DD143187A1 - PROTECTION OF A CATODE IN ELECTRON BEAM INSTRUMENTS - Google Patents

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DD143187A1
DD143187A1 DD21316279A DD21316279A DD143187A1 DD 143187 A1 DD143187 A1 DD 143187A1 DD 21316279 A DD21316279 A DD 21316279A DD 21316279 A DD21316279 A DD 21316279A DD 143187 A1 DD143187 A1 DD 143187A1
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Hans-Joachim Doering
Jens Jacob
Alfred Salwender
Karl-Heinz Schulz
Hans Zapfe
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Doering Hans Joachim
Jens Jacob
Alfred Salwender
Schulz Karl Heinz
Hans Zapfe
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    • H01J29/84Traps for removing or diverting unwanted particles, e.g. negative ions, fringing electrons; Arrangements for velocity or mass selection
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    • H01J29/46Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the ray or beam, e.g. electron-optical arrangement
    • H01J29/48Electron guns
    • H01J29/484Eliminating deleterious effects due to thermal effects, electrical or magnetic fields; Preventing unwanted emission

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  • Electron Sources, Ion Sources (AREA)

Description

-"- 213 f- "213 f

Titel:Title:

Schutzvorrichtung einer Katode in ElektronenstrahlgerätenProtective device of a cathode in electron beam devices

Anivendungs^ebiet der Erfindung:Applicability of the invention:

Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Ablenken von positiven Ionen an Elektronenstrahlern, die durch Reduzierung des Ionenbeschusses zum Schutz der Katode dient.The invention relates to a device for deflecting positive ions to electron beams, which serves to protect the cathode by reducing the ion bombardment.

Diese Vorrichtung kann in Elektronenstrahlgeräten angewandt werden, bei denen für stabil arbeitende Elektronensonden eine präzi3e ortsstabile Lage der Elektronenquelle erforderlich ist, z.B. für Elektronenstrahlmeß- und Elektronenstrahlbelichtungsgeräte.This device can be used in electron beam devices in which stable precursor electron probes require a precise stationary position of the electron source, e.g. for electron beam and electron beam exposure apparatus.

Charakteristik der bekannten technischen Lösungen:Characteristic of the known technical solutions:

Bekannt 3ind asymmetrische Systeme von Ionenfallen in Elektronenstrahlern, wobei ein durch magnetische oder elektrische Mittel gebogener Elektronenstrahl benutzt wird (z.B. in E.Bas: Optik 12, (1955) 8, S.377-384 und Rint: Handbuch für HP- und Elektrotechniker). Ein. solcher Strahlengang verschlechtert wegen der asymmetrischen Ablenk- und Linsenfehler den Fokus und damit die Bildqualität in Elektronensondengeräten.Are known asymmetric systems of ion traps in electron beams, using a bent by magnetic or electrical means electron beam is used (eg in E.Bas: Optics 12, (1955) 8, p.377-384 and Rint: manual for HP and electrical engineers) , On. such beam path deteriorates the focus and thus the image quality in electron probe devices because of asymmetric deflection and lens aberration.

213213

Weiterhin sind axiale Ionenfallensysteme bekannt, die den Nacht-eil der unsymmetrischen Systeme nicht auf v/eisen. Diese Systeme arbeiten z.B. mit axialsy-mmetrischer Führung des Elektronenstrahls durch elektrostatische Mittel, die um einen in der optischen Achse angebrachten Ionenfänger angeordnet sind (z.B. US-PS 3 452 241)· Der Wachteil dieses Systems besteht darin, daß es sehr aufwendig hinsichtlich Elektroden und den entsprechenden Versorgungsspannungen ist, besonders, wenn die Forderungen an die Qualität des Elektronenstrahls hoch sind.Furthermore, axial ion trap systems are known which do not disrupt the nighttime rush of the unbalanced systems. These systems operate e.g. with axialsy-mmetrischer guidance of the electron beam by electrostatic means which are arranged around an attached in the optical axis ion trap (eg US-PS 3,452,241) The wax part of this system is that it is very expensive in terms of electrodes and the corresponding supply voltages Especially when the demands on the quality of the electron beam are high.

Bei Elektronenstrahlern ohne Ionenablankung wird eine Abtragung der Katodenspitze u.a, durch Katodenbeschuß vom Hersteller angegeben, deren nachteilige Wirkung - Abnahme des Richtstrahl v/er tes - der Anwender des Strahlers durch Nachjustieren der Katode, korrigier en muß. Dazu muß das Elektronenstrahlgerät außer Betrieb genommen und der Strahler demontiert werden. Diese Technik ist aufwendig, kann zur Zerstörung der versprödeten Katodenteile führen und verringert je nach Stabilitätsforderung des Elektronenstrahlgerätes deren Verfügbarkeit mehr oder weniger stark. Der ursprüngliche Richtstrahlwert ist durch das Nachjustieren der Katode niciit sicher wieder einstellbar.In electron emitters without Ionenablankung an ablation of the cathode tip u.a, by Katodenbeschuß specified by the manufacturer, the adverse effect - decrease the directional beam v / er tes - the user of the radiator by readjusting the cathode, korrigier s must. For this purpose, the electron beam device must be taken out of service and the spotlight to be dismantled. This technique is expensive, can lead to the destruction of embrittled Katodenteile and reduced depending on the stability requirement of the electron beam device whose availability more or less. The original directional beam value can not be reliably adjusted by readjusting the cathode.

Ziel der Erfindung,; ' Aim of the invention; '

Das Ziel der Erfindung besteht darin, den technischen Aufwand von Vorrichtungen der genannten Art und den Nachjustieraufwand zu senken bzw.. den Nachjustieraufwand zu eliminieren, sowie die Verfügbarkeit von Strahlern und die Lebensdauer von Katoden in Strahlern unter verringertem Aufwand zu erhöhen.The aim of the invention is to reduce the technical complexity of devices of the type mentioned and Nachjustieraufwand or .. to eliminate the Nachjustieraufwand, and to increase the availability of radiators and the life of cathodes in radiators with reduced effort.

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λ w Ol s -iO 7 Π * SK \ i\"\ Ί :.: λ w Ol s -iO 7 Π * SK \ i \ "\ Ί :.:

.3. 2Γ3 162.3. 2Γ3 162

Darlegung des V/esen3 der Erfindung:Presentation of Article 3 of the Invention:

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Möglichkeit zu schaffen, daß die lebensdauer von Katoden durch Schutz der Katodenspitze vor positiven Ionen erhöht wird und dabei die Bahnen der Elektronen nicht störend beeinflußt werden.The invention has for its object to provide a way that the life of cathodes is increased by protecting the cathode tip from positive ions and thereby the orbits of the electrons are not interfered with.

In einer Vorrichtung zum Ablenken von positiven Ionen an einem Elektronenstrahler zum Schutz der Katode vor Ionenbeschuß wird die Aufgabe gemäß der Erfindung da- . durch gelöst, daß die Katode von einem Magnetringsystem umgeben ist und ein* rotationssymraetrisches PeId um die elektronenoptische Achse besteht, das von der Katode zur Anode des Elektronenstrahlers divergiert. Vorteilhaft ist, wenn das Magnetringsystem aus zwei Permanentmagnetringen besteht, die von einem ringförmig ausgebildeten magnetischen Rückschluß umgeben sind und zwischen denen sich ein veränderbarer Luftspalt befindet. Eine andere günstige Lösung ist, das Magnetringsystem als axial magnetisierten Permanentmagnetring auszubilden, 3er in einem ringförmigen Polschuh angeordnet ist·In an apparatus for deflecting positive ions on an electron gun to protect the cathode from ion bombardment, the object according to the invention is therefor. solved by that the cathode is surrounded by a magnetic ring system and a * rotationally symmetrical PeId around the electron-optical axis, which diverges from the cathode to the anode of the electron gun. It is advantageous if the magnetic ring system consists of two permanent magnet rings, which are surrounded by a ring-shaped magnetic yoke and between which there is a variable air gap. Another favorable solution is to form the magnetic ring system as an axially magnetized permanent magnet ring, which is arranged in an annular pole shoe.

Weiterhin kann das rotationssymmetrische Feld von dem Magnetsystem einer im Elektronenstrahler integrierten Zerstäuberionenpumpe erzeugt werden. Die Wirkung der Vorrichtung beruht darauf, daß der rotationssymmetrische, zur Anode hin divergierende magnetische Feldlinienverlauf eine Defokussierung auf die positiven Ionen bewirkt und die Ionenstromdichte auf der Kathodenspitze verringert.Furthermore, the rotationally symmetric field can be generated by the magnet system of an atomizer pump integrated in the electron gun. The effect of the device is based on the fact that the rotationally symmetric magnetic field line course diverging towards the anode causes a defocusing on the positive ions and reduces the ion current density on the cathode tip.

Ausführungsbeispiel; Embodiment ;

Im folgenden soll die Erfindung anhand von Ausführungsbeispielen und der zugehörigen Zeichnung, in derIn the following the invention with reference to embodiments and the accompanying drawings, in the

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- 4 -  - 4 -

Figur 1 eine Vorrichtung mit einem zwei Magnetringe enthaltenden Magnetringaystem und1 shows a device with a magnetic ring containing two magnet rings and

Figur 2 eine Vorrichtung mit einem nur einen Magnetring und Polschuhringe enthaltenden c Magnetringaystem .FIG. 2 shows a device with a magnetic ring tag containing only one magnetic ring and pole ring rings.

im Schnitt darstellt, näher erläutert werden.on average, will be explained in more detail.

Die in Fig. 1 dargestellte Vorrichtung besteht aus zwei Magnetringen 1 und 2, die achsparallel um eine in einer Halterung 3 befestigten Katode 4 eines Elektronenstrahlers angeordnet sind. Im Luftspalt der Magnetringe 1 und 2, die von einem magnetischen Rückschluß 5 um^geben sind, ist das Entladungssystem 6 einer integrierten Zerstäuberionenpumpe angeordnet.The apparatus shown in Fig. 1 consists of two magnetic rings 1 and 2, which are arranged axially parallel to a fixed in a holder 3 cathode 4 of an electron gun. In the air gap of the magnetic rings 1 and 2, which are surrounded by a magnetic yoke 5, the discharge system 6 of an integrated Zerstäuberionenpumpe is arranged.

Zum Zweck der Justierung des Elektronenstrahlers zur elektronenoptischen Achse 7 des Elektronenstrahlgerätes sind zwei Justierschrauben 8 vorgesehen, mit deren Hilfe die Magnetringe 1 und 2 des Magnetringsystems radial verschoben werden können.For the purpose of adjusting the electron emitter to the electron-optical axis 7 of the electron beam device, two adjusting screws 8 are provided, with the aid of which the magnetic rings 1 and 2 of the magnetic ring system can be moved radially.

Die Wirkungsweise der Vorrichtung beruht darauf, daß ein im Raum 9 zwischen der Katode 4 und der Anode 10 bestehendes divergierendes Magnetfeld 11, das durch seinen Feldlinienverlauf dargestellt ist, auf achsennahe Ladungsträger st3?ahlea?n 12 aufgrund der sich dort kompensierenden Radialanteile des Magnetfeldes 11 wenig auswirkt, Auf Elektronen der Ladungsträgerstrahlen 12, die sich relativ nahe der Achse 7 bewegen, hat das Magnetfeld 11 somit keinen negativen Einfluß. Nahe der Anode 10 sind die Elektronen so hoch beschleunigt, daß auch die divergierenden negativen Teile der Ladungsträgerstrahlen 12 durch clie Quer komponente des dort an sich relativ schwachen Magnetfeldes 11 kaum beeinflußt werden. Aus dem unter der Anode 10 liegenden Raum 13 des Strahlers mit höherem Druck als im Raum 9 treten positive Ionen mch der bekannten Kosinusverteilung durch das Anodenloch in denThe mode of operation of the device is based on the fact that a diverging magnetic field 11 existing in the space 9 between the cathode 4 and the anode 10, which is represented by its field line profile, is located on charge carriers close to the axis 12 due to the radial components of the magnetic field 11 compensating there On electrons of the carrier beams 12, which move relatively close to the axis 7, the magnetic field 11 thus has no negative influence. Near the anode 10, the electrons are accelerated so high that even the divergent negative parts of the carrier beams 12 by the transverse component of the there relatively weak magnetic field 11 are hardly affected. From the lying under the anode 10 space 13 of the radiator with higher pressure than in space 9 positive ions mch the known cosine distribution through the anode hole in the

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Strahlerraum ein und werden in Richtung der Katode 4 beschleunigt. Auf achsennahe Ionen wirkt wegen Ihrer großen Masse das relativ, schwache Magnetfeld kaum sammelnd. Schräg einfallende positive Ionen, die als Strahlen 14 dargestellt sind, werden durch das außerhalb der Ac&se 7 divergierende Magnetfeld 11 weiter zerstreut, insbesondere gleich oberhalb der Anode 10 im Raum 9, wo die Ionen noch nicht beschleunigt sind, so daß am Ort der Spitze der Katode 4 die Ionendichte insgesamt verringert wird. Dadurch werden Schädigungen der Katode stark vermindert.Spotlight space and are accelerated in the direction of the cathode 4. Due to their large mass, the relatively weak magnetic field hardly collects on ions close to the axis. Obliquely incident positive ions, which are represented as rays 14, are further scattered by the magnetic field 11 diverging outside Acsense 7, in particular just above the anode 10 in space 9, where the ions are not yet accelerated, so that at the location of the tip Katode 4 the total ion density is reduced. As a result, damage to the cathode are greatly reduced.

Figur 2 zeigt eine Vorrichtung, die aus einem um die Katode 4 angeordneten, axial magnetisierten Permanentmagnetring 15 besteht, der von einem Polschuhringsystem umgeben ist. Das Polschuhringsystem besteht aus einem festen Polschuhring 16 und vier Justierschrauben 17, die zur .Verschiebung des Magnetringes 15 und zur Justierung des Elektronenstrahls zur Achse des Elektronenstrahlgerätes dienen, sowie aus einem verstellbaren Polschuhring 18, mit dessen Hilfe sich der Ringspalt 19 und damit das Streufeld im Bereich der Katode 4 einstellen läßt. Eine axiale Justierung des Magnetringes 15 zur Katode 4 ist mittels eines Stellringes 20 möglich. Die Wirkungsweise der Vorrichtung nach Pig. 2 ist analog der steh Fig. 1; die beruht ebenso darauf, daß aufgrund des rotationssymmetrischen, zur Anode divergierenden magnetischen FeIdlinienverlaufs eine Defokussierung auf die positiven Ionen bewirkt und die Ionenstromdichte auf der Katodenspitze verringert wird.Figure 2 shows a device which consists of an arranged around the cathode 4, axially magnetized permanent magnet ring 15, which is surrounded by a Polschuhringsystem. The Polschuhringsystem consists of a fixed Polschuhring 16 and four adjustment screws 17, which serve for .Perschiebung of the magnetic ring 15 and for adjusting the electron beam to the axis of the electron beam device, and from an adjustable Polschuhring 18, with the help of the annular gap 19 and thus the stray field in Set area of the cathode 4. An axial adjustment of the magnetic ring 15 to the cathode 4 is possible by means of a collar 20. The mode of action of the device according to Pig. 2 is analogous to the standing Fig. 1; this is also due to the fact that due to the rotationally symmetric, diverging to the anode magnetic FeIdlinienverlaufs causes a defocusing on the positive ions and the ion current density is reduced on the cathode tip.

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_ _ 2 ί 3 16 2_ _ 2 ί 3 1 6 2

'i.Erfindun&sanspruch'I.Erfindun & sanspruch

1. Vorrichtung 2ium Ablenken ν on positiven Ionen an einem Elektronenstrahler zum Schutz der Katode vor Ionenbeschuß, dadurch gekennzeichnet, daß die . Katode von einem Magnetsystem umgeben ist' und ein rotationssymmetrisches PeId um die elektronenoptische Achse besteht, das von der Katode zur Anode des Elektronenstrahlers divergiert.1. Device 2ium deflecting ν on positive ions at an electron gun to protect the cathode from ion bombardment, characterized in that the. Cathode is surrounded by a magnet system 'and a rotationally symmetrical Pond around the electron-optical axis, which diverges from the cathode to the anode of the electron beam.

2. Vorrichtung nach Punkt 1, dadurch gekennzeichnet, .10 daß das Magnetsystem aus zwei Per manent magnet ringen besteht, die von einem ringförmig ausgebildeten magnetischen-Rückschluß umgeben sind und zwi schen, denen sich ein veränderbarer Luftspalt befindet.2. Device according to item 1, characterized in that the magnetic system consists of two magnetic rings per manent, which are surrounded by a ring-shaped magnetic return and rule between which there is a variable air gap.

3. Vorrichtung nach Punkt 1, dadurch gekennaeichnet, . daß das Magnetringsystem a us einem axial magnetisierten Permanentmagnetring besteht, der in einem ringförmigen Polschuh angeordnet ist.3. Device according to item 1, characterized gekennaeichnet,. the magnet ring system consists of an axially magnetized permanent magnet ring which is arranged in an annular pole shoe.

4. Vorrichtung nach Punkt 1, dadurch gekennzeichnet, daß das rotationssymmetrische PeId von dem Magnetsystem einer im Elektronenstrahler integrierten Zerstäuberionenpumpe erzeugt wird.4. The device according to item 1, characterized in that the rotationally symmetrical PED is generated by the magnetic system of an integrated in the electron gun Zerstäuberionenpumpe.

5. Vorrichtung nach Punkt 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Magnetringsystem zur elektronenoptischen Achse justierbar ist.5. The device according to item 1, characterized in that the magnetic ring system is adjustable to the electron-optical axis.

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Claims (5)

';.,Erf indu'nÄsanspruch';., Erf indu'nÄsanspruch 1. Vorrichtung zum Ablenken ν on positiven Ionen an einem Elektronenstrahler zum Schutz der Katode vor Ionenbeschuß, dadurch gekennzeichnet, daß die . Katode von einem Magnetsystem-umgeben ist und ein rotationssymmetrisches PeId um die elektronenoptische Achse besteht, das von der Katode zur Anode des Elektronenstrahlers divergiert.Anspruch [en] A device for deflecting positive ions on an electron gun to protect the cathode from ion bombardment, characterized in that. Cathode is surrounded by a magnet system and there is a rotationally symmetrical PeId to the electron-optical axis, which diverges from the cathode to the anode of the electron gun. 2· Vorrichtung nach Punkt 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Magnetsystem aus zwei Permanentmagnetringen besteht, die von einem ringförmig ausgebildeten magnetischen Rückschluß umgeben sind und zwischen denen sich ein veränderbarer Luftspalt befindet. 2 · Device according to item 1, characterized in that the magnet system consists of two permanent magnet rings, which are surrounded by a ring-shaped magnetic yoke and between which there is a variable air gap. 3· Vorrichtung nach Punkt 1, dadurch gekenneeichnet, daß das Magnetringsystem a us einem axial magnetisierten Permanentmagnetring besteht, der in einem ringförmigen Polschuh angeordnet ist.Device according to item 1, characterized in that the magnetizing system consists of an axially magnetized permanent magnet ring arranged in an annular pole piece. 4· Vorrichtung nach Punkt 1, dadurch gekennzeichnet, daß das rotationssymmetrische PeId von dem Magnetsystem einer im Elektronenstrahler integrierten Zerstäuberionenpumpe erzeugt wird.4 · Device according to item 1, characterized in that the rotationally symmetrical PED is generated by the magnet system of an atomizer pump integrated in the electron gun. 5. Vorrichtung nach Punkt 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Magnetringsystem zur elektronenoptischen Achse justierbar ist. .5. The device according to item 1, characterized in that the magnetic ring system is adjustable to the electron-optical axis. , 34603460
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