DE102005000809A1 - Integrated semiconductor memory, for control circuits, has volatile memory cells refreshed with production and operating parameter data from non-volatile memory cells - Google Patents

Integrated semiconductor memory, for control circuits, has volatile memory cells refreshed with production and operating parameter data from non-volatile memory cells Download PDF

Info

Publication number
DE102005000809A1
DE102005000809A1 DE200510000809 DE102005000809A DE102005000809A1 DE 102005000809 A1 DE102005000809 A1 DE 102005000809A1 DE 200510000809 DE200510000809 DE 200510000809 DE 102005000809 A DE102005000809 A DE 102005000809A DE 102005000809 A1 DE102005000809 A1 DE 102005000809A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
memory cells
integrated semiconductor
memory
semiconductor memory
volatile
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
DE200510000809
Other languages
German (de)
Other versions
DE102005000809B4 (en
Inventor
Martin Dr. Perner
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Polaris Innovations Ltd
Original Assignee
Infineon Technologies AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Infineon Technologies AG filed Critical Infineon Technologies AG
Priority to DE200510000809 priority Critical patent/DE102005000809B4/en
Publication of DE102005000809A1 publication Critical patent/DE102005000809A1/en
Application granted granted Critical
Publication of DE102005000809B4 publication Critical patent/DE102005000809B4/en
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C29/00Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
    • G11C29/04Detection or location of defective memory elements, e.g. cell constructio details, timing of test signals
    • G11C29/08Functional testing, e.g. testing during refresh, power-on self testing [POST] or distributed testing
    • G11C29/12Built-in arrangements for testing, e.g. built-in self testing [BIST] or interconnection details
    • G11C29/44Indication or identification of errors, e.g. for repair
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/21Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
    • G11C11/34Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
    • G11C11/40Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
    • G11C11/401Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming cells needing refreshing or charge regeneration, i.e. dynamic cells
    • G11C11/4063Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing
    • G11C11/407Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing for memory cells of the field-effect type
    • G11C11/409Read-write [R-W] circuits 
    • G11C11/4097Bit-line organisation, e.g. bit-line layout, folded bit lines
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C14/00Digital stores characterised by arrangements of cells having volatile and non-volatile storage properties for back-up when the power is down
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C7/00Arrangements for writing information into, or reading information out from, a digital store
    • G11C7/18Bit line organisation; Bit line lay-out
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C29/00Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
    • G11C29/04Detection or location of defective memory elements, e.g. cell constructio details, timing of test signals
    • G11C29/08Functional testing, e.g. testing during refresh, power-on self testing [POST] or distributed testing
    • G11C29/12Built-in arrangements for testing, e.g. built-in self testing [BIST] or interconnection details
    • G11C2029/1208Error catch memory
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C29/00Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
    • G11C29/04Detection or location of defective memory elements, e.g. cell constructio details, timing of test signals
    • G11C29/08Functional testing, e.g. testing during refresh, power-on self testing [POST] or distributed testing
    • G11C29/12Built-in arrangements for testing, e.g. built-in self testing [BIST] or interconnection details
    • G11C2029/4402Internal storage of test result, quality data, chip identification, repair information

Abstract

Integrated semiconductor memory, with a non-volatile data storage, has an initial memory cell field (SF1) with volatile and non-volatile memory cells. A second memory cell field (SF2a) is composed entirely of volatile memory cells. The non-volatile cells of the first field are used to plot operating parameters while the memory is in use, where one parameter refreshes the volatile memory cells in the second field from storage in the non-volatile cells in the first field. The integrated semiconductor memory, with a non-volatile data storage, has an initial memory cell field (SF1) with volatile memory cells (SZT,SZC) and non-volatile cells (WZ). A second memory cell field (SF2a) is composed entirely of volatile memory cells. The non-volatile cells of the first field are used to plot operating parameters while the memory is in use, where one parameter refreshes the volatile memory cells in the second field from storage in the non-volatile cells in the first field. The integrated memory can store data in the volatile memory cells and hold production and parameter data in the non-volatile cells within the same control circuit. To input and read data at the two types of cells, the scanning amplifiers (SA) are each linked to external data connections (DQ) by a data bus (LDQ).

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft einen integrierten Halbleiterspeicher, bei dem Daten auf nichtflüchtige Weise speicherbar sind.The The present invention relates to an integrated semiconductor memory, in the data on non-volatile Way are storable.

Bei integrierten Halbleiterspeichern, wie beispielsweise DRAM (dynamic random access memory)-Halbleiterspeichern, ist die Ausfallrate in den ersten Betriebsstunden relativ hoch. Um fehlerhafte Bauteile nach der Herstellung aussortieren zu können, werden die integrierten Halbleiterspeicher nach Abschluss des Herstellungsprozesses für wenige Betriebsstunden gestresst. Innerhalb dieser kurzen Betriebszeit lässt sich bereits ein Großteil von fehlerhaften Bausteinen aussortieren. Es zeigt sich weiter, dass im statistischen Mittel erst nach langer Betriebszeit, wie beispielsweise mehreren Jahren, die Ausfallrate wieder ansteigt. Um solche Langzeitausfälle analysieren zu können, wäre es wünschenswert; wenn während des Betriebes eines Halbleiterspeichers Betriebsparameter, wie beispielsweise die Betriebsdauer oder die Anzahl bestimmter Ereignisse, wie beispielsweise Speicherzugriffe auf einen bestimmten Speicherbereich dauerhaft und permanent erfasst werden könnten.at integrated semiconductor memories, such as DRAM (dynamic random access memory), the failure rate is in the first hours of operation relatively high. To faulty components be sorted out after the production, the integrated Semiconductor memory after completion of the manufacturing process for a few Operating hours stressed. Within this short operating time let yourself already a large part sort out defective blocks. It further shows that on a statistical average only after a long period of operation, such as several years, the failure rate increases again. To analyze such long-term failures to be able to would it be desirable; if while the operation of a semiconductor memory operating parameters, such as the duration of operation or the number of specific events, such as Memory accesses to a specific memory area permanently and could be permanently recorded.

Bei einem Halbleiterspeicher mit flüchtigen Speicherzellen, wie beispielsweise DRAM (dynamic random access memory)-Speicherzellen, muss der Speicherinhalt spätestens nach Ablauf einer Datenerhaltungszeit von neuem aufgefrischt werden. Im Gegensatz zu nichtflüchtigen Halbleiterspeichern, wie beispielsweise Flash, FeRAM (ferroelectric random access memory) oder MRAM (magnetic random access memory)-Halbleiterspeichern besteht somit bei DRAM-Halbleiterspeichern das Problem, dass produktions- und testrelevante Langzeitinformationen wie Testergebnisse, Sort-Kriterien, produktionsrelevante Daten, aber auch darüber hinaus Betriebsparameter, die während des Betriebs des integrierten Halbleiterspeichers auftreten, nicht irreversibel und dauerhaft gespeichert werden können.at a semiconductor memory with volatile memory cells, such as dynamic random access memory (DRAM) memory cells the memory contents at the latest refreshed after a data retention period has expired. Unlike nonvolatile Semiconductor memory, such as Flash, FeRAM (ferroelectric random access memory) or MRAM (magnetic random access memory) semiconductor memories There is thus the problem with DRAM semiconductor memories that production- and test-relevant long-term information such as test results, sort criteria, production-relevant data, but also operating parameters, the while the operation of the integrated semiconductor memory do not occur can be stored irreversibly and permanently.

Um permanent Daten in einem DRAM-Halbleiterspeicher zu speichern, werden daher elektrische Fuses (E-Fuses) oder Laser-Fuses eingesetzt. Laser-Fuses können nur während der Herstellung des integrierten Halbleiterspeichers programmiert werden. Über E-Fuses lassen sich auch im gehäusten Zustand eines DRAM-Speichers Daten permanent speichern, indem die E-Fuses durch Anlegen einer Programmierspannung programmiert werden. Ein kleines Feld von E-Fuses ist im Allgemeinen noch leicht auswertbar. Wenn jedoch größere Mengen an Daten permanent gespeichert werden sollen, muss eine Fuse-Array-Struktur vorgesehen werden. Innerhalb der Fuse-Array-Struktur sind die E-Fuses, wie die flüchtigen DRAM-Zellen im Speicherzellenfeld, im Allgemeinen matrixförmig entlang von Spalten- und Zeilenleitungen angeordnet. Zum Auslesen des Programmierzustands der einzelnen E-Fuses wird eine Zeilen-/Spalten-Dekoder-Architektur benötigt. Aufgrund des großen Platzbedarfs für derartige Schaltungen werden große E-Fuse-Speicherbereiche im Allgemeinen nicht in Halbleiterspeicher mit flüchtigen Speicherzellen integriert.Around to permanently store data in a DRAM semiconductor memory therefore electrical fuses (e-fuses) or laser fuses are used. Laser fuses can only while the production of the integrated semiconductor memory can be programmed. About e-fuses can also be housed State of a DRAM memory permanently storing data by the E-fuses can be programmed by applying a programming voltage. One small field of e-fuses is generally still easily evaluable. If, however, larger quantities to permanently store data must have a fuse array structure be provided. Within the fuse array structure, the e-fuses are like the volatile ones DRAM cells in the memory cell array, generally in a matrix shape arranged by column and row lines. For reading the programming state each of the e-fuses requires a row / column decoder architecture. by virtue of of the big one Space requirements for such circuits become large e-fuse memory areas generally not in semiconductor memory with volatile memory cells integrated.

Des Weiteren weisen E-Fuses den Nachteil auf, dass sie nur einmal programmiert werden können. Somit können Änderungen von Daten, wie sie beispielsweise bei den Betriebsparametern im Laufe der Betriebszeit auftreten, nicht in den gleichen E-Fuses verändert abgespeichert werden.Of Furthermore, e-fuses have the disadvantage that they are programmed only once can be. Thus, changes can be made of data, as for example in the operating parameters in Over the operating time occur, not stored in the same e-fuses changed become.

Die Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, einen integrierten Halbleiterspeicher anzugeben, bei dem es ermöglicht ist, Herstellungs- und Betriebsdaten über einen längeren Zeitraum zuverlässig zu speichern. Eine weitere Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, ein Verfahren anzugeben, mit dem sich bei einem integrierten Halbleiterspeicher Herstellungs- und Betriebsdaten über einen längeren Zeitraum zuverlässig speichern lassen.The The object of the present invention is an integrated semiconductor memory indicate where it allows is to reliably store manufacturing and operating data over a longer period. Another object of the present invention is a method specify with which in an integrated semiconductor memory Manufacturing and operating data about a longer period reliable save.

Die Aufgabe betreffend den integrierten Halbleiterspeicher wird gelöst durch einen integrierten Halbleiterspeicher mit einem ersten Speicherzellenfeld mit flüchtigen Speicherzellen und mit nichtflüchtigen Speicherzellen, mit einem zweiten Speicherzellenfeld mit flüchtigen Speicherzellen und mit einer Steuerschaltung zur Steuerung eines Zugriffs auf eine der Speicherzellen des ersten und zweiten Speicherzellenfeldes. Erfindungsgemäß ist die Steuerschaltung derart ausgebildet, dass sie bei einem Zugriff auf eine der flüchtigen Speicherzellen des zweiten Speicherzellenfeldes einen Schreibzugriff auf mindestens eine der nichtflüchtigen Speicherzellen des ersten Speicherzellenfeldes durchführt zur Speicherung eines des im aktuellen Betrieb des integrierten Halbleiterspeichers ermittelten Datums in der mindestens einen der nichtflüchtigen Speicherzellen des ersten Speicherzellenfeldes.The Task concerning the integrated semiconductor memory is solved by an integrated semiconductor memory having a first memory cell array with fleeting Memory cells and with non-volatile Memory cells, with a second memory cell array with volatile Memory cells and with a control circuit for controlling a Access to one of the memory cells of the first and second memory cell array. According to the invention Control circuit designed such that they are in an access to one of the fleeting ones Memory cells of the second memory cell array write access at least one of the non-volatile Memory cells of the first memory cell array performs for storage one of the current operation of the integrated semiconductor memory determined date in at least one of the non-volatile Memory cells of the first memory cell array.

Durch Verwendung eines Speicherzellenfeldes mit flüchtigen als auch mit nichtflüchtigen Speicherzellen lassen sich die gleichen Ansteuerschaltungen, wie Zeilendekoder, Spaltendekoder und Leseverstärker verwenden, die auch zum Einschreiben von Informationen in die flüchtigen Speicherzellen und zum Auslesen von Informationen aus den flüchtigen Speicherzellen dienen. Dadurch ist der Platzbedarf deutlich reduziert, da zusätzlicher Speicherplatz nur für die nichtflüchtigen Spei cherzellen vorzusehen ist. Bei dem im aktuellen Betrieb des integrierten Halbleiterspeichers ermittelten Datum kann es sich beispielsweise um einen Betriebsparameter handeln, der im Rahmen eines Testbetriebs des integrierten Halbleiterspeichers aufgetreten ist. Dies kann beispielsweise eine Losnummer oder der Name eines Testprogramms sein. Es kann sich dabei aber auch um einen Betriebsparameter handeln, der einen Betriebszustand des Halbleiterspeichers angibt. Dazu gehört beispielsweise die Anzahl an Zugriffen auf einen bestimmten Speicherbereich oder die im Betrieb des integrierten Halbleiterspeichers aufgetretene Betriebstemperatur.By using a memory cell array with both volatile and nonvolatile memory cells, the same drive circuits as row decoders, column decoders, and sense amplifiers can be used, which also serve to write information to the volatile memory cells and to read information from the volatile memory cells. As a result, the space requirement is significantly reduced, since additional storage space is to be provided only for the non-volatile memory cells. The date determined in the current operation of the integrated semiconductor memory may be For example, to act on an operating parameter that has occurred in the context of a test operation of the integrated semiconductor memory. This can be, for example, a lot number or the name of a test program. However, it may also be an operating parameter that indicates an operating state of the semiconductor memory. This includes, for example, the number of accesses to a specific memory area or the operating temperature that has occurred during operation of the integrated semiconductor memory.

Gemäß einer Weiterbildung des integrierten Halbleiterspeichers sind die flüchtigen Speicherzellen des ersten und zweiten Speicherzellenfeldes jeweils derart ausgebildet, dass nach einer Abspeicherung eines Speicherzustandes in einer der flüchtigen Speicherzellen zur Erhaltung des abgespeicherten Speicherzustandes der Speicherzustand spätestens nach Ablauf einer Datenerhaltungszeit aufgefrischt werden muss. Die Steuerschaltung ist derart ausgebildet, dass sie zur Erhaltung des abgespeicherten Speicherzustandes in einer der Speicherzellen des zweiten Speicherzellenfeldes den in der einen der Speicherzellen abgespeicherten Speicherzustand auffrischt und dabei das im aktuellen Betrieb des integrierten Halbleiterspeichers ermittelte Datum in der einen der nichtflüchtigen Speicherzellen des ersten Speicherzellenfeldes abspeichert.According to one Further development of the integrated semiconductor memory are the volatile ones Memory cells of the first and second memory cell array, respectively designed such that after storage of a memory state in one of the volatile memory cells to preserve the stored memory state, the memory state at the latest after The course of a data retention period must be refreshed. The control circuit is designed such that it to preserve the stored memory state in one of the memory cells of the second memory cell array the refreshes stored in one of the memory cells memory state and doing so in the current operation of the integrated semiconductor memory determined date in one of the nonvolatile memory cells of the first memory cell array stores.

Bei einer andere Ausführungsform des integrierten Halbleiterspeichers sind im ersten und zweiten Speicherzellenfeld Leseverstärker vorgesehen, die jeweils an ein Bitleitungspaar mit einer ersten und einer zweiten Bitleitung angeschlossen sind. Die flüchtigen Speicherzellen und die nichtflüchtigen Speicherzellen des ersten Speicherzellenfeldes sind jeweils an ein Bitleitungspaar angeschlossen. Die flüchtigen Speicherzellen und die nichtflüchtigen Speicherzellen sind jeweils derart ausgebildet, dass sie beim Auslesen eine Potentialdifferenz zwischen der ersten und der zweiten Bitleitung des Bitleitungspaares (BLP) an das sie jeweilig angeschlossen sind, erzeugen. Die Leseverstärker sind jeweils derart ausgebildet, dass sie beim Auslesen einer der flüchtigen Speicherzellen und einer der nichtflüchtigen Speicherzellen jeweils die Potentialdifferenz zwischen der ersten und zweiten Bitleitung des Bitleitungspaares, an das sie jeweilig angeschlossen sind, auswerten und in Abhängigkeit von der ausgewerteten Potentialdifferenz ein Datum mit einem ersten oder zweiten Pegel erzeugen.at another embodiment of the integrated semiconductor memory are in the first and second Memory cell array sense amplifier provided, each to a bit line pair with a first and a second bit line are connected. The fleeting ones Memory cells and the nonvolatile memory cells of the first memory cell array are each connected to a bit line pair connected. The fleeting ones Memory cells and the nonvolatile memory cells are each designed such that they read a potential difference during reading between the first and the second bit line of the bit line pair (BLP) to which they are respectively connected produce. The sense amplifiers are each designed such that they are in the reading of one of the volatile memory cells and one of the non-volatile Memory cells each the potential difference between the first and the second bit line of the bit line pair to which they respectively are connected, evaluate and evaluated depending on the evaluated Potential difference a date with a first or second level produce.

Gemäß einer Weiterbildung des integrierten Halbleiterspeichers sind die nichtflüchtigen Speicherzellen für einen Lese- und Schreibzugriff über Adressen auswählbar. Die Steuerschaltung ist derart ausgebildet, dass sie bei einem erstmaligen Aktivieren des integrierten Halbleiterspeichers eine Adressposition der zuletzt beschriebenen nichtflüchtigen Speicherzelle ermittelt und das im aktuellen Betrieb des integrierten Halbleiterspeichers ermittelte Datum an der auf die zuletzt beschriebene Adressposition folgenden nächst höheren Adressposition abspeichert.According to one Development of the integrated semiconductor memory are the non-volatile Memory cells for a reading and Write access via Addresses selectable. The control circuit is designed such that it at a first Enabling the integrated semiconductor memory an address position the last described nonvolatile memory cell determined and that in the current operation of the integrated semiconductor memory determined date at the address position last described following next higher Stores address position.

Bei einer Ausführungsform des integrierten Halbleiterspeichers sind die nichtflüchtigen Speicherzellen jeweils als einmalig irreversibel programmierbare Bauelemente ausgebildet. Die nichtflüchtigen Speicherzellen können auch jeweils als eine elektrisch programmierbare Fuse oder Antifuse ausgebildet sein. Gemäß einer anderen Ausführungsform des integrierten Halbleiterspeichers umfassen die nichtflüchtigen Speicherzellen mindestens einen steuerbaren Widerstand. Die flüchtigen Speicherzellen sind vorzugsweise jeweils als Speicherzellen mit wahlfreiem Zugriff ausgebildet.at an embodiment of the integrated semiconductor memory are the nonvolatile ones Memory cells each as a single irreversible programmable Components designed. The non-volatile memory cells can also each formed as an electrically programmable fuse or antifuse be. According to one another embodiment of the integrated semiconductor memory include the nonvolatile ones Memory cells at least one controllable resistor. The fleeting ones Memory cells are preferably each with memory cells trained random access.

Ein Verfahren zum Aufzeichnen von Herstellungs- und Betriebsdaten eines integrierten Halbleiterspeichers sieht die Verwendung eines integrierten Halbleiterspeichers mit einem ersten Speicherzellenfeld mit nichtflüchtigen Speicherzellen und flüchtigen Speicherzellen und einem zweiten Speicherzellenfeld mit flüchtigen Speicherzellen vor, bei dem die nichtflüchtigen Speicherzellen erste nichtflüchtige Speicherzellen und zweite nichtflüchtige Speicherzellen umfassen, wobei in den ersten nichtflüchtigen Speicherzellen eine Information zur Konfiguration der zweiten nichtflüchtigen Speicherzellen abgespeichert ist. Nach dem Hochfahren des integrierten Halbleiterspeichers werden die Speicherzustände der ersten nichtflüchtigen Speicherzellen ausgewertet, um eine Information zur Konfiguration der zweiten nichtflüchtigen Speicherzellen zu erhalten. Anschließend wird eine Adressposition einer zuletzt beschriebenen zweiten nichtflüchtigen Speicherzelle im ersten Speicherzellenfeld ermittelt. Danach wird eine auf die Adressposition der zuletzt beschriebene zweiten nichtflüchtigen Speicherzelle folgenden nächst höhere Adresspostion ermittelt. Das im aktuellen Betrieb des integrierten Halbleiterspeichers ermittelte Datum wird in einer zweiten nichtflüchtigen Speicherzelle des ersten Speicherzellenfeldes, die über die ausgewählte nächst höhere Adresspositon adressierbar ist, in einer Konfiguration in Abhängigkeit von dem ausgewerteten Speicherzustand der ersten nichtflüchtigen Speicherzellen gespeichert, wenn eine der flüchtigen Speicherzellen des zweiten Speicherzellenfeldes aufgefrischt wird.One Method for recording manufacturing and operating data of a integrated semiconductor memory sees the use of an integrated semiconductor memory with a first memory cell array with nonvolatile memory cells and volatile memory cells and a second memory cell array with volatile memory cells, where the non-volatile Memory cells first non-volatile memory cells and second non-volatile Memory cells include, wherein in the first non-volatile memory cells an information about the configuration of the second non-volatile Memory cells is stored. After booting up the integrated Semiconductor memory become the memory states of the first non-volatile Memory cells evaluated to provide information about the configuration the second non-volatile To get memory cells. Subsequently, an address position a last described second nonvolatile memory cell in the first Memory cell field determined. After that, one will go to the address position the last described second nonvolatile memory cell following next higher Adresspostion determined. That in the current operation of the integrated Semiconductor memory determined date is in a second non-volatile Memory cell of the first memory cell array, over the selected next higher Adresspositon is addressable, in a configuration depending from the evaluated memory state of the first non-volatile Memory cells stored when one of the volatile memory cells of the the second memory cell array is refreshed.

Gemäß einer Weiterbildung des Verfahrens zum Aufzeichnen von Betriebsdaten eines integrierten Halbleiterspeichers wird das gespeicherte im aktuellen Betrieb des integrierten Halbleiterspeichers ermittelte Datum durch Setzen eines Bits in einem Register des integrierten Halbleiterspeichers aus der einen der zweiten nichtflüchtigen Speicherzellen ausgelesen.According to one Further development of the method for recording operating data of a integrated semiconductor memory is stored in the current Operation of the integrated semiconductor memory ascertained date Setting a bit in a register of the integrated semiconductor memory read from the one of the second non-volatile memory cells.

Eine andere Ausführungsform des Verfahrens zum Betreiben eines integrierten Halbleiterspeichers sieht vor, den integrierten Halbleiterspeicher in einem Testbetriebszustand zu betreiben. Im Testbetriebszustand wird eine jede der ersten und zweiten nichtflüchtigen Speicherzellen durch Anlegen eines Steuersignals an den integrierten Halbleiterspeicher ausgelesen.A other embodiment the method of operating an integrated semiconductor memory provides the integrated semiconductor memory in a test mode to operate. In the test mode, each of the first and second non-volatile Memory cells by applying a control signal to the integrated Semiconductor memory read out.

Weitere Ausbildungsformen betreffend den integrierten Halbleiterspeicher zur Aufzeichnung von Betriebsdaten sowie das Verfahren zur Aufzeichnung von Betriebsdaten sind den Unteransprüchen zu entnehmen.Further Forms of training concerning the integrated semiconductor memory for recording operating data and the method for recording Operating data can be found in the dependent claims.

Die Erfindung wird im Folgenden anhand von Figuren, die Ausführungsbeispiele der vorliegenden Erfindung zeigen, näher erläutert. Es zeigen:The Invention will be described below with reference to figures, the embodiments of the present invention, explained in more detail. Show it:

1 einen integrierten Halbleiterspeicher zur Speicherung von Betriebsdaten gemäß der Erfindung, 1 an integrated semiconductor memory for storing operating data according to the invention,

2 einen Halbleiterspeicherchip mit Speicherbänken zur Speicherung von Betriebsdaten gemäß der Erfindung, 2 a semiconductor memory chip with memory banks for storing operating data according to the invention,

3 eine Speicherbank eines integrierten Halbleiterspeichers zur Speicherung von Betriebsdaten gemäß der Erfindung, 3 a memory bank of an integrated semiconductor memory for storing operating data according to the invention,

4 einen Ausschnitt eines Speicherzellenfeldes einer Speicherbank mit flüchtigen und nichtflüchtigen Speicherzellen gemäß der Erfindung, 4 a section of a memory cell array of a memory bank with volatile and nonvolatile memory cells according to the invention,

5A eine Adressorganisation einer Speicherbank gemäß der Erfindung, 5A an address organization of a memory bank according to the invention,

5B eine Adressorganisation eines Speicherbereichs mit nichtflüchtigen Speicherzellen gemäß der Erfindung, 5B an address organization of a memory area with nonvolatile memory cells according to the invention,

5C erste nichtflüchtige Speicherzellen gemäß der Erfindung zur Speicherung von Konfigurationsdaten, 5C first nonvolatile memory cells according to the invention for storing configuration data,

6 eine binäre Adresssuche in einem Speicherzellenfeld mit nichtflüchtigen Speicherzellen zum Auffinden einer Startadresse zur Speicherung von Betriebsdaten gemäß der Erfindung, 6 a binary address search in a memory cell array with nonvolatile memory cells for finding a start address for storing operating data according to the invention,

7 ein Ablaufdiagramm zur Speicherung von Betriebsdaten in nichtflüchtigen Speicherzellen gemäß der Erfindung. 7 a flowchart for storing operating data in nonvolatile memory cells according to the invention.

1 zeigt einen integrierten Halbleiterspeicher 100 mit einem Speicherzellenfeld 10. Innerhalb des Speicherzellenfeldes 10 sind flüchtige und nichtflüchtige Speicherzellen in einem ersten Speicherzellenfeld SF1 und flüchtige Speicherzellen in einem zweiten Speicherzellenfeld SF2 angeordnet. Als Beispiel für eine nichtflüchtige Speicherzelle ist im zweiten Speicherzellenfeld SF2 eine DRAM-Speicherzelle SZ dargestellt, die zwischen einer Wortleitung WL und einer Bitleitung BL angeordnet ist. Die DRAM-Speicherzelle umfasst einen Auswahltransistor AT und einen Speicherkondensator SC. Bei einem Schreib- oder Lesezugriff wird die Speicherzelle aktiviert, indem durch ein entsprechendes Signal auf der Wortleitung WL der Auswahltransistor AT leitend gesteuert wird, so dass der Speicherkondensator SC niederohmig mit der Bitleitung BL verbunden ist. 1 shows an integrated semiconductor memory 100 with a memory cell array 10 , Within the memory cell array 10 volatile and non-volatile memory cells are arranged in a first memory cell array SF1 and volatile memory cells in a second memory cell array SF2. As an example of a non-volatile memory cell, a DRAM memory cell SZ is arranged in the second memory cell array SF2, which is arranged between a word line WL and a bit line BL. The DRAM memory cell includes a selection transistor AT and a storage capacitor SC. In the case of a read or write access, the memory cell is activated by the selection transistor AT being conductively controlled by a corresponding signal on the word line WL, so that the storage capacitor SC is connected to the bit line BL in a low-resistance manner.

Zur Steuerung von Lese-, Schreib- und Vorladevorgängen innerhalb des Speicherzellenfeldes 10 ist eine Steuerschaltung 20 vorgesehen. Zur Steuerung von Lese- und Schreibzugriffen werden an einen Steueranschluss S20 Steuersignale angelegt. Zur Auswahl einer der Speicherzellen des ersten oder zweiten Speicherzellenfeldes wird an einen Adressanschluss A30 ein Adresssignal ADS angelegt. Die angelegte Adresse weist einen x- und einen y-Adressteil auf. Der Adressteil X wird einem Zeilendekoder 70 und der Adressteil Y wird einem Spaltendekoder 80 zugeführt. Anhand der x- und y-Adresse des Adresssignals ADS lässt sich eine Speicherzelle SZ für einen Lese- oder Schreibzugriff auswählen. Zum Einschreiben einer Information wird an einen Datenanschluss DQ einen Datum D angelegt. Beim Auslesen wird an dem Datenanschluss DQ ein Datum D erzeugt.For controlling read, write and precharge processes within the memory cell array 10 is a control circuit 20 intended. For controlling read and write accesses, control signals are applied to a control terminal S20. For selecting one of the memory cells of the first or second memory cell array, an address signal ADS is applied to an address terminal A30. The applied address has an x and a y address part. The address part X becomes a row decoder 70 and the address part Y becomes a column decoder 80 fed. On the basis of the x and y address of the address signal ADS, a memory cell SZ can be selected for a read or write access. For writing information, a data D is applied to a data terminal DQ. When reading a date D is generated at the data terminal DQ.

2 zeigt einen Halbleiterchip HC, der Speicherbänke B1, B2, B3 und B4 umfasst. Innerhalb der Speicherbänke sind, wie in 1 dargestellt, flüchtige und nichtflüchtige Speicherzellen in einem ersten Speicherzellenfeld SF1 und ausschließlich flüchtige Speicherzellen, wie beispielsweise DRAM-Speicherzellen, in einem zweiten Speicherzellenfeld SF2 angeordnet. Die in 1 dargestellten übrigen Schaltungskomponenten, wie beispielsweise die Steuerschaltung 20 oder das Adressregister 30 sind zwischen den Speicherbänken, im so genannten Spine-Bereich SP, des Halbleiterchips angeordnet. 2 shows a semiconductor chip HC comprising memory banks B1, B2, B3 and B4. Inside the memory banks are, as in 1 shown, volatile and nonvolatile memory cells in a first memory cell array SF1 and only volatile memory cells, such as DRAM memory cells, arranged in a second memory cell array SF2. In the 1 shown remaining circuit components, such as the control circuit 20 or the address register 30 are arranged between the memory banks, in the so-called spin region SP, of the semiconductor chip.

3 zeigt in vergrößerter Darstellung einen Ausschnitt einer Speicherbank. Am Rand der Speicherbank befindet sich das erste Speicherzellenfeld SF1, das die flüchtigen und nichtflüchtigen Speicherzellen enthält. Daran anschließend sind zweite Speicherzellenfelder SF2a, SF2b, SF2c und SF2d angeordnet. Die Speicherzellenfelder sind jeweils durch Leseverstärkerstreifen SAS getrennt, in denen sich Leserverstärker zur Verstärkung des Speicherinhalts einer ausgewählten Speicherzelle bzw. zum Verstärken des an dem Datenanschluss DQ anliegenden Datums zum Einschreiben in eine ausgewählte Speicherzelle befinden. 3 shows an enlarged view of a section of a memory bank. At the edge of the memory bank is the first memory cell array SF1, which contains the volatile and nonvolatile memory cells. Subsequently, second memory cell arrays SF2a, SF2b, SF2c and SF2d are arranged. The memory cell arrays are each separated by sense amplifier strips SAS in which reader amplifiers for amplifying the memory contents of a selected memory cell or for amplifying the data applied to the data terminal DQ for writing in an out chose memory cell located.

4 zeigt einen Ausschnitt A der Speicherbank B aus 3. Die Bitleitungen BL sind innerhalb des ersten Speicherzellenfeldes SF1 und des zweiten Speicherzellenfeldes SF2a als Bitleitungstwist ausgebildet. An Kreuzungspunkten von Wortleitungen WL und Bitleitungen BL sind True-Speicherzellen SZT oder Komplement-Speicherzellen SZC angeordnet. Die Bitleitungen sind jeweils paarweise mit einem Leseverstärker SA verbunden. Ein Bitleitungspaar umfasst eine True-Bitleitung BLT und eine Komplement-Bitleitung BLC. Innerhalb des ersten Speicherzellenfeldes SF1 sind zwischen der True-Bitleitung BLT und der Komplement-Bitleitung BLC nichtflüchtige Speicherzellen WZ angeordnet. In dem zweiten Speicherzellenfeld SF2a sind ausschließlich flüchtige Speicherzellen vorhanden. Diese sind ebenfalls entlang von Wortleitung WL und Bitleitungen BLC und BLT angeordnet. Eine True-Bitleitung BLT und eine Komplement-Bitleitung BLC sind auch hier als Bitleitungspaar angeordnet und jeweils mit einem Leseverstärker SA verbunden. Entlang der True-Bitleitung BLT sind True-Speicherzellen SZT und entlang der Komplement-Bitleitung BLC sind Komplement-Speicherzellen SZC angeordnet. 4 shows a section A of the memory bank B from 3 , The bit lines BL are formed within the first memory cell array SF1 and the second memory cell array SF2a as Bitleitungswist. At crossing points of word lines WL and bit lines BL, true memory cells SZT or complement memory cells SZC are arranged. The bit lines are each connected in pairs to a sense amplifier SA. A bit line pair includes a true bit line BLT and a complement bit line BLC. Within the first memory cell array SF1, nonvolatile memory cells WZ are arranged between the true bit line BLT and the complement bit line BLC. In the second memory cell array SF2a only volatile memory cells are present. These are also arranged along word line WL and bit lines BLC and BLT. A true bit line BLT and a complement bit line BLC are also arranged here as a bit line pair and in each case connected to a sense amplifier SA. Along the true bit line BLT are true memory cells SZT and along the complement bit line BLC are complement memory cells SZC arranged.

Zum Einschreiben oder Auslesen einer Information aus den flüchtigen Speicherzellen oder den nichtflüchtigen Speicherzellen sind die Leseverstärker jeweils über einen Datenbus LDQ mit dem externen Datenanschluss DQ verbunden. Die Leseverstärker, die mit den Bitleitungen des ersten Speicherzellenfeldes SF1 verbunden sind, speichern wahlweise eine Information in den flüchtigen Speicherzellen SZ oder den nichtflüchtigen Speicherzellen WZ ab. Den nichtflüchtigen Speicherzellen WZ sind ebenso Zeilen- und Spaltenadressen zugeordnet wie den flüchtigen Speicherzellen. Vorteilhafterweise lassen sich die nichtflüchtigen Speicherzellen ebenso wie die flüchtigen Speicherzellen durch die Zeilen- und Spaltendekoder 70 und 80 auswählen. Die nichtflüchtigen Speicherzellen enthalten beispielsweise einen programmierbaren Widerstand. In Abhängigkeit von dem programmierten Widerstandswert tritt auf den Bitleitungen eines Bitleitungspaares eine Potentialverschiebung auf, die von dem angeschlossenen Leseverstärker bewertet wird. Die nichtflüchtigen Speicherzellen können ebenso auch als MRAM, FeRAM oder SRAM-Speicherzellen ausgebildet sein. Zur Auswahl einer der flüchtigen und nichtflüchtigen Speicherzellen sowie zum Auslesen und Einschreiben einer Information aus den bzw. in die flüchtigen und nichtflüchtigen Speicherzellen lassen sich dadurch die gleichen Ansteuerschaltungen verwenden. Somit braucht für die nichtflüchtigen Speicherzellen kein eigenes Speicherzellenfeld mit einer eigenen Ansteuerlogik vorgesehen zu werden.For writing or reading information from the volatile memory cells or the nonvolatile memory cells, the sense amplifiers are each connected to the external data terminal DQ via a data bus LDQ. The sense amplifiers connected to the bit lines of the first memory cell array SF1 selectively store information in the volatile memory cells SZ or the nonvolatile memory cells WZ. The nonvolatile memory cells WZ are also assigned row and column addresses as well as the volatile memory cells. Advantageously, the nonvolatile memory cells as well as the volatile memory cells can be passed through the row and column decoders 70 and 80 choose. The nonvolatile memory cells include, for example, a programmable resistor. Depending on the programmed resistance value, a potential shift occurs on the bit lines of a bit line pair which is evaluated by the connected sense amplifier. The non-volatile memory cells may also be designed as MRAM, FeRAM or SRAM memory cells. For selecting one of the volatile and non-volatile memory cells and for reading and writing information from or into the volatile and non-volatile memory cells, the same drive circuits can be used. Thus, for the non-volatile memory cells no separate memory cell array needs to be provided with its own control logic.

5A zeigt einen logischen Adressraum einer Speicherbank mit x- und y-Adressen X0, ..., X31 und Y0, ..., Y255. Der niederwertige x-Adressbereich umfasst die Adressen X0, ..., X15. Der höherwertige x-Adressbereich umfasst die Adressen X16, ..., X31. Über die Adressen lassen sich Wortleitungen auswählen, die an die flüchtigen Speicherzellen im ersten o der zweiten Speicherzellenfeldes angeschlossen sind. Über die Adressen Xw0, ..., Xw3 lassen sich nichtflüchtige Speicherzellen innerhalb des ersten Speicherzellenfeldes auswählen. 5A shows a logical address space of a memory bank with x and y addresses X0, ..., X31 and Y0, ..., Y255. The low-order x address range includes the addresses X0,..., X15. The higher-order x address range includes the addresses X16,..., X31. Via the addresses can be selected word lines which are connected to the volatile memory cells in the first o of the second memory cell array. Nonvolatile memory cells within the first memory cell array can be selected via the addresses X w 0,..., X w 3.

Die Aufteilung des Adressraums in Adressbereiche, die mit flüchtigen Speicherzellen verknüpft sind und in Adressbereiche, die mit nichtflüchtigen Speicherzellen verknüpft sind, kann über Bereichsdefinition oder Bitinjizierung erfolgen. Bei der Bereichsdefinition lassen sich nichtflüchtigen Speicherzellen mit Adresswerten oberhalb einem bestimmten Wert adressieren. Adresswerte unterhalb dieses Wertes sprechen flüchtige Speicherzellen an. Bei der Bitinjizierung wird zum Zugriff auf die nichtflüchtigen Speicherzellen ein Adressbit an einer bestimmten Position einer Bitadresse auf beispielsweise den logischen Wert „1" gesetzt. Die niederwertigen Adressbits wählen dann eine nichtflüchtige Speicherzelle im ersten Speicherzellenfeld aus.The Distribution of the address space in address ranges that are volatile Memory cells are linked and in address areas associated with nonvolatile memory cells, can over Area definition or bit injection. In the area definition can be non-volatile Address memory cells with address values above a certain value. Address values below this value are addressed by volatile memory cells. at The bit injection is used to access the nonvolatile memory cells an address bit at a particular position of a bit address For example, the logical value "1" is set choose then a non-volatile one Memory cell in the first memory cell array off.

5B zeigt den Adressraum der nichtflüchtigen Speicherzellen. Erste nichtflüchtige Speicherzellen WZa befinden sich in einem Adressbereich KB, der über die Adressen Xw0 und die Adressen Y0, ..., Y15 adressierbar ist. In den ersten nichtflüchtigen Speicherzellen lassen sich Konfigurationsdaten zur Konfigurierung von zweiten nichtflüchtigen Speicherzellen WZb, in denen die eigentlichen Betriebsdaten abgespeichert werden, speichern. Die zweiten nichtflüchtigen Speicherzellen WZb befinden sich an den Adresspositionen Xw0 und Y16, ..., Y255; Xw1 und Y0, ..., Y255; Xw2 und Y0, ..., Y255; Xw2 und Y0, ..., Y255; Xw3 und Y0, ..., Y255. In den zweiten nichtflüchtigen Speicherzellen WZb werden vorzugsweise Betriebsdaten des integrierten Halbleiterspeichers abgespeichert. 5B shows the address space of the nonvolatile memory cells. First non-volatile memory cells WZa are located in an address area KB, which is addressable via the addresses X w 0 and the addresses Y0, ..., Y15. In the first nonvolatile memory cells, configuration data for configuring second nonvolatile memory cells WZb, in which the actual operating data are stored, can be stored. The second non-volatile memory cells WZb are located at the address positions X w 0 and Y16, ..., Y255; X w 1 and Y0, ..., Y255; X w 2 and Y0, ..., Y255; X w 2 and Y0, ..., Y255; X w 3 and Y0, ..., Y255. In the second non-volatile memory cells WZb operating data of the integrated semiconductor memory are preferably stored.

5C zeigt eine mögliche Belegung der ersten nichtflüchtigen Speicherzellen WZa mit Konfigurationsinformationen. Dargestellt sind die über die Adressen Xw0, Y0, ..., Y15 auswählbaren ersten nichtflüchtigen Speicherzellen WZa0, ..., WZa15. Die Speicherzelle WZa0 der ersten nichtflüchtigen Speicherzellen enthält eine Information, ob die Betriebsdaten in den zweiten nichtflüchtigen Speicherzellen in einem Präfix-Modus gespeichert werden. Bei einer Speicherung eines Betriebsparameters im Präfix-Modus werden mehrere der zweiten nichtflüchtigen Speicherzellen bei der Speicherung eines Betriebsparameters beschrieben. Einige der zweiten nichtflüchtigen Speicherzellen, die zur Speicherung eines bestimmten Betriebsparameters vorgesehen sind, werden dazu verwendet eine Kennung des Betriebsparameters zu speichern. Eine Speicherung von Betriebsdaten im Präfix-Modus ist insbesondere dann sinnvoll, wenn innerhalb des Speicherbereiches der zweiten nichtflüchtigen Speicherzellen der 5B verschiedene Betriebsparameter abgespeichert werden. Eine weitere vorteilhafte Anwendung des Präfix-Modus ist gegeben, wenn innerhalb des nichtflüchtigen Speicherbereiches das Auftreten eines Fehlers protokolliert wird. Neben dem Auftreten des eigentlichen Fehlerereignisses lässt sich beispielsweise die Fehleradresse einer Speicherzelle, die beim Auftreten des Fehlers herrschende Temperatur sowie Referenzströme oder Referenzspannungen speichern. 5C shows a possible assignment of the first non-volatile memory cells WZa with configuration information. Shown are the first nonvolatile memory cells WZa0, ..., WZa15 that can be selected via the addresses X w 0, Y0,..., Y15. The memory cell WZa0 of the first nonvolatile memory cells contains information as to whether the operating data in the second nonvolatile memory cells are stored in a prefix mode. When storing an operating parameter in the prefix mode, several of the second nonvolatile memory cells are described when storing an operating parameter. Some of the second non-volatile memory cells provided for storing a particular operating parameter are used to identify the operation save sparameters. A storage of operating data in the prefix mode is particularly useful if within the memory area of the second non-volatile memory cells of 5B various operating parameters are stored. Another advantageous application of the prefix mode is when the occurrence of an error is logged within the non-volatile memory area. In addition to the occurrence of the actual error event can be, for example, the error address of a memory cell, the prevailing temperature at the occurrence of the error and store reference currents or reference voltages.

Die Speicherzelle WZa1 der ersten nichtflüchtigen Speicherzellen des Konfigurationsbereiches enthält eine Information, ob der Speicherbereich der zweiten nichtflüchtigen Speicherzellen zur Speicherung eines Betriebsparameters genutzt werden soll. Ein möglicher Betriebsparameter ist beispielsweise die Betriebsdauer des integrierten Halbleiterspeichers. Zur Protokollierung der Betriebsdauer ist auf dem integrierten Halbleiterspeicher eine Zählerschaltung 60 vorgesehen. Die Zählerschaltung 60 enthält ein Register, dessen aktueller Zählerstand beispielsweise alle sechs Minuten erhöht wird. Der Zählerstand wird in regelmäßigen zeitlichen Abständen von der Steuerschaltung 20 in den nichtflüchtigen zweiten Speicherzellen des ersten Speicherzellenfeldes SF1 abgespeichert.The memory cell WZa1 of the first nonvolatile memory cells of the configuration area contains information as to whether the memory area of the second nonvolatile memory cells should be used to store an operating parameter. A possible operating parameter is, for example, the operating life of the integrated semiconductor memory. For logging the operating time is a counter circuit on the integrated semiconductor memory 60 intended. The counter circuit 60 contains a register whose current counter reading is increased every six minutes, for example. The counter reading is at regular intervals from the control circuit 20 stored in the nonvolatile second memory cells of the first memory cell array SF1.

Die Speicherzelle WZa2 der ersten nichtflüchtigen Speicherzellen innerhalb des Konfigurationsbereiches enthält eine Information, ob der abzuspeichernde Betriebsparameter im Rahmen einer Hintergrundspeicherung während des Betriebs des integrierten Halbleiterspeichers, beispielsweise bei einem Auffrischvorgang von Speicherzellen, die in dem zweiten Speicherzellenfeld SF2 liegen, erfolgen soll. Da, wie in 4 gezeigt, nichtflüchtige Speicherzellen lediglich im ersten Speicherzellenfeld SF1 angeordnet sind, kann das Abspeichern von Betriebsparametern in den nichtflüchtigen Speicherzellen parallel zu dem Auffrischungsvorgang der flüchtigen Speicherzellen des zweiten Speicherzellenfeldes SF2a stattfinden.The memory cell WZa2 of the first nonvolatile memory cells within the configuration area contains information as to whether the operating parameter to be stored is to take place during background storage during operation of the integrated semiconductor memory, for example during a refresh operation of memory cells located in the second memory cell array SF2. There, as in 4 As shown, nonvolatile memory cells are arranged only in the first memory cell array SF1, the storage of operating parameters in the nonvolatile memory cells can take place in parallel with the refresh operation of the volatile memory cells of the second memory cell array SF2a.

Wenn die Speicherzelle WZa3 der ersten nichtflüchtigen Speicherzellen programmiert ist, lassen sich die zweiten nichtflüchtigen Speicherzellen WZb des ersten Speicherzellenfeldes extern beschreiben, bzw. es lässt sich von extern ein Betriebsparameter zur Speicherung in den nichtflüchtigen Speicherzellen auswählen. Das Beschreiben der nichtflüchtigen Speicherzellen erfolgt dabei in einem so genannten Appending-Modus. Dies bedeutet, dass bereits beschriebene nichtflüchtige zweite Speicherzellen nicht überschrieben werden können. Stattdessen wird die zuletzt beschriebene nichtflüchtige zweite Speicherzelle ermittelt und die im Adressraum nächst höher liegende nichtflüchtige zweite Speicherzelle für den Speichervorgang ausgewählt.If programmed the memory cell WZa3 of the first non-volatile memory cells is, the second nonvolatile memory cells WZb can be externally describe the first memory cell array, or it can be externally an operating parameter for storage in the non-volatile memory cells choose. Describing the nonvolatile Memory cells takes place in a so-called Appending mode. This means that already described non-volatile second memory cells are not overwritten can be. Instead becomes the nonvolatile second memory cell described last determined and in the address space next higher non-volatile second memory cell for the Save operation selected.

Die Speicherzelle WZa4 der ersten nichtflüchtigen Speicherzellen innerhalb des Konfigurationsbereiches gibt an, ob lediglich ein Lesezugriff auf die nichtflüchtigen zweiten Speicherzellen gestattet ist. Wenn der Lesezugriff erlaubt ist, lassen sich in einer Applikation Betriebsdaten aus den nichtflüchtigen zweiten Speicherzellen WZb auslesen. Als Betriebsparameter lässt sich beispielsweise von einem Temperatursensor 50 in 1 eine Betriebstemperatur ermitteln, die in einem Register 40 zwischengespeichert wird. Die Betriebstemperatur wird aus dem Register 40 bei einem Auffrischungsvorgang von flüchtigen Speicherzellen des zweiten Speicherzellenfeldes ausgelesen und in den zweiten nichtflüchtigen Speicherzellen des ersten Speicherzellenfeldes abgespeichert.The memory cell WZa4 of the first nonvolatile memory cells within the configuration area indicates whether only read access to the nonvolatile second memory cells is permitted. If the read access is permitted, operating data can be read from the nonvolatile second memory cells WZb in an application. As an operating parameter can be, for example, from a temperature sensor 50 in 1 determine an operating temperature in a register 40 is cached. The operating temperature is out of the register 40 in a refresh process of volatile memory cells of the second memory cell array read and stored in the second nonvolatile memory cells of the first memory cell array.

Wenn der Lesezugriff auf die nichtflüchtigen Speicherzellen gestattet ist, lässt sich die Betriebstemperatur von einem Speichercontroller auswerten. Der Speichercontroller kann dann beispielsweise bei einer hohen Betriebstemperatur die Betriebsfrequenz des Halbleiterspeichers reduzieren.If the read access to the nonvolatile memory cells is allowed evaluate the operating temperature of a memory controller. Of the Memory controller can then, for example, at a high operating temperature reduce the operating frequency of the semiconductor memory.

Der Speicherzustand in den ersten nichtflüchtigen Speicherzellen WZa5 und WZa6 innerhalb des Konfigurationsbereiches gibt an, ob die Speicherung eines Betriebsparameters innerhalb der nichtflüchtigen zweiten Speicherzellen bit-, byte- oder wortweise erfolgen soll. Bei einer byte- oder wortweisen Speicherung eines Betriebsparameters ist die Information in mehreren Bits kodiert. Bei der bitweisen Speicherung hingegen ist die Information des abzuspeichernden Betriebsparameters in einem einzelnen Bit kodiert. Wenn beispielsweise die Betriebsdauer bitweise gespeichert werden soll, so wird in bestimmten Zeitabständen, beispielsweise alle sechs Minuten, sobald ein Auffrischungsvorgang für Speicherzellen innerhalb des zweiten Speicherzellenfeldes stattfindet, eine der zweiten nichtflüchtigen Speicherzellen WZb beschrieben.Of the Memory state in the first nonvolatile memory cells WZa5 and WZa6 within the configuration area indicates whether the storage an operating parameter within the non-volatile second memory cells bit, byte or wordwise should be done. For a byte or wordwise storage of a Operating parameters is the information encoded in several bits. In the bitwise storage, however, is the information of the stored Operating parameters encoded in a single bit. If, for example the operating time is to be stored bit by bit, so in certain Intervals, for example, every six minutes, once a refresh process for memory cells takes place within the second memory cell array, one of second non-volatile Memory cells WZb described.

Zu Beginn der Betriebsdauer wird beispielsweise die nichtflüchtige zweite Speicherzelle, die der Adresse Xw0, Y16 zugeordnet ist mit einem "1"-Pegel beschrieben. Alle sechs Minuten später wird eine auf die zuletzt beschriebene nichtflüchtige Speicherzelle im Adressraum folgende Speicherzelle, also bei der zweiten Speicherung die Speicherzelle, die zu der Adresse Xw0, Y17 zugehörig ist, mit dem logischen „1"-Pegel beschrieben. Wenn bei dieser Art der Speicherung die Betriebsdauer über einen Zeitraum von zehn Jahren protokolliert werden soll, werden dazu 876.000 nichtflüchtige Speicherzellen benötigt. Im Vergleich zu typischen 512 Mb DRAM-Speicherzellen sind dazu lediglich 0,163 % an zusätzlichem Speicherplatz notwendig.At the beginning of the operating period, for example, the non-volatile second memory cell associated with the address X w 0, Y16 is described as having a "1" level. Every six minutes later, a memory cell following the last-described non-volatile memory cell in the address space, that is, the memory cell associated with the address X w 0, Y17 at the second memory, is written at the logical "1" level Storage duration over a 10-year period requires 876,000 non-volatile memory cells, compared to typical 512 Mb DRAM memory cells, which only require 0.163% additional memory necessary.

Die Speicherzellen WZa6, ..., WZa14 der ersten nichtflüchtigen Speicherzellen enthalten eine Information über die Anzahl der logischen Speicherbereiche, in die die zweiten nichtflüchtigen Speicherzellen unterteilt sind. Des Weiteren enthalten die ersten nichtflüchtigen Speicherzellen WZa6,..., WZa14 eine Information über den innerhalb eines Speicherbereiches zu speichernden Betriebsparameter. Dadurch ist es beispielsweise möglich, den logischen Adressraum von nichtflüchtigen Speicherzellen der 5B in zwei verschiedene Bereiche zu unterteilen, wobei in einem ersten nichtflüchtigen Speicherbereich die Anzahl von Aktivierungen von Leseverstärkern in einem bestimmten Leserverstärkerstreifen über einen Betriebszeitraum protokolliert wird und in einem zweiten nichtflüchtigen Speicherbereich die Betriebstemperatur über einen längeren Zeitraum aufgezeichnet wird.The memory cells WZa6, ..., WZa14 of the first nonvolatile memory cells contain information about the number of logical memory areas into which the second nonvolatile memory cells are divided. Furthermore, the first non-volatile memory cells WZa6,..., WZa14 contain information about the operating parameters to be stored within a memory area. This makes it possible, for example, the logical address space of nonvolatile memory cells of 5B into two different areas, wherein in a first nonvolatile memory area the number of activations of sense amplifiers in a particular reader amplifier strip is logged over an operating period and in a second nonvolatile memory area the operating temperature is recorded over a longer period of time.

Die Speicherzelle WZa15 der ersten nichtflüchtigen Speicherzellen enthält eine Information, ob die Speicherkapazität der zweiten nichtflüchtigen Speicherzellen bereits vollständig erschöpft ist, da alle zweiten nichtflüchtigen Speicherzellen schon mit Informationsdaten beschrieben sind. Wenn die nichtflüchtige Speicherzelle WZa15 beispielsweise mit einem logischen "1"-Pegel programmiert ist, ist der zur Verfügung stehende Speicherraum erschöpft und das Protokollieren eines Betriebsparameters in den zweiten nichtflüchtigen Speicherzellen wird unterbrochen.The Memory cell WZa15 of the first nonvolatile memory cells includes a Information as to the storage capacity of the second non-volatile memory cells already complete exhausted is because all second nonvolatile Memory cells are already described with information data. If the non-volatile Memory cell WZa15 is programmed with a logical "1" level, for example, is the available Memory space exhausted and logging an operating parameter into the second non-volatile one Memory cells is interrupted.

Der Speicherzustand der ersten nichtflüchtigen Speicherzellen wird entweder bereits bei der Fertigung oder erst im späteren Betrieb des integrierten Halbleiterspeichers festgelegt. So kann beispielsweise die spätere Verwendung der zweiten nichtflüchtigen Speicherzellen zur Speicherung eines Betriebsparameters durch eine Vorprogrammierung der ersten nichtflüchtigen Speicherzellen im Konfigurationsbereich bereits vom Hersteller festgelegt werden. Ein bestimmter Bereich der zweiten nichtflüchtigen Speicherzellen WZb kann beispielsweise zur Protokollierung der Betriebsdauer des integrierten Halbleiterspeichers vorgesehen sein.Of the Memory state of the first nonvolatile memory cells is either already during production or only later in operation of the integrated semiconductor memory. So, for example the later one Use of the second non-volatile Memory cells for storing an operating parameter by a Pre-programming of the first non-volatile memory cells in the configuration area already determined by the manufacturer. A specific area the second non-volatile Memory cells WZb can, for example, for logging the operating time be provided of the integrated semiconductor memory.

Wenn ein Speicherbereich mit nichtflüchtigen Speicherzellen erst in einer Applikation konfiguriert wird, so kann beispielsweise das Protokollieren der Betriebstemperatur dadurch gestartet werden, dass ein Signalisierungsbit in einem Register 21, wie beispielsweise dem Mode-Register oder dem Extended-Mode-Register gesetzt wird. Wenn die Steuerschaltung 20 das gesetzte Bit in einem der beiden Register detektiert, wählt sie beispielsweise einen nichtflüchtigen Speicherbereich zur Aufzeichnung der Betriebstemperatur aus und legt durch Programmierung der ersten nichtflüchtigen Speicherzel len die Konfiguration der zweiten nichtflüchtigen Speicherzellen selbständig fest. Vorzugsweise wird bei einem Zugriff auf die nichtflüchtigen Speicherzellen über das Mode-/Extended-Mode-Register nur ein Zugriff im Appending-Modus, also ohne Überschreiben bereits programmierter nichtflüchtiger Speicherzellen, gestattet. Als weitere Einschränkung kann vorgesehen sein, dass der Anwender des integrierten Halbleiterspeichers in einer Applikation nur auf bestimmte freigegebene nichtflüchtige Speicherbereiche lesend zugreifen kann.If a memory area with non-volatile memory cells is first configured in an application, then, for example, the logging of the operating temperature can be started by a signaling bit in a register 21 , such as the mode register or the extended mode register. When the control circuit 20 detects the set bit in one of the two registers, for example, it selects a non-volatile memory area for recording the operating temperature and sets by programming the first non-volatile Speicherzel len the configuration of the second non-volatile memory cells independently. When accessing the nonvolatile memory cells via the mode / extended mode register, preferably only access in appending mode, ie without overwriting of already programmed nonvolatile memory cells, is permitted. As a further restriction, it may be provided that the user of the integrated semiconductor memory can only read access to certain shared non-volatile memory areas in an application.

Neben der Möglichkeit auf die nichtflüchtigen Speicherzellen durch Setzen eines Bits in einem Mode-Register oder einem Extended-Mode-Register zuzugreifen, besteht auch die Möglichkeit durch das Anlegen eines charakteristischen Test-Mode-Signals TM bzw. einer oder mehrerer charakteristischer Schlüsselbitfolgen an den Steueranschluss S20 der Steuerschaltung 20 auf die nichtflüchtigen Speicherzellen zuzugreifen. Wenn beispielsweise der integrierte Halbleiterspeicher in einer Applikation ausgefallen ist und als Kundenretoure an den Hersteller zurückgeschickt wird, kann der Hersteller über die charakteristische Schlüsselbitfolgen den gesamten nichtflüchtigen Speicherbereich auslesen. Dadurch lassen sich Rückschlüsse auf mögliche Ausfallursachen eines Speicherbausteins ziehen. Es besteht ferner die Möglichkeit, über das Test-Mode-Signal bereits vor Auslieferung des Bauteils verschiedenen Herstellungs- und Testdaten wie beispielsweise verwendete Trimm-Modi, Testprogrammnamen, Loszuordnungen und Zuordnungen zu Herstellungsmaschinen in den nichtflüchtigen Speicherzellen abzuspeichern. Somit kann ein ausgefallener Baustein einem Herstellungszeitraum sowie einer Fertigungslinie zugeordnet werden. Anhand der Kenntnis der Produktionsparameter lassen sich bei einem ausgefallenen Bauteil ebenfalls oftmals Rückschlüsse auf die Ausfallursache ziehen.In addition to the possibility of accessing the nonvolatile memory cells by setting a bit in a mode register or an extended mode register, it is also possible to apply a characteristic test mode signal TM or one or more characteristic key bit sequences to the control terminal S20 of the control circuit 20 to access the nonvolatile memory cells. If, for example, the integrated semiconductor memory has failed in one application and is sent back to the manufacturer as a customer return, the manufacturer can read out the entire nonvolatile memory area via the characteristic key bit sequences. This makes it possible to draw conclusions about possible causes of failure of a memory module. It is also possible to store various manufacturing and test data such as trim modes, test program names, lot assignments and assignments to production machines in the nonvolatile memory cells via the test mode signal even before delivery of the component. Thus, a failed module can be assigned to a production period and a production line. On the basis of the knowledge of the production parameters, it is also often possible to draw conclusions about the cause of the failure in the case of a failed component.

Wenn ein Speicherbereich von zweiten nichtflüchtigen Speicherzellen kontinuierlich fortlaufend von niedrigen zu hohen Adresspositionen beschrieben wird, so wird bei jedem Hochfahren des Halbleiterspeichers innerhalb des Speicherbereichs der nichtflüchtigen Speicherzellen diejenige Adressposition bestimmt, ab der während der folgenden Betriebszeit die Speicherung von Betriebsparametern fortgesetzt werden kann. Dadurch wird verhindert, dass bereits beschriebene nichtflüchtige Speicherzellen überschrieben werden.If a storage area of second nonvolatile memory cells continuously continuously from low to high address positions becomes, so at each startup of the semiconductor memory within the memory area of the non-volatile Memory cells determines the address position, starting from during the following operating time the storage of operating parameters continues can be. This prevents that already described nonvolatile Memory cells overwritten become.

6 zeigt dazu den Adressraum AB1 der nichtflüchtigen Speicherzellen. Im Beispiel der 6 sind alle nichtflüchtigen Speicherzellen, die zu einer Adresse y < 143 gehören, bereits programmiert, indem dort bereits Betriebdaten abgespeichert worden sind. Wenn der nichtflüchtige Speicherbereich kontinuierlich fortlaufend von einer niedrigen zu einer hohen Adressposition beschrieben wird, so wird nach dem Hochfahren des integrierten Halbleiterspeichers die Adresse der nächsten freien zu beschreibenden nichtflüchtigen Speicherzelle durch eine binäre Adresssuche bestimmt. Im Folgenden wird die Bestimmung einer freien Speicherzelle anhand der ihr zugeordneten y-Adresse beschrieben. Wenn der nichtflüchtige Adressraum die Adresspositionen y = 0 bis y = 255 aufweist, wird zu Beginn des binären Adresssuchalgorithmus der Speicherzustand einer nichtflüchtigen Speicherzelle an der Adressposition y = 255 untersucht. Im Beispiel der 6 sind in den nichtflüchtigen Speicherzellen, die zu der Adresse y = 255 zugehörig sind, keine Betriebsparameter abgespeichert. Anschließend wird der Adressraum halbiert und an der Adressposition y = 127 eine Auswertung des Speicherzustandes der zugehörigen nichtflüchtigen Speicherzellen durchgeführt. Da die nichtflüchtigen Speicherzellen an dieser Stelle beschrieben sind, muss die nächste freie nichtflüchtige Speicherzelle im Adressraum zwischen den Adressen y = 127 bis y = 255 liegen. Nach Halbierung dieses Adressraums wird die Adressposition y = 191 untersucht. Da an den Speicherzellen an dieser Adressposition kein Betriebsparameter abgespeichert ist, muss die letzte beschriebene nichtflüchtige Speicherzelle im Adressraum y = 127 bis y = 191 liegen. Durch fortwährende Halbierung der Adressintervalle wird letztendlich die Adresse y = 143, an der die letzte beschriebene nichtflüchtige Speicherzelle liegt, gefunden. Somit kann im Folgenden an der Adressposition y = 144 die Protokollierung eines Betriebsparameters fortgesetzt werden. 6 shows the address space AB1 of the nonvolatile memory cells. In the example of 6 All nonvolatile memory cells which belong to an address y <143 have already been programmed by already storing operating data there. When the nonvolatile memory area continuously progresses from low to high hen address position is described, so after the startup of the integrated semiconductor memory, the address of the next free to be described non-volatile memory cell is determined by a binary address search. In the following, the determination of a free memory cell will be described on the basis of its assigned y-address. If the nonvolatile address space has the address positions y = 0 to y = 255, the memory state of a nonvolatile memory cell at the address position y = 255 is examined at the beginning of the binary address search algorithm. In the example of 6 are stored in the nonvolatile memory cells associated with the address y = 255, no operating parameters. Subsequently, the address space is halved and carried out at the address position y = 127 an evaluation of the memory state of the associated non-volatile memory cells. Since the nonvolatile memory cells are described here, the next free nonvolatile memory cell must be in the address space between the addresses y = 127 to y = 255. After halving this address space, the address position y = 191 is examined. Since no operating parameter is stored at the memory cells at this address position, the last described nonvolatile memory cell must lie in the address space y = 127 to y = 191. By continuously halving the address intervals, the address y = 143, at which the last described non-volatile memory cell is located, is finally found. Thus, in the following, the logging of an operating parameter can be continued at the address position y = 144.

7 zeigt ein Ablaufdiagramm zur Protokollierung eines Betriebsparameters. Im Beispiel der 7 wurde bei der Herstellung des integrierten Halbleiterspeichers ein nichtflüchtiger Speicherbereich vorgesehen, in dem das Auftreten eines Fehlerereignisses während der Betriebszeit des integrierten Halbleiterspeichers aufgezeichnet wird. Nach dem Hochfahren des Halbleiterspeichers wertet die Steuerschaltung 20 die ersten nichtflüchtigen Speicherzellen innerhalb des Konfigurationsbereiches des nichtflüchtigen Speicherbereiches aus. Wenn die nichtflüchtige Speicherzelle WZa15 den logischen Zustand "0" aufweist, ist der Speicherbereich noch nicht vollständig beschrieben. In diesem Fall wird durch binäre Adresssuche die Endadresse des nichtflüchtigen Speicherbereichs bestimmt. Die Steuerschaltung 20 aktiviert nachfolgend den Ereigniszähler, im Beispiel das Auftreten eines bestimmten Fehlerereignisses. Beim Auftreten des Fehlers wird ein Ereignisregister entsprechend programmiert. Das Ereignisregister dient als Zwischenspeicher. Wenn flüchtige Speicherzellen innerhalb des zweiten Speicherzellenfeldes aufgefrischt werden, kann in den nichtflüchtigen Speicherzellen des ersten Speicherzellenfeldes der aktuelle Wert des Ereignisregisters abgespeichert werden. Solange die nichtflüchtige Speicherzelle WZa1 den logischen Speicherzustand "1" aufweist, wird bei jedem Auftreten des Fehlerereignisses eine nichtflüchtige Speicherzelle im ersten Speicherzellenfeld beim Auffrischen von flüchtigen Speicherzellen im zweiten Speicherzellenfeld programmiert. Durch einen Zustandswechsel der nichtflüchtigen Speicherzelle WZa1 vom logischen "1"-Zustand in den logischen "0"-Zustand kann die Protokollierung des Fehlerereignisses jederzeit unterbrochen werden. 7 shows a flowchart for logging an operating parameter. In the example of 7 For example, in the manufacture of the integrated semiconductor memory, a non-volatile memory area has been provided in which the occurrence of an error event during the operating time of the integrated semiconductor memory is recorded. After starting up the semiconductor memory evaluates the control circuit 20 the first nonvolatile memory cells within the configuration area of the nonvolatile memory area. When the nonvolatile memory cell WZa15 has the logic state "0", the memory area is not fully described. In this case, the end address of the non-volatile memory area is determined by a binary address search. The control circuit 20 subsequently activates the event counter, in the example the occurrence of a specific error event. When the error occurs, an event register is programmed accordingly. The event register serves as a buffer. When volatile memory cells within the second memory cell array are refreshed, the current value of the event register can be stored in the nonvolatile memory cells of the first memory cell array. As long as the non-volatile memory cell WZa1 has the logical memory state "1", each time the error event occurs, a non-volatile memory cell in the first memory cell array is programmed when refreshing volatile memory cells in the second memory cell array. By a state change of the non-volatile memory cell WZa1 from the logical "1" state to the logic "0" state, the logging of the error event can be interrupted at any time.

1010
SpeicherzellenfeldMemory cell array
2020
Steuerschaltungcontrol circuit
2121
Mode-RegisterMode Register
3030
Adressregisteraddress register
4040
Speicherregistermemory register
5050
Temperatursensortemperature sensor
6060
BetriebsstundenzählerHour meter
7070
Zeilendekoderrow decoder
8080
Spaltendekodercolumn decoder
ATAT
Auswahltransistorselection transistor
BB
Speicherbankmemory bank
BLBL
Bitleitungbit
BLPBLP
Bitleitungspaarbit line
DD
Datumdate
DQDQ
Datenanschlussdata port
SASA
Leseverstärkersense amplifier
SASSAS
WortleitungsstreifenWordline strips
SCSC
Speicherkondensatorstorage capacitor
SFSF
SpeicherzellenfeldMemory cell array
SPSP
Spine-BereichSpine-area
SZSZ
flüchtige Speicherzellevolatile memory cell
WLWL
Wortleitungwordline
WZWZ
nichtflüchtige Speicherzellenon-volatile memory cell
X, YX, Y
Adressenaddresses

Claims (25)

Integrierter Halbleiterspeicher mit nichtflüchtiger Speicherung von Daten, – mit einem ersten Speicherzellenfeld (SF1) mit flüchtigen Speicherzellen (SZ) und nichtflüchtigen Speicherzellen (WZ), – mit einem zweiten Speicherzellenfeld (SF2) mit flüchtigen Speicherzellen (SZ), – mit einer Steuerschaltung (20) zur Steuerung eines Zugriffs auf eine der Speicherzellen (SZ, WZ) des ersten und zweiten Speicherzellenfeldes (SF1, SF2), – bei dem die Steuerschaltung (20) derart ausgebildet ist, dass sie während eines Zugriffs auf eine der flüchtigen Speicherzellen (SF1) des zweiten Speicherzellenfeldes (SF2) zur Speicherung mindestens eines im aktuellen Betrieb des integrierten Halbleiterspeichers ermittelten Datums in mindestens einer der nichtflüchtigen Speicherzellen (WZ) des ersten Speicherzellenfeldes einen Schreibzugriff auf die mindestens eine der nichtflüchtigen Speicherzellen des ersten Speicherzellenfeldes durchführt.Integrated semiconductor memory with nonvolatile storage of data, - with a first memory cell array (SF1) with volatile memory cells (SZ) and nonvolatile memory cells (WZ), - with a second memory cell array (SF2) with volatile memory cells (SZ), - with a control circuit ( 20 ) for controlling access to one of the memory cells (SZ, WZ) of the first and second memory cell arrays (SF1, SF2), - in which the control circuit ( 20 ) is designed such that during a write access to one of the volatile memory cells (SF1) of the second memory cell array (SF2) for storing at least one datum determined in the current operation of the integrated semiconductor memory in at least one of the nonvolatile memory cells (WZ) of the first memory cell array is performed on the at least one of the nonvolatile memory cells of the first memory cell array. Integrierter Halbleiterspeicher nach Anspruch 1 – bei dem die flüchtigen Speicherzellen (SZ) des ersten und zweiten Speicherzellenfeldes jeweils derart ausgebildet sind, dass nach einer Abspeicherung eines Speicherzustandes in einer der flüchtigen Speicherzellen zur Erhaltung des abgespeicherten Speicherzustandes der Speicherzustand spätestens nach Ablauf einer Datenerhaltungszeit aufgefrischt werden muss, – bei dem die Steuerschaltung (20) derart ausgebildet ist, dass sie zur Erhaltung des abgespeicherten Speicherzu standes in einer der Speicherzellen des zweiten Speicherzellenfeldes (SF2) den in der einen der Speicherzellen abgespeicherten Speicherzustand auffrischt und dabei das im aktuellen Betrieb des integrierten Halbleiterspeichers ermittelte Datum in der einen der nichtflüchtigen Speicherzellen des ersten Speicherzellenfeldes abspeichert.Integrated semiconductor memory according to claim 1 - wherein the volatile memory cells (SZ) of the first and second memory cell array are each formed such that after storing a memory state in one of the volatile memory cells to maintain the stored memory state, the memory state must be refreshed at the latest after the expiration of a data retention period In which the control circuit ( 20 ) is designed such that, in order to maintain the stored memory state in one of the memory cells of the second memory cell array (SF2), it refreshes the memory state stored in one of the memory cells, thereby determining the datum in one of the nonvolatile memory cells of the one determined in the current operation of the integrated semiconductor memory first memory cell array stores. Integrierter Halbleiterspeicher nach einem der Ansprüche 1 oder 2, – bei dem zur Durchführung eines Lese- oder Schreibzugriffs auf eine der flüchtigen Speicherzellen (SZ) des ersten Speicherzellfeldes (SF1) eine Ansteuerschaltung (SA, 20, 30) vorgesehen ist, – bei dem die nichtflüchtigen Speicherzellen (SZ) jeweils derart ausgebildet sind, dass zur Durchführung eines Lese- oder Schreibzugriffs auf eine der nichtflüchtigen Speicherzellen die Ansteuerschaltung (SA, 20, 30), die zur Durchführung des Lese- oder Schreibzugriffs auf eine der flüchtigen Speicherzellen (SZ) des ersten Speicherzellenfeldes vorgesehen ist, verwendbar ist.Integrated semiconductor memory according to one of Claims 1 or 2, in which a drive circuit (SA, SA) for carrying out a read or write access to one of the volatile memory cells (SZ) of the first memory cell array (SF1). 20 . 30 ), in which the non-volatile memory cells (SZ) are each designed in such a way that for carrying out a read or write access to one of the non-volatile memory cells, the drive circuit (SA, 20 . 30 ), which is provided for carrying out the read or write access to one of the volatile memory cells (SZ) of the first memory cell array, is usable. Integrierter Halbleiterspeicher nach einem der Ansprüche 1 bis 3, – bei dem im ersten und zweiten Speicherzellenfeld Leseverstärker (SA) vorgesehen sind, die jeweils an ein Bitleitungspaar (BLP) mit einer ersten und einer zweiten Bitleitung (BLT, BLC) angeschlossen sind, – bei dem die flüchtigen Speicherzellen (SZ) und die nichtflüchtigen Speicherzellen (WZ) des ersten Speicherzellenfeldes (SF1) jeweils an ein Bitleitungspaar angeschlossen sind, – bei dem die flüchtigen Speicherzellen (SZ) und die nichtflüchtigen Speicherzellen (WZ) jeweils derart ausgebildet sind, dass sie beim Auslesen eine Potentialdifferenz zwischen der ersten und der zweiten Bitleitung des Bitleitungspaares (BLP) an das sie jeweilig angeschlossen sind, erzeugen, – bei dem die Leseverstärker (SA) jeweils derart ausgebildet sind, dass sie beim Auslesen einer der flüchtigen Speicherzellen (SZ) und einer der nichtflüchtigen Speicherzellen (WZ) jeweils die Potentialdifferenz zwischen der ersten und zweiten Bitleitung des Bitleitungspaares, an das sie jeweilig angeschlossen sind, auswerten und in Abhängigkeit von der ausgewerteten Potentialdifferenz ein Datum (D) mit einem ersten oder zweiten Pegel erzeugen.Integrated semiconductor memory according to one of claims 1 to 3, - at the sense amplifier (SA) in the first and second memory cell array are provided, each to a bit line pair (BLP) with a first and a second bit line (BLT, BLC) are connected, - in which the fleeting ones Memory cells (SZ) and the non-volatile memory cells (WZ) of the first memory cell array (SF1) are each connected to a bit line pair are, - at the fleeting ones Memory cells (SZ) and the non-volatile memory cells (WZ) are each designed such that when reading a potential difference between the first and the second bit line of the bit line pair (BLP) to which they are respectively connected, - in which the sense amplifiers (SA) are each designed such that they when reading a the volatile one Memory cells (SZ) and one of the non-volatile memory cells (WZ) each the potential difference between the first and second bit line of the bit line pair to which they are respectively connected, evaluate and depending from the evaluated potential difference a date (D) with a first or second level. Integrierter Halbleiterspeicher nach einem der Ansprüche 1 bis 4, – mit ersten der nichtflüchtigen Speicherzellen (WZa), – mit zweiten der nichtflüchtigen Speicherzellen (WZb), – bei dem die Steuerschaltung (20) derart ausgebildet ist, dass sie den Speicherzustand der ersten der nichtflüchtigen Speicherzellen (WZa) auswertet, – bei dem die Steuerschaltung (20) derart ausgebildet ist, dass sie in Abhängigkeit von dem Speicherzustand der ersten der nichtflüchtigen Speicherzellen (WZa) das im aktuellen Betrieb des integrierten Halbleiterspeichers ermittelte Datum in den zweiten der nichtflüchtigen Speicherzellen (WZb) mit einer Betriebsparameterkennung abspeichert, anhand derer sich das im aktuellen Betrieb des integrierten Halbleiterspeichers ermittelte Datum von anderen im aktuellen Betrieb des integrierten Halbleiterspeichers ermittelten Daten unterscheiden lässt.Integrated semiconductor memory according to one of claims 1 to 4, - with first of the nonvolatile memory cells (WZa), - second of the nonvolatile memory cells (WZb), - in which the control circuit ( 20 ) is designed such that it evaluates the memory state of the first of the non-volatile memory cells (WZa), - in which the control circuit ( 20 ) is designed such that, depending on the memory state of the first of the nonvolatile memory cells (WZa), the datum determined in the current operation of the integrated semiconductor memory is stored in the second of the nonvolatile memory cells (WZb) with an operating parameter identifier, on the basis of which this is the current operation of the integrated semiconductor memory can be distinguished from other data determined in the current operation of the integrated semiconductor memory. Integrierter Halbleiterspeicher nach Anspruch 5, bei dem die Steuerschaltung (20) derart ausgebildet ist, dass sie in Abhängigkeit von dem Speicherzustand der ersten der nichtflüchtigen Speicherzellen (WZa) das Abspeichern des im aktuellen Betrieb des integrierten Halbleiterspeichers ermittelten Datums in einer der zweiten der nichtflüchtigen Speicherzellen (WZb) unterbricht.Integrated semiconductor memory according to Claim 5, in which the control circuit ( 20 ) is designed such that it interrupts the storage of the date determined in the current operation of the integrated semiconductor memory in one of the second of the non-volatile memory cells (WZb) as a function of the memory state of the first of the nonvolatile memory cells (WZa). Integrierter Halbleiterspeicher nach einem der Ansprüche 5 oder 6, bei dem die Steuerschaltung (20) derart ausgebildet ist, dass sie in Abhängigkeit von dem Speicherzustand der ersten der nichtflüchtigen Speicherzellen (WZa) nur lesend auf die zweiten der nichtflüchtigen Speicherzellen (WZb) zugreift.Integrated semiconductor memory according to one of Claims 5 or 6, in which the control circuit ( 20 ) is designed such that it accesses the second of the non-volatile memory cells (WZb) in read-only fashion as a function of the memory state of the first of the nonvolatile memory cells (WZa). Integrierter Halbleiterspeicher nach einem der Ansprüche 5 bis 7, bei dem die Steuerschaltung (20) derart ausgebildet ist, dass sie in Abhängigkeit von dem Speicherzustand der ersten der nichtflüchtigen Speicherzellen (WZa) das im aktuellen Betrieb des integrierten Halbleiterspeichers ermittelte Datum in den zweiten der nichtflüchtigen Speicherzellen (WZb) bitweise, byteweise oder wortweise abspeichert.Integrated semiconductor memory according to one of Claims 5 to 7, in which the control circuit ( 20 ) is designed such that, depending on the memory state of the first of the nonvolatile memory cells (WZa), the data determined in the current operation of the integrated semiconductor memory are stored in bitwise, bytewise or wordwise manner in the second of the nonvolatile memory cells (WZb). Integrierter Halbleiterspeicher nach einem der Ansprüche 5 bis 8, bei dem die Steuerschaltung (20) derart ausgebildet ist, dass sie in Abhängigkeit von dem Speicherzustand der ersten der nichtflüchtigen Speicherzellen (WZa) die zweiten der nichtflüchtigen Speicherzellen (WZb) verschiedenen Speicherbereichen zuordnet und in einem ersten der verschiedenen Speicherbereiche ein erstes im aktuellen Be trieb des integrierten Halbleiterspeichers ermitteltes Datum und in einem zweiten der verschiedenen Speicherbereiche ein zweites im aktuellen Betrieb des integrierten Halbleiterspeichers ermitteltes Datum speichert.Integrated semiconductor memory according to one of Claims 5 to 8, in which the control circuit ( 20 ) is configured such that it assigns the second of the nonvolatile memory cells (WZb) different memory areas depending on the memory state of the first of the nonvolatile memory cells (WZa) and in a first of the different memory areas a first in the current loading operation of the integrated semiconductor memory determined date and stores in a second of the different memory areas a second date determined in the current operation of the integrated semiconductor memory. Integrierter Halbleiterspeicher nach einem der Ansprüche 1 bis 9, – bei dem die nichtflüchtigen Speicherzellen (WZ) für einen Lese- und Schreibzugriff über Adressen (Xw, Yw) auswählbar sind, – bei dem die Steuerschaltung (20) derart ausgebildet ist, dass sie bei einem erstmaligen Aktivieren des integrierten Halbleiterspeichers eine Adressposition der zuletzt beschriebenen nichtflüchtigen Speicherzelle (WZ) ermittelt und das im aktuellen Betrieb des integrierten Halbleiterspeichers ermittelte Datum an der auf die zuletzt beschriebene Adressposition folgenden nächst höheren Adressposition abspeichert.Integrated semiconductor memory according to one of Claims 1 to 9, - in which the non-volatile memory cells (WZ) can be selected for read and write access via addresses (X w , Y w ), - in which the control circuit ( 20 ) is designed such that it determines an address position of the last-described nonvolatile memory cell (WZ) upon initial activation of the integrated semiconductor memory and stores the data determined in the current operation of the integrated semiconductor memory at the next higher address position following the address position last described. Integrierter Halbleiterspeicher nach einem der Ansprüche 1 bis 10, – mit einem Register (40) zur Zwischenspeicherung des im aktuellen Betrieb des integrierten Halbleiterspeichers ermittelten Datums, – bei dem die Steuerschaltung (20) derart ausgebildet ist, dass sie bei einer Auffrischung des Speicherzustandes einer der flüchtigen Speicherzellen (SZ) des zweiten Speicherzellenfeldes (SF2) das Register (40) zur Zwischenspeicherung des im aktuellen Betrieb des integrierten Halbleiterspeichers ermittelten Datums ausliest und das zwischengespeicherte im aktuellen Betrieb des integrierten Halbleiterspeichers ermittelte Datum in einer der nichtflüchtigen Speicherzellen (WZ) des ersten Speicherzellenfeldes (SF1) abspeichert.Integrated semiconductor memory according to one of Claims 1 to 10, - having a register ( 40 ) for the intermediate storage of the date determined in the current operation of the integrated semiconductor memory, - in which the control circuit ( 20 ) is designed in such a way that, when the memory state of one of the volatile memory cells (SZ) of the second memory cell array (SF2) is refreshed, the register ( 40 ) for buffering the date determined in the current operation of the integrated semiconductor memory and stores the buffered data determined in the current operation of the integrated semiconductor memory in one of the nonvolatile memory cells (WZ) of the first memory cell array (SF1). Integrierter Halbleiterspeicher nach einem der Ansprüche 1 bis 11, bei dem das Register (40) zur Zwischenspeicherung des im aktuellen Betrieb des integrierten Halbleiterspeichers ermittelten Datums als Register zur Speicherung einer Betriebstemperatur des integrierten Halbleiterspeichers ausgebildet ist.Integrated semiconductor memory according to one of Claims 1 to 11, in which the register ( 40 ) is designed for latching the date determined in the current operation of the integrated semiconductor memory date as a register for storing an operating temperature of the integrated semiconductor memory. Integrierter Halbleiterspeicher nach einem der Ansprüche 1 bis 12, bei dem die Steuerschaltung (20) derart ausgebildet ist, dass sie den Speicherzustand der nichtflüchtigen Speicherzellen (WZ) des ersten Speicherzellenfeldes (SF1) in Abhängigkeit von der Betriebsdauer des integrierten Halbleiterspeichers verändert.Integrated semiconductor memory according to one of Claims 1 to 12, in which the control circuit ( 20 ) is designed such that it changes the storage state of the nonvolatile memory cells (WZ) of the first memory cell array (SF1) as a function of the operating time of the integrated semiconductor memory. Integrierter Halbleiterspeicher nach einem der Ansprüche 1 bis 13, bei dem die nichtflüchtigen Speicherzellen (WZ) jeweils als einmalig irreversibel programmierbare Bauelemente ausgebildet sind.Integrated semiconductor memory according to one of claims 1 to 13, in which the non-volatile memory cells (WZ) each as a single irreversible programmable devices are formed. Integrierter Halbleiterspeicher nach einem der Ansprüche 1 bis 14, bei dem die nichtflüchtigen Speicherzellen jeweils als eine elektrisch programmierbare Fuse oder Antifuse ausgebildet sind.Integrated semiconductor memory according to one of claims 1 to 14, in which the non-volatile memory cells each formed as an electrically programmable fuse or antifuse are. Integrierter Halbleiterspeicher nach einem der Ansprüche 1 bis 15, bei dem die nichtflüchtigen Speicherzellen (WZ) mindestens einen steuerbaren Widerstand (SR) umfassen.Integrated semiconductor memory according to one of claims 1 to 15, in which the nonvolatile memory cells (WZ) comprise at least one controllable resistor (SR). Integrierter Halbleiterspeicher nach einem der Ansprüche 1 bis 16, bei dem die flüchtigen Speicherzellen jeweils als Speicherzellen (SZ) mit wahlfreiem Zugriff ausgebildet sind.Integrated semiconductor memory according to one of claims 1 to 16, in which the volatile Memory cells each as memory cells (SZ) with random access are formed. Verfahren zum Betreiben eines integrierten Halbleiterspeichers, umfassend die folgenden Schritte: – Vorsehen eines integrierten Halbleiterspeichers mit einem ersten Speicherzellenfeld (SF1) mit nichtflüchtigen Speicherzellen (WZ) und flüchtigen Speicherzellen (SZ) und einem zweiten Speicherzellenfeld (SF2) mit flüchtigen Speicherzellen (SZ), bei dem die nichtflüchtigen Speicherzellen (WZ) erste nichtflüchtige Speicherzellen (WZa) und zweite nichtflüchtige Speicherzellen (WZb) umfassen, wobei in den ersten nichtflüchtigen Speicherzellen (WZa) eine Information zur Konfiguration der zweiten nichtflüchtigen Speicherzellen (WZb) abgespeichert ist, – Auswerten von Speicherzuständen der ersten nichtflüchtigen Speicherzellen (WZa), – nachfolgend Ermitteln einer Adressposition einer zuletzt beschriebenen zweiten nichtflüchtigen Speicherzelle (WZb) im ersten Speicherzellenfeld (SF1), – nachfolgend Auswählen einer auf die Adressposition der zuletzt beschriebene zweiten nichtflüchtigen Speicherzelle folgenden nächst höheren Adresspostion, – nachfolgend Speichern eines im aktuellen Betrieb des integrierten Halbleiterspeichers ermittelten Datums in einer zweiten nichtflüchtigen Speicherzelle (WZb) des ersten Speicherzellenfeldes (SF1), die über die ausgewählte nächst höhere Adresspositon adressierbar ist, in einer Konfiguration in Abhängigkeit von dem ausgewerteten Speicherzustand der ersten nichtflüchtigen Speicherzellen (WZa), wenn eine der flüchtigen Speicherzellen (SZ) des zweiten Speicherzellenfeldes (SF2) aufgefrischt wird.Method for operating an integrated semiconductor memory, comprising the following steps: - Provide an integrated Semiconductor memory with a first memory cell array (SF1) with nonvolatile Memory cells (WZ) and volatile Memory cells (SZ) and a second memory cell array (SF2) with volatile Memory cells (SZ), in which the non-volatile memory cells (WZ) first non-volatile Memory cells (WZa) and second non-volatile memory cells (WZb) comprising in the first non-volatile memory cells (WZa) an information about the configuration of the second non-volatile Memory cells (WZb) is stored, - Evaluation of memory states of first non-volatile Memory cells (WZa), - below Determining an address position of a last described second nonvolatile Memory cell (WZb) in the first memory cell array (SF1), - below Choose one to the address position of the second non-volatile memory cell described last following next higher Adresspostion, - below Storing one in the current operation of the integrated semiconductor memory determined date in a second non-volatile memory cell (WZb) of the first memory cell array (SF1), which can be addressed via the selected next higher address position is in a configuration depending on the evaluated one Memory state of the first non-volatile memory cells (WZa), if one of the volatile Memory cells (SZ) of the second memory cell array (SF2) refreshed becomes. Verfahren zum Betreiben eines integrierten Halbleiterspeichers nach Anspruch 18, umfassend den folgenden Schritt: Setzen eines Bits in den ersten nichtflüchtigen Speicherzellen (WZa0) zur Speicherung des im aktuellen Betrieb des integrierten Halbleiterspeichers ermittelten Datums in den zweiten nichtflüchtigen Speicherzellen (WZb) mit einer Betriebsparameterkennung, anhand derer sich das im aktuellen Betrieb des integrierten Halbleiterspeichers ermittelte Datum von anderen im aktuellen Betrieb des integrierten Halbleiterspeichers ermittelten Daten unterscheiden lässt.Method for operating an integrated semiconductor memory according to claim 18, comprising the following step: Putting one Bits in the first non-volatile Memory cells (WZa0) for storing the current operation of the integrated semiconductor memory detected date in the second nonvolatile Memory cells (WZb) with a Betriebsparameterkennung, based This is the case in the current operation of the integrated semiconductor memory determined date of others in the current operation of the integrated Semiconductor memory determined data can distinguish. Verfahren zum Betreiben eines integrierten Halbleiterspeichers nach einem der Ansprüche 18 oder 19, umfassend den folgenden Schritt: Setzen eines Bits in den ersten nichtflüchtigen Speicherzellen (WZa4) zur Konfiguration der zweiten nichtflüchtigen Speicherzellen (WZb) für einen Nur-Lesezugriff.A method of operating a semiconductor integrated memory according to one of claims 18 or 19, comprising the step of: setting a bit in the first nonvolatile memory cells (WZa4) to configure the second nonvolatile memory cells (WZb) for one Read-only access. Verfahren zum Betreiben eines integrierten Halbleiterspeichers nach einem der Ansprüche 18 bis 20, umfassend den folgenden Schritt: Setzen eines Bits in den ersten nichtflüchtigen Speicherzellen (WZa5) zur Konfiguration der zweiten nichtflüchtigen Speicherzellen (WZb) für eine bitweise, byteweise oder wortweise Speicherung des im aktuellen Betrieb des integrierten Halbleiterspeichers ermittelten Datums.Method for operating an integrated semiconductor memory according to one of the claims 18 to 20, comprising the following step: Set a bit in the first non-volatile Memory cells (WZa5) to configure the second non-volatile Memory cells (WZb) for a bitwise, bytewise or wordwise storage of the in the current Operation of the integrated semiconductor memory determined date. Verfahren zum Betreiben eines integrierten Halbleiterspeichers nach einem der Ansprüche 18 bis 21, umfassend den folgenden Schritt: Setzen einer Bitfolge in den ersten nichtflüchtigen Speicherzellen (WZa8, ..., WZa14) zur Unterteilung der zweiten nichtflüchtigen Speicherzellen (WZ) in mindestens einen ersten Speicherbereich zur Speicherung eines ersten im aktuellen Betrieb des integrierten Halbleiterspeichers ermittelten Datums und in mindestens einen zweiten Speicherbereich zur Speicherung eines zweiten im aktuellen Betrieb des integrierten Halbleiterspeichers ermittelten Datums.Method for operating an integrated semiconductor memory according to one of the claims 18 to 21, comprising the following step: Set a bit sequence in the first non-volatile memory cells (WZa8, ..., WZa14) for subdivision of the second nonvolatile Memory cells (WZ) in at least a first memory area for Storage of a first in the current operation of the integrated semiconductor memory determined date and in at least a second memory area to store a second in the current operation of the integrated Semiconductor memory determined date. Verfahren zum Betreiben eines integrierten Halbleiterspeichers nach einem der Ansprüche 18 bis 22, umfassend den folgenden Schritt: Auslesen des gespeicherten im aktuellen Betrieb des integrierten Halbleiterspeichers ermittelten Datums aus der einen der zweiten nichtflüchtigen Speicherzellen (WZb) durch Setzen eines Bits in einem Register (21) des integrierten Halbleiterspeichers.Method for operating an integrated semiconductor memory according to one of Claims 18 to 22, comprising the following step: reading the stored data determined in the current operation of the integrated semiconductor memory from the one of the second nonvolatile memory cells (WZb) by setting a bit in a register ( 21 ) of the integrated semiconductor memory. Verfahren zum Betreiben eines integrierten Halbleiterspeichers nach einem der Ansprüche 17 bis 21, umfassend den folgenden Schritte: – Betreiben des integrierten Halbleiterspeichers in einem Testbetriebszustand, – Auslesen einer jeden der ersten und zweiten nichtflüchtigen Speicherzellen (Wza, WZb) im Testbetriebszustand durch Anlegen eines Steuersignals (TM) an den integrierten Halbleiterspeicher.Method for operating an integrated semiconductor memory according to one of the claims 17 to 21, comprising the following steps: - operate the integrated semiconductor memory in a test mode, - Readout each of the first and second nonvolatile memory cells (Wza, WZb) in test mode by applying a control signal (TM) to the integrated semiconductor memory. Verfahren zum Betreiben eines integrierten Halbleiterspeichers nach einem der Ansprüche 18 bis 24, umfassend die folgenden Schritte: – Vorsehen eines integrierten Halbleiterspeichers mit einer Zähleinheit (60) zur Erfassung einer Betriebsdauer des integrierten Halbleiterspeichers, – Inkrementieren der Zähleinheit (60) zur Erfassung der Betriebsdauer des integrierten Halbleiterspeichers in einem definierten Zeitabstand während des Betriebs des integrierten Halbleiterspeichers, – Nach dem Inkrementieren der Zähleinheit (60) jeweils Speichern eines ersten logischen Zustands in einer der zweiten nichtflüchtigen Speicherzellen, wobei die eine der zweiten nichtflüchtigen Speicherzellen gegenüber einer der zweiten nichtflüchtigen Speicherzellen, die zuletzt mit dem ersten logischen Zustand beschriebenen worden ist, über eine nächsthöherwertige Adresse adressierbar ist.Method for operating an integrated semiconductor memory according to one of Claims 18 to 24, comprising the following steps: - Providing an integrated semiconductor memory with a counting unit ( 60 ) for detecting an operating time of the integrated semiconductor memory, - incrementing the counting unit ( 60 ) for detecting the operating time of the integrated semiconductor memory at a defined time interval during the operation of the integrated semiconductor memory, - after the counting unit has been incremented ( 60 ) each storing a first logic state in one of the second nonvolatile memory cells, wherein the one of the second nonvolatile memory cells with respect to one of the second nonvolatile memory cells, which has been described last with the first logical state, is addressable via a next higher address.
DE200510000809 2005-01-05 2005-01-05 Integrated semiconductor memory with non-volatile storage of data Expired - Fee Related DE102005000809B4 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE200510000809 DE102005000809B4 (en) 2005-01-05 2005-01-05 Integrated semiconductor memory with non-volatile storage of data

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE200510000809 DE102005000809B4 (en) 2005-01-05 2005-01-05 Integrated semiconductor memory with non-volatile storage of data

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE102005000809A1 true DE102005000809A1 (en) 2006-07-13
DE102005000809B4 DE102005000809B4 (en) 2012-09-13

Family

ID=36599444

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE200510000809 Expired - Fee Related DE102005000809B4 (en) 2005-01-05 2005-01-05 Integrated semiconductor memory with non-volatile storage of data

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE102005000809B4 (en)

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0247739A2 (en) * 1986-04-30 1987-12-02 Fujitsu Limited Semiconductor nonvolatile memory device
EP0096781B1 (en) * 1982-06-16 1989-11-29 International Business Machines Corporation System for updating error map of fault tolerant memory
EP0530928B1 (en) * 1987-07-02 1997-04-16 Ramtron International Corporation Ferroelectric shadow RAM
DE10035598A1 (en) * 2000-07-21 2002-02-07 Infineon Technologies Ag Data carrier with a data storage

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3365650B2 (en) * 1993-05-31 2003-01-14 沖電気工業株式会社 Semiconductor memory device
DE10101268A1 (en) * 2001-01-12 2002-07-25 Infineon Technologies Ag Integrated semiconductor circuit for executing a built-in function redundant to a function block and a built-in function for a semiconductor circuit has function and redundancy blocks switched on for a failed function block.

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0096781B1 (en) * 1982-06-16 1989-11-29 International Business Machines Corporation System for updating error map of fault tolerant memory
EP0247739A2 (en) * 1986-04-30 1987-12-02 Fujitsu Limited Semiconductor nonvolatile memory device
EP0530928B1 (en) * 1987-07-02 1997-04-16 Ramtron International Corporation Ferroelectric shadow RAM
DE10035598A1 (en) * 2000-07-21 2002-02-07 Infineon Technologies Ag Data carrier with a data storage

Also Published As

Publication number Publication date
DE102005000809B4 (en) 2012-09-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE10337855B4 (en) Circuit and method for evaluating and controlling a refresh rate of memory cells of a dynamic memory
DE4110371C2 (en) Non-volatile semiconductor memory device
DE4207934C2 (en) Non-volatile semiconductor memory device and programming method for a non-volatile semiconductor memory device
DE102004053316A1 (en) Operating parameters e.g. operating temperatures, reading and selecting method for e.g. dynamic RAM, involves providing memory with registers to store parameters, where read and write access on register takes place similar to access on cell
DE3903714A1 (en) SEMICONDUCTOR MEMORY DEVICE WITH A TEST MODE SETTING CIRCUIT
DE4129875C2 (en)
DE102006004848A1 (en) Method and apparatus for varying an active duty cycle of a wordline
DE69934637T2 (en) Ferroelectric memory and its test methods
DE10206689B4 (en) Integrated memory and method for operating an integrated memory
DE10218272B4 (en) Programmable read-only memory, memory cell therefor and associated method for writing / reading data
DE102005001520A1 (en) Integrated memory circuit e.g. dynamic RAM memory circuit, for memory module, has repairing circuit with test unit including modification unit to modify bits of read-out data, such that position of bits is changed and bits are inverted
DE102005009360B3 (en) Integrated semiconductor memory with activatable sense amplifiers
DE10022698A1 (en) Semiconductor memory device
DE10317364B4 (en) Integrated dynamic memory with control circuit for controlling a refresh operation of memory cells
DE10124742C1 (en) Method and device for testing a memory circuit
DE102005000809B4 (en) Integrated semiconductor memory with non-volatile storage of data
DE10332601A1 (en) Circuit and method for controlling access to an integrated memory
DE10329370B3 (en) Circuit for refreshing memory cells in a dynamic memory has a refresh control circuit, a memory circuit, a setting circuit and a reset circuit
EP1102168B1 (en) Integrated memory with memory cells and reference cells
EP1163677B1 (en) Integrated memory with memory cells and reference cells and corresponding operating method
DE10320624A1 (en) Accelerated fatigue test
DE19740933C2 (en) Dynamic memory with two operating modes
DE19922765C2 (en) Integrated memory with a reference potential
DE102004041658A1 (en) Method for testing an integrated semiconductor memory
EP0732703B1 (en) Method for testing a semiconductor memory circuit

Legal Events

Date Code Title Description
OP8 Request for examination as to paragraph 44 patent law
8127 New person/name/address of the applicant

Owner name: QIMONDA AG, 81739 MUENCHEN, DE

R018 Grant decision by examination section/examining division
R020 Patent grant now final

Effective date: 20121214

R081 Change of applicant/patentee

Owner name: POLARIS INNOVATIONS LTD., IE

Free format text: FORMER OWNER: QIMONDA AG, 81739 MUENCHEN, DE

Owner name: INFINEON TECHNOLOGIES AG, DE

Free format text: FORMER OWNER: QIMONDA AG, 81739 MUENCHEN, DE

R082 Change of representative
R081 Change of applicant/patentee

Owner name: POLARIS INNOVATIONS LTD., IE

Free format text: FORMER OWNER: INFINEON TECHNOLOGIES AG, 85579 NEUBIBERG, DE

R119 Application deemed withdrawn, or ip right lapsed, due to non-payment of renewal fee