irradiation pattern according to which a surface of the body is to be irradiated. For example, with the electro-magnetic radiation striking the body, irradiation of the body along a curved irradiation line by rotating the irradiation direction as a function of the course and / or the curvature of the irradiation line or in dependence on a section of the irradiation pattern to be irradiated done precisely. The rotation of the effective deflection direction and a rotation of the irradiation direction coupled thereto can be faster and more precise than an alternative rotation of the workpiece for this purpose.

Die Ablenkung entlang der ersten Richtung kann beispielsweise oszillierend erfolgen. Der Strahlungspunkt oszilliert dann auf dem Körper entlang der Bestrahlungsrichtung.The deflection along the first direction can be done, for example, oscillating. The radiation spot then oscillates on the body along the direction of irradiation.

Der erste Ablenker kann auch als eindimensionaler Scanner bezeichnet werden. Die zweite Strahlablenkeinheit kann auch als zweidimensionaler Scanner bezeichnet werden. Der Bildfelddreher kann auch als Bild drehendes Element oder als Bildrotator bezeichnet werden. The first deflector may also be referred to as a one-dimensional scanner. The second beam deflection unit may also be referred to as a two-dimensional scanner. The image field rotator can also be referred to as an image-rotating element or as an image rotator.

Bei verschiedenen Ausführungsformen lenkt der erste Ablenker die elektro-magnetische Strahlung entlang der ersten Richtung in einem vorgegebenen ersten Winkelbereich ab. Die zweite Strahlablenkeinheit lenkt die elektro-magnetische Strahlung entlang der zweiten Richtung in einem vorgegebenen zweiten Winkelbereich und entlang der dritten Richtung in einem vorgegebenen dritten Winkelbereich ab. Der zweite und/oder der dritte Winkelbereich sind in der Regel größer als der erste Winkelbereich. Der kleinere erste Winkelbereich ermöglicht eine besonders schnelle Ablenkung der elektro-magnetischen Strahlung innerhalb des ersten Winkelbereich, und damit beispielsweise eine schnelle Oszillation des Strahlungspunkts auf dem Körper entlang der Bestrahlungsrichtung. Der größere zweite bzw. dritte Winkelbereich ermöglichen ein präzises Anfahren einer vorgegebenen Position auf dem Körper mit dem Strahlungspunkt.In various embodiments, the first deflector deflects the electromagnetic radiation along the first direction in a predetermined first angular range. The second beam deflection unit deflects the electromagnetic radiation along the second direction in a predetermined second angular range and along the third direction in a predetermined third angular range. The second and / or the third angle range are generally larger than the first angle range. The smaller first angular range allows a particularly rapid deflection of the electromagnetic radiation within the first angular range, and thus, for example, a rapid oscillation of the radiation spot on the body along the irradiation direction. The larger second or third angular range allow a precise approach of a predetermined position on the body with the radiation point.

Das Anfahren einer vorgegebenen Position auf dem Körper mit dem Strahlungspunkt und insbesondere die damit verbundene Bewegung des Strahlungspunkts auf dem Körper kann auch als Vorschub bezeichnet werden. Die Position des Strahlungspunkts auf dem Körper wird mit einer durch die schnelle Ablenkung vorgegebenen Unschärfe im Wesentlichen durch einen Winkel innerhalb des zweiten Winkelbereichs und durch einen Winkel innerhalb des dritten Winkelbereichs vorgegeben. Beispielsweise kann der Strahlungspunkt auf dem Körper entlang der Bearbeitungsrichtung um die vorgegebene Position oszillieren, wobei die vorgegebene Position durch den Vorschub verändert werden kann.The approach of a predetermined position on the body with the radiation point and in particular the associated movement of the radiation point on the body can also be referred to as feed. The position of the radiation spot on the body is predetermined with a blur predetermined by the fast deflection substantially by an angle within the second angle range and by an angle within the third angle range. For example, the radiation spot on the body along the machining direction can oscillate about the predetermined position, wherein the predetermined position can be changed by the feed.

Bei verschiedenen Ausführungsformen lenkt der erste Ablenker die elektro-magnetische Strahlung entlang der ersten Richtung mit einer vorgegebenen ersten Winkelgeschwindigkeit ab. Die zweite Strahlablenkeinheit lenkt die elektro-magnetische Strahlung entlang der zweiten Richtung mit einer vorgegebenen zweiten Winkelgeschwindigkeit und entlang der dritten Richtung mit einer vorgegebenen dritten Winkelgeschwindigkeit ab. Die vorgegebene zweite und die vorgegebene dritte Winkelgeschwindigkeit können kleiner sein als die erste Winkelgeschwindigkeit. Beispielsweise können die vorgegebene erste Winkelgeschwindigkeit die maximale erste Winkelgeschwindigkeit, die vorgegebene zweite Winkelgeschwindigkeit die maximale zweite Winkelgeschwindigkeit und/oder die vorgegebene dritte Winkelgeschwindigkeit die maximale dritte Winkelgeschwindigkeit sein.In various embodiments, the first deflector deflects the electromagnetic radiation along the first direction at a predetermined first angular velocity. The second beam deflection unit deflects the electromagnetic radiation along the second direction at a predetermined second angular velocity and along the third direction at a predetermined third angular velocity. The predetermined second and the predetermined third angular velocity may be smaller than the first angular velocity. For example, the predetermined first angular velocity may be the maximum first angular velocity, the predetermined second angular velocity the maximum second angular velocity, and / or the predetermined third angular velocity the maximum third angular velocity.

Die erste Winkelgeschwindigkeit kann stark variieren, beispielsweise kann die erste Winkelgeschwindigkeit bei einer Oszillationsbewegung an den Umkehrpunkten gleich null sein und dazwischen maximal werden.The first angular velocity may vary widely, for example, the first angular velocity may be zero at an inversion motion at the reversal points and become maximum therebetween.

Die schnelle, beispielsweise maximal schnelle, Ablenkung entlang der ersten Richtung ermöglicht, gepulste elektro-magnetische Strahlung mit einer hohen Repetitionsrate zu verwenden, beispielsweise ohne dass sich beim Bestrahlen des Körpers einzelne aufeinander folgende Strahlungspunkte der elektro-magnetischen Strahlung auf dem Körper überlappen oder zu stark überlappen. Beispielsweise kann ein Überlapp aufeinander folgender Strahlungspunkte von 0 bis 90% vorgegeben werden. Dies kann dazu beitragen, eine Strahlungsquelle mit einer hohen Strahlungsleistung verwenden zu können, ohne die Qualität der Bestrahlungsergebnisse, beispielsweise der Bearbeitungs-, Belichtungs-, Beleuchtungs- bzw. Beobachtungsergebnisse, zu vermindern. Die Winkelgeschwindigkeiten können variabel sein.The fast, for example, maximum fast, deflection along the first direction makes it possible to use pulsed electromagnetic radiation with a high repetition rate, for example, without individual successive radiation points of the electromagnetic radiation on the body overlapping or too strong when the body is irradiated overlap. For example, an overlap of successive radiation points from 0 to 90% can be specified. This can help to be able to use a radiation source with a high radiation power, without reducing the quality of the irradiation results, for example the processing, exposure, lighting or observation results. The angular velocities can be variable.

Bei verschiedenen Ausführungsformen weist der Bildfelddreher ein Wendeprisma (Dove-Prisma) auf. Das Wendeprisma ermöglicht auf einfache und kostengünstige Weise den Bildfelddreher herzustellen. Insbesondere ist keine Justage einzelner Komponenten des Bildfelddrehers nötig.In various embodiments, the image field rotator includes a dove prism. The turning prism allows to easily and inexpensively produce the image field rotator. In particular, no adjustment of individual components of the image field rotator is necessary.

Bei verschiedenen Ausführungsformen weist der Bildfelddreher zumindest drei Spiegel auf. Dies kann dazu beitragen, den Bildfelddreher einfach und bei geringen Materialkosten herzustellen und/oder den Einsatz in Verbindung mit einer intensiven und/oder gepulsten Strahlungsquelle zu unterstützen. Beispielsweise kann auch bei einer breitbandigen, intensiven und/oder gepulsten Strahlungsquelle ein Materialdurchgang, ein Auftreten thermischer Effekte und/oder Dispersion vermieden werden. Die Spiegel können auch Elemente einer Polygonspiegelanordnung zur schnellen Bilddrehung sein, beispielsweise einer Polygonspiegelanordnung wie sie aus dem eingangs genannten Stand der Technik bekannt ist. Die Spiegel können auch durch spiegelnde Oberflächen gebildet sein, beispielsweise durch Flächen eines Prismas.In various embodiments, the image field rotator comprises at least three mirrors. This can help to produce the image field rotator easily and with low material costs and / or to support the use in conjunction with an intense and / or pulsed radiation source. For example, a material passage, an occurrence of thermal effects and / or dispersion can be avoided even with a broadband, intense and / or pulsed radiation source. The mirrors may also be elements of a polygon mirror arrangement for rapid image rotation, for example a polygon mirror arrangement as known from the aforementioned prior art. The mirrors may also be formed by reflecting surfaces, for example by surfaces of a prism.

Bei verschiedenen Ausführungsformen ist der erste Winkelbereich variabel einstellbar. Der erste Winkelbereich gibt die maximale Ablenkung der elektro-magnetischen Strahlung entlang der ersten Richtung und damit die maximale Ablenkung des Strahlungspunkts auf dem Körper entlang der Bestrahlungsrichtung vor. Dies ermöglicht, eine Amplitude der Bewegung der elektro-magnetischen Strahlung innerhalb des ersten Winkelbereichs abhängig von einem Bestrahlungsmuster oder einer Bestrahlungslinie auf dem Körper einzustellen. Beispielsweise kann an Ecken, Kanten, Kurven, Krümmungen und/oder Rändern des Bestrahlungsmusters bzw. der Bestrahlungslinie die Amplitude kleiner gewählt werden als an einem geradlinigen oder nahezu geradlinigen Abschnitt des Bestrahlungsmusters bzw. der Bestrahlungslinie. Dies kann zu einer Optimierung der Bestrahlungsqualität beitragen.In various embodiments, the first angular range is variably adjustable. The first angle range specifies the maximum deflection of the electromagnetic radiation along the first direction and thus the maximum deflection of the radiation spot on the body along the direction of irradiation. This makes it possible to adjust an amplitude of the movement of the electro-magnetic radiation within the first angle range depending on an irradiation pattern or an irradiation line on the body. For example, at corners, edges, curves, curvatures and / or edges of the irradiation pattern or the irradiation line, the amplitude can be selected to be smaller than at a rectilinear or nearly rectilinear section of the irradiation pattern or the irradiation line. This can contribute to an optimization of the irradiation quality.

Bei verschiedenen Ausführungsformen weist der erste Ablenker einen akusto-optischen Ablenker, einen elektro-optischen Ablenker und/oder einen schnellen mechanischen Ablenker auf, beispielsweise einen mechanischen Ablenker, der auf Schnelligkeit optimiert ist und/oder beispielsweise ein besonders kleines Scanfeld aufweist. Dies kann dazu beitragen, dass die Ablenkung der elektro-magnetischen Strahlung entlang der ersten Richtung besonders schnell und präzise erfolgt. Der mechanische Ablenker kann beispielsweise einen, zwei oder mehr Spiegel aufweisen, die beispielsweise elektro-magnetisch, elektrostatisch oder piezo-mechanisch verstellbar sind. Beispielsweise weist der erste Ablenker einen, beispielsweise resonant betriebenen, Galvanometerscanner, einen mikromechanischen Scanner, einen Polygonscanner oder einen Piezoscanner auf.In various embodiments, the first deflector includes an acousto-optic deflector, an electro-optic deflector, and / or a fast mechanical deflector, such as a mechanical deflector that is optimized for speed and / or has a particularly small scan field, for example. This can help to ensure that the deflection of the electro-magnetic radiation along the first direction is particularly fast and precise. The mechanical deflector may, for example, have one, two or more mirrors which are, for example, electro-magnetic, electrostatic or piezo-mechanically adjustable. For example, the first deflector has a, for example resonantly operated, galvanometer scanner, a micromechanical scanner, a polygon scanner or a piezo scanner.

Die zweite Strahlablenkeinheit weist beispielsweise einen, zwei oder mehr mechanische Ablenker auf, beispielsweise einen, zwei oder mehr Polygonscanner und/oder Galvanometerscanner.The second beam deflection unit has, for example, one, two or more mechanical deflectors, for example one, two or more polygon scanners and / or galvanometer scanners.

In verschiedenen Ausführungsformen weist eine Vorrichtung zum Bestrahlen des Körpers eine Strahlungsquelle zum Erzeugen der elektro-magnetischen Strahlung und eine Vorrichtung zum Ablenken der elektro-magnetischen Strahlung hin zu dem Körper auf, beispielsweise die vorstehend erläuterte Vorrichtung zum Ablenken der elektro-magnetischen Strahlung. Die Strahlungsquelle kann beispielsweise eine Laserstrahlungsquelle sein, beispielsweise ein Ultra-Kurz-Puls-Laser (UKP-Laser). Die Vorrichtung zum Bestrahlen des Körpers kann abhängig von ihrer Verwendung beispielsweise als Bearbeitungsvorrichtung, Beobachtungsvorrichtung, Belichtungsvorrichtung oder Beleuchtungsvorrichtung bezeichnet werden.In various embodiments, a device for irradiating the body comprises a radiation source for generating the electromagnetic radiation and a device for deflecting the electromagnetic radiation toward the body, for example the device for deflecting the electromagnetic radiation described above. The radiation source can be, for example, a laser radiation source, for example an ultra-short pulse laser (UKP laser). The device for irradiating the body may, for example, be referred to as a processing device, observation device, exposure device or illumination device, depending on its use.

In verschiedenen Ausführungsformen weist ein Verfahren zum Ablenken der elektro-magnetischen Strahlung Schritte auf, gemäß denen die elektro-magnetische Strahlung entlang einer ersten Richtung abgelenkt wird, die abgelenkte elektro-magnetische Strahlung um einen vorgegebenen Drehwinkel gedreht wird, wodurch die elektro-magnetische Strahlung in eine effektive Ablenkrichtung abgelenkt ist, die gegenüber der ersten Richtung gedreht ist, und die gedrehte elektro-magnetische Strahlung entlang einer zweiten Richtung und/oder entlang einer dritten Richtung abgelenkt wird. Das Verfahren weist somit eine Änderung des Ablenkwinkels des ersten Ablenkers, der Stellung des Bildfelddrehers und/oder der Ablenkwinkel der zweiten Strahlablenkeinheit auf.In various embodiments, a method of deflecting the electro-magnetic radiation comprises steps of deflecting the electromagnetic radiation along a first direction, rotating the deflected electromagnetic radiation through a predetermined angle of rotation, thereby reducing the electromagnetic radiation in deflecting an effective deflection direction which is rotated with respect to the first direction, and the rotated electromagnetic radiation is deflected along a second direction and / or along a third direction. The method thus has a change of the deflection angle of the first deflector, the position of the image field rotator and / or the deflection angle of the second beam deflection unit.

Die Reihenfolge der Abarbeitung der einzelnen Schritte des Verfahrens kann unabhängig von der Reihenfolge der Elemente, beispielsweise der Ablenkeinheiten und/oder des Bildfelddrehers, im Strahlengang der elektro-magnetischen Strahlung sein. Beispielsweise kann die Reihenfolge der Abarbeitung der einzelnen Schritte des Verfahrens abhängig von einem aktuell zu bestrahlenden Abschnitt des Bestrahlungsmusters auf dem Körper sein. Ferner kann beispielsweise die Ablenkung entlang der ersten Richtung schneller als die Ablenkung entlang der zweiten und dritten Richtung erfolgen und/oder ständig modifiziert werden, beispielsweise oszillierend.The sequence of processing the individual steps of the method may be independent of the order of the elements, for example the deflection units and / or the field rotator, in the beam path of the electromagnetic radiation. By way of example, the sequence of processing of the individual steps of the method may be dependent on a section of the irradiation pattern currently to be irradiated on the body. Furthermore, for example, the deflection along the first direction can be faster than the deflection along the second and third directions and / or be constantly modified, for example oscillating.

Die Drehung des Bildfelddrehers und die damit verbundene Drehung der effektiven Ablenkrichtung der ersten Strahlablenkeinheit kann um den vorgegebenen Drehwinkel erfolgen, wobei die effektive Ablenkrichtung dann beibehalten werden kann, bis die nächste Drehung erfolgt, beispielsweise abhängig von dem aktuell zu bearbeitenden Abschnitt des Bestrahlungsmusters auf dem Körper und damit einem Vorschub auf dem Körper.The rotation of the field rotator and the associated rotation of the effective deflection of the first beam deflecting unit can be performed by the predetermined rotation angle, the effective deflection can then be maintained until the next rotation, for example, depending on the currently processed portion of the irradiation pattern on the body and thus a feed on the body.

Die Ablenkung entlang der zweiten bzw. dritten Richtung kann langsamer erfolgen als entlang der ersten Richtung. Beispielweise kann die Ablenkung entlang der zweiten bzw. dritten Richtung so erfolgen, dass auf dem Körper der Vorschub des oszillierenden Strahlungspunkts entlang des Bestrahlungsmusters erfolgt. Die Ablenkung entlang der zweiten Richtung kann auf dem Körper repräsentativ für eine erste Vorschubrichtung sein und die Ablenkung entlang der dritten Richtung kann auf dem Körper repräsentativ für eine zweite Vorschubrichtung sein, wobei zumindest eine Richtungskomponente der zweiten Vorschubrichtung senkrecht auf der ersten Vorschubrichtung steht. Beispielsweise spannen die beiden Vorschubrichtungen eine X-Y-Ebene auf, die beispielsweise einer Bestrahlungsebene entspricht. Innerhalb der X-Y-Ebene kann jede Vorschubrichtung durch Überlagern der ersten Vorschubrichtung und der zweiten Vorschubrichtung realisiert werden. Beispielsweise kann die Ablenkung entlang der zweiten Richtung einen Vorschub in X-Richtung bewirken und die Ablenkung in Y-Richtung kann einen Vorschub in Y-Richtung bewirken. Die Bestrahlungsebene kann auch als Bearbeitungsebene, Belichtungsebene, Beleuchtungsebene oder Beobachtungsebene bezeichnet werden. Die mittels des ersten Ablenkers und des Bildfelddrehers vorgegebene Bestrahlungsrichtung kann schrittweise oder kontinuierlich an die durch die zweite Strahlablenkeinheit vorgegebene resultierende Vorschubrichtung angepasst werden.The deflection along the second or third direction can be slower than along the first direction. By way of example, the deflection along the second or third direction may take place such that the advancement of the oscillating radiation point along the irradiation pattern takes place on the body. The deflection along the second direction may be representative of a first advance direction on the body and the deflection along the third direction may be representative of a second advance direction on the body with at least one directional component of the second advance direction perpendicular to the first advance direction. For example, the two feed directions to an X-Y plane, which corresponds for example to an irradiation level. Within the X-Y plane, each feed direction can be realized by superposing the first feed direction and the second feed direction. For example, the deflection along the second direction can cause a feed in the X direction and the deflection in the Y direction can cause a feed in the Y direction. The irradiation plane can also be referred to as a working plane, exposure plane, illumination plane or observation plane. The irradiation direction predetermined by means of the first deflector and the image field rotator can be adjusted stepwise or continuously to the resultant feed direction predetermined by the second beam deflecting unit.

In verschiedenen Ausführungsformen weist ein Verfahren zum Bestrahlen des Körpers Schritte auf, gemäß denen vor der ersten Ablenkung die elektro-magnetische Strahlung erzeugt wird, die elektro-magnetische Strahlung wie vorstehend erläutert erst abgelenkt und dann gedreht wird und gemäß denen die elektro-magnetische Strahlung mittels der Ablenkung entlang der zweiten und dritten Richtung hin zu dem Körper abgelenkt wird. Durch das Bestrahlen kann der Körper bearbeitet, beleuchtet, belichtet, beeinflusst und/oder untersucht werden. Beispielsweise kann als elektro-magnetische Strahlung ein Bearbeitungs-Laserstrahl erzeugt werden, mit dessen Hilfe das Werkstück bearbeitet wird. Alternativ dazu kann als elektro-magnetische Strahlung ein Belichtungsstrahl erzeugt werden, mit dessen Hilfe z. B. Fotolack belichtet wird. Alternativ dazu kann als elektro-magnetische Strahlung ein Beobachtungs- oder Anregungsstrahl erzeugt werden, mit dessen Hilfe eine Probe beobachtet oder angeregt wird. In various embodiments, a method for irradiating the body comprises steps according to which the electro-magnetic radiation is generated prior to the first deflection, the electro-magnetic radiation first deflected and then rotated as explained above and according to which the electromagnetic radiation deflecting the deflection along the second and third directions toward the body. By irradiation, the body can be processed, illuminated, exposed, influenced and / or examined. For example, as the electromagnetic radiation, a machining laser beam can be generated, with the help of which the workpiece is processed. Alternatively, as an electromagnetic radiation, an exposure beam can be generated with the help of z. B. photoresist is exposed. Alternatively, an observation or excitation beam can be generated as electromagnetic radiation, with the aid of which a sample is observed or excited.

Bei verschiedenen Ausführungsformen soll der Körper gemäß einem vorgegebenen Bestrahlungsmuster bestrahlt werden. In anderen Worten soll die Ablenkung und/oder Drehung der elektro-magnetischen Strahlung in Abhängigkeit von dem vorgegebenen Bestrahlungsmuster, beispielseiweise in Abhängigkeit von dem aktuell zu bearbeitenden Abschnitt des Bestrahlungsmusters erfolgen. Dies kann dazu beitragen, die Bearbeitung schnell und präzise durchzuführen.In various embodiments, the body is to be irradiated according to a predetermined irradiation pattern. In other words, the deflection and / or rotation of the electro-magnetic radiation in dependence on the predetermined irradiation pattern, for example, in dependence on the currently processed portion of the irradiation pattern. This can help to perform the machining quickly and accurately.

Das vorgegebene Bestrahlungsmuster kann beispielsweise ein Bestrahlungsmuster auf dem Körper sein. Das Bestrahlungsmuster kann beispielsweise in die Oberfläche des Werkstücks eingearbeitet werden oder das Werkstück kann gemäß dem Bestrahlungsmuster geschnitten werden. Alternativ dazu kann das Bestrahlungsmuster repräsentativ für eine zu beobachtende oder eine anzuregende Struktur einer Probe sein. Das Bestrahlungsmuster kann eine Bearbeitungslinie aufweisen oder eine Bearbeitungslinie sein. Das Bestrahlungsmuster kann beispielsweise ein Bild, eine Schnittkontur, einen Polygonzug, eine geometrische Form oder einen Schriftzug repräsentieren. Alternativ dazu kann mit Hilfe der elektro-magnetischen Strahlung eine Fläche auf dem Körper abgerastert werden, beispielsweise zeilen- oder mäanderförmig, beispielsweise zu Beobachtungs-, Belichtungs-, Beleuchtungs- oder Bearbeitungszwecken.The predetermined irradiation pattern may be, for example, an irradiation pattern on the body. For example, the irradiation pattern may be incorporated into the surface of the workpiece, or the workpiece may be cut according to the irradiation pattern. Alternatively, the irradiation pattern may be representative of a sample to be observed or excited. The irradiation pattern may include a processing line or a processing line. The irradiation pattern can represent, for example, an image, a sectional contour, a polygon, a geometric shape or a lettering. Alternatively, with the aid of the electro-magnetic radiation, a surface can be scanned on the body, for example in a line or meander shape, for example for observation, exposure, illumination or processing purposes.

Die Bestrahlung kann alternativ oder zusätzlich beispielsweise eine lokale Beeinflussung des Materials oder der Materialeigenschaften, beispielsweise eine Verfärbung des Materials, des Körpers sein.The irradiation may alternatively or additionally be, for example, a local influencing of the material or of the material properties, for example a discoloration of the material, of the body.

Bei verschiedenen Ausführungsformen wird eine Bestrahlungsreihenfolge in Abhängigkeit einer Form und/oder Erstreckung von Abschnitten des Bestrahlungsmusters ermittelt und das Bestrahlungsmuster wird gemäß der Bestrahlungsreihenfolge bearbeitet.In various embodiments, an order of irradiation is determined in dependence on a shape and / or extension of portions of the irradiation pattern, and the irradiation pattern is processed according to the order of irradiation.

Bei verschiedenen Ausführungsformen wird eine maximale Ablenkung in der ersten Richtung in Abhängigkeit von dem Bestrahlungsmuster gewählt, beispielsweise in Abhängigkeit von einem aktuell zu bearbeitenden Abschnitt des Bestrahlungsmusters.In various embodiments, a maximum deflection in the first direction is chosen as a function of the irradiation pattern, for example as a function of a section of the irradiation pattern currently to be processed.

Bei verschiedenen Ausführungsformen wird die elektro-magnetische Strahlung in Form von aufeinander folgenden Pulsen, also als gepulste elektro-magnetische Strahlung erzeugt. Bei den Pulsen kann es sich beispielsweise um ultra-kurze Pulse, beispielsweise um ultra-kurze Laserpulse handeln. Beispielsweise können die Pulsdauern kleiner 100 ps oder kleiner 10 ps sein. Dies kann dazu beitragen unterschiedliche Bestrahlungsprozesse, beispielsweise Beobachtungs-, Bearbeitungs-, Belichtungs-, Beleuchtungs- und/oder Anregungsprozesse, ohne und/oder mit wenig thermischer Belastung des Materials des Körpers durchzuführen. Beispielsweise kann Material des Körpers mittels sogenannter „kalter” Ablation abgetragen werden. Allgemein kann eine Akkumulation von störenden Einflüssen vermieden werden.In various embodiments, the electromagnetic radiation is generated in the form of successive pulses, that is to say as pulsed electromagnetic radiation. The pulses may, for example, be ultra-short pulses, for example ultra-short laser pulses. For example, the pulse durations may be less than 100 ps or less than 10 ps. This can contribute to carrying out different irradiation processes, for example observation, processing, exposure, illumination and / or excitation processes, without and / or with little thermal stress on the material of the body. For example, material of the body can be removed by means of so-called "cold" ablation. In general, an accumulation of disturbing influences can be avoided.

Eine Erzeugung der Pulse der elektro-magnetischen Strahlung und die Ablenkung der elektro-magnetischen Strahlung können aufeinander abgestimmt werden. In anderen Worten kann die Ablenkung der elektro-magnetischen Strahlung mit der Erzeugung der Pulse synchronisiert werden. Falls beispielsweise eine Strahlungsquelle verwendet wird, bei der die Erzeugung der Pulse gesteuert werden kann, so kann die Taktung der Pulse auf die Ablenkung, beispielsweise die oszillierende Ablenkung entlang der ersten Richtung, und/oder die Drehung abgestimmt werden. Falls beispielsweise eine Strahlungsquelle verwendet wird, bei der die Erzeugung der Pulse fest vorgegeben ist, so kann die Ablenkung, beispielsweise die oszillierende, bzw. die Drehung auf die Taktung der Pulse abgestimmt werden. Die Abstimmung der Pulse auf die Ablenkung bzw. Drehung der elektro-magnetischen Strahlung kann dazu beitragen, dass einzelne Strahlungspunkte genau auf für sie vorgegebene Positionen auf dem Körper gesetzt werden können. Dabei kann das genaue Setzen der Strahlungspunkte relativ zu dem gesamten Körper und/oder relativ zu einer oder mehreren zuvor bestrahlten Positionen auf dem Körper erfolgen.A generation of the pulses of the electro-magnetic radiation and the deflection of the electromagnetic radiation can be coordinated. In other words, the deflection of the electromagnetic radiation can be synchronized with the generation of the pulses. For example, if a radiation source is used in which the generation of the pulses can be controlled, the timing of the pulses on the deflection, for example the oscillating deflection along the first direction, and / or the rotation can be tuned. If, for example, a radiation source is used in which the generation of the pulses is fixed, then the deflection, for example the oscillating or the rotation, can be tuned to the timing of the pulses. The tuning of the pulses to the deflection or rotation of the electro-magnetic radiation can contribute to the fact that individual radiation points can be set exactly to their predetermined positions on the body. In this case, the precise setting of the radiation points relative to the entire body and / or relative to one or more previously irradiated positions on the body can take place.

Die Abstimmung der Ablenkung bzw. Drehung der elektro-magnetischen Strahlung auf die Erzeugung der Pulse kann auf einen optischen Takt der Pulse oder auf einen elektrischen Takt der Strahlungsquelle abgestimmt werden. Der optische Takt der Pulse ist repräsentativ für die Zeitpunkte, an denen die elektro-magnetische Strahlung tatsächlich die Strahlungsquelle verlässt. Der elektrische Takt der Strahlungsquelle ist repräsentativ für die Zeitpunkte, an denen die Strahlungsquelle ein elektrisches Signal zum Erzeugen der Pulse erhält oder erzeugt. Beim genauen Setzen der Strahlungspunkte relativ zu dem gesamten Körper kann eine Kenntnis des optischen Takts ausreichend sein. Beim genauen Setzen der Strahlungspunkte relativ zu einer oder mehreren zuvor bestrahlten Positionen auf dem Körper kann eine Kenntnis des elektrischen Takts ausreichend sein.The vote of the deflection or rotation of the electro-magnetic radiation to the generation of the pulses can be adjusted to an optical clock of the pulses or to an electrical clock of the radiation source. The optical clock of the pulses is representative of the times when the electromagnetic radiation actually the radiation source leaves. The electrical clock of the radiation source is representative of the times at which the radiation source receives or generates an electrical signal for generating the pulses. When setting the radiation spots accurately relative to the entire body, knowledge of the optical clock may be sufficient. By accurately setting the radiation spots relative to one or more previously irradiated positions on the body, a knowledge of the electrical clock may be sufficient.

Das punktgenaue Setzen der einzelnen Strahlungspunkte auf dem Körper kann dazu beitragen, eine Qualität des Bestrahlungsergebnisses zu verbessern. Ferner kann insbesondere bei Mehrfachbelichtung eine Belichtungsdosis gleichmäßig verteilt werden.The precise placement of the individual radiation points on the body can help to improve the quality of the irradiation result. Furthermore, an exposure dose can be evenly distributed, especially with multiple exposures.

Das Bestrahlungsmuster kann zumindest teilweise aus geraden oder gekrümmten Linienabschnitten zusammengesetzt sein, wobei die Linienabschnitte nicht notwendigerweise zusammenhängen müssen. Beispielsweise kann mit Hilfe des Bestrahlungsmusters eine Vektorbeschriftung gemäß dem Bestrahlungsmuster durchgeführt werden. Die Linienabschnitte können durch einen Satz von lokal unterschiedlichen Linien-Parametern charakterisiert sein. Die Linien-Parameter können beispielsweise Graustufen, Linienstärken und/oder Linienbreiten der Linienabschnitte aufweisen.The irradiation pattern can be at least partially composed of straight or curved line sections, wherein the line sections do not necessarily have to be connected. For example, a vector inscription according to the irradiation pattern can be carried out with the aid of the irradiation pattern. The line segments may be characterized by a set of locally different line parameters. The line parameters may include, for example, gray levels, line weights, and / or line widths of the line segments.

Bei verschiedenen Ausführungsformen kann eine Bestrahlungsstärke, mit der ein Abschnitt des Bestrahlungsmusters aktuell bestrahlt werden soll, und/oder eine Linienbreite des Abschnitts durch eine Verteilung der Strahlungsdosis eingestellt werden, wobei die Strahlungsdosis mittels der Ablenkung entlang der ersten Richtung und/oder durch Variation der Strahlungsintensität der elektro-magnetischen Strahlung eingestellt werden kann.In various embodiments, an irradiance at which a portion of the radiation pattern is to be currently irradiated and / or a linewidth of the portion may be adjusted by a radiation dose distribution, wherein the radiation dose is by means of the deflection along the first direction and / or by varying the radiation intensity the electro-magnetic radiation can be adjusted.

Die Erfindung wird im Folgenden anhand von beispielhaften Ausführungsformen mit Bezugnahme auf die beiliegenden Zeichnungen erläutert.The invention is explained below on the basis of exemplary embodiments with reference to the accompanying drawings.

In den Zeichnungen zeigen:In the drawings show:

1 ein Ausführungsbeispiel einer Vorrichtung zum Bestrahlen eines Körpers; 1 an embodiment of a device for irradiating a body;

2 ein Ausführungsbeispiel einer Vorrichtung zum Ablenken elektro-magnetischer Strahlung; 2 an embodiment of a device for deflecting electromagnetic radiation;

3 eine schematische Erläuterung einer Ablenkung von elektro-magnetischer Strahlung; 3 a schematic explanation of a deflection of electromagnetic radiation;

4 ein Ausführungsbeispiel eines Bildfelddrehers; 4 an embodiment of a Bildfelddrehers;

5 ein weiteres Ausführungsbeispiel eines Bildfelddrehers; 5 a further embodiment of a field rotator;

6 ein Ausführungsbeispiel eines Körpers; 6 an embodiment of a body;

7 ein Ablaufdiagramm eines Ausführungsbeispiels eines Verfahrens zum Bestrahlen eines Körpers. 7 a flowchart of an embodiment of a method for irradiating a body.

In den Zeichnungen sind Elemente gleicher oder ähnlicher Konstruktion oder Funktion figurenübergreifend mit den gleichen Bezugszeichen bezeichnet.In the drawings, elements of the same or similar construction or function are denoted by the same reference numerals throughout the figures.

1 zeigt ein Ausführungsbeispiel einer Vorrichtung 10 zum Bestrahlen eines Körpers 24. Die Vorrichtung 10 zum Bestrahlen des Körpers 24 weist eine Strahlungsquelle 12 auf, die elektro-magnetische Strahlung 14 erzeugt. Der Strahlungsquelle 12 ist eine Vorrichtung zum Ablenken der elektro-magnetischen Strahlung 14 nachgeschaltet, die eine erste Strahlablenkeinheit 16 und eine zweite Strahlablenkeinheit 20 aufweist. Die erste Strahlablenkeinheit 16 lenkt die elektro-magnetische Strahlung 14 entlang einer effektiven Ablenkrichtung ab, so dass abgelenkte elektro-magnetische Strahlung 18 auf die zweite Strahlablenkeinheit 20 trifft. Die zweite Strahlablenkeinheit 20 lenkt die abgelenkte elektro-magnetische Strahlung 18 erneut ab, so dass elektro-magnetische Strahlung 22 auf den Körper 24 auftrifft. 1 shows an embodiment of a device 10 for irradiating a body 24 , The device 10 for irradiating the body 24 has a radiation source 12 on, the electromagnetic radiation 14 generated. The radiation source 12 is a device for deflecting the electromagnetic radiation 14 downstream, which is a first beam deflection unit 16 and a second beam deflecting unit 20 having. The first beam deflection unit 16 deflects the electromagnetic radiation 14 along an effective deflection direction, so that deflected electromagnetic radiation 18 on the second beam deflection unit 20 meets. The second beam deflection unit 20 deflects the deflected electromagnetic radiation 18 again, so that electro-magnetic radiation 22 on the body 24 incident.

Der Körper 24 ist auf einem Körperhalter 26 angeordnet. Die Strahlungsquelle 12, die erste Strahlablenkeinheit 16 und die zweite Strahlablenkeinheit 20 sind elektrisch mit einer Steuervorrichtung 28 zum Steuern und/oder Regeln der Strahlungsquelle 12, der ersten Strahlablenkeinheit 16 und der zweiten Strahlablenkeinheit 20 gekoppelt. Die Strahlablenkeinheiten 16, 20 weisen optische Mittel zum Ablenken und/oder Führen der elektro-magnetischen Strahlung 14, 18 auf, wobei die optischen Mittel mit nicht dargestellten Stellmitteln gekoppelt sein können. Die Stellmittel können beispielsweise Schrittmotoren oder positionsgeregelte Direktantriebe aufweisen. Ferner können zum Ablenken und/oder Führen der elektro-magnetischen Strahlung akusto- und/oder elektro-optische Ablenker vorgesehen sein, bei denen die Ablenkung intern und/oder nicht-mechanisch erfolgt.The body 24 is on a body holder 26 arranged. The radiation source 12 , the first beam deflecting unit 16 and the second beam deflecting unit 20 are electrical with a control device 28 for controlling and / or regulating the radiation source 12 , the first beam deflection unit 16 and the second beam deflecting unit 20 coupled. The beam deflection units 16 . 20 have optical means for deflecting and / or guiding the electromagnetic radiation 14 . 18 on, wherein the optical means may be coupled with not shown adjusting means. The adjusting means may comprise, for example stepper motors or position-controlled direct drives. Furthermore, acousto-and / or electro-optical deflectors may be provided for deflecting and / or guiding the electro-magnetic radiation, in which the deflection takes place internally and / or non-mechanically.

Die Vorrichtung 10 zum Bestrahlen des Körpers 24 ist beispielsweise eine Bearbeitungsvorrichtung zum Bearbeiten des Körpers 24, der in diesem Zusammenhang beispielsweise ein Werkstück, ein Substrat oder eine Probe sein kann. Bei der Bearbeitungsvorrichtung ist die elektro-magnetische Strahlung 14, beispielsweise ein Bearbeitungs-Laserstrahl. Alternativ dazu kann die Vorrichtung 10 zum Bestrahlen des Körpers 24 beispielsweise eine Belichtungsvorrichtung zum Belichten des Körpers 24 sein, der in diesem Zusammenhang beispielsweise ein Substrat sein kann, auf dem beispielsweise Fotolack aufgebracht ist. Alternativ dazu kann die Vorrichtung 10 zum Bestrahlen des Körpers 24 beispielsweise ein Mikroskop zum Untersuchen des Körpers 24 sein, der in diesem Zusammenhang beispielsweise ein Substrat oder eine Probe sein kann, in der beispielsweise Fluoreszenzeffekte beobachtet oder angeregt werden. Bei dem Mikroskop ist die auf den Körper 24 treffende elektro-magnetische Strahlung 22 beispielsweise ein Beobachtungsstrahl und/oder ein Anregungsstrahl.The device 10 for irradiating the body 24 is, for example, a processing device for processing the body 24 which in this context may be, for example, a workpiece, a substrate or a sample. In the processing device is the electromagnetic radiation 14 , For example, a machining laser beam. Alternatively, the device may 10 for irradiating the body 24 For example, an exposure device for exposing the body 24 be, in this context, for example, may be a substrate on which, for example, photoresist is applied. Alternatively, the device may 10 for irradiating the body 24 For example, a microscope for examining the body 24 may be in this context, for example, a substrate or a sample in which, for example fluorescence effects are observed or excited. The microscope is on the body 24 striking electromagnetic radiation 22 For example, an observation beam and / or an excitation beam.

Die elektro-magnetische Strahlung 14 kann beispielsweise gepulste elektro-magnetische Strahlung sein, beispielsweise ein gepulster Laserstrahl.The electromagnetic radiation 14 For example, it may be pulsed electromagnetic radiation, such as a pulsed laser beam.

Die elektro-magnetische Strahlung 14 ist auf die erste Strahlablenkeinheit 16 gerichtet. Die elektro-magnetische Strahlung 14 kann auch als elektro-magnetischer Strahl bezeichnet werden, der entlang eines Strahlengangs verläuft, wobei der Verlauf des Strahlengangs durch die erste und die zweite Strahlablenkeinheit 16, 20 vorgegeben werden. Die erste Strahlablenkeinheit 16 bewirkt eine erste, schnelle Ablenkung der elektro-magnetischen Strahlung 14, beispielsweise entlang einer ersten Richtung. Die Ablenkung entlang der ersten Richtung bzw. die erste Ablenkung erfolgt innerhalb eines ersten Winkelbereichs. Die erste Ablenkung erfolgt in der ersten Strahlablenkeinheit 16 zunächst eindimensional, ist jedoch mit Hilfe der ersten Strahlablenkeinheit 16 in eine effektive Ablenkrichtung drehbar. Derartig eindimensional abgelenkte und gedrehte elektro-magnetische Strahlung 18 verlässt die erste Strahlablenkeinheit 16 und ist auf die zweite Strahlablenkeinheit 20 gerichtet.The electromagnetic radiation 14 is on the first beam deflection unit 16 directed. The electromagnetic radiation 14 may also be referred to as an electro-magnetic beam, which runs along a beam path, wherein the course of the beam path through the first and the second beam deflection unit 16 . 20 be specified. The first beam deflection unit 16 causes a first, rapid deflection of the electro-magnetic radiation 14 , for example along a first direction. The deflection along the first direction or the first deflection takes place within a first angle range. The first deflection takes place in the first beam deflection unit 16 initially one-dimensional, but with the help of the first beam deflection unit 16 rotatable in an effective deflection direction. Such a one-dimensionally deflected and rotated electromagnetic radiation 18 leaves the first beam deflection unit 16 and is on the second beam deflecting unit 20 directed.

Die zweite Strahlablenkeinheit 20 weist einen zweidimensionalen Scanner auf, der die eindimensional abgelenkte und gedrehte elektro-magnetische Strahlung 18 entlang einer zweiten und/oder entlang einer dritten Richtung abgelenkt. Die Ablenkung entlang der zweiten Richtung erfolgt innerhalb eines zweiten Winkelbereichs und die Ablenkung entlang der dritten Richtung erfolgt innerhalb eines dritten Winkelbereichs. Die nachfolgend auf den Körper 24 treffende abgelenkte und gedrehte elektro-magnetische Strahlung 22 verlässt die zweite Strahlablenkeinheit 20. Im Strahlengang der abgelenkten und/oder gedrehten elektro-magnetischen Strahlung 18, 22 kann vor oder nach der zweiten Strahlablenkeinheit 20 ein nicht dargestelltes Objektiv angeordnet sein, das die auf den Körper 24 auftreffende elektro-magnetische Strahlung 18, 22 auf eine Bestrahlungsebene in oder auf dem Körper 24 fokussiert.The second beam deflection unit 20 has a two-dimensional scanner that detects the one-dimensionally deflected and rotated electromagnetic radiation 18 deflected along a second and / or along a third direction. The deflection along the second direction occurs within a second angular range and the deflection along the third direction occurs within a third angular range. The following on the body 24 striking deflected and rotated electromagnetic radiation 22 leaves the second beam deflecting unit 20 , In the beam path of the deflected and / or rotated electro-magnetic radiation 18 . 22 can be before or after the second beam deflection unit 20 a lens, not shown, may be arranged on the body 24 impinging electromagnetic radiation 18 . 22 on an irradiation level in or on the body 24 focused.

Ein aktueller Winkel innerhalb des zweiten Winkelbereichs wird von der auf den Körper 24 treffenden elektro-magnetische Strahlung 22 in einer Referenzposition und von der auf den Körper 24 treffenden elektro-magnetischen Strahlung 22 in einer aktuellen Position eingeschlossen, wenn die auf den Körper 24 treffende elektro-magnetische Strahlung 22 aktuell ausschließlich entlang der zweiten Richtung abgelenkt ist. Eine Ablenkung entlang der zweiten Richtung bewirkt somit eine Ablenkung innerhalb des zweiten Winkelbereichs.A current angle within the second angle range is from the on the body 24 meeting electromagnetic radiation 22 in a reference position and on the body 24 striking electro-magnetic radiation 22 trapped in a current position when on the body 24 striking electromagnetic radiation 22 currently only distracted along the second direction. A deflection along the second direction thus causes a deflection within the second angular range.

Ein aktueller Winkel innerhalb des dritten Winkelbereichs wird von der auf den Körper 24 treffenden elektro-magnetischen Strahlung 22 in der Referenzposition und von der auf den Körper 24 treffenden elektro-magnetischen Strahlung 22 in einer aktuellen Position eingeschlossen, wenn die auf den Körper 24 treffende elektro-magnetische Strahlung 22 aktuell ausschließlich entlang der dritten Richtung abgelenkt ist. Eine Ablenkung entlang der dritten Richtung bewirkt somit eine Ablenkung innerhalb des dritten Winkelbereichs.A current angle within the third angle range is from the on the body 24 striking electro-magnetic radiation 22 in the reference position and on the body 24 striking electro-magnetic radiation 22 trapped in a current position when on the body 24 striking electromagnetic radiation 22 currently only distracted along the third direction. A deflection along the third direction thus causes a deflection within the third angular range.

Die Steuervorrichtung 28 ermöglicht, die Strahlungsquelle 22, die erste Strahlablenkeinheit 16 und/oder die zweite Strahlablenkeinheit 20 zu steuern und/oder zu regeln, beispielsweise durch Ansteuern der Stellmittel der Laserführungen 16, 20. Im Falle einer Regelung sind nicht dargestellte Sensoren vorgesehen, die eine aktuelle Ablenkung und/oder Drehung der elektro-magnetischen Strahlung 14, 18, 22 erfassen. Falls die Strahlungsquelle 12 ein gepulster Laser ist, so kann eine Repetitionsrate der Laserpulse mit einer Ablenkung und/oder Drehung der elektro-magnetischen Strahlung 14 bzw. der abgelenkten elektro-magnetischen Strahlung 18 abgestimmt werden, was weiter unten mit Bezug auf 7 näher erläutert wird.The control device 28 allows the radiation source 22 , the first beam deflecting unit 16 and / or the second beam deflection unit 20 to control and / or to regulate, for example by driving the adjusting means of the laser guides 16 . 20 , In the case of a control sensors, not shown, are provided which provide a current deflection and / or rotation of the electromagnetic radiation 14 . 18 . 22 to capture. If the radiation source 12 is a pulsed laser, so can a repetition rate of the laser pulses with a deflection and / or rotation of the electro-magnetic radiation 14 or the deflected electromagnetic radiation 18 be reconciled with what is below with respect to 7 is explained in more detail.

2 zeigt eine Detailansicht der Vorrichtung 10 gemäß 1. Die erste Strahlablenkeinheit 16 weist einen ersten Ablenker 30 und einen Bildfelddreher 34 auf. Der erste Ablenker 30 lenkt die elektro-magnetische Strahlung 14 entlang der ersten Richtung innerhalb des ersten Winkelbereichs ab. Somit bewirkt der erste Ablenker 30 die erste Ablenkung. Ein aktueller Winkel innerhalb des ersten Winkelbereichs wird von der abgelenkten elektro-magnetischen Strahlung 18 in einer Referenzposition und der abgelenkten elektro-magnetischen Strahlung 18 in einer aktuellen Position eingeschlossen. Eine entlang der ersten Richtung abgelenkte elektro-magnetische Strahlung 32 verlässt den ersten Ablenker 30 und ist auf den Bildfelddreher 34 gerichtet. 2 shows a detailed view of the device 10 according to 1 , The first beam deflection unit 16 has a first deflector 30 and a frame rotator 34 on. The first distractor 30 deflects the electromagnetic radiation 14 along the first direction within the first angular range. Thus, the first deflector causes 30 the first distraction. An actual angle within the first angular range is from the deflected electro-magnetic radiation 18 in a reference position and the deflected electro-magnetic radiation 18 enclosed in a current position. A deflected along the first direction electromagnetic radiation 32 leaves the first deflector 30 and is on the image field turner 34 directed.

Der Bildfelddreher 34 dreht die entlang der ersten Richtung abgelenkte elektro-magnetische Strahlung 32 um einen vorgegebenen Drehwinkel, woraufhin die abgelenkte und in eine effektive Ablenkrichtung um den vorgegebenen Drehwinkel gedrehte elektro-magnetische Strahlung 18 den Bildfelddreher 34 und die erste Strahlablenkeinheit 16 verlässt. Insbesondere dreht der Bildfelddreher 34 den effektiven Ablenkwinkel und das Bildfeld der abgelenkten elektro-magnetischen Strahlung 32.The image field rotator 34 turns the deflected along the first direction electromagnetic radiation 32 by a predetermined angle of rotation, whereupon the deflected and rotated in an effective deflection by the predetermined angle of rotation electromagnetic radiation 18 the image field rotator 34 and the first beam deflecting unit 16 leaves. In particular, the image field rotator rotates 34 the effective deflection angle and field of view of the deflected electro-magnetic radiation 32 ,

Da der Bildfelddreher 34 relativ zu dem ersten Ablenker 30 drehbar ist und der erste Ablenker 30 die elektro-magnetische Strahlung 14 variabel ablenkt, steht der Bildfelddreher 34 abhängig von seiner Position und abhängig von der Ablenkung der elektro-magnetischen Strahlung 14 in variablem Winkel zu einem Strahlengang der abgelenkten elektro-magnetischen Strahlung 32 und in einem variablen Winkel zur Polarisationsrichtung der abgelenkten elektro-magnetischen Strahlung 32. Um zu vermeiden, dass die Polarisationsrichtung einen Einfluss auf die Wirkung des Bildfelddrehers 34 hat, kann die elektro-magnetische Strahlung 14, 32 vor der Drehung polarisiert werden. Beispielsweise kann die elektro-magnetische Strahlung 14, 32 im Strahlgang vor dem Bildfelddreher 34 linear polarisiert werden. Beispielsweise kann eine drehbar gelagerte λ/2-Verzögerungsplatte vor dem Bildfelddreher 34 die Polarisation synchron mit dessen aktueller Drehposition (Lage) mitdrehen, so dass die Polarisation relativ zum Bildfelddreher 34 immer gleich ausgerichtet ist. Optional kann nach dem Bildfelddreher 34 der Polarisationszustand durch eine entsprechende Anordnung wieder zurücktransformiert werden.Because the image field rotator 34 relative to the first deflector 30 is rotatable and the first deflector 30 the electromagnetic radiation 14 deflects variably, is the image field rotator 34 depending on its position and depending on the deflection of the electro-magnetic radiation 14 at a variable angle to a beam path of the deflected electro-magnetic radiation 32 and at a variable angle to the direction of polarization of the deflected electromagnetic radiation 32 , To avoid that the polarization direction has an effect on the effect of the image field rotator 34 has, can the electromagnetic radiation 14 . 32 be polarized before rotation. For example, the electromagnetic radiation 14 . 32 in the beam path in front of the image field rotator 34 be linearly polarized. For example, a rotatably mounted λ / 2 retardation plate in front of the image field rotator 34 rotate the polarization synchronously with its current rotational position (position), so that the polarization relative to the image field rotator 34 always aligned the same. Optionally, after the image field rotator 34 the polarization state can be transformed back by a corresponding arrangement.

Alternativ dazu könnte die elektro-magnetische Strahlung 14, 32 vor dem Bildfelddreher 34 zirkular polarisiert werden. Die dann auftretenden optischen Verluste wären in jeder Drehposition des Bildfelddrehers 34 gleich und damit unabhängig von der Drehstellung des Bildfelddrehers 34. Im Strahlengang nach dem Bildfelddreher 34 kann dann die gedrehte elektro-magnetische Strahlung 18 eine elliptische Polarisation aufweisen, die optional durch eine weitere mitgedrehte Verzögerungsplatte in eine gewünschte Polarisationsform überführt werden kann.Alternatively, the electromagnetic radiation 14 . 32 in front of the image field turner 34 be circularly polarized. The then occurring optical losses would be in each rotational position of the image field rotator 34 equal and thus independent of the rotational position of the image field rotator 34 , In the beam path after the image field rotator 34 then can the rotated electromagnetic radiation 18 have an elliptical polarization, which can be optionally converted by another co-rotated retardation plate in a desired polarization form.

Alternativ oder in Kombination mit einer der beiden zuvor genannten Methoden kann ein von der Stellung des Bildfelddrehers abhängiger Leistungsverlust (z. B. aufgrund von Polarisationseffekten) auch durch eine geeignete Einstellung oder Regelung der Leistung der elektro-magnetischen Strahlung kompensiert werden.Alternatively or in combination with one of the two aforementioned methods, a power loss dependent on the position of the field-rotation device (eg due to polarization effects) can also be compensated by a suitable adjustment or regulation of the power of the electromagnetic radiation.

Mit Hilfe der ersten Strahlablenkeinheit 16 kann somit die elektro-magnetische Strahlung 14 in eine Richtung, beispielsweise die erste Richtung, schnell abgelenkt werden, beispielsweise oszillierend, und die entlang der ersten Richtung abgelenkte elektro-magnetische Strahlung 32 kann gedreht werden, beispielsweise um den vorgegebenen Drehwinkel, so dass bei schneller Ablenkung die effektive Ablenkrichtung frei gewählt, eingestellt und/oder nachgeführt werden kann.With the help of the first beam deflection unit 16 can thus the electromagnetic radiation 14 in one direction, for example, the first direction, are quickly deflected, for example, oscillating, and the deflected along the first direction of electro-magnetic radiation 32 can be rotated, for example, to the predetermined angle of rotation, so that at fast deflection, the effective deflection can be freely selected, adjusted and / or tracked.

3 erläutert schematisch die Wirkung der ersten Ablenkung in einer ersten Teilfigur I, die Wirkung der Drehung in einer zweiten Teilfigur II und das Zusammenwirken der Ablenkung in die zweite und dritte Richtung und der Drehung in einer dritten Teilfigur III und einer vierten Teilfigur IV. 3 schematically illustrates the effect of the first deflection in a first sub-figure I, the effect of rotation in a second sub-figure II and the interaction of the deflection in the second and third direction and the rotation in a third sub-figure III and a fourth sub-figure IV.

In 3 stellen die kleinen Kreise Strahlungspunkte auf dem Körper 24 dar, die durch einzelne Pulse der bei der Bestrahlung auf den Körper 24 treffenden elektro-magnetischen Strahlung 22 erzeugt werden. Beispielsweise sind die Kreise in 3 repräsentativ für durch einzelne Bearbeitungs-Laserpulse erzeugte Bearbeitungspunkte auf einem Werkstück.In 3 the small circles set radiation points on the body 24 by the individual pulses of the radiation on the body 24 striking electro-magnetic radiation 22 be generated. For example, the circles in 3 Representative of processing points generated by individual machining laser pulses on a workpiece.

Die durchgezogenen Pfeile kennzeichnen eine Bestrahlungsrichtung auf dem Körper 24 entlang der die elektro-magnetische Strahlung 14 aufgrund der Ablenkung und/oder Drehung mittels der ersten Strahlablenkeinheit 16 abgelenkt wird und entlang der die einzelnen Strahlungspunkte aufeinander folgender Pulse auf den Körper 24 treffen. In anderen Worten kennzeichnet die Bestrahlungsrichtung auf dem Körper 24 die Richtung, die aus der Ablenkung mittels der ersten Strahlablenkeinheit 16 resultiert. Die Bestrahlungsrichtung kann auch als Bearbeitungsrichtung, Beobachtungsrichtung, Belichtungsrichtung oder Beleuchtungsrichtung bezeichnet werden.The solid arrows indicate a direction of irradiation on the body 24 along the the electromagnetic radiation 14 due to the deflection and / or rotation by means of the first beam deflection unit 16 is deflected and along the individual radiation points of successive pulses on the body 24 to meet. In other words, the direction of irradiation on the body 24 the direction resulting from the deflection by means of the first beam deflection unit 16 results. The irradiation direction may also be referred to as a machining direction, observation direction, exposure direction or illumination direction.

Die gestrichelten Pfeile kennzeichnen in 3 ein Bestrahlungsmuster gemäß dem der Körper 24 bestrahlt wird und somit eine Vorschubrichtung in der die Bestrahlung erfolgt. In anderen Worten kann durch den Vorschub das Bestrahlungsmuster abgefahren werden. In anderen Worten gibt das Bestrahlungsmuster die Vorschubrichtung vor. Beispielsweise wird bei einer Bearbeitungsvorrichtung das zu bearbeitende Werkstück entlang der gestrichelten Pfeile geschnitten oder es wird ein Bestrahlungsmuster, das die gestrichelten Pfeilen aufweist, in die Oberfläche des Werkstücks eingebracht. Die gestrichelten Pfeile kennzeichnen somit den durch die zweite Strahlablenkeinheit verursachten Vorschub.The dashed arrows indicate in 3 an irradiation pattern according to the body 24 is irradiated and thus a feed direction in which the irradiation takes place. In other words, the irradiation pattern can be traversed by the feed. In other words, the irradiation pattern predefines the feed direction. For example, in a machining apparatus, the workpiece to be machined is cut along the dashed arrows, or an irradiation pattern having the broken arrows is introduced into the surface of the workpiece. The dashed arrows thus indicate the feed caused by the second beam deflection unit.

Die in Teilfigur I gezeigte erste Ablenkung erfolgt entlang der ersten Richtung beispielsweise derart schnell, dass sich im Falle einer gepulsten Strahlungsquelle die einzelnen Strahlungspunkte auf der Oberfläche des Werkstücks 24 nicht oder nur begrenzt überlappen. Beispielsweise kann ein Überlappungsgrad zwischen 0 und 90%, zwischen 30 und 70%, oder etwa 50% betragen. Die erste Ablenkung wird bewirkt durch die Ablenkung entlang der ersten Richtung mittels des ersten Ablenkers 30.The first deflection shown in sub-figure I takes place along the first direction, for example, so fast that in the case of a pulsed radiation source, the individual radiation points on the surface of the workpiece 24 do not overlap or overlap only to a limited extent. For example, an overlap degree may be between 0 and 90%, between 30 and 70%, or about 50%. The first deflection is effected by the deflection along the first direction by means of the first deflector 30 ,

Im Falle einer kontinuierlichen Strahlungsquelle symbolisieren die dargestellten Strahlungspunkte in einem schnellen zeitlichen Raster aufeinanderfolgende Momentaufnahmen der Strahlungspunkte. Die dargestellte räumliche Trennung der Strahlungspunkte symbolisiert in diesem Bezug die schnelle räumlich Verteilung der Strahlungsdosis durch die schnelle Ablenkung entlang der ersten Richtung.In the case of a continuous radiation source, the illustrated radiation points symbolize in a fast temporal grid consecutive snapshots of the radiation points. The illustrated spatial separation of the radiation points in this respect symbolizes the rapid spatial distribution of the radiation dose due to the rapid deflection along the first direction.

Die in Teilfigur II gezeigte Drehung bewirkt eine Drehung effektiven Ablenkrichtung der ersten Strahlablenkeinheit 16 und damit eine Drehung der Bestrahlungsrichtung auf dem Körper 24. Die Drehung wird bewirkt durch den Bildfelddreher 34.The rotation shown in part II causes a rotation effective deflection direction of the first beam deflection unit 16 and thus a rotation of the irradiation direction on the body 24 , The rotation is effected by the image field rotator 34 ,

Mit Hilfe der zweiten Ablenkung und dritten Ablenkung kann der Körper 24 gemäß einem beliebigen Bestrahlungsmuster und/oder gemäß einer beliebigen Bestrahlungslinie bearbeitet werden. In anderen Worten kann mit Hilfe der zweiten und dritten Ablenkung die auf den Körper 24 treffende elektro-magnetische Strahlung 22 und insbesondere der entsprechende Strahlungspunkt zu jeder beliebigen Position innerhalb eines zugänglichen Bearbeitungsfeldes auf der Oberfläche des Körpers 24 geführt werden. Abhängig von der Position kann die Bestrahlung des Körpers 24 mit Hilfe der Drehung zumindest mit einer Richtungskomponente parallel oder senkrecht zu einem Abschnitt eines Bestrahlungsmusters erfolgen, wobei in Teilfigur III und in Teilfigur IV zwei beispielhafte mögliche Orientierungen der Bestrahlungsrichtung und der Vorschubrichtung zueinander, also der Richtungen der beiden überlagerten Scanbewegungen der ersten Strahlablenkeinheit 16 und der zweiten Strahlablenkeinheit 20 zueinander, dargestellt sind.With the help of the second distraction and third distraction, the body can 24 be processed according to any irradiation pattern and / or according to any irradiation line. In other words, with the help of the second and third distraction, it can affect the body 24 striking electromagnetic radiation 22 and in particular the corresponding radiation spot to any position within an accessible processing field on the surface of the body 24 be guided. Depending on the position, the irradiation of the body 24 with the help of the rotation at least with a directional component parallel or perpendicular to a section of an irradiation pattern, in Part III and in Part IV two exemplary possible orientations of the irradiation direction and the feed direction to each other, ie the directions of the two superimposed scanning movements of the first beam deflecting unit 16 and the second beam deflecting unit 20 to each other, are shown.

Beispielsweise erfolgt gemäß der in Teilfigur III gezeigten Ablenkung der Vorschub senkrecht zu der Bestrahlungsrichtung. In anderen Worten steht die Bestrahlungsrichtung zu jeder Zeit senkrecht auf der Vorschubrichtung. Beispielsweise erfolgt eine Verbreiterung der Linien des Bestrahlungsmusters durch schnelle Verteilung des Laserlichts quer zur langsamen Vorschubrichtung.For example, according to the deflection shown in part III, the feed is perpendicular to the irradiation direction. In other words, the irradiation direction is perpendicular to the feed direction at all times. For example, a broadening of the lines of the irradiation pattern by rapid distribution of the laser light transverse to the slow feed direction.

Alternativ dazu erfolgt gemäß der in Teilfigur IV gezeigten Ablenkung der Vorschub parallel zu der Bestrahlungsrichtung. In anderen Worten ist die Bestrahlungsrichtung zu jeder Zeit parallel zu der Vorschubrichtung. Beispielsweise erfolgt eine Mehrfachbelichtung des abgefahrenen Linienzugs auf dem Körper 24. Unabhängig von der Art der Ablenkung kann die Bestrahlungsrichtung eine Richtungskomponente aufweisen, die aus der Ablenkung in die zweite und/oder dritte Richtung mittels der zweiten Strahlablenkeinheit 20 resultiert. Dies kann bei der Bestrahlung des Körpers 24 beispielsweise durch einen entsprechenden Algorithmus berücksichtigt werden.Alternatively, according to the deflection shown in Part IV, the feed is parallel to the irradiation direction. In other words, the irradiation direction is parallel to the feed direction at all times. For example, there is a multiple exposure of the worn polyline on the body 24 , Regardless of the type of deflection, the direction of irradiation may comprise a directional component resulting from the deflection in the second and / or third direction by means of the second beam deflection unit 20 results. This can be done during the irradiation of the body 24 be considered for example by a corresponding algorithm.

4 zeigt ein Ausführungsbeispiel des Bildfelddrehers 34, der in diesem Ausführungsbeispiel ein Wendeprisma 36 aufweist. Das Wendeprisma 36 ist um eine Drehachse 38 drehbar gelagert. In 4 ist die elektro-magnetische Strahlung 32, 18 als räumlich ausgedehnter Strahl dargestellt, wobei eine Strahlachse des Strahls durch Strich-Punkt-Linien dargestellt ist und wobei die radial äußeren Ränder das Strahls durch durchgezogene Linien dargestellt sind. Die aus dem ersten Ablenker 30 tretende elektro-magnetische Strahlung 32 trifft auf eine Eintrittsfläche des Wendeprismas 36 und wird innerhalb des Wendeprismas 36 hin zu einer Basis des Wendeprismas 36 abgelenkt, wobei in 4 zur Vereinfachung der Darstellung von einer Neutralstellung des ersten Ablenkers 30 ausgegangen wird, in der die abgelenkte elektro-magnetische Strahlung 32 lediglich in sich gedreht wird. Bei abgelenkter elektro-magnetischer Strahlung 32 entsteht ein komplexerer Strahlengang in dem Bildfelddreher 34. Die abgelenkte elektro-magnetische Strahlung 32 wird von der Basis des Wendeprismas 36 zu einer Austrittsfläche des Wendeprismas 36 reflektiert und tritt an dieser als gedrehte elektro-magnetische Strahlung 18 aus, wobei auch die Richtung der Ablenkung gedreht ist. 4 shows an embodiment of the image field rotator 34 which in this embodiment is a turning prism 36 having. The turning prism 36 is about a rotation axis 38 rotatably mounted. In 4 is the electromagnetic radiation 32 . 18 shown as a spatially extended beam, wherein a beam axis of the beam is shown by dash-dot lines and wherein the radially outer edges of the beam are shown by solid lines. The one from the first distractor 30 passing electro-magnetic radiation 32 meets an entrance surface of the turning prism 36 and becomes within the turning prism 36 towards a base of the turning prism 36 distracted, with in 4 to simplify the representation of a neutral position of the first deflector 30 is assumed, in which the deflected electromagnetic radiation 32 is only turned in itself. With deflected electromagnetic radiation 32 This results in a more complex beam path in the image field rotator 34 , The deflected electromagnetic radiation 32 becomes from the base of the turning prism 36 to an exit surface of the turning prism 36 reflects and occurs at this as rotated electromagnetic radiation 18 from, wherein also the direction of the deflection is rotated.

Das Wendeprisma 36 ist mit zumindest einem nicht dargestellten Stellmittel gekoppelt, beispielsweise mechanisch gekoppelt. Das Stellmittel bewirkt in Reaktion auf ein Ansteuersignal der Steuervorrichtung 28 die Drehung des Wendeprismas 36. Die Drehung des Wendeprismas 36 bewirkt eine Drehung der effektiven Ablenkrichtung der ersten Strahlablenkeinheit 16 und damit eine Drehung der Bestrahlungsrichtung auf dem Körper 24.The turning prism 36 is coupled to at least one adjusting means, not shown, for example mechanically coupled. The actuating means causes the control device in response to a drive signal 28 the rotation of the turning prism 36 , The rotation of the turning prism 36 causes a rotation of the effective deflection direction of the first beam deflection unit 16 and thus a rotation of the irradiation direction on the body 24 ,

5 zeigt ein Ausführungsbeispiel, bei dem der Bildfelddreher 34 eine Spiegelanordnung aufweist. Die Spiegelanordnung weist einen ersten Spiegel 40, einen zweiten Spiegel 42 und einen dritten Spiegel 44 auf. Die Funktionsweise der Spiegelanordnung entspricht grundsätzlich der Funktionsweise des Wendeprismas 36. Die abgelenkte elektro-magnetische Strahlung 32 trifft auf den ersten Spiegel 40, der die abgelenkte elektro-magnetische Strahlung 32 hin zu dem zweiten Spiegel 42 reflektiert. Der zweite Spiegel 42 reflektiert die abgelenkte elektro-magnetische Strahlung 32 hin zu dem dritten Spiegel 42. Dadurch wird die abgelenkte elektro-magnetische Strahlung 32 gedreht. Der dritte Spiegel 42 reflektiert die abgelenkte und gedrehte elektro-magnetische Strahlung 18 hin zu der zweiten Strahlablenkeinheit 20. Die Spiegel 40, 42, 44 der Spiegelanordnung können über nicht dargestellte Haltemittel miteinander verbunden sein. Die Spiegelanordnung ist entsprechend dem Wendeprisma 36 um die Drehachse 38 drehbar gelagert. 5 shows an embodiment in which the image field rotator 34 has a mirror arrangement. The mirror assembly has a first mirror 40 , a second mirror 42 and a third mirror 44 on. The operation of the mirror assembly basically corresponds to the operation of the turning prism 36 , The deflected electromagnetic radiation 32 meets the first mirror 40 that deflected the electromagnetic radiation 32 towards the second mirror 42 reflected. The second mirror 42 reflects the deflected electromagnetic radiation 32 towards the third mirror 42 , This will cause the deflected electromagnetic radiation 32 turned. The third mirror 42 reflects the deflected and rotated electromagnetic radiation 18 towards the second beam deflection unit 20 , The mirror 40 . 42 . 44 the mirror assembly can be connected to each other via holding means, not shown. The mirror arrangement is according to the turning prism 36 around the axis of rotation 38 rotatably mounted.

Die Spiegelanordnung ist mit zumindest einem nicht dargestellten Stellmittel beispielsweise mechanisch gekoppelt. Das Stellmittel bewirkt in Reaktion auf ein Ansteuersignal der Steuervorrichtung 28 eine Drehung der Spiegelanordnung. Alternativ oder zusätzlich kann einer oder können mehrere der Spiegel 40, 42, 44 mit einem oder mehreren entsprechenden Stellmitteln mechanisch gekoppelt sein, wodurch der bzw. die entsprechenden Spiegel 40, 42, 44 individuell steuerbar sind. Die Drehung der Spiegelanordnung bewirkt eine Drehung der effektiven Ablenkrichtung und damit der Bestrahlungsrichtung auf dem Körper 24. Alternativ zu der gezeigten Spiegelanordnung kann beispielsweise ein Bildfelddreher mit einer weiteren Spiegelanordnung vorgesehen sein, beispielsweise mit einem Polygonspiegel, wie er aus dem Stand der Technik bekannt ist.The mirror arrangement is mechanically coupled to at least one adjusting means, not shown, for example. The actuating means causes the control device in response to a drive signal 28 a rotation of the mirror assembly. Alternatively or additionally, one or more of the mirrors may be used 40 . 42 . 44 be mechanically coupled with one or more corresponding adjusting means, whereby the or the corresponding mirror 40 . 42 . 44 individually controllable. The rotation of the mirror assembly causes rotation of the effective deflection direction and thus the direction of irradiation on the body 24 , As an alternative to the mirror arrangement shown, for example, an image field rotator may be provided with a further mirror arrangement, for example with a polygon mirror, as is known from the prior art.

6 zeigt eine Draufsicht auf ein Ausführungsbeispiel des Körpers 24, der in diesem Ausführungsbeispiel ein zu bearbeitendes Werkstück ist. Auf der Oberfläche des Werkstücks ist ein vorgegebenes Bestrahlungsmuster 50 dargestellt. Das Bestrahlungsmuster 50 kann in diesem Zusammenhang auch als Bearbeitungsmuster bezeichnet werden. Das vorgegebene Bestrahlungsmuster 50 ist beispielsweise rechteckig und/oder ein rechteckiger Polygonzug. Das vorgegebene Bestrahlungsmuster 50 weist beispielsweise eine erste und eine zweite Seite 52, 54 auf, die parallel zueinander sind, und eine dritte und eine vierte Seite 56, 58, die ebenfalls parallel zueinander ausgebildet sind. Die erste und die zweite Seite 52, 54 stehen senkrecht auf der dritten und der vierten Seite 56, 58. Alternativ oder zusätzlich kann das Bestrahlungsmuster 50 ein beliebiges Polygon und/oder krumme oder gebogene Linien, beispielsweise einen Schriftzug oder ein Bild, aufweisen. 6 shows a plan view of an embodiment of the body 24 which is a workpiece to be machined in this embodiment. On the surface of the workpiece is a predetermined irradiation pattern 50 shown. The radiation pattern 50 can also be referred to as a processing pattern in this context. The prescribed irradiation pattern 50 is for example rectangular and / or a rectangular polygon. The prescribed irradiation pattern 50 has, for example, a first and a second page 52 . 54 on, which are parallel to each other, and a third and a fourth page 56 . 58 , which are also formed parallel to each other. The first and the second page 52 . 54 are perpendicular to the third and the fourth page 56 . 58 , Alternatively or additionally, the irradiation pattern 50 any polygon and / or curved or curved lines, such as a lettering or a picture, have.

In 6 sind die durchgezogenen Pfeile repräsentativ für eine erste Vorschubrichtung 61 und ein zweite Vorschubrichtung 63, entlang denen das Bearbeitungsmuster 50 abfahren und/oder bestrahlt werden kann. Beispielsweise erfolgt der Vorschub in die erste Vorschubrichtung 61 durch eine Ablenkung der gedrehten elektro-magnetischen Strahlung 18 entlang der zweiten Richtung und der Vorschub in die zweite Richtung 63 erfolgt durch eine Ablenkung der gedrehten elektro-magnetischen Strahlung 18 entlang der dritten Richtung. Durch Überlagern der ersten und der zweiten Vorschubrichtung 61, 63 kann eine tatsächliche resultierende Vorschubrichtung vorgegeben werden.In 6 the solid arrows are representative of a first feed direction 61 and a second feed direction 63 along which the machining pattern 50 leave and / or can be irradiated. For example, the feed takes place in the first feed direction 61 by a deflection of the rotated electro-magnetic radiation 18 along the second direction and the feed in the second direction 63 takes place by a deflection of the rotated electro-magnetic radiation 18 along the third direction. By superimposing the first and the second feed direction 61 . 63 An actual resulting feed direction can be specified.

In 6 sind die gestrichelten Pfeile repräsentativ für eine maximale Auslenkung der schnellen Bewegung der Strahlungspunkte auf dem Werkstück, wobei die Bestrahlungsrichtung gemäß der Ablenkung IIIb aus 3 parallel zur Vorschubrichtung entlang des Bearbeitungsmusters 50 erfolgt. Beispielsweise erfolgt von den Enden der vierten Seite 58 des Bestrahlungsmusters 50 beabstandet eine relativ große Ablenkung 60 der auf den Körper 24 treffenden elektro-magnetischen Strahlung 22 und an den Enden der vierten Seite 58 erfolgt eine relativ geringe Ablenkung 62 der auf den Körper 24 treffenden elektro-magnetische Strahlung 22. Die Bestrahlungsrichtung ist dabei zum Vereinfachen der Darstellung jeweils ausschließlich parallel zu der zweiten Vorschubrichtung 63. Dies kann dazu beitragen, beispielsweise einen Übergang von der vierten Seite 58 zu der zweiten Seite 54 präzise auszubilden. Bei dem Übergang kann dann die Bestrahlungsrichtung angepasst werden, beispielsweise so, dass sie nach wie vor parallel zur aktuellen Vorschubrichtung ist.In 6 the dashed arrows are representative of a maximum deflection of the rapid movement of the radiation spots on the workpiece, wherein the irradiation direction according to the deflection IIIb from 3 parallel to the feed direction along the machining pattern 50 he follows. For example, takes place from the ends of the fourth page 58 of the irradiation pattern 50 spaced a relatively large deflection 60 the on the body 24 striking electro-magnetic radiation 22 and at the ends of the fourth page 58 There is a relatively small distraction 62 the on the body 24 meeting electromagnetic radiation 22 , In this case, the irradiation direction is in each case exclusively parallel to the second feed direction for simplifying the representation 63 , This can help, for example, a transition from the fourth page 58 to the second page 54 to train precisely. During the transition, the direction of irradiation can then be adapted, for example so that it is still parallel to the current feed direction.

Die unterschiedlich großen Ablenkungen können beispielsweise durch Einstellen unterschiedlich großer erster Winkelbereiche erzielt werden. Beispielsweise kann die relativ große Ablenkung durch einen relativ großen ersten Winkelbereich erzielt werden und die relativ kleine Ablenkung kann durch einen relativ kleinen ersten Winkelbereich erzielt werden.The different sized deflections can be achieved, for example, by setting different sized first angular ranges. For example, the relatively large deflection can be achieved by a relatively large first angular range and the relatively small deflection can be achieved by a relatively small first angular range.

Eine Bestrahlungsintensität und/oder eine Bestrahlungsreihenfolge, mit der das Bestrahlungsmuster 50 bestrahlt wird, kann beispielsweise abhängig von dem Bestrahlungsmuster 50 gewählt werden. Beispielsweise können zuerst alle Abschnitte des Bestrahlungsmusters 50, die parallel zueinander ausgebildet sind, nacheinander bestrahlt werden. Beispielsweise können zuerst die erste Seite 52 und dann die zweite Seite 54 bestrahlt werden. Nachfolgend kann eine Drehung der Bestrahlungsrichtung erfolgen und dann können beispielsweise die dritte Seite 56 und dann die vierte Seite 58 bearbeitet werden.An irradiation intensity and / or an irradiation order with which the irradiation pattern 50 can be irradiated, for example, depending on the irradiation pattern 50 to get voted. For example, first all sections of the irradiation pattern 50 , which are formed parallel to each other, are irradiated successively. For example, first the first page 52 and then the second page 54 be irradiated. Subsequently, a rotation of the irradiation direction can take place and then, for example, the third page 56 and then the fourth page 58 to be edited.

7 zeigt ein Ablaufdiagramm eines Ausführungsbeispiels eines Verfahrens zum Bestrahlen eines Körpers, beispielsweise zum Bestrahlen des Körpers 24. 7 shows a flowchart of an embodiment of a method for irradiating a body, for example, to irradiate the body 24 ,

In einem Schritt S2 wird die elektro-magnetische Strahlung 14 erzeugt, beispielsweise mit Hilfe der Strahlungsquelle 12. Beispielsweise kann die elektro-magnetische Strahlung 14 als gepulste elektro-magnetische Strahlung, beispielsweise als gepulster Laserstrahl erzeugt werden. Eine Laserpulsfrequenz (Pulsrate) kann beispielsweise zwischen 100 kHz und 100 MHz, beispielsweise zwischen 1 MHz und 50 MHz liegen. Eine Pulsdauer der gepulsten Laserstrahlung kann beispielsweise kleiner 100 ps sein und/oder beispielsweise zwischen 0,5 und 10 ps oder sogar darunter liegen. Derartig kurze Pulsdauern ermöglichen beispielsweise bei der Materialbearbeitung eine kalte Ablation. Eine Laserleistung kann beispielsweise bei einem UKP-Laser zur Mikromaterialbearbeitung im Bereich von 1 W bis 5 kW, beispielsweise zwischen 10 und 500 W, beispielsweise zwischen 20 und 100 W liegen, beispielsweise bei Frequenzen zwischen 20 kHz und 50 MHz, beispielsweise zwischen 100 kHz und 5 MHz, wobei elektro-magnetische Strahlung 14 verschiedener Wellenlängen möglich ist.In a step S2, the electromagnetic radiation 14 generated, for example by means of the radiation source 12 , For example, the electromagnetic radiation 14 be generated as a pulsed electromagnetic radiation, for example as a pulsed laser beam. A laser pulse frequency (pulse rate) may, for example, be between 100 kHz and 100 MHz, for example between 1 MHz and 50 MHz. A pulse duration of the pulsed laser radiation may, for example, be less than 100 ps and / or for example between 0.5 and 10 ps or even less. Such short pulse durations enable, for example, a cold ablation during material processing. For example, a laser power can be in the range of 1 W to 5 kW, for example between 10 and 500 W, for example between 20 and 100 W for a micro-machining UKP laser, for example at frequencies between 20 kHz and 50 MHz, for example between 100 kHz and 5 MHz, with electronic magnetic radiation 14 different wavelengths is possible.

In einem Schritt S4 wird die elektro-magnetische Strahlung 14 in die erste Richtung abgelenkt, beispielsweise mit Hilfe des ersten Ablenkers 30. Die elektro-magnetische Strahlung 14 wird entlang der ersten Richtung mit einer ersten Winkelgeschwindigkeit abgelenkt. Die Ablenkung entlang der ersten Richtung erfolgt innerhalb des ersten Winkelbereichs. Die Ablenkung entlang der ersten Richtung kann beispielsweise auch als schnelle Ablenkung oder erste Ablenkung I bezeichnet werden. Die schnelle Ablenkung kann beispielsweise derart schnell erfolgen, dass die Strahlungspunkte aufeinander folgender Laserpulse auf dem Körper 24 nicht überlappen oder zumindest nicht zu stark überlappen, wobei ein Überlappungsgrad beispielsweise zwischen 0 und 90%, zwischen 30 und 70% oder etwa 50% betragen kann. Die erste Winkelgeschwindigkeit wird beispielsweise in Abhängigkeit der Laserpulsfrequenz und einem Durchmesser der Strahlungspunkte der auf den Körper 24 treffenden elektro-magnetische Strahlung 22 gewählt. Die Ablenkung entlang der ersten Richtung erfolgt beispielsweise oszillierend, beispielsweise dreieck-förmig oder sägezahn-förmig oszillierend.In a step S4, the electromagnetic radiation 14 deflected in the first direction, for example with the aid of the first deflector 30 , The electromagnetic radiation 14 is deflected along the first direction at a first angular velocity. The deflection along the first direction occurs within the first angular range. The deflection along the first direction may for example also be referred to as fast deflection or first deflection I. For example, the rapid deflection can take place so rapidly that the radiation points of successive laser pulses on the body 24 do not overlap or at least do not overlap too much, with a degree of overlap, for example, between 0 and 90%, between 30 and 70% or about 50% may be. The first angular velocity, for example, depending on the laser pulse frequency and a diameter of the radiation points of the body 24 meeting electromagnetic radiation 22 selected. The deflection along the first direction takes place, for example, oscillating, for example, triangular or sawtooth-shaped oscillating.

Beispielsweise kann bei einer Strahlungspunktgröße von ca. 50 μm, einem Überlappungsgrad der Strahlungspunkte von ca. 50% und einer Repetitionsrate von 3 MHz eine Scangeschwindigkeit von ca. 75 m/s eingestellt werden. Außerdem kann eine Anzahl optisch getrennt auflösbarer Positionen auf dem Körper 24, die ein Scanner pro Zeit ansteuern kann, eingestellt werden. Bei akusto-optischen Ablenkern sind beispielsweise Pixelraten von 0 MHz bis ca. 2 MHz mit oder ohne Sprüngen von Strahlungspunkt zu Strahlungspunkt möglich. Darüber hinaus sind mit akusto-optischen Ablenkern Pixelraten über 10 MHz bis hin zu beispielsweise 50 MHz oder mehr möglich. Die technisch realisierbare maximal mögliche Pixelrate kann beispielsweise von einer gewünschten Amplitude, einer gewünschten Wellenlänge, einer gewünschten Pulsdauer und/oder einer gewünschten Durchschnittsstrahlungsleistung abhängen.For example, with a radiation spot size of about 50 μm, an overlap of the radiation points of about 50% and a repetition rate of 3 MHz, a scan speed of about 75 m / s can be set. In addition, a number of optically separate resolvable positions on the body 24 A scanner can be set per time to be set. For acousto-optical deflectors, for example, pixel rates from 0 MHz to about 2 MHz are possible with or without jumps from radiation point to radiation point. In addition, with acousto-optical deflectors pixel rates over 10 MHz up to, for example, 50 MHz or more are possible. The technically feasible maximum possible pixel rate may, for example, depend on a desired amplitude, a desired wavelength, a desired pulse duration and / or a desired average radiation power.

In einem Schritt S6 wird die abgelenkte elektro-magnetische Strahlung 32 gedreht, beispielsweise mit Hilfe des Bildfelddrehers 34. Bei der Drehung wird die Bestrahlungsrichtung gedreht. Die Drehung erfolgt in Abhängigkeit von einem aktuell zu bearbeitenden Abschnitt des Bestrahlungsmusters 50 und abhängig von dem vorzunehmenden Bearbeitungsschritt. Falls beispielsweise der Körper 24 entlang der ersten Seite 52 geschnitten werden soll, so kann die Drehung so vorgenommen werden, dass die Bestrahlungsrichtung parallel zu dem aktuell zu bearbeitenden Abschnitt des Bestrahlungsmusters 50, beispielsweise der ersten Seite 52, und/oder der aktuellen Vorschubrichtung ist. Die Strahlungspunkte der einzelnen Laserpulse der auf den Körper 24 treffenden elektro-magnetischen Strahlung 22 wandern dann entlang der ersten Seite 52 mehrmals hin und zurück, wodurch der Körper 24 entlang der ersten Seite 52 mehrfach belichtet und geschnitten wird.In a step S6, the deflected electromagnetic radiation 32 rotated, for example using the image field rotator 34 , During rotation, the direction of irradiation is rotated. The rotation takes place as a function of a section of the irradiation pattern currently to be processed 50 and depending on the processing step to be performed. For example, if the body 24 along the first page 52 the rotation can be made so that the irradiation direction is parallel to the currently processed portion of the irradiation pattern 50 , for example, the first page 52 , and / or the current feed direction. The radiation points of the individual laser pulses of the body 24 striking electro-magnetic radiation 22 then walk along the first page 52 several times back and forth, causing the body 24 along the first page 52 repeatedly exposed and cut.

Falls beispielsweise die Oberfläche des Körpers 24 entlang der ersten Seite 52 mit einer vorgegebenen Oberflächenstruktur versehen und/oder ein breiter Linienabschnitt eingearbeitet werden soll, so kann die Drehung so vorgenommen werden, dass die Bestrahlungsrichtung senkrecht auf dem aktuell zu bearbeitenden Abschnitt des Bestrahlungsmusters 50, beispielsweise der ersten Seite 52, steht. Die Strahlungspunkte der Laserpulse wandern dann senkrecht zu der ersten Seite 52 mehrmals über die erste Seite 52 und zurück, wodurch in die Oberfläche des Werkstücks 24 entlang der ersten Seite 52 die vorgegebene Oberflächenstruktur eingebracht wird. Bei einem Übergang von der ersten oder zweiten Seite 52, 54 zu der darauf senkrecht stehenden dritten oder vierten Seite 56, 58 kann die Bestrahlungsrichtung dann entsprechend gedreht werden, beispielsweise um neunzig Grad. Falls das Bestrahlungsmuster 50 eine gebogene oder gekrümmte Linie aufweist, so kann die Bestrahlungsrichtung beispielsweise so gedreht werden, dass sie beispielsweise zu jedem Zeitpunkt senkrecht oder parallel zu einer Tangente an die gebogene bzw. gekrümmte Linie ist.For example, if the surface of the body 24 along the first page 52 provided with a predetermined surface structure and / or a wide line section to be incorporated, the rotation can be made so that the irradiation direction perpendicular to the currently processed portion of the irradiation pattern 50 , for example, the first page 52 , stands. The radiation spots of the laser pulses then travel perpendicular to the first side 52 several times over the first page 52 and back, causing in the surface of the workpiece 24 along the first page 52 the predetermined surface structure is introduced. At a transition from the first or second page 52 . 54 to the third or fourth page perpendicular thereto 56 . 58 The irradiation direction can then be rotated accordingly, for example by ninety degrees. If the irradiation pattern 50 has a curved or curved line, the irradiation direction can be rotated, for example, such that it is perpendicular or parallel to a tangent to the curved line at any time, for example.

In einem Schritt S8 wird die abgelenkte und gedrehte elektro-magnetische Strahlung 18 in die zweite bzw. dritte Richtung abgelenkt. Die elektro-magnetische Strahlung 14 wird entlang der zweiten Richtung mit einer zweiten Winkelgeschwindigkeit und entlang der dritten Richtung mit einer dritten Winkelgeschwindigkeit abgelenkt. Beispielsweise ist die maximale erste Winkelgeschwindigkeit größer als die zweite und/oder dritte Winkelgeschwindigkeit. Somit erfolgt in dem Schritt S4 eine schnelle Ablenkung und in dem Schritt S8 erfolgt eine langsame Ablenkung. Die Ablenkung entlang der zweiten Richtung erfolgt innerhalb des zweiten Winkelbereichs und die Ablenkung entlang der dritten Richtung erfolgt innerhalb des dritten Winkelbereichs. Die Ablenkung entlang der zweiten bzw. dritten Richtung kann auch als langsame Ablenkung oder zweite und dritte Ablenkung bezeichnet werden. Beispielsweise bewirkt die Ablenkung entlang der zweiten Richtung eine Ablenkung der Strahlungspunkte auf dem Körper 24 in X-Richtung und eine Ablenkung entlang der dritten Richtung bewirkt eine Ablenkung der Strahlungspunkte auf dem Körper 24 in Y-Richtung. Wobei die X-Achse und die Y-Achse eine Bestrahlungsebene aufspannen, die beispielsweise parallel zu einer Oberfläche des Körpers 24 ist.In a step S8, the deflected and rotated electromagnetic radiation 18 deflected in the second or third direction. The electromagnetic radiation 14 is deflected along the second direction at a second angular velocity and along the third direction at a third angular velocity. For example, the maximum first angular velocity is greater than the second and / or third angular velocity. Thus, in step S4, a rapid deflection takes place and in step S8, a slow deflection takes place. The deflection along the second direction occurs within the second angular range and the deflection along the third direction occurs within the third angular range. The deflection along the second or third direction may also be referred to as slow deflection or second and third deflection. For example, the deflection along the second direction causes a deflection of the radiation spots on the body 24 in the X-direction and a deflection along the third direction causes a deflection of the radiation points on the body 24 in the Y direction. Wherein the X-axis and the Y-axis span an irradiation plane, for example parallel to a surface of the body 24 is.

Mit Hilfe der zweiten bzw. dritten Ablenkung kann der Strahlungspunkt der auf den Körper 24 treffenden elektro-magnetischen Strahlung 22 an jede beliebige Position auf der Oberfläche des Werkstücks 24 geführt werden. Somit können über die zweite und die dritte Ablenkung ein zu bestrahlender Abschnitt des Körpers 24 und eine Bestrahlungsreihenfolge, gemäß der das Bestrahlungsmuster 50 abgearbeitet wird, eingestellt werden und über die Drehung kann die Bestrahlungsrichtung, entlang der die Strahlungspunkte aufeinander folgender Laserpulse auf den Körper 24 treffen, gewählt werden. Beispielsweise können zuerst alle zueinander parallelen Abschnitte des Bestrahlungsmusters 50 nacheinander bearbeitet werden, ohne die Bestrahlungsrichtung zu drehen. Abschnitte des Bestrahlungsmusters 50, die die Drehung der Bestrahlungsrichtung erfordern, können dann anschließend bearbeitet werden. Ein solches Verfahren kann dazu beitragen den Gesamtzeitbedarf für die Abarbeitung eines Satzes von Bestrahlungsmustern zu reduzieren oder zu optimieren.With the help of the second or third distraction, the radiation point of the body 24 striking electro-magnetic radiation 22 to any position on the surface of the workpiece 24 be guided. Thus, via the second and the third deflection, a portion of the body to be irradiated can be irradiated 24 and an irradiation order according to the irradiation pattern 50 is processed, adjusted and via the rotation, the direction of irradiation, along which the radiation points of successive laser pulses on the body 24 to be elected. For example, at first all the mutually parallel sections of the irradiation pattern 50 be processed sequentially without rotating the direction of irradiation. Sections of the irradiation pattern 50 which require the rotation of the irradiation direction can then be subsequently processed. Such a method may help to reduce or optimize the overall time required to process a set of irradiation patterns.

In einem Schritt S10 wird der Körper 24 mit Hilfe der auf den Körper 24 treffenden elektro-magnetische Strahlung 22 bearbeitet. Die Erzeugung der Laserpulse und insbesondere deren Taktung und die Ablenkung und/oder Drehung der elektro-magnetischen Strahlung können aufeinander abgestimmt sein. Beispielsweise kann die Ablenkung und/oder Drehung an die Zeitfolge der Laserpulsereignisse angepasst werden oder die Zeitfolge der Laserpulsereignisse kann an die Ablenkung und/oder Drehung angepasst werden. Dies ermöglicht die einzelnen Strahlungspunkte punktgenau relativ zu dem Körper 24 und/oder relativ zu einander auf dem Körper 24 zu positionieren. Insbesondere können so punktgenau einzelne Soll-Positionen auf dem Körper bestrahlt werden. Zu diesem Zweck können beispielsweise die Laserpulse erfasst, gesteuert und/oder geregelt werden.In a step S10, the body becomes 24 with the help of the on the body 24 meeting electromagnetic radiation 22 processed. The generation of the laser pulses and in particular their timing and the deflection and / or rotation of the electromagnetic radiation may be coordinated. For example, the deflection and / or rotation may be adjusted to the timing of the laser pulse events, or the timing of the laser pulse events may be adapted to the deflection and / or rotation. This allows the individual radiation points pinpoint relative to the body 24 and / or relative to each other on the body 24 to position. In particular, individual target positions on the body can be irradiated with pinpoint accuracy. For this purpose, for example, the laser pulses can be detected, controlled and / or regulated.

Ferner kann beim Abarbeiten des Verfahrens zusätzlich eine Fokussierung der auf den Körper 24 treffenden elektro-magnetischen Strahlung 22 auf oder in dem Körper 24 erfolgen. In anderen Worten kann ein Fokuspunkt der elektro-magnetischen Strahlung senkrecht zu einer Oberfläche des Körpers 24 verschoben werden. Beispielsweise kann der Fokuspunkt parallel zu einer Z-Achse verschoben werden, die senkrecht auf der X- und Y-Achse steht. Dadurch kann beispielsweise die Oberfläche des Körpers 24 gleichmäßig bestrahlt werden, auch wenn sie unregelmäßig ist und/oder Stufen oder Plateaus aufweist. Alternativ dazu kann zum Beispiel gezielt ein im Körper 24 liegender Bereich bestrahlt werden. Dies kann beispielsweise im Bereich der Mikroskopie vorteilhaft sein. Ferner kann durch eine unterschiedlich starke Fokussierung eine unterschiedliche Belichtungsdosis eingestellt werden.Furthermore, when processing the method additionally focusing on the body 24 striking electro-magnetic radiation 22 on or in the body 24 respectively. In other words, a focal point of the electromagnetic radiation may be perpendicular to a surface of the body 24 be moved. For example, the focal point may be translated parallel to a Z axis that is perpendicular to the X and Y axes. This can, for example, the surface of the body 24 even if it is irregular and / or has steps or plateaus. Alternatively, for example, a targeted in the body 24 lying area are irradiated. This can be advantageous, for example, in the field of microscopy. Furthermore, a different exposure dose can be set by focusing differently.

Ferner kann beim Abarbeiten des Verfahrens eine Abweichung der Ausrichtung der Achsen, um die die elektro-magnetische Strahlung 14, 32, 18 beim Ablenken und/oder Drehen abgelenkt bzw. gedreht wird, kompensiert werden. Die Abweichungen der Ausrichtung der Achsen können beispielsweise zu einer Verschlechterung der Präzision der Bestrahlung des Körpers 24 führen. Beispielsweise kann die Drehachse des Bildfelddrehers 34 außerhalb der Ebene liegen, die von den unterschiedlichen Strahlengängen der abgelenkten elektro-magnetischen Strahlung 32 vor dem Bildfelddreher 34 aufgespannt wird. Die Drehung des Bildfelddreher 34 kann dann eine Drehung der Bestrahlungsrichtung auf dem Körper 24 um einen Punkt bewirken, der nicht auf dem Bestrahlungsmuster 50 sondern daneben liegt, beispielsweise neben einem Linienelement des Bestrahlungsmusters 50. Diese und ähnliche Abweichungen können beispielsweise empirisch, beispielsweise durch Testmuster ausgemessen werden und in Parameter zur Berechnung von Korrekturwerten, beispielsweise abhängig von der Stellung des Bildfelddrehers 34, überführt werden. Die Korrekturwerte können dann beim Durchführen des Verfahrens zum Bestrahlen des Körpers 24 berücksichtigt werden, um die vorher im optischen System entstandene Abweichung auszugleichen.Further, when operating the method, a deviation of the orientation of the axes around which the electromagnetic radiation 14 . 32 . 18 deflected or rotated when distracted and / or rotated, be compensated. The deviations of the alignment of the axes may, for example, lead to a deterioration of the precision of the irradiation of the body 24 to lead. For example, the rotation axis of the image field rotator 34 lie outside the plane, that of the different beam paths of the deflected electro-magnetic radiation 32 in front of the image field turner 34 is spanned. The rotation of the image field rotator 34 can then be a rotation of the direction of irradiation on the body 24 to cause a point that is not on the radiation pattern 50 but next to it, for example, next to a line element of the irradiation pattern 50 , These and similar deviations can be measured, for example empirically, for example by test patterns and in parameters for calculating correction values, for example, depending on the position of the image field rotator 34 to be transferred. The correction values can then be used in carrying out the method for irradiating the body 24 be taken into account in order to compensate for the previously resulting in the optical system deviation.

Das Bestrahlungsmuster 50 kann Bereiche aufweisen, die belichtet werden sollen und solche die weniger belichtet werden sollen. Abhängig von dem aktuell zu bearbeitenden Abschnitt des Bestrahlungsmusters 50 kann eine Belichtungsdosis eingestellt und/oder geregelt werden. Die Belichtungsdosis kann beispielsweise über eine Amplitude der schnellen Ablenkung und/oder eine Intensität der auf den Körper auftreffenden elektro-magnetischen Strahlung 22 erfolgen. Die Intensität kann beispielsweise über die Strahlungsquelle 12 und/oder ein zusätzliches Element und/oder, falls der erste Ablenker 30 ein akusto-optischer Ablenker ist, über den ersten Ablenker 30 einfach und schnell eingestellt und/oder angepasst werden.The radiation pattern 50 may have areas to be exposed and those to be less exposed. Depending on the section of the irradiation pattern currently being processed 50 An exposure dose may be adjusted and / or regulated. The exposure dose can be, for example, via an amplitude of the rapid deflection and / or an intensity of the electromagnetic radiation incident on the body 22 respectively. The intensity can, for example, via the radiation source 12 and / or an additional element and / or, if the first deflector 30 An acousto-optic deflector is over the first deflector 30 easily and quickly adjusted and / or adapted.

Beispielsweise kann beim Bestrahlen krummer Abschnitte des Bestrahlungsmusters 50 und einer dazu tangential ausgerichteten Bestrahlungsrichtung die Amplitude der schnellen Ablenkung und/oder die Intensität der auf den Körper 24 auftreffenden elektro-magnetischen Strahlung 22 abhängig von der lokalen Krümmung des Abschnitts so eingestellt werden, dass in tangentialer Richtung zu dem Abschnitt eine vorgebbare maximale Abweichung der Bestrahlungsdosis erfolgt.For example, when irradiated, crooked portions of the irradiation pattern 50 and a direction of irradiation directed tangentially thereto, the amplitude of the rapid deflection and / or the intensity of the radiation on the body 24 incident electro-magnetic radiation 22 be set depending on the local curvature of the section so that in the tangential direction to the section, a predeterminable maximum deviation of the irradiation dose.

Beispielsweise kann beim Bestrahlen eckiger oder kurvenförmiger Abschnitte des Bestrahlungsmusters 50 und einer dazu senkrecht ausgerichteten Bestrahlungsrichtung, beispielsweise zum Verbreitern einer Linie des Abschnitts des Bestrahlungsmusters 50 die Amplitude der schnellen Ablenkung und/oder die Intensität der auf den Körper 24 auftreffenden elektro-magnetischen Strahlung 22 abhängig von der lokalen Krümmung oder der Ecke des Abschnitts so eingestellt werden, dass beispielsweise im Inneren der Kurve bzw. der Ecke die Bestrahlungsdosis vermindert wird, um beispielsweise eine Überbelichtung zu vermeiden.For example, when irradiating angular or curved sections of the irradiation pattern 50 and a direction of irradiation oriented perpendicular thereto, for example for widening a line of the section of the irradiation pattern 50 the amplitude of the rapid distraction and / or the intensity of the on the body 24 incident electro-magnetic radiation 22 be adjusted depending on the local curvature or the corner of the section so that, for example, inside the curve or the corner, the irradiation dose is reduced, for example, to avoid overexposure.

In gleicher oder ähnlicher Weise kann die Anpassung der Amplitude der schnellen Ablenkung bzw. der Intensität der auf den Körper 24 auftreffenden elektro-magnetischen Strahlung 22 auch bei anderen speziellen Mustern 50, beispielsweise Beschriftungsmustern, hilfreich bei der Optimierung der Bestrahlungsstrategie sein.In the same or similar way, the adaptation of the amplitude of the rapid deflection or the intensity of the on the body 24 incident electro-magnetic radiation 22 even with other special patterns 50 For example, caption patterns may be helpful in optimizing the irradiation strategy.

Die Erfindung ist nicht auf die angegebenen Ausführungsbeispiele beschränkt. Beispielsweise kann die Bestrahlungsrichtung parallel oder senkrecht zu einem zu bearbeitenden Abschnitt des Bestrahlungsmusters 50 oder mit einem beliebigen Winkel dazu eingestellt werden.The invention is not limited to the specified embodiments. For example, the irradiation direction may be parallel or perpendicular to a section of the irradiation pattern to be processed 50 or to be set at any angle.

ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG QUOTES INCLUDE IN THE DESCRIPTION

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Zitierte PatentliteraturCited patent literature

  • DE 102007012815 A1 [0012] DE 102007012815 A1 [0012]
  • US 2009/0045176 A1 [0013] US 2009/0045176 A1 [0013]
  • US 6584218 B2 [0014] US 6584218 B2 [0014]

Zitierte Nicht-PatentliteraturCited non-patent literature

  • „Experimental nonmechanical image rotation to 20 angles using an acousto-optic dove prism” von Yong-Seok, Eung GI Paek und Xiao Tang, Opt. Eng. 39(11) 2909–2914 (Nov 2000) [0015] Yong-Seok, Eung GI Paek and Xiao Tang, Opt. Eng. "Experimental nonmechanical image rotation to 20 angles using an acousto-optic dove prism". 39 (11) 2909-2914 (Nov 2000) [0015]

Claims (16)

Vorrichtung zum Ablenken von elektro-magnetischer Strahlung (14), aufweisend: – eine erste Strahlablenkeinheit (16) mit einem ersten Ablenker (30) zum Ablenken von elektro-magnetischer Strahlung (14) entlang einer ersten Richtung und mit einem Bildfelddreher (34) zum Drehen der abgelenkten elektro-magnetischen Strahlung (32) um einen vorgegebenen Drehwinkel, wodurch die gedrehte elektro-magnetische Strahlung (18) in eine effektive Ablenkrichtung abgelenkt ist, die gegenüber der ersten Richtung gedreht ist; – eine zweite Strahlablenkeinheit (20) zum Ablenken der gedrehten elektro-magnetischen Strahlung (18) entlang einer zweiten Richtung und entlang einer dritten Richtung, wobei zumindest eine Richtungskomponente der zweiten Richtung auf der dritten Richtung senkrecht steht.Device for deflecting electromagnetic radiation ( 14 ), comprising: - a first beam deflection unit ( 16 ) with a first deflector ( 30 ) for deflecting electromagnetic radiation ( 14 ) along a first direction and with an image field rotator ( 34 ) for rotating the deflected electro-magnetic radiation ( 32 ) by a predetermined angle of rotation, whereby the rotated electromagnetic radiation ( 18 ) is deflected in an effective deflection direction which is rotated with respect to the first direction; A second beam deflection unit ( 20 ) for deflecting the rotated electro-magnetic radiation ( 18 ) along a second direction and along a third direction, wherein at least one directional component of the second direction is perpendicular to the third direction. Vorrichtung nach Anspruch 1, bei der der erste Ablenker (30) die elektro-magnetische Strahlung (14) entlang der ersten Richtung in einem vorgegebenen ersten Winkelbereich ablenkt und bei der die zweite Strahlablenkeinheit (20) die gedrehte elektro-magnetische Strahlung (18) entlang der zweiten Richtung in einem vorgegebenen zweiten Winkelbereich und entlang der dritten Richtung in einem vorgegebenen dritten Winkelbereich ablenkt, wobei der zweite und/oder der dritte Winkelbereich größer sind als der erste Winkelbereich.Device according to Claim 1, in which the first deflector ( 30 ) the electromagnetic radiation ( 14 ) deflects along the first direction in a predetermined first angular range and in which the second beam deflection unit ( 20 ) the rotated electromagnetic radiation ( 18 ) deflects along the second direction in a predetermined second angular range and along the third direction in a predetermined third angular range, the second and / or third angular ranges being greater than the first angular range. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 oder 2, bei der der erste Ablenker (30) die elektro-magnetische Strahlung (14) entlang der ersten Richtung mit einer vorgegebenen ersten Winkelgeschwindigkeit ablenkt und bei der die zweite Strahlablenkeinheit (20) die gedrehte elektro-magnetische Strahlung (18) entlang der zweiten Richtung mit einer vorgegebenen zweiten Winkelgeschwindigkeit und entlang der dritten Richtung mit einer vorgegebenen dritten Winkelgeschwindigkeit ablenkt, wobei die zweite und die dritte Winkelgeschwindigkeit kleiner sind als die erste Winkelgeschwindigkeit.Device according to one of claims 1 or 2, in which the first deflector ( 30 ) the electromagnetic radiation ( 14 ) deflects along the first direction at a predetermined first angular velocity and at which the second beam deflection unit (14) 20 ) the rotated electromagnetic radiation ( 18 ) along the second direction at a predetermined second angular velocity and along the third direction at a predetermined third angular velocity, the second and third angular velocities being less than the first angular velocity. Vorrichtung nach einem der vorstehenden Ansprüche, bei der der Bildfelddreher (34) ein Wendeprisma (36) aufweist.Device according to one of the preceding claims, wherein the image field rotator ( 34 ) a turning prism ( 36 ) having. Vorrichtung nach einem der vorstehenden Ansprüche, bei der der Bildfelddreher (34) zumindest drei Spiegel (40, 42, 44) aufweist.Device according to one of the preceding claims, wherein the image field rotator ( 34 ) at least three mirrors ( 40 . 42 . 44 ) having. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 2 bis 5, bei der der erste Winkelbereich variabel einstellbar ist.Device according to one of claims 2 to 5, wherein the first angular range is variably adjustable. Vorrichtung nach einem der vorstehenden Ansprüche, bei der der erste Ablenker (30) mindestens einen akusto-optischen Ablenker, einen elektro-optischen Ablenker oder einen mechanischen Ablenker aufweist.Device according to one of the preceding claims, in which the first deflector ( 30 ) has at least one acousto-optical deflector, an electro-optical deflector or a mechanical deflector. Vorrichtung (10) zum Bestrahlen eines Körpers (24) mit elektro-magnetischer Strahlung (14), aufweisend: – eine Strahlungsquelle (12) zum Erzeugen der elektro-magnetischen Strahlung (14); – eine Vorrichtung nach einem der vorstehenden Ansprüche zum Ablenken der elektro-magnetischen Strahlung (14) hin zu dem Körper (24).Contraption ( 10 ) for irradiating a body ( 24 ) with electro-magnetic radiation ( 14 ), comprising: - a radiation source ( 12 ) for generating the electromagnetic radiation ( 14 ); - A device according to one of the preceding claims for deflecting the electromagnetic radiation ( 14 ) to the body ( 24 ). Verfahren zum Ablenken von elektro-magnetischer Strahlung (14), bei dem – elektro-magnetische Strahlung (14) entlang einer ersten Richtung abgelenkt wird, – die abgelenkte elektro-magnetische Strahlung (32) um einen vorgegebenen Drehwinkel gedreht wird, wodurch die gedrehte elektro-magnetische Strahlung (18) in eine effektive Ablenkrichtung abgelenkt wird, die gegenüber der ersten Richtung gedreht ist, – die gedrehte elektro-magnetische Strahlung (18) entlang einer zweiten Richtung und/oder entlang einer dritten Richtung abgelenkt wird.Method for deflecting electromagnetic radiation ( 14 ), in which - electromagnetic radiation ( 14 ) is deflected along a first direction, - the deflected electromagnetic radiation ( 32 ) is rotated by a predetermined angle of rotation, whereby the rotated electromagnetic radiation ( 18 ) is deflected in an effective deflection direction, which is rotated with respect to the first direction, - the rotated electromagnetic radiation ( 18 ) is deflected along a second direction and / or along a third direction. Verfahren zum Bestrahlen eines Körpers (24) mit elektro-magnetischer Strahlung (14), bei dem – vor dem Ablenken entlang der ersten Richtung die elektro-magnetische Strahlung (14) erzeugt wird, – die elektro-magnetische Strahlung (14) mit Hilfe des Verfahrens nach Anspruch 9 abgelenkt und gedreht wird, – die gedrehte elektro-magnetische Strahlung (18) entlang der zweiten Richtung und/oder entlang der dritten Richtung auf den Körper (24) abgelenkt wird.Method for irradiating a body ( 24 ) with electro-magnetic radiation ( 14 ), in which - before deflecting along the first direction, the electromagnetic radiation ( 14 ), - the electromagnetic radiation ( 14 ) is deflected and rotated by the method according to claim 9, - the rotated electromagnetic radiation ( 18 ) along the second direction and / or along the third direction to the body ( 24 ) is distracted. Verfahren nach einem der Ansprüche 9 oder 10, bei dem die elektro-magnetische Strahlung (22) gemäß einem vorgegebenen Bestrahlungsmuster (50) über den Körper (24) geführt werden soll und bei dem die Drehung der abgelenkten elektro-magnetischen (32) Strahlung in Abhängigkeit von dem vorgegebenen Bestrahlungsmuster (50) erfolgt.Method according to one of claims 9 or 10, in which the electromagnetic radiation ( 22 ) according to a predetermined irradiation pattern ( 50 ) over the body ( 24 ) and in which the rotation of the deflected electro-magnetic ( 32 ) Radiation as a function of the prescribed irradiation pattern ( 50 ) he follows. Verfahren nach Anspruch 11, bei dem eine Bestrahlungsreihenfolge in Abhängigkeit einer Form und/oder Erstreckung von Abschnitten des Bestrahlungsmusters (50) ermittelt wird und bei dem das Bestrahlungsmuster (50) gemäß der ermittelten Bestrahlungsreihenfolge bestrahlt wird.Method according to Claim 11, in which an irradiation order depends on a shape and / or extent of sections of the irradiation pattern ( 50 ) and in which the irradiation pattern ( 50 ) is irradiated according to the determined order of irradiation. Verfahren nach einem der Ansprüche 11 oder 12, bei dem eine maximale Ablenkung in die erste Richtung in Abhängigkeit von einem aktuell zu bestrahlenden Abschnitt des Bestrahlungsmusters (50) gewählt wird.Method according to one of Claims 11 or 12, in which a maximum deflection in the first direction depends on a section of the irradiation pattern currently to be irradiated ( 50 ) is selected. Verfahren nach einem der Ansprüche 9 bis 13, bei dem die elektro-magnetische Strahlung (14) in Pulsen erzeugt wird.Method according to one of Claims 9 to 13, in which the electromagnetic radiation ( 14 ) is generated in pulses. Verfahren nach Anspruch 14, bei dem die Erzeugung der Pulse und die Ablenkung und/oder Drehung der elektro-magnetischen Strahlung (14, 32, 18) aufeinander abgestimmt werden. Method according to Claim 14, in which the generation of the pulses and the deflection and / or rotation of the electromagnetic radiation ( 14 . 32 . 18 ) are coordinated. Verfahren nach Anspruch 15, bei dem eine Bestrahlungsstärke, mit der ein Abschnitt des Bestrahlungsmusters (50) bestrahlt werden soll, und/oder eine Linienbreite des Abschnitts durch eine Verteilung der Strahlungsdosis eingestellt wird, wobei die Strahlungsdosis mittels der Ablenkung in die erste Richtung und/oder durch Variation der Strahlungsintensität eingestellt wird.Method according to Claim 15, in which an irradiation intensity with which a section of the irradiation pattern ( 50 ) and / or a line width of the section is set by a distribution of the radiation dose, the radiation dose being adjusted by means of the deflection in the first direction and / or by varying the radiation intensity.
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