CZ31034U1 - Zdroj nízkoteplotního plazmatu, zejména pro generaci plazmatu při využití v medicínských bioaplikacích - Google Patents
Zdroj nízkoteplotního plazmatu, zejména pro generaci plazmatu při využití v medicínských bioaplikacích Download PDFInfo
- Publication number
- CZ31034U1 CZ31034U1 CZ2017-33974U CZ201733974U CZ31034U1 CZ 31034 U1 CZ31034 U1 CZ 31034U1 CZ 201733974 U CZ201733974 U CZ 201733974U CZ 31034 U1 CZ31034 U1 CZ 31034U1
- Authority
- CZ
- Czechia
- Prior art keywords
- plasma
- low
- temperature
- source
- mating contact
- Prior art date
Links
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims description 15
- 230000005284 excitation Effects 0.000 claims description 14
- 230000013011 mating Effects 0.000 claims description 10
- 239000012212 insulator Substances 0.000 claims description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 3
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 3
- 238000005755 formation reaction Methods 0.000 claims description 3
- 210000002381 plasma Anatomy 0.000 description 47
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 5
- 238000004659 sterilization and disinfection Methods 0.000 description 5
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 210000001519 tissue Anatomy 0.000 description 4
- 230000035876 healing Effects 0.000 description 3
- 230000029663 wound healing Effects 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 206010028980 Neoplasm Diseases 0.000 description 2
- 206010052428 Wound Diseases 0.000 description 2
- 208000027418 Wounds and injury Diseases 0.000 description 2
- 230000000844 anti-bacterial effect Effects 0.000 description 2
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 2
- 201000011510 cancer Diseases 0.000 description 2
- 210000004027 cell Anatomy 0.000 description 2
- 230000001684 chronic effect Effects 0.000 description 2
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 2
- 241000588724 Escherichia coli Species 0.000 description 1
- 208000007536 Thrombosis Diseases 0.000 description 1
- 238000010171 animal model Methods 0.000 description 1
- 230000000843 anti-fungal effect Effects 0.000 description 1
- 230000000840 anti-viral effect Effects 0.000 description 1
- 229940121375 antifungal agent Drugs 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007321 biological mechanism Effects 0.000 description 1
- 230000033228 biological regulation Effects 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000005352 clarification Methods 0.000 description 1
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 1
- 239000002537 cosmetic Substances 0.000 description 1
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 1
- 230000009849 deactivation Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 230000002526 effect on cardiovascular system Effects 0.000 description 1
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 1
- 230000036541 health Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 210000000987 immune system Anatomy 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 238000000338 in vitro Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000002906 microbiologic effect Effects 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000011275 oncology therapy Methods 0.000 description 1
- 210000000056 organ Anatomy 0.000 description 1
- 238000013021 overheating Methods 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 230000000241 respiratory effect Effects 0.000 description 1
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 1
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 1
- 230000001954 sterilising effect Effects 0.000 description 1
- 238000002560 therapeutic procedure Methods 0.000 description 1
- 230000000451 tissue damage Effects 0.000 description 1
- 231100000827 tissue damage Toxicity 0.000 description 1
Landscapes
- Surgical Instruments (AREA)
Description
Oblast techniky
Technické řešení spadá do oblasti generování nízkoteplotního plazmatu a týká se konstrukce atmosférického zdroje nízkoteplotního plazmatu zejména pro generaci plazmatu ve tvaru různých objemových útvarů, určeného k využití v různých medicínských aplikacích, jako jsou dezinfekce, hojení ran, úprava rakovinných buněk, dermatologie a stomatologie.
Dosavadní stav techniky
Plazma, jakožto čtvrté skupenství hmoty, je stav látky, charakterizovaný určitým stupněm ionizace a jedná se o směs neutrálních částic a kladných a záporných iontů, přičemž součet nábojů těchto iontů je ve větších objemech nulový a je tedy elektricky neutrální. K udržení stavu, kdy se v plazmatu v ionizovaném stavu nalézá řádově 1 % částic, jsou třeba energie, odpovídající teplotám řádově 103 K a takové plazma je označováno jako nízkoteplotní. Nízkoteplotní atmosférické plazma je známé jako efektivní nástroj pro řadu procedur ve zdravotnictví díky účinkům podporujícím hojení, které jeho aplikací lze dosáhnout. To zahrnuje efekty antibakteriální, antifungicidní a antivirové. Dále zahrnuje efekty spojené s hojením chronických ran, krevních sraženin, léčbou imunitního systému, kardiovaskulární regulací, likvidací nežádoucích biovrstev, dezinfekcí a sterilizací, jak je známo například ze spisů CZ 22149 Ul, JP 2001054556, CZ 304814, CZ 306217, CZ 27679 Ul a CZ 25959 Ul.
Dosud byla vyvinuta celá řada technologických systémů nízkoteplotních zdrojů atmosférického plazmatu, například atmosférický plazma jet přístroj se sadou trysek s mikrorozměrem použitelným v terapii léčby rakoviny byl publikován v odborné stati [K. Kim et al., Appl. Phys. Lett. 98 (2011) 073701] a zařízení využívající nízkoteplotního atmosférického plazmatu pro bio-medicínské účely je popsáno ve spise WO 2010098524 Al. Dále atmosférický zdroj plazmatu, vyvinutý pro generaci atomů vodíku, který má podstatný efekt na deaktivaci mikrobiologických kontaminantů a redukci OH radikálů ve vzduchu, je dostupný v [H. Nojima et al., J. Phys. D: Appl. Phys. 40 (2007) 501-509] a způsob dekontaminace vzduchu pomocí nízkoteplotního plazmatu je popsán například ve spise CN 1659968. Rovněž byl vyvinut obvod/ pracující na principu vlastní rezonance, navržený pro buzení atmosférického plazma jetu a dielektrického bariérového výboje malého objemu, který byl publikován v [V. J. Law and S. D. Anghel. J. Phys. D: Appl. Phys. 45 (2012) 075202] a buzení atmosférického plazmatu založeného na technologii dielektrického bariérového výboje je rovněž popsáno ve spise CN 101945527. Byl vyvinut atmosférický výboj se stejnosměrnou vysokonapěťovou jiskrou generovanou mezi hrotem a otvorem popsaný například v [D. Dobrynin, K. Arjunan, A. Fridman, G. Friedman and A. Morss Clyne. J. Phys. D: Appl. Phys. 44 (2011) 075201], Také byl již vyvinut atmosférický nízkoteplotní doutnavý RF výboj malých rozměrů s elektrodou ve tvaru jehly pro deaktivaci baktérie Escherichia coli, který je popsán ve stati [R. E. J. Sládek and E. Stoffels J. Phys. D: Appl. Phys. 38 (2005) 1716-1721],
U zařízení, používajících vysokofrekvenční (GHz) objemový výboj magnetronu a užití porézní struktury k homogenizaci proudu ionizovaného pracovního plynu, popsaného např. Ve spise US 2012/0046602 Al, se projevují negativní účinky a zvýšená rizika pro pacienta, spojená s užitím těchto frekvencí, jako je ohrožení dýchacích orgánů nebo přehřívání okolní zdravé tkáně. Další nevýhodou tohoto řešení je jeho vysoká pořizovací cena. V řešení uváděném ve spisu WO 2010098524 Al je užito porézní struktury k homogenizaci proudu pracovního plynu, k jehož ionizaci dochází až v mikrostruktuře nanesené na tomto materiálu, díky aplikovanému vysokému napětí. Nevýhodou uvedeného řešení je velmi malá hustota plazmatu a její významné plošné omezení na průměr maximálně v jednotkách milimetrů, kdy při zvětšení rozměrů se významně mění prostorové rozložení hustoty plazmatu. Druhou nevýhodou je přivedené vysoké napětí cca 600 V do nejbližší aplikační vrstvy, a tudíž vysoké riziko pro ošetřovanou plochu.
Aby byly splněny náročné podmínky pro aplikaci atmosférických plazmových zdrojů v medicíně, je nutné vyvinout tyto systémy s možností přesné kontroly jejich fyzikálních parametrů, jako je koncentrace iontů a elektronů v plazmatu, energie iontů, intenzita vyzářeného světla a to hlavně
- 1 CZ 31034 Ul v UV oblasti, tok pracovního plynu a jeho teplota, typy iontů v plazmatu. Pro použití plazmového zdroje pro klinickou praxi musí být splněno mnoho náročných bezpečnostních kritérií. Je známo, že pro efekt hojení je nutné přesně nastavit dávkování působení plazmatu na živou tkáň. Tyto efekty dávkování jsou popsány v odborných článcích [Danil Dobrynin, Gregory Fridman, Gary Friedman and Alexander Fridman, Physical and biological mechanisms of direct plasma interaction with living tissue New Journal of Physics 11 (2009) 115020, Světlana A. Ermolaeva et al. Bactericidal effects of non-thermal argon plasma in vitro, in biofilms and in the animal model of infected wounds Journal of Medical Microbiology (2011), 60, 75-83; Nosenko T., Shimizu T. and Morfill G. E., Designing plasmas for chronic wound disinfection, New Journal of Physics 11 (2009) 115013 (19pp)]. Technicky jsou citované požadavky vyřešeny konstrukcí dle spisu CZ 23746 Ul, který představuje zařízení pro generaci nízkoteplotního plazmatu s laditelnou koncentrací ionizovaných částic obsahující duté izolační těleso, které je jednak uloženo v uzemněném stínícím plášti, jednak je opatřeno výtokovým hrdlem a jednak je do jeho vnitřního prostoru zaústěna přívodová trubice pracovního plynu a vyvedena kovová budící elektroda, která je připojena ke zdroji střídavého vysokého napětí a která je opatřena inicializační plochou pro generování nízkoteplotního atmosférického plazmatu. Na vnější ploše izolačního tělesa je pak suvně stavitelně uložena kovová ladící elektroda pro umožnění úpravy vlastností a parametrů plazmatu.
Zásadním nedostatkem výše uvedených zdrojů nízkoteplotního atmosférického plazmatu pro medicínské aplikace je to, že se většinou jedná o bodové zdroje, s výjimkou řešení CZ 304814, CZ 306217, CZ 27679 Ul, CZ 25959 Ul, US 2012/0046602 Al a s výrazným omezením WO 2010098524 Al, díky čemuž odpovídá profil intenzity ionizovaných částic v plazmatu Gaussovu profilu. Další nevýhodou je přítomnost vysokého napětí v nejbližší aplikační vrstvě, případně vysoká cena zařízení. Je rovněž známa konstrukce atmosférického zdroje pro generování plazmatu, obsahující sendvičovou membránovou strukturu porézní vrstvy, která je popsaná ve spise KR 20120032894 a je určena pro odstraňování nečistot ze vzduchu. Popsaný typ membrány však neumožňuje použití tohoto zařízení v biomedicínských aplikacích. Možné uspořádání sendvičové struktury membrány je popsáno například ve spise WO 2004032176 Al. Použití membránové struktury ke generování plazmatu v biomedicíně je známo ze spisu WO 2010098524 Al, kde je popisováno zařízení, které má vodivou elektrodu pouze na jedné straně porézní membrány, přičemž výboj vzniká pouze na povrchu membrány.
Nevýhodou většiny popsaných řešení, včetně řešení na bázi sendvičové struktury a/nebo porézní membrány, je určitá nestabilita parametru výboje vnášená lokálním ohřevem membrány během výboje. Úkolem nového technického řešení je představit inovovanou konstrukci zdroje nízkoteplotního plazmatu, která vychází z řešení dle spisu CZ 304814, přičemž nová konstrukce umožňuje zajištění kontroly a řízení parametrů plazmatu včetně přesného měření teploty membrány, v níž probíhá výboj. Vylepšená konstrukce generátoru plazmatu díky použití speciální konstrukce kontaktu budící elektrody umožňuje velice přesnou stabilizaci teploty při generaci plazmatu.
Podstata technického řešení.
Uvedeného cíle je dosaženo technickým řešením, kterým je zdroj nízkoteplotního plazmatu, zejména pro generaci plazmatu při využití v medicínských bioaplikacích, realizovaný ve tvaru různých objemových útvarů a obsahující sendvičovou strukturu, která je tvořena z nad sebou uložených zemnící elektrody, vysokoteplotně odolné nevodivé porézní membrány a budící elektrody uložených ve vnitřním prostoru dutého tělesa, do kterého je zaústěn přívod pracovního plynu, kde podstata řešení spočívá v tom, že přívod pracovního plynu je vyrobený z vodivého materiálu, je upevněn v homí části sdruženého kontaktu budící elektrody, který je od tělesa elektricky oddělen, přičemž je sdružený kontakt tvořen alespoň čtyřmi vodivými segmenty, které jsou rozděleny páskovými izolátory, přičemž každý z vodivých segmentů sdruženého kontaktu je propojen se zdrojem vysokého napětí.
Ve výhodném provedení jsou vodivé segmenty se zdrojem vysokého napětí propojeny přes komutátor, na který je paralelně napojen měřící most, který je rovněž propojen se zdrojem vysokého napětí.
-2CZ 31034 Ul
Vyšší účinek nového technického řešení se projevuje v tom, že rozdělení sdruženého kontaktu na sektory, které zajišťují elektrický kontakt minimálně ve čtyřech bodech budící elektrody spojené s keramickou porézní membránou, umožňuje měření odporu budící elektrody bodovou metodou, z čehož se následně vypočítává teplota porézní membrány a reguluje teplota plazmatu.
Objasnění výkresů
Konkrétní příklad provedení technického řešení je znázorněn na připojených výkresech, kde obr. 1 je základní schéma zdroje nízkoteplotního plazmatu ve vertikálním osovém řezu se znázorněním jeho zapojení na zdroj vysokého napětí a řídicí systém a obr. 2 je pohled shora na sdružený kontakt budící elektrody.
Výkresy, které znázorňují představované technické řešení a následně popsané příklady konkrétních provedení v žádném případě neomezují rozsah ochrany uvedený v definici, ale jen objasňují podstatu řešení.
Příklady uskutečnění technického řešení
Zdroj nízkoteplotního plazmatu je v základním provedení tvořen dutým válcovým vodivým tělesem 1, ve spodní části, jehož vnitřního prostoru 101 je uložena sendvičová struktura tvořená vrstvami porézního materiálů a sestávající ze vzájemně nad sebou uložených zemnící elektrody 2, vysokoteplotně odolné nevodivé porézní membrány 3 a budící elektrody 4, přičemž těleso I je zároveň kontaktem zemnící elektrody 2. Do tělesa I je zaústěn přívod 5 pracovního plynu vyrobený z vodivého materiálu, který je upevněn v homí části sdruženého kontaktu 6 budící elektrody 4 a který je od tělesa I elektricky oddělen trubkovým izolátorem 7. Jak je znázorněno na obr. 2, je sdružený kontakt 6 tvořen čtyřmi vodivými segmenty 61, které jsou rozděleny páskovými izolátory 62. Každý z vodivých segmentů 61 sdruženého kontaktu 6 je propojen se zdrojem 8 vysokého napětí, například pulzním generátorem, a to přes komutátor 9, na který je paralelně napojen měřící most 10, který je rovněž propojen se zdrojem 8 vysokého napětí.
Takto navržený sdružený kontakt 6 umožňuje měření odporu budící elektrody 4 v závislosti na teplotě, a tak zajišťuje regulaci teploty proudícího pracovního plynu. Odpor materiálu budící elektrody 4 je spojen s teplotou v zóně plazmové generace podle vzorce: a = Δρ / (ρΔΤ), kde a je teplotní koeficient odporu, p je měrný odpor, T je teplota, a to při konstantním průtoku pracovního plynu přes porézní membránu 3 a díky specifické tepelné kapacitě mechanických částí výbojového prostoru. Měření odporu se provádí čtyřbodovou metodou. Každý vodivý segment 61 sdruženého kontaktu 6 je střídavě spojen buď během měření s měřicím mostem 10, nebo během generace plazmy se zdrojem 8 vysokého napětí. Vodivost se měří mezi pulzy vysokého napětí používanými pro generaci plazmatu. Elektrický signál spojený se změnou vodivosti, použitý v generátoru obvodu vysokého napětí pro kontrolní zpětnou vazbu zajišťující stabilizaci teploty plazmatu, zajišťuje úpravu parametrů vysokého napětí.
Popsané provedení není jediným možným řešením zdroje nízkoteplotního plazmatu, ale sdružený kontakt 6 může být rozdělen více jak na čtyři vodivé segmenty 61, například na šest nebo osm, a tvar tělesa i, zejména jeho obrysový design, může být uzpůsoben podle oblasti použití v biomedicínských aplikacích.
Průmyslová využitelnost
Technické řešení spadá do oblasti využití nízkoteplotního atmosférického zdroje plazmatu s laditelnou koncentrací ionizovaných částic pro řadu procedur ve zdravotnictví, kdy je aplikací tohoto plazmatu dosaženo efektu hojení. Zařízení je vhodné především k úpravě povrchů živé tkáně pro různé medicínské aplikace, jako je dezinfekce, hojení ran, úprava rakovinných buněk, dermatologie, stomatologie a kosmetika, přičemž nehrozí nebezpečí poškození tkáně z důvodu možné interakce vysokého elektrického střídavého napětí.
Claims (2)
- NÁROKY NA OCHRANU1. Zdroj nízkoteplotního plazmatu, zejména pro generaci plazmatu při využití v medicínských bioaplikacích, realizovaný ve tvaru různých objemových útvarů a obsahující sendvičovou strukturu, která je tvořena z nad sebou uložených, zemnící elektrody (2), vysokoteplotně odolné nevo5 divé porézní membrány (3) a budící elektrody (4) uložených ve vnitřním prostoru (101) dutého tělesa (1), do kterého je zaústěn přívod (5) pracovního plynu, vyznačující se tím , že přívod (5) pracovního plynu je vyrobený z vodivého materiálu, je upevněn v homí části sdruženého kontaktu (6) budící elektrody (4), který je od tělesa (1) elektricky oddělen, přičemž je sdružený kontakt (6) tvořen alespoň čtyřmi vodivými segmenty (61), které jsou rozděleny páskovými ío izolátory (62), přičemž každý z vodivých segmentů (61) sdruženého kontaktu (6) je propojen se zdrojem (8) vysokého napětí.
- 2. Zdroj nízkoteplotního plazmatu podle nároku 1, vyznačující se tím, že vodivé segmenty (61) jsou se zdrojem (8) vysokého napětí propojeny přes komutátor (9), na který je paralelně napojen měřící most (10), který je rovněž propojen se zdrojem (8) vysokého napětí.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CZ2017-33974U CZ31034U1 (cs) | 2017-08-01 | 2017-08-01 | Zdroj nízkoteplotního plazmatu, zejména pro generaci plazmatu při využití v medicínských bioaplikacích |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CZ2017-33974U CZ31034U1 (cs) | 2017-08-01 | 2017-08-01 | Zdroj nízkoteplotního plazmatu, zejména pro generaci plazmatu při využití v medicínských bioaplikacích |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CZ31034U1 true CZ31034U1 (cs) | 2017-09-19 |
Family
ID=59901648
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CZ2017-33974U CZ31034U1 (cs) | 2017-08-01 | 2017-08-01 | Zdroj nízkoteplotního plazmatu, zejména pro generaci plazmatu při využití v medicínských bioaplikacích |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CZ (1) | CZ31034U1 (cs) |
-
2017
- 2017-08-01 CZ CZ2017-33974U patent/CZ31034U1/cs not_active IP Right Cessation
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Laroussi et al. | Perspective: The physics, diagnostics, and applications of atmospheric pressure low temperature plasma sources used in plasma medicine | |
| Park et al. | Atmospheric-pressure plasma sources for biomedical applications | |
| Machala et al. | Plasma agents in bio-decontamination by dc discharges in atmospheric air | |
| CN104981269B (zh) | 采用低压等离子体处理生物组织的设备和方法 | |
| US20110022043A1 (en) | Device for the treatment of surfaces with a plasma generated by an electrode over a solid dielectric via a dielectrically impeded gas discharge | |
| US9774239B2 (en) | Method and apparatus for providing power | |
| US20120156091A1 (en) | Methods and devices for treating surfaces with surface plasma` | |
| EP2223704A1 (en) | Treating device for treating a body part of a patient with a non-thermal plasma | |
| Ayan et al. | Heating effect of dielectric barrier discharges for direct medical treatment | |
| KR101320291B1 (ko) | 국부소독 및 살균 가능한 핸드피스형 플라즈마 장치 | |
| KR20100090773A (ko) | 플라즈마 필드를 사용한 자가 살균 장치 | |
| CN104981270A (zh) | 采用低压等离子体处理生物组织的设备和方法 | |
| Khanikar et al. | Cold atmospheric pressure plasma technology for biomedical application | |
| RU2705791C1 (ru) | Источник неравновесной аргоновой плазмы на основе объемного тлеющего разряда атмосферного давления | |
| US10245333B2 (en) | Plasma generating apparatus and treatment method using the same | |
| RU2638569C1 (ru) | Способ стерилизации газоразрядной плазмой атмосферного давления и устройство для его осуществления | |
| Han | Review of major directions in non-equilibrium atmospheric plasma treatments in medical, biological, and bioengineering applications | |
| CZ31034U1 (cs) | Zdroj nízkoteplotního plazmatu, zejména pro generaci plazmatu při využití v medicínských bioaplikacích | |
| CZ304814B6 (cs) | Atmosférický zdroj plazmatu, zejména pro využití v medicínských bioaplikacích | |
| CZ29236U1 (cs) | Zdroj nízkoteplotního plazmatu, zejména pro generaci plazmatu ve tvaru různých objemových útvarů | |
| CZ33331U1 (cs) | Zdroj nízkoteplotního plazmatu, zejména pro využití v potravinářském průmyslu a bioaplikacích | |
| CZ306217B6 (cs) | Zdroj nízkoteplotního plazmatu s možností kontaktní i bezkontaktní aplikace a způsob výroby sendvičové struktury pro tento zdroj | |
| Sarkar et al. | Electrical Discharges: An Emerging Modality in Sterilization, Disinfection, and Therapeutics. | |
| CZ29159U1 (cs) | Zdroj nízkoteplotního plazmatu s možností kontaktní i bezkontaktní aplikace | |
| CZ27679U1 (cs) | Zdroj nízkoteplotního plazmatu, zejména pro deaktivací bakteri |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FG1K | Utility model registered |
Effective date: 20170919 |
|
| ND1K | First or second extension of term of utility model |
Effective date: 20210722 |
|
| MK1K | Utility model expired |
Effective date: 20240801 |