DE102008054581A1 - Projection system for projection exposure system for manufacturing micro-and/or nanostructure semiconductor components, has carrier structure provided for supporting projection lens in floor and implemented for holding projection lens - Google Patents

Projection system for projection exposure system for manufacturing micro-and/or nanostructure semiconductor components, has carrier structure provided for supporting projection lens in floor and implemented for holding projection lens

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Hans-Jürgen Dr. Mann
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Abstract

The system has a reticle-holding device (7) for holding of reticles (6) in a vertically running reticle plane (5), and a wafer-holding device (12) for holding wafers (11) in a vertically running image plane (9). A projection lens (8) forms object fields in the reticle plane in an image field in the image plane. A carrier structure (13) is provided for supporting the projection lens in a building floor (16). The carrier structure is implemented for holding the projection lens, where the projection lens is designed as a clear reflective system. Independent claims are also included for the following: (1) a component holder for holding of optical components (2) a projection exposure system comprising a carrier structure and an illumination lens.

Description

  • Projektionssystem für eine Projektionsbelichtungsanlage sowie Komponentenhalterung, Retikel-Halteeinrichtung und Wafer-Halteeinrichtung für ein derartiges Projektionssystem. Projection system for a projection exposure system and component support, reticle holder and wafer holder of such a projection system.
  • Die Erfindung betrifft ein Projektionssystem für eine Projektionsbelichtungsanlage nach dem Oberbegriff des Anspruchs 1. Ferner betrifft die Erfindung eine Komponentenhalterung, eine Retikel-Halteeinrichtung und eine Wafer-Halteeinrichtung für ein derartiges Projektionssystem. The invention relates to a projection system for a projection exposure apparatus according to the preamble of claim 1. Furthermore, the invention relates to a component holder, a reticle holding device and a wafer holding device for such a projection system.
  • Projektionsbelichtungsanlagen, insbesondere für die EUV-Mikrolithographie zur Herstellung mikroelektronischer Bauelemente, sind beispielsweise bekannt aus der Projection exposure systems, in particular for EUV microlithography for the production of microelectronic components, for example, are known from US 5,848,119 US 5,848,119 , der , the US 5,232,112 US 5,232,112 , der , the US 6,210,865 B1 US 6,210,865 B1 , der , the US 6,147,818 US 6,147,818 und der and the WO 2004/010224 A2 WO 2004/010224 A2 . ,
  • Die immer weiter steigenden Anforderungen an das Auflösungsvermögen derartiger Projektionsbelichtungsanlagen führen dazu, dass die Projektionsbelichtungsanlagen, insbesondere Projektionssysteme hiervon, die neben einem Projektionsobjektiv eine Retikel- und eine Wafer-Halteeinrichtung umfassen, insgesamt eine so große Bauhöhe erreichen, dass ein derartiges Projektionssystem ohne den Einsatz zusätzlicher Spiegel zur Faltung eines Strahlengangs für Beleuchtungs- und Abbildungslicht nicht in Gebäuderäumen mit typischen Raumhöhen untergebracht werden kann. The ever increasing demands on the resolution of such projection exposure systems lead to the projection exposure systems, in particular projection systems thereof comprising a reticle and a wafer holder next to a projection lens, a total reached so great a height that such a projection system without using additional mirror for folding an optical path for illumination and imaging light can not be accommodated in building spaces with typical ceilings. Zusätzliche Faltspiegel sind aufgrund der hiermit verbundenen Lichtverluste nachteilig. Additional folding mirror are disadvantageous because of the light associated with this loss. Das Projektionssystem kann so ausgelegt sein, dass eine Beleuchtungsoptik und eine Lichtquelle, z. The projection system may be designed such that an illumination optics and a light source, eg. B. eine Entladungsquelle, insbesondere für EUV-Wellenlängen, integraler Bestandteil des Projektionssystems sind. As are a discharge source, in particular for EUV wavelengths, an integral part of the projection system. Dies ist jedoch nicht zwingend. However, this is not mandatory.
  • Es ist eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein Projektionssystem der eingangs genannten Art derart weiterzubilden, dass gegebene Anforderungen an die optische Auflösung bei einer gegebenen Bauhöhe, die maximal eine typische Raumhöhe erreichen darf, ohne Einsatz zusätzlicher Faltspiegel erreicht werden. It is an object of the present invention to improve a projection system of the type mentioned such that given requirements for the optical resolution at a given height, which may provide a typical maximum ceiling height can be achieved without use of additional folding mirrors.
  • Diese Aufgabe ist erfindungsgemäß gelöst durch ein Projektionssystem mit den im Anspruch 1 angegebenen Merkmalen. This object is inventively achieved by a projection system comprising the features specified in claim 1.
  • Erfindungsgemäß wurde überraschend erkannt, dass es möglich ist, ein Projektionssystem mit einem liegenden Projektionsobjektiv zu gestalten, wodurch die Bauhöhe des Projektionssystems sich enorm verringert. According to the invention has been detected, surprisingly, that it is possible to make a projection system with a projection lens located, whereby the height of the projection system enormously reduced. Hierdurch werden Projektionsobjektive möglich, bei denen ein Objektfeld und ein Bildfeld weiter voneinander entfernt sind als eine typische Raumhöhe. In this way, projection lenses are possible in which an object field and an image field are further apart than a typical room height. Dies erweitert Design-Freiheitsgrade bei der Auslegung von Projektionsobjektiven erheblich. This expands design freedom in the design of projection lenses considerably. Eine Fabrikhalle als Produktionsstätte, in der eine Projektionsbelichtungsanlage mit einem derartigen Projektionssystem eingesetzt wird, kann auf diese Weise hinsichtlich ihres Raumangebotes gut und effizient genutzt werden. A factory as a production site, in a projection exposure system is used with such a projection system can be used well and efficiently in this way in terms of their space available. Auch eine Beleuchtungsoptik der Projektionsbelichtungsanlage kann in gleicher Weise liegend angeordnet und von einer entsprechenden Tragstruktur gehalten sein. Also, an illumination optics of the projection exposure system may be arranged lying in the same manner and supported by a respective support structure. Dabei kann ein und dieselbe Tragstruktur sowohl das Projektionssystem als auch die Beleuchtungsoptik abstützen. It can support both the projection system and the illumination optical one and the same support structure. Sofern zum Projektionssystem auch die Beleuchtungsoptik und eine Lichtquelle gehören, kann insbesondere vermieden werden, dass die Lichtquelle in einem anderen Stockwerk eines Gebäudes angeordnet ist als andere Komponenten der Projektionsbelichtungsanlage. Provided to the projection system includes the illumination optical system and a light source, in particular can be avoided that the light source is located on a different floor of a building as other components of the projection exposure apparatus. Insbesondere bei einem reflektiven Retikel sind keine zusätzlichen Maßnahmen zur Strahlumlenkung erforderlich, um einen Einfallswinkel von einer liegenden Beleuchtungsoptik hin zu einer stehenden Projektionsoptik anzugleichen, da sowohl die Beleuchtungs- als auch die Projektionsoptik liegend ausgeführt sein können. Particularly in a reflective reticle, no additional measures are required for beam deflection, to adjust an incidence angle of an illumination optical system lying toward a stationary projection optical system, since both the illumination and projection optics may be configured to lie. Eine liegende Halterung des Projektionsobjektivs liegt insbesondere dann vor, wenn ein Hauptstrahl eines zentralen Feldpunktes des Projektionsobjektivs zumindest überwiegend, also beispielsweise längs mehr als der Hälfte des Weges des Hauptstrahls zwischen einem zentralen Objektfeld und einem zentralen Bildfeld, einen Winkel zur Horizontalen einnimmt, der kleiner oder gleich 45° ist. A lying support of the projection lens is particularly present when a principal ray of a central field point of the projection lens, at least predominantly, ie for example along more than half of the path of the main beam between a central object field and a central image field is at an angle to the horizontal of less than or equal to 45 °. Der Winkel des Hauptstrahls des zentralen Feldpunkts zur Horizontalen kann kleiner oder gleich 40°, kleiner oder gleich 30°, kleiner oder gleich 20° oder auch kleiner oder gleich 10° sein. The angle of the principal ray of the central field point to the horizontal can be less than or equal to 40 °, less than or equal to 30 °, less than or equal to 20 ° or even less than or equal to 10 °. Soweit eine optische Achse des Projektionsobjektivs beispielsweise als Rotationssymmetrieachse der optischen Flächen des Projektionsobjektivs definierbar ist, liegt eine liegende Halterung des Projektionsobjektivs dann vor, wenn die optische Achse zumindest überwiegend relativ zur Horizontalen liegend angeordnet ist, also einen Winkel zur Horizontalen einnimmt, der kleiner oder gleich 45° ist. Insofar as an optical axis of the projection lens can be defined for example as rotational symmetry axis of the optical surfaces of the projection objective, a lying support of the projection lens is then present, when the optical axis is arranged at least predominantly relative to the horizontal lying, that is at an angle to the horizontal of less than or equal 45 °.
  • Halteeinrichtungen nach den Ansprüchen 2 und 3 vermeiden zusätzliche Faltspiegel. according to claims 2 and 3, avoid additional folding mirror holding means. Im Wesentlichen vertikal verlaufende Retikel- und Bildebenen sind dann gegeben, wenn diese Ebenen gegenüber der Vertikalen einen Winkel einnehmen, der kleiner ist als 20°. Substantially vertically extending reticle and image planes are given when these planes relative to the vertical form an angle which is smaller than 20 °. Prinzipiell sind auch größere Winkel möglich, beispielsweise Winkel der Retikelebene bzw. der Bildebene gegenüber der Vertikalen im Bereich zwischen 20° und 45°. In principle, greater angles are possible, for example, angles of the reticle plane or the image plane relative to the vertical in the range between 20 ° and 45 °.
  • Ein rein reflektives System nach Anspruch 4 kann für eine große Bandbreite an Wellenlängen von Beleuchtungs- und Abbildungslicht, welches mit dem Projektionsobjektiv abgebildet werden soll, ausgelegt sein. A purely reflective system according to claim 4 can be designed for a wide range of wavelengths of illumination and imaging light which is to be mapped to the projection lens. Das Projektionsobjektiv kann insbesondere mit Wellenlängen des Beleuchtungs- und Abbildungslichts genutzt werden, für die transmissive Komponenten nicht oder nur mit großem Aufwand verfügbar sind. The projection lens can be used with particular wavelengths of light illumination and imaging, are not or only with great effort for the transmissive components. Innerhalb der Projektionsbelichtungsanlage kann eine Beleuchtungsoptik vorgesehen sein, die ebenfalls als rein reflektives System ausgelegt ist. Within the projection exposure apparatus, an illumination optical system can be provided, which is also designed as a purely reflective system.
  • Ein Projektionssystem nach Anspruch 5 eignet sich zur Abbildung extrem kleiner Strukturen und ist daher insbesondere bei der Herstellung mikro- bzw. nanostrukturierter Halbleiter-Bauelemente besonders gut geeignet. A projection system according to claim 5 is suitable for imaging extremely small structures and is therefore particularly well suited in the manufacture of micro- or nano-structured semiconductor components. Als EUV-Wellenlängen können solche im Bereich zwischen 5 nm und 30 nm zum Einsatz kommen. As EUV wavelengths such can be used in the range between 5 nm and 30 nm.
  • Eine Komponentenhalterung nach Anspruch 6 ist besonders an die Anforderungen an eine stehende Halterung einer optischen Komponente angepasst. A component holder according to claim 6 is particularly adapted to the requirements of a stationary bracket of an optical component. Grundsätzlich ist es denkbar, Komponentenhalterungen einzusetzen, die für eine liegende Halterung einer optischen Komponente konzipiert wurden und bei denen ein zusätzlicher Lagestabilisator nachgerüstet wird. Basically, it is conceivable to use components brackets which are designed for lying mounting an optical component and in which an additional layer is retrofitted stabilizer. Entsprechende Komponentenhalterungen, die nachgerüstet werden könnten, sind beispielsweise bekannt aus der Corresponding components brackets that could be retrofitted, for example, are known from US 2007/0052301 A1 US 2007/0052301 A1 und der and the US 2005/0035684 A1 US 2005/0035684 A1 . ,
  • Federelemente nach den Ansprüchen 7 und 8 dienen einerseits zur Kraftaufnahme und haben andererseits noch weitere vorteilhafte Wirkungen, nämlich insbesondere eine dämpfende Wirkung sowie eine Entkopplung gegenüber einer externen Schwingungsanregung. Spring elements according to claims 7 and 8 the one hand serve to absorb force, and on the other hand have further beneficial effects, namely in particular a damping effect as well as a decoupling with respect to an external vibration excitation. Diese Wirkungen verringern vorteilhaft eine maximale Schwingungsamplitude der Komponentenhalterung im Betrieb der Projektionsbelichtungsanlage. reduce these effects advantageously a maximum vibration amplitude of the component holder in the operation of the projection exposure system. Alternativ zu einem Federelement kann der Lagestabilisator auch elektromagnetisch oder durch ein Piezoelement realisiert werden. As an alternative to a spring element capable of stabilizer can be realized by a piezoelectric element and electromagnetically or. Auch der Gravitationskompensator kann anstelle durch ein Federelement beispielsweise auch elektromagnetisch realisiert werden. Also, the Gravitationskompensator can also be realized instead by a spring element, for example, electromagnetically.
  • Entsprechende Vorteile haben eine Retikel-Halteeinrichtung nach den Ansprüchen 9 bis 14 sowie eine Wafer-Halteeinrichtung nach den Ansprüchen 15 bis 19. Corresponding advantages have a reticle holding device according to claims 9 to 14, and a wafer holding device according to claims 15 to 19th
  • Bei den Lagestabilisatoren nach den Ansprüchen 10 beziehungsweise 16 können Krafteinheiten genutzt werden, die bei bekannten Halteeinrichtungen zur liegenden Halterung eines Retikels beziehungsweise eines Wafers bereits zum Einsatz kommen. In the situation stabilizers according to claims 10 and 16, power units can be used, which are already in use in prior art retaining devices for the side bracket of a reticle or a wafer.
  • Ein Unterstützungsträger nach Anspruch 13 beziehungsweise 15 sowie ein Positionieranschlag nach Anspruch 14 gewährleisten eine definierte Positionierung des Retikels beziehungsweise des Wafers. A support bracket according to claim 13 or 15, and a positioning stopper of claim 14 ensure a defined positioning of the reticle or the wafer. Beim Gravitationskompensator für die Wafer-Halteeinrichtung kann in der Regel auf einen zusätzlichen Positionieranschlag verzichtet werden, da eine definierte Positionierung über die Unterstützung durch zwei Unterstützungsträger sich aufgrund der runden Außenform des Wafers ergibt. When Gravitationskompensator for wafer holder can be dispensed with an additional positioning usually as defined positioning on the support of two support brackets that resulting from the circular outer shape of the wafer. Alternativ kann auch beim Gravitationskompensator ein zusätzlicher Positionieranschlag zum Einsatz kommen. Alternatively, an additional positioning can also be used in Gravitationskompensator.
  • Die Vorteile einer Projektionsbelichtungsanlage nach Anspruch 20 entsprechen denen, die vorstehend unter Bezugnahme auf die Ansprüche 1 bis 19 bereits erläutert wurden. The advantages of a projection exposure apparatus according to claim 20 correspond to those which have already been explained above with reference to the claims 1 to nineteenth Eine liegende Halterung der Beleuchtungsoptik ist insbesondere dann gegeben, wenn ein zentraler Beleuchtungsstrahl eines Beleuchtungs-Strahlbündels zumindest überwiegend einen Winkel zur Horizontalen einnimmt, der kleiner oder gleich 45° ist. A lying support of the illumination optics is particularly achieved when a central illumination ray of the illumination beam at least predominantly occupies an angle to the horizontal which is less than or equal to 45 °. Die Projektionsbelichtungsanlage kann eine EUV-Lichtquelle in Form einer DPP (durch Entladung erzeugtes Plasma, Discharge Produced Plasma)-Lichtquelle oder in Form einer LPP (lasererzeugtes Plasma, Laser Produced Plasma)-Licht-quelle aufweisen. The projection exposure apparatus may comprise (produced by discharge plasma, Discharge Produced Plasma) light source, or in the form of a LPP (laser produced plasma, laser Produced Plasma) light-source of an EUV light source in the form of a DPP.
  • Ausführungsbeispiele der Erfindung werden nachfolgend anhand der Zeichnung näher erläutert. Embodiments of the invention are explained in detail below with reference to the drawing. In dieser zeigen: In which:
  • 1 1 schematisch und im Bereich einer Projektionsoptik im Meridionalschnitt eine Projektionsbelichtungsanlage für die EUV-Mikrolithographie; schematically and in the region of a projection optics in the meridional section a projection exposure apparatus for EUV microlithography;
  • 2 2 eine Seitenansicht einer Retikel-Halteeinrichtung der Projektionsbelichtungsanlage zur Halterung eines ebenfalls dargestellten Retikels in einer Retikelebene; a side view of a reticle holding means of the projection exposure apparatus for holding a reticle also shown in a reticle plane;
  • 3 3 eine Ansicht der Retikel-Halteeinrichtung nach a view of the reticle holding device according to 2 2 zusammen mit dem Retikel aus Blickrichtung together with the reticle out of sight 111 111 in in 2 2 ; ;
  • 4 4 eine zu too 3 3 ähnliche Ansicht einer Wafer-Halteeinrichtung zur Halterung eines ebenfalls dargestellten Wafers in einer Waferebene; similar view of a wafer holding means for holding a wafer is also shown in a wafer plane; und and
  • 5 5 schematisch in einer zu schematically in a to 2 2 ähnlichen, allerdings teilperspektivischen Darstellung eine Komponentenhalterung zur Halterung einer optischen Komponente, wobei die Komponentenhalterung Bestandteil einer Tragstruktur für ein Projektionssystem der Projektionsbelichtungsanlage nach similar, but partially perspective view of a component holder for holding an optical component, said component holder to a component of a support structure for a projection system of the projection exposure apparatus 1 1 ist. is.
  • 1 1 zeigt schematisch eine Projektionsbelichtungsanlage schematically shows a projection exposure apparatus 1 1 für die EUV-Mikrolithographie. for EUV microlithography. Die Projektionsbelichtungsanlage The projection exposure system 1 1 hat eine EUV-Quelle has an EUV source 2 2 für Beleuchtungs- und Abbildungslicht for illumination and imaging light 3 3 mit einer Wellenlänge zwischen 5 nm und 30 nm. Prinzipiell sind auch andere Wellenlängen des Beleuchtungs- und Abbildungslichts with a wavelength between 5 nm and 30 nm. In principle, other wavelengths of the illumination and imaging light 3 3 möglich. possible. Das Beleuchtungs- und Abbildungslicht The illumination and imaging light 3 3 wird der EUV-Quelle is the EUV source 2 2 nachgeordnet mit einer Beleuchtungsoptik downstream with an illumination optics 4 4 geführt. guided. Letztere ist in der The latter is in the 1 1 schematisch als Block dargestellt. schematically shown as a block. Die Beleuchtungsoptik The illumination optics 4 4 hat einen der EUV-Quelle has one of the EUV source 2 2 direkt nachgeordneten EUV-Kollektor sowie nachgeordnete optische Komponenten zur Vorgabe einer definier ten Intensitäts- und Beleuchtungswinkelverteilung in einem Objektfeld in einer Retikelebene directly downstream EUV collector and downstream optical components for setting a DEFINE th intensity and illumination angle distribution in an object field in a reticle plane 5 5 . , In der Retikelebene In the reticle 5 5 ist ein Retikel is a reticle 6 6 angeordnet, das von einer noch zu beschreibenden Retikel-Halteeinrichtung arranged, which by a yet to be described reticle holding device 7 7 gehalten ist. is maintained. Das Retikel the reticle 6 6 ist als für das Beleuchtungs- und Abbildungslicht than for illumination and imaging light 3 3 reflektives Retikel ausgeführt. reflective reticle executed. Das vom Retikel The reticle from 6 6 reflektierte Beleuchtungs- und Abbildungslicht reflected light illumination and imaging 3 3 wird von einem nachgeordneten Projektionsobjektiv is of a downstream projection objective 8 8th geführt. guided. Das Projektionsobjektiv The projection lens 8 8th bildet das Objektfeld in ein Bildfeld in einer Bildebene forms the object field into an image field in an image plane 9 9 ab. from. Das Projektionsobjektiv The projection lens 8 8th hat in der Ausführung nach has in the embodiment according to 1 1 insgesamt sechs Spiegel, die in der Reihenfolge des Strahlengangs des Beleuchtungs- und Abbildungslichts zwischen der Retikelebene a total of six mirrors in the order of the beam path of the illumination and imaging light between the reticle plane 5 5 und der Bildebene and the image plane 9 9 mit M1 bis M6 bezeichnet sind. are denoted by M1 to M6. Dargestellt sind in der are shown in 1 1 für die Vorgabe der genauen Form der eigentlichen Reflexionsfläche der Spiegel M1 bis M6 wesentliche Parentflächen, die über die eigentlichen Reflexionsflächen hinaus gehen. for specifying the exact format of the reflecting surface of the mirrors M1 to M6 essential Parent surfaces that go beyond the actual reflective surfaces out. Die eigentlichen Reflexionsflächen der Spiegel M1 bis M6 werden in der Darstellung nach The actual reflection surfaces of the mirrors M1 to M6 are searched in the representation 1 1 in etwa von den jeweils äußersten Auftreffpunkten von zu insgesamt zwei Feldpunkten gehörenden Beleuchtungsstrahlen in belonging about by the respective outermost points of impact of a total of two field points illumination beam 10 10 begrenzt. limited. Eine optische Achse oA des Projektionsobjektivs An optical axis OA of the projection objective 8 8th stellt die Rotationssymmetrieachse der Reflexionsflächen der Spiegel M1 bis M6 dar. Soweit die Spiegel M1 bis M6 als Freiformflächen ausgeführt sind oder falls eine solche gemeinsame Rotationssymmetrieachse nicht existiert, ist die optische Achse diejenige Achse, die die Rotations-Symmetriebedingung am ehesten erfüllt. represents the rotational symmetry axis of the reflection surfaces of the mirrors M1 to M6. As far as the mirror M1 to M6 designed as free-form surfaces or if such a common axis of rotational symmetry does not exist, the optical axis is the axis which meets the rotational symmetry condition most likely.
  • In der Bildebene In the image plane 9 9 ist ein Wafer is a wafer 11 11 angeordnet, der von einer ebenfalls nachfolgend noch zu beschreibenden Wafer-Halteeinrichtung provided, through which a likewise to be described below the wafer holding device 12 12 gehalten ist. is maintained. Die Retikel-Halteeinrichtung The reticle holder 7 7 und die Wafer-Halteeinrichtung and the wafer holder 12 12 sind zusammen mit ebenfalls noch zu beschreibenden und in der along with also to be described and in the 1 1 nicht dargestellten Komponentenhalterungen für die Spiegel M1 bis M6 Bestandteile einer Tragstruktur Component holders not shown for mirrors M1 to M6 components of a support structure 13 13 für ein Projektionssystem a projection system 14 14 und der Beleuchtungsoptik and the illumination optics 4 4 der Projektionsbelichtungsanlage the projection exposure system 1 1 . , Zum Projektionssystem To the projection system 14 14 gehören das Projektionsobjektiv include the projection lens 8 8th sowie die Retikel-Halteeinrichtung and the reticle holder 7 7 und die Wafer-Halteeinrichtung and the wafer holder 12 12 . ,
  • Die Tragstruktur The supporting structure 13 13 stützt sich über Füße based on feet 15 15 an einem Boden at a bottom 16 16 eines Gebäuderaums a building space 17 17 ab. from. Die Füße The feet 15 15 können mit einer zusätzlichen Vibrationsdämpfung zur Entkopplung der Projektionsbelichtungsanlage can with an additional vibration-damping decoupling for the projection exposure apparatus 1 1 von einer externen Schwingungsanregung versehen sein. be provided by an external excitation of vibrations. Eine Bauhöhe zwischen dem Boden An overall height between the bottom 16 16 und einer Gebäudedecke and a building ceiling 18 18 des Gebäuderaums of building space 17 17 beträgt beispielsweise 2,5 m und ist insbesondere kleiner als 5 m und bevorzugt kleiner als 4,5 m, mehr bevorzugt kleiner als 4 m, noch mehr bevorzugt kleiner als 3,5 m und noch mehr bevorzugt kleiner als 3 m. is for example 2.5 m and in particular less than 5 m and preferably less than 4.5 m, more preferably less than 4 m, more preferably less than 3.5 m and even more preferably less than 3 m.
  • Die Tragstruktur The supporting structure 13 13 ist zur liegenden Halterung des Projektionsobjektivs is to the side bracket of the projection lens 8 8th und der Beleuchtungsoptik and the illumination optics 4 4 ausgeführt. executed. Die Retikel-Halteeinrichtung The reticle holder 7 7 ist so ausgeführt, dass die Retikelebene is designed so that the reticle plane 5 5 , in der das Retikel In which the reticle 6 6 gehalten ist, im Wesentlichen vertikal verläuft. is held substantially vertical. Das Retikel the reticle 6 6 wird also von der Retikel-Halteeinrichtung So is the reticle holder 7 7 stehend gehalten. kept standing. Wie der Again 1 1 zu entnehmen ist, ist die Lage der Retikelebene It can be seen is the position of the reticle plane 5 5 nicht exakt vertikal zum Boden not exactly vertical to the ground 16 16 , sondern gegenüber einer Vertikalebene um weniger als 10° geneigt. But inclined with respect to a vertical plane by less than 10 °.
  • Die Wafer-Halteeinrichtung The wafer holder 12 12 ist so ausgeführt, dass der Wafer ebenfalls stehend gehalten ist, also dass die Bildebene is designed so that the wafer is also held stationary, so that the image plane 9 9 ebenfalls im Wesentlichen vertikal verläuft. also extends substantially vertically. Die Bildebene The image plane 9 9 verläuft dabei parallel zur Retikelebene runs parallel to the reticle plane 5 5 . , Bei der Projektionsbelichtung werden die Retikel-Halteeinrichtung In the projection exposure, the reticle holder be 7 7 einerseits und die Wafer-Halteeinrichtung on the one hand and the wafer holding device 12 12 andererseits synchronisiert zueinander in einer Scanrichtung gescannt. On the other hand synchronized with each other scanned in a scanning direction. Diese Scanrichtung kann senkrecht zur Zeichenebene der This scanning direction perpendicular to the plane of 1 1 , also horizontal, oder auch vertikal erfolgen, wobei die Scanrichtung jeweils in der Retikelebene therefore, take place horizontally or vertically, the scanning direction respectively in the reticle plane 5 5 und in der Bildebene and in the image plane 9 9 verläuft. runs.
  • 2 2 zeigt aus der gleichen Blickrichtung wie shows a view from the same direction as 1 1 vergrößert Details der Retikel-Halteeinrichtung enlarged details of the reticle holder 7 7 im Bereich des Retikels in the region of the reticle 6 6 . , Die Retikel-Halteeinrichtung The reticle holder 7 7 hat einen Retikelträger has a Retikelträger 19 19 , der auch als Chuck bezeichnet wird. Which is also known as Chuck. Der Retikelträger the Retikelträger 19 19 hält das Retikel holds the reticle 6 6 über elektrostatische Anziehung, dient also als Lagestabilisator im Bezug auf eine in der electrostatic attraction, that serves as a stabilizer position with respect to a in 2 2 horizontale Kraftrichtung. horizontal force direction. Die Richtung der elektrostatischen Kräfte, die der Retikelträger The direction of the electrostatic forces of the Retikelträger 19 19 auf das Retikel on the reticle 6 6 ausübt, ist in der exerts is 2 2 durch eine Mehrzahl von horizontal von links nach rechts verlaufenden Kraftpfeilen by a plurality of horizontally extending from left to right force arrows 20 20 dargestellt. shown. Die Kraftkomponenten The force components 20 20 wirken im Wesentlichen senkrecht zur in der act substantially perpendicular to the 2 2 nach unten verlaufenden Gravitationsrichtung. downwardly extending direction of gravity. Zur Aufnahme von auf das Retikel For taking on the reticle 6 6 wirkenden Kraftkomponenten in der Gravitationsrichtung dient ein Gravitationskompensator acting force components in the direction of gravity is a Gravitationskompensator 21 21 der Retikel- Halteeinrichtung the reticle holder 7 7 . , Der Gravitationskompensator the Gravitationskompensator 21 21 hat zwei Unterstützungsträger has two support brackets 22 22 , die als vom Retikelträger That as the Retikelträger 19 19 ausgehende Ausleger ausgeführt sind und von denen einer in der outgoing boom are performed, and one of which is in the 2 2 dargestellt ist. is shown. Freie Enden der Unterstützungsträger Free ends of the support beam 22 22 sind als Unterstützungskalotten are as Unterstützungskalotten 23 23 ausgeführt, auf denen ein unterer Kantenbereich executed on which a bottom edge portion 24 24 des Retikels the reticle 6 6 aufliegt. rests. Die Kalottenform der Unterstützungskalotten The dome shape of Unterstützungskalotten 23 23 gewährleistet, dass das Retikel ensures that the reticle 6 6 an den Unterstützungsträgern to the support beams 22 22 jeweils punktuell aufliegt, sodass eine definierte Relativposition des Retikels each selectively rests, so that a defined relative position of the reticle 6 6 zur Retikel-Halteeinrichtung the reticle holder 7 7 in der Gravitationsrichtung gegeben ist. is given in the direction of gravity. Die Kraft, die der Gravitationskompensator The force of Gravitationskompensator 21 21 auf das Retikel on the reticle 6 6 ausübt, ist in der exerts is 2 2 durch einen weiteren Kraftpfeil by a further force arrow 25 25 dargestellt. shown.
  • Zusätzlich zu den beiden Unterstützungsträgern In addition to the two support beams 22 22 hat der Gravitationskompensator has the Gravitationskompensator 21 21 noch einen Positionieranschlag another positioning 26 26 . , Letzterer erstreckt sich als horizontal verlaufender Ausleger von einer fest mit dem Retikelträger The latter extends as a horizontally extending boom from a fixed manner to the Retikelträger 19 19 verbundenen Haltestruktur associated support structure 27 27 . , Ein freies Ende des Positionieranschlags A free end of the positioning stopper 26 26 läuft in einer Positionierkalotte runs in a Positionierkalotte 28 28 aus. out. An letzterer liegt ein seitlicher Kantenbereich On the latter there is a lateral edge portion 29 29 des Retikels the reticle 6 6 an. on.
  • Der Retikelträger the Retikelträger 19 19 wird zusammen mit dem Gravitationskompensator together with the Gravitationskompensator 21 21 und dem Positionieranschlag and the positioning 26 26 von einem Tragelement by a support member 30 30 gehalten. held. Letzteres hat, wie in der The latter has, as in the 3 3 dargestellt, benachbart zu den beiden Unterstützungsträgern shown, adjacent to the two support beams 22 22 der Gravitationskomponente the gravitational component 21 21 noch jeweils ein Feder/Dämpferelement zur Entkopplung des Retikels or in each case a spring / damper element for decoupling the reticle 6 6 gegenüber einer externen Schwingungsanregung sowie zur Dämpfung des Retikels against an external vibration excitation as well as for damping the reticle 6 6 . ,
  • Über eine nicht näher dargestellte Führungseinrichtung ist das Tragelement About a non-illustrated guide device is the support element 30 30 relativ zu einer Rahmenstruktur relative to a frame structure 32 32 zur Verlagerung der Retikel-Halteeinrichtung the displacement of the reticle holding device 7 7 relativ zur Tragstruktur relative to the support structure 13 13 in einer Scanrichtung in a scanning direction 33 33 geführt. guided. Die Scanrichtung The scanning direction 33 33 ist in der is in the 2 2 durch einen Doppelpfeil dargestellt. represented by a double arrow. Zur angetriebenen Verlagerung der Retikel-Halteeinrichtung The driven displacement of the reticle holder 7 7 in der Scanrichtung in the scanning direction 33 33 dient ein in der used in a 1 1 schematisch dargestellter Antrieb schematically illustrated drive 34 34 , der einerseits mit der Retikel-Halteeinrichtung On the one hand with the reticle holding device 7 7 und andererseits mit der Rahmenstruktur and on the other hand with the frame structure 32 32 verbunden ist. connected is. Alternativ zur Scanrichtung Alternatively to the scanning direction 33 33 ist auch eine Scanrichtung senkrecht zur Zeichenebene der is also a scanning direction perpendicular to the plane of the 2 2 möglich. possible.
  • Soweit der Aufbau der nun anhand der As far as the structure of the Now look at the 4 4 beschriebenen Wafer-Halteeinrichtung described wafer holding device 12 12 dem Aufbau der Retikel-Halteeinrichtung the structure of the reticle holding device 7 7 entspricht, werden für die Wafer-Halteeinrichtung corresponds, to which wafer holding means 12 12 die gleichen Bezugszeichen verwendet wie für die Retikel-Halteeinrichtung The same reference numerals as used for the reticle holder 7 7 . ,
  • Auch die Wafer-Halteeinrichtung The wafer holder 12 12 hat einen Waferträger, der hinsichtlich der elektrostatischen Kraftwirkung und hinsichtlich des prinzipiellen Aufbaus dem Retikelträger has a wafer carrier with respect to the electrostatic force and effect in terms of the basic construction of the Retikelträger 19 19 entspricht. equivalent. Der Waferträger dient daher als Lagestabilisator zur Aufnahme von auf den Wafer Therefore, the wafer carrier serves as a stabilizer able to hold onto the wafer 11 11 wirkenden Kraftkomponenten senkrecht zur Gravitationsrichtung. acting force components perpendicular to the gravitational direction.
  • Der Gravitationskompensator der Wafer-Halteeinrichtung The Gravitationskompensator the wafer holder 12 12 ist entsprechend dem Gravitationskompensator is according to the Gravitationskompensator 21 21 der Retikel-Halteeinrichtung the reticle holder 7 7 aufgebaut und hat ebenfalls zwei Unterstützungsträger built up and also has two supporting bracket 22 22 , die in Unterstützungskalotten Which in Unterstützungskalotten 23 23 auslaufen. leak. Der Wafer the wafer 11 11 liegt über eine Mantelwand is a shell wall 35 35 an den Unterstützungskalotten the Unterstützungskalotten 23 23 der Wafer-Halteeinrichtung the wafer holder 12 12 an. on. Die Unterstützungsträger The support beam 22 22 der Wafer-Halteeinrichtung the wafer holder 12 12 dienen als Gravitationskompensator zur Aufnahme von auf den Wafer serve as Gravitationskompensator for receiving on the wafer 11 11 wirkenden Kraftkomponenten in Gravitationsrichtung und üben eine Kraft entsprechend der Kraftrichtung acting force components in the direction of gravity and exert a force corresponding to the force direction 25 25 auf den Wafer on the wafer 11 11 aus. out.
  • Aufgrund der runden Randkontur des Wafers Due to the circular edge contour of the wafer 11 11 ergibt sich, da dieser über die beiden voneinander beabstandeten Unterstützungskalotten arises because of this over the two spaced apart Unterstützungskalotten 23 23 auf dem Wafer-Gravitationskompensator on the wafer Gravitationskompensator 21 21 aufliegt, dass eine Position des Wafers lies in that a position of the wafer 11 11 zur Wafer-Halteeinrichtung the wafer holder 12 12 in einer in in an in 4 4 horizontalen Richtung eindeutig bestimmt ist. horizontal direction is uniquely determined. Ein separater Positionieranschlag kann bei der Wafer-Halteeinrichtung A separate positioning, in the wafer holder 12 12 daher entfallen. therefore be deleted.
  • Ein Tragelement A supporting member 30 30 der Wafer-Halteeinrichtung the wafer holder 12 12 weist ebenfalls zwei den Wafer-Unterstützungsträgern also has two wafer support beams 22 22 zugeordnete Federelemente associated spring elements 31 31 auf, die die gleiche Funktion haben wie die Federelemente , which have the same function as the spring elements 31 31 der Retikel-Halteeinrichtung the reticle holder 7 7 . , Das Wafer-Tragelement The wafer-supporting element 30 30 ist relativ zu einer Wafer-Rahmenstruktur relative to a wafer frame structure 32 32 über einen Wafer-Antrieb a wafer drive 36 36 geführt verlagerbar, wie dies vorstehend im Zusammenhang mit dem Retikel-Antrieb displaceably guided, as described above in connection with the reticle drive 34 34 bereits erläutert wurde. already explained.
  • 5 5 zeigt eine Komponentenhalterung shows a component holder 37 37 zur stehenden Halterung einer optischen Komponente des Projektionsobjektivs for stationary mounting an optical component of the projection objective 8 8th , beispielsweise zur Halterung des Spiegels M5. , For example for mounting of the mirror M5. Vergleichbare Komponentenhalterungen, konzipiert allerdings für eine liegende Halterung, also für einen Aufbau eines Projektionsobjektivs mit im Wesentlichen vertikal verlaufender optischer Achse, sind bekannt aus der However, comparable components holders designed for a lying support, ie for a structure of a projection lens having a substantially vertically extending optical axis, are known from US 2007/0052301 A1 US 2007/0052301 A1 und der and the US 2005/0035684 A1 US 2005/0035684 A1 . ,
  • Entsprechende Komponentenhalterungen dienen zur stehenden Halterung, also für einen Aufbau des Projektionsobjektivs Corresponding components Carriers to stationary bracket, so for a construction of the projection lens 8 8th mit im Wesentlichen horizontal verlaufender optischer Achse, der anderen optischen Komponenten des Projektionsobjektivs with substantially horizontally extending optical axis of the other optical components of the projection objective 8 8th und können darüber hinaus auch zur Halterung weiterer Komponenten zur Führung des Beleuchtungs- und Abbildungslichts zwischen der EUV-Quelle and can also be employed for mounting other components for guiding the illumination and imaging light between the EUV source 2 2 und dem Retikel and the reticle 6 6 zum Einsatz kommen. are used.
  • Die Komponentenhalterung The components bracket 37 37 ist ein Bestandteil der Tragstruktur is a component of the supporting structure 13 13 für das Projektionssystem for the projection system 14 14 . , Die Komponentenhalterung The components bracket 37 37 hat eine insgesamt sechs Aktuatoren has a total of six actuators 38 38 aufweisende Justageeinrichtung zur Justage des Spiegels M5 in sechs unabhängigen Freiheitsgraden. having adjusting device for adjusting the mirror M5 in six independent degrees of freedom. Der Aufbau derartiger Aktuatoren The construction of such actuators 38 38 ist aus der is from the US 2007/0052301 A1 US 2007/0052301 A1 bekannt. known. Die Aktuatoren the actuators 38 38 greifen jeweils paarweise an drei über die Fläche des Spiegels M5 verteilt angeordneten Angriffspunkten each engage in pairs on three on the surface of the mirror M5 arranged distributed application points 39 39 am Spiegel M5 oder an einer Fassung the mirror M5 or on a frame 40 40 des Spiegels M5 an. the mirror M5.
  • Zur Aufnahme von auf den Spiegel M5 wirkenden Kraftkomponenten To accommodate acting on the mirror M5 force components 41 41 dient ein Lagestabilisator is a location stabilizer 42 42 , dessen Funktion derjenigen des Retikelträgers , The function of that of the Retikelträgers 19 19 entspricht. equivalent. Der Lagestabilisator Able stabilizer 42 42 ist als Federelement ausgeführt, das sich einerseits am Spiegel M5 beziehungsweise an der Fassung is designed as a spring element, which on the one hand on the mirror M5 or on the mount 40 40 und andererseits an einer fest mit der sonstigen Tragstruktur and secondly to a other fixed to the supporting structure 13 13 verbundenen Rahmenstruktur connected frame structure 43 43 abstützt. supported.
  • Zur Aufnahme von auf den Spiegel M5 wirkenden Kraftkomponenten in Gravitationsrichtung dient ein Gravitationskompensator serves to carry the forces acting on the mirror M5 force components in the direction of gravity, a Gravitationskompensator 44 44 , dessen Funktion dem Gravitationskompensator , The function of the Gravitationskompensator 21 21 entspricht. equivalent. Der Gravitationskompensator the Gravitationskompensator 44 44 ist als Federelement ausgeführt, das sich an einer weiteren, fest mit der sonstigen Tragstruktur is designed as a spring element which at a further fixed to the other support structure 13 13 verbundenen Rahmenstruktur connected frame structure 45 45 abstützt. supported.
  • Die Richtung der Gravitationskraft ist in der The direction of gravitational force in the 5 5 durch einen Kraftpfeil by a force arrow 46 46 angegeben. specified.
  • Aufgrund der liegenden Anordnung des Projektionsobjektivs Due to the horizontal arrangement of the projection lens 8 8th und zusätzlich der liegenden Anordnung der Beleuchtungsoptik and in addition, the horizontal arrangement of the illumination optics 4 4 ergibt sich für die Projektionsbelichtungsanlage results for the projection exposure system 1 1 eine vorteilhaft niedrige Bauhöhe. an advantageously low overall height. Aufgrund der stehenden Anordnung des Retikels Due to the stationary arrangement of the reticle 6 6 und des Wafers and the wafer 11 11 erübrigt sich eine Umlenkung des Beleuchtungs- und Abbildungslichts obviates any need for redirection of the illumination and imaging light 3 3 zwischen dem Retikel between the reticle 6 6 und einer vorgelagerten Komponente der Beleuchtungsoptik and an upstream component of the illumination optics 4 4 einerseits sowie zwischen dem Retikel the one hand and between the reticle 6 6 und dem Spiegel M1 des Projektionsobjektivs and the mirror M1 of the projection lens 8 8th andererseits. on the other hand. Ferner erübrigt sich eine Umlenkung des Beleuchtungs- und Abbildungslichts Furthermore, a deflection of the illumination and imaging light is not necessary 3 3 zwischen dem letzten Spiegel M6 des Projektionsobjektivs between the last mirror M6 of the projection lens 8 8th und dem Wafer and the wafer 11 11 . , Die liegende Anordnung des Projektionsobjektivs The horizontal arrangement of the projection lens 8 8th und der Beleuchtungsoptik and the illumination optics 4 4 führt daher vorteilhaft nicht zu einer Erhöhung der Anzahl der EUV-Reflexionsflächen. therefore not advantageously leads to an increase in the number of EUV reflective surfaces.
  • In einer nicht dargestellten alternativen Ausführungsform sind auch bei den Halteeinrichtungen In an alternative embodiment not shown are also in the holding devices 7 7 beziehungsweise respectively 12 12 die Lagestabilisatoren nicht als elektrostatische Krafteinheiten, sondern als Federelemente ausgeführt. the situation stabilizers not run as electrostatic force units, but as spring elements.
  • ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG QUOTES INCLUDED IN THE DESCRIPTION
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Claims (20)

  1. Projektionssystem ( Projection system ( 14 14 ) für eine Projektionsbelichtungsanlage ( ) (For a projection exposure apparatus 1 1 ) – mit einer Retikel-Halteeinrichtung ( ) - (with a reticle retainer 7 7 ) zur Halterung eines Retikels ( ) (For holding a reticle 6 6 ) in einer Retikelebene ( ) (In a reticle plane 5 5 ), – mit einer Wafer-Halteeinrichtung ( ), - (with a wafer holding means 12 12 ) zur Halterung eines Wafers ( ) (For holding a wafer 11 11 ) in einer Bildebene ( ) (In an image plane 9 9 ), – mit einem Projektionsobjektiv ( ), - (with a projection lens 8 8th ) zur Abbildung eines Objektfeldes in der Retikelebene ( ) (For imaging an object field in the reticle plane 5 5 ) in ein Bildfeld in der Bildebene ( ) (In an image field in the image plane 9 9 ), – mit einer Tragstruktur ( (With a supporting structure -) 13 13 ) für das Projektionsobjektiv ( ) (For the projection lens 8 8th ) zur Abstützung von diesem an einem Gebäudeboden ( ) For supporting this (on a building floor 16 16 ), dadurch gekennzeichnet , dass die Tragstruktur ( ), Characterized in that the support structure ( 13 13 ) zur liegenden Halterung des Projektionsobjektivs ( ) (For the side bracket of the projection lens 8 8th ) ausgeführt ist. ) Is executed.
  2. Projektionssystem nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Retikel-Halteeinrichtung ( The projection system of claim 1, characterized in that the reticle holding means ( 7 7 ) zur Halterung des Retikels ( ) (For mounting the reticle 6 6 ) in einer im Wesentlichen vertikal verlaufenden Retikelebene ( ) (In a substantially vertical reticle plane 5 5 ) ausgeführt ist. ) Is executed.
  3. Projektionssystem nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Wafer-Halteeinrichtung ( The projection system of claim 1 or 2, characterized in that the wafer holding means ( 12 12 ) zur Halterung des Wafers ( ) (To hold the wafer 11 11 ) in einer im Wesentlichen vertikal verlaufenden Bildebene ( ) (In a substantially vertical image plane 9 9 ) ausgeführt ist. ) Is executed.
  4. Projektionssystem nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass das Projektionsobjektiv ( The projection system of any one of claims 1 to 3, characterized in that the projection lens ( 8 8th ) als rein reflektives System ausgeführt ist. ) Is designed as a purely reflective system.
  5. Projektionssystem nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass das Projektionsobjektiv ( The projection system of any one of claims 1 to 4, characterized in that the projection lens ( 8 8th ) zur Abbildung von Beleuchtungs- und Abbildungslicht ( ) (For imaging illumination and imaging light 3 3 ) mit einer Wellenlänge im extremen Ultraviolett (EUV) ausgebildet ist. ) Is formed with a wavelength in the extreme ultraviolet (EUV).
  6. Komponentenhalterung ( Components holder ( 37 37 ) zur Halterung einer optischen Komponente (M1 bis M6), wobei die Komponentenhalterung ( ) For holding an optical component (M1 to M6), wherein the component holder ( 37 37 ) Bestandteil einer Tragstruktur ( ) Component of a supporting structure ( 13 13 ) für ein Projektionssystem ( ) (For a projection system 14 14 ) nach einem der Ansprüche 1 bis 5 ist, – mit einer Justageeinrichtung ( ) Is according to any one of claims 1 to 5, - (with an adjusting device 38 38 ) zur Justage der optischen Komponente (M1 bis M5) insbesondere in sechs Freiheitsgraden, – mit einem Lagestabilisator ( ) For the adjustment of the optical component (M1 to M5), in particular in six degrees of freedom, - (with a position stabilizer 42 42 ) zur Aufnahme von auf die optische Komponente (M1 bis M5) wirkenden Kraftkomponenten ( ) (For receiving (on the optical component M1 to M5) acting force components 41 41 ) senkrecht zur Gravitationsrichtung, – mit einem Gravitationskompensator ( ) Perpendicular to the direction of gravity, - (with a Gravitationskompensator 44 44 ) zur Aufnahme von auf die optische Komponente (M1 bis M5) wirkenden Kraftkomponenten ( ) (For receiving (on the optical component M1 to M5) acting force components 46 46 ) in Gravitationsrichtung. ) In the direction of gravity.
  7. Komponentenhalterung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass der Lagestabilisator ( Component holder according to claim 6, characterized in that the position stabilizer ( 42 42 ) mindestens ein Federelement aufweist. having) at least one spring element.
  8. Komponentenhalterung nach Anspruch 6 oder 7, dadurch gekennzeichnet, dass der Gravitationskompensator ( Component holder according to claim 6 or 7, characterized in that the Gravitationskompensator ( 44 44 ) mindestens ein Federelement aufweist. having) at least one spring element.
  9. Retikel-Halteeinrichtung ( Reticle holder ( 7 7 ) für ein Projektionssystem ( ) (For a projection system 14 14 ) nach einem der Ansprüche 1 bis 5, – mit einem Lagestabilisator ( ) According to one of claims 1 to 5, - (with a position stabilizer 19 19 ) zur Aufnahme von auf das Retikel ( ) (For recording on the reticle 6 6 ) wirkenden Kraftkomponenten ( ) Acting force components ( 20 20 ) senkrecht zur Gravitationsrichtung, – mit einem Gravitationskompensator ( ) Perpendicular to the direction of gravity, - (with a Gravitationskompensator 21 21 ) zur Aufnahme von auf das Retikel ( ) (For recording on the reticle 6 6 ) wirkenden Kraftkomponenten ( ) Acting force components ( 25 25 ) in Gravitationsrichtung. ) In the direction of gravity.
  10. Retikel-Halteeinrichtung nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass der Lagestabilisator ( Reticle holding device according to claim 9, characterized in that the position stabilizer ( 19 19 ) als elektrostatische Krafteinheit ausgeführt ist. ) Is designed as electrostatic force unit.
  11. Retikel-Halteeinrichtung nach Anspruch 9 oder 10, dadurch gekennzeichnet, dass der Lagestabilisator ( Reticle holding device according to claim 9 or 10, characterized in that the position stabilizer ( 19 19 ) mindestens ein Federelement aufweist. having) at least one spring element.
  12. Retikel-Halteeinrichtung nach einem der Ansprüche 9 bis 11, dadurch gekennzeichnet, dass der Gravitationskompensator ( Reticle holding device, characterized in any one of claims 9 to 11 that the Gravitationskompensator ( 21 21 ) mindestens ein Federelement ( ) At least one spring element ( 31 31 ) aufweist. ) having.
  13. Retikel-Halteeinrichtung nach einem der Ansprüche 9 bis 12, dadurch gekennzeichnet, dass der Gravitationskompensator ( Reticle holding device, characterized in any one of claims 9 to 12 that the Gravitationskompensator ( 21 21 ) genau zwei Unterstützungsträger ( ) Exactly two support brackets ( 22 22 ) zur Anlage am Retikel ( ) (For engaging the reticle 6 6 ) aufweist. ) having.
  14. Retikel-Halteeinrichtung nach einem der Ansprüche 9 bis 13, dadurch gekennzeichnet, dass der Gravitationskompensator ( Reticle holding device according to one of claims 9 to 13, characterized in that the Gravitationskompensator ( 21 21 ) genau einen Positionieranschlag ( ) Exactly one positioning stop ( 26 26 ) zur Anlage am Retikel ( ) (For engaging the reticle 6 6 ) aufweist. ) having.
  15. Wafer-Halteeinrichtung ( Wafer holder ( 12 12 ) für ein Projektionssystem ( ) (For a projection system 14 14 ) nach einem der Ansprüche 1 bis 5, – mit einem Lagestabilisator ( ) According to one of claims 1 to 5, - (with a position stabilizer 19 19 ) zur Aufnahme von auf den Wafer ( ) For receiving (on the wafer 11 11 ) wirkenden Kraftkomponenten ( ) Acting force components ( 20 20 ) senkrecht zur Gravitationsrichtung, – mit einem Gravitationskompensator ( ) Perpendicular to the direction of gravity, - (with a Gravitationskompensator 21 21 ) zur Aufnahme von auf den Wafer ( ) For receiving (on the wafer 11 11 ) wirkenden Kraftkomponenten ( ) Acting force components ( 20 20 ) in Gravitationsrichtung. ) In the direction of gravity.
  16. Wafer-Halteeinrichtung nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, dass der Lagestabilisator ( Wafer holding device according to claim 15, characterized in that the position stabilizer ( 19 19 ) als elektrostatische Krafteinheit ausgeführt ist. ) Is designed as electrostatic force unit.
  17. Wafer-Halteeinrichtung nach Anspruch 15 oder 16, dadurch gekennzeichnet, dass der Lagestabilisator mindestens ein Federelement aufweist. Wafer holding device according to claim 15 or 16, characterized in that the position stabilizer comprises at least one spring element.
  18. Wafer-Halteeinrichtung nach einem der Ansprüche 15 bis 17, dadurch gekennzeichnet, dass der Gravitationskompensator ( Wafer holding device according to one of claims 15 to 17, characterized in that the Gravitationskompensator ( 21 21 ) mindestens ein Federelement ( ) At least one spring element ( 31 31 ) aufweist. ) having.
  19. Wafer-Halteeinrichtung nach einem der Ansprüche 15 bis 18, dadurch gekennzeichnet, dass der Gravitationskompensator ( Wafer holding device according to one of claims 15 to 18, characterized in that the Gravitationskompensator ( 21 21 ) genau zwei Unterstützungsträger ( ) Exactly two support brackets ( 22 22 ) zur Anlage an einer Mantelwand ( ) (For engaging a shell wall 35 35 ) des Wafers ( () Of the wafer 11 11 ) aufweist. ) having.
  20. Projektionsbelichtungsanlage mit einem Projektionssystem nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass die Tragstruktur ( Projection exposure apparatus having a projection system according to any one of claims 1 to 5, characterized in that the support structure ( 13 13 ) zusätzlich zur liegenden Halterung einer Beleuchtungsoptik zur Ausleuchtung des Objektfeldes ausgeführt ist, wobei die Beleuchtungsoptik ( ) Is carried out in addition to the side bracket of an illumination optical system for illuminating the object field, the illumination optics ( 4 4 ) zwischen einer Quelle ( ) (Between a source 2 2 ) für Beleuchtungs- und Abbildungslicht ( () For illumination and imaging light 3 3 ) und dem Objektfeld in der Retikelebene ( ) And the object field in the reticle plane ( 5 5 ) angeordnet ist. ) Is arranged.
DE200810054581 2008-02-29 2008-12-12 Projection system for projection exposure system for manufacturing micro-and/or nanostructure semiconductor components, has carrier structure provided for supporting projection lens in floor and implemented for holding projection lens Withdrawn DE102008054581A1 (en)

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