CZ307839B6 - Zařízení pro výrobu samonosných flexibilních polymerních optických mnohavidových planárních vlnovodů - Google Patents
Zařízení pro výrobu samonosných flexibilních polymerních optických mnohavidových planárních vlnovodů Download PDFInfo
- Publication number
- CZ307839B6 CZ307839B6 CZ2018-92A CZ201892A CZ307839B6 CZ 307839 B6 CZ307839 B6 CZ 307839B6 CZ 201892 A CZ201892 A CZ 201892A CZ 307839 B6 CZ307839 B6 CZ 307839B6
- Authority
- CZ
- Czechia
- Prior art keywords
- block
- temporary
- layer
- functional layer
- polymer
- Prior art date
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 58
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims abstract description 141
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims abstract description 118
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 claims abstract description 72
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims abstract description 18
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 19
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 claims description 14
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 14
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 claims description 14
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 13
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 238000009501 film coating Methods 0.000 claims description 7
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 7
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 6
- 230000005855 radiation Effects 0.000 abstract description 8
- 238000005286 illumination Methods 0.000 abstract description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 20
- 238000000034 method Methods 0.000 description 12
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 11
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 10
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 8
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 8
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 7
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 7
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 7
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 6
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 5
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 4
- 239000013047 polymeric layer Substances 0.000 description 4
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 4
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 3
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 3
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 3
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 3
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 3
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- WKBPZYKAUNRMKP-UHFFFAOYSA-N 1-[2-(2,4-dichlorophenyl)pentyl]1,2,4-triazole Chemical compound C=1C=C(Cl)C=C(Cl)C=1C(CCC)CN1C=NC=N1 WKBPZYKAUNRMKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 239000013067 intermediate product Substances 0.000 description 2
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 2
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 2
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 229920000089 Cyclic olefin copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004713 Cyclic olefin copolymer Substances 0.000 description 1
- 238000003848 UV Light-Curing Methods 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000005352 clarification Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000000609 electron-beam lithography Methods 0.000 description 1
- 238000002839 fiber optic waveguide Methods 0.000 description 1
- 229920005570 flexible polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 1
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 1
- 230000005693 optoelectronics Effects 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 239000010970 precious metal Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 238000001429 visible spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/2407—Tracks or pits; Shape, structure or physical properties thereof
- G11B7/24085—Pits
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/04—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of organic materials, e.g. plastics
- G02B1/045—Light guides
- G02B1/048—Light guides characterised by the cladding material
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
- G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
- G02B6/13—Integrated optical circuits characterised by the manufacturing method
- G02B6/132—Integrated optical circuits characterised by the manufacturing method by deposition of thin films
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
- G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
- G02B6/13—Integrated optical circuits characterised by the manufacturing method
- G02B6/138—Integrated optical circuits characterised by the manufacturing method by using polymerisation
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/08—Disposition or mounting of heads or light sources relatively to record carriers
- G11B7/09—Disposition or mounting of heads or light sources relatively to record carriers with provision for moving the light beam or focus plane for the purpose of maintaining alignment of the light beam relative to the record carrier during transducing operation, e.g. to compensate for surface irregularities of the latter or for track following
- G11B7/0938—Disposition or mounting of heads or light sources relatively to record carriers with provision for moving the light beam or focus plane for the purpose of maintaining alignment of the light beam relative to the record carrier during transducing operation, e.g. to compensate for surface irregularities of the latter or for track following servo format, e.g. guide tracks, pilot signals
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/2407—Tracks or pits; Shape, structure or physical properties thereof
- G11B7/24073—Tracks
- G11B7/24079—Width or depth
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Optical Integrated Circuits (AREA)
Abstract
Zařízení pro výrobu samonosných flexibilních polymerních mnohavidových optických planárních vlnovodů, které obsahuje alespoň jeden blok (7) nanášení polymerních vrstev a alespoň jeden blok (8) osvětlování polymerních vrstev UV zářením. Polymerní vrstvy přitom zahrnují spodní funkční vrstvu (1), vlnovodnou vrstvu (2) a horní krycí funkční vrstvu (3) a také alespoň jednu dočasnou polymerní vrstvu (5). Blok (7) nanášení polymerních vrstev v sobě zahrnuje blok (7.1) nanášení dočasných polymerních vrstev (5), když tento blok (7) obsahuje také sekci (7.1.1) vkládání dočasné podložky (6) pro nanášení dočasných polymerních vrstev (5). Zařízení dále zahrnuje rovněž alespoň jeden blok (9) odstraňování dočasných polymerních vrstev (5), v němž je obsažena také sekce (9.1) oddělení dočasné podložky (6).
Description
Oblast techniky
Mnohavidové optické planámí vlnovody řeší problém přenosu dat pomocí světla na krátké vzdálenosti. Optické planámí vlnovody umožní přenos dat s větší přenosovou rychlostí a s větším objemem dat než umožňuje doposud hlavně používané spojení pomocí metalického propojování nebo bezdrátové komunikace. Hlavní využití této komunikace je propojování desek plošných spojů, pro optickou komunikaci mezi čipy nebo pro spojení rack-rack v datových centrech.
Dosavadní stav techniky
Datové komunikace na velké vzdálenosti v současnosti výhradně používají komunikaci pomocí optických vláknových vlnovodů, kde jsou používaná křemenná optická vlákna s průměrem jádra optického vlnovodu 4 až 9 μιη a pláštěm 125 μιη. V metropolitních sítích na kratší vzdálenosti jsou pak používána křemenná optická vlákna s průměrem jádra vláken 50 nebo 62,5 μιη a průměrem pláště 125 μιη. Tato křemenná optická vlákna jsou provozována v rozsahu vlnových délek 1250 až 1650 nm. Je to z důvodu, že na těchto vlnových délkách mají křemenná vlákna nízký optický útlum a na vlnové délce 1310 nm mají nízkou disperzi. V automobilovém průmyslu jsou také používaná polymemí optická vlákna POF, Platíc Optical Fiber, kdy tato vlákna mají nejčastěji průměr vlnovodného jádra 980 μιη a průměr pláště 1000 μιη. V poslední době jsou také používána POF vlákna s průměrem jádra vlnovodu 730 μιη a průměrem pláště 750 μιη. Vlnovodná jádra těchto vlnovodů jsou zpravidla vyrobena z polymeru polymethylmethakrylát, označovaného zkratkou PMMA, a jsou používána na vlnové délce ve viditelném spektru, zpravidla na vlnové délce 650 nm, kdy přenos dat probíhá do vzdálenosti maximálně 100 až 200 m.
S rozvojem informačních technologií stále narůstají požadavky na přenosové rychlosti a objem přenášených a zpracovávaných dat. Z tohoto důvodu v systémech jako jsou datová centra, super rychlé počítače apod., kde doposud byla komunikace prováděna pomocí metalických propojení, je tato komunikace nahrazována pomocí komunikace optické. Pro tyto nové aplikace jsou vyvíjeny nové technologie a nové typy optických vlnovodů. Jednou z možností je místo propojení pomocí optických vláknových vlnovodů použít vlnovody planámí. Pro realizaci vlastní fotonické struktury je pak základem kanálkový vlnovod, kde je vlnovodná struktura prostorově omezena.
Planámí optické vlnovody mohou být vyrobeny z polovodičových materiálů, kde je vlnovodná vrstva nanesena na planámí podložku (substrát), nebo do skleněných podložek nebo optických krystalů, kde je vlnovod vytvořen pomocí difúze nebo iontové výměny. Tento typ vlnovodů má vhodné vlastnosti, ale jejich výroba je náročnější a také v mnoha případech je nutné pracovat s technologickými procesy, které vyžadují užití chemických látek, které zatěžují životní prostředí. Ve výsledku mají takto vyrobené optické vlnovody vysokou cenu. Při použití těchto materiálů nelze také vyrobit vlnovody, které by byly ohebné (pražné, flexibilní) protože jsou realizovány na pevné planámí podložce.
Proto jsou hledány nové materiály, které by měly nízký optický útlum na provozovaných vlnových délkách. V poslední době je věnována velká pozornost polymerům, které by umožnily nahrazení optických planámích vlnovodů, realizovaných pomocí polovodičů atd.
Tyto nově vyvinuté polymery se vyznačují nižšími náklady, méně zatěžují životní prostředí a pro výrobu lze použít technologie kompatibilní s polovodičovými technologiemi.
Takto realizované optické vlnovody jsou určeny pro pracovní vlnové délky 850 nm, kde mají nově vyvinuté polymery nízký optický útlum a lze použít optické zdroje, vysílače a detektory, optické přijímače s nižšími náklady, kde jsou standardně používané vysílače a přijímače pracující v systémech
- 1 CZ 307839 B6 s křemennými optickými vlákny 1250 až 1650 nm. Tyto vlnovody jsou také zpravidla realizovány s rozměry jádra vlnovodu 50x50 pm (šířka x výška) a jsou tedy kompatibilní s mnohavidovými optickými vlákny 50/125 pm. Další výhodou je jejich mechanická ohebnost-flexibilita. Proto pro tento typ planámích optických vlnovodů jsou testovány nové polymemí vlnovody realizované na flexibilních podložkách.
Je známé řešení pro výrobu polymemího vlnovodu na pevné podložce jako je Si (křemíková podložka) nebo sklo, které bylo popsáno v práci autorů N. Bamiedakis et al. s názvem Cost-Effective Multimode Polymer Waveguides for High-Speed On-Board Optical Interconnects, zveřejněné v IEEE Joumal of Quantum Electronics, vol. 45, no. 4, 2009, kde autoři použili standartní fotolitografický proces a vytvořili vlnovod ve tvaru spirály z polymemích materiálů vyvinutých firmou Dow Coming, kde siloxanový polymer OE-4140 byl použit jako jádro vlnovodu a polymer OE-4141 byl použit jako dolní mezivrstva a horní krycí vrstva.
Byly také popsány polymemí flexibilní optické vlnovody, prezentované V. Prajzlerem et al. s názvem Properties of Multimode Optical Epoxy Polymer Waveguides Deposited on Silicon and TOPAS Substráte, Radioenginnering, vol. 26, no. 1, 2017. Tyto vlnovody byly realizovány na ohebné podložce z polymeru Cyclic Olefin Copolymer TOPAS 8007X4 a vlnovodnou vrstvu pak tvořil epoxy polymer EpoCore a oddělující vrstvu tvořil epoxy polymer EpoClad dodané firmou Micro resist technology GmbH. Realizované vlnovody měly geometrické rozměry 50 x 50 pm (výška x šířka) a měly optický útlum nižší než 0,3 dB-cm1 a nejnižší útlum byl změřen 0,16 dB-cm1 na vlnové délce 850 nm.
Je také známé řešení, popsané Y. Huang et al.: Demonstration of Flexible Freestanding All-Polymer Integrated Optical Ring Resonator Devices, Adv. Mater. Vol. 16, No. 1, 2004, kde byl popsán optický polymemí mikrorezonátor, který byl realizován jako samonosný, tzv. firee standing. Rozměr vlnovodů byl 2x2 pm (výška x šířka) s poloměrem mikrorezonátoru 100 pm. Struktura byla určená pro vlnovou délku 1550 nm. Mikrorezonátor byl vyroben na křemíkové podložce, na kterou byla napařena vrstva zlata a chrómu. Na tuto podložku byla nanesena přechodová vrstva z polymeru UV 15, následovalo nanesení vlnovodné vrstvy z polymeru Su8 a horní krycí vrstvu tvořil polymer OG125. Struktura mikrorezonátoru byla vytvořena pomocí elektronové litografie a mokrého leptání. V závěrečném výrobním kroku byl mikrorezonátor odtrhnut od křemíkové podložky a výsledný mikrorezonátor pak měl podobu tzv. free standing struktury.
Je také známé řešení popsané v českém patentu CZ 306971 B6 - Způsob výroby flexibilních mnohavidových optických planámích vlnovodů a zařízení k provádění tohoto způsobu a užitném vzoru CZ 30054 U1 - Zařízení pro výrobu flexibilních mnohavidových optických planámích vlnovodů, kde je zveřejněn postup pro výrobu flexibilních polymemích optických vlnovodů.
Nevýhodou výše zmíněných řešení je, že umožní realizaci optických vlnovodů za nutnosti použití podložek anebo technologicky náročných zařízení jako je elektronová litografie a použití drahých kovů jako je zlato a chrom.
Podstata vynálezu
Výše uvedené nedostatky odstraňuje zařízení pro výrobu samonosných flexibilních mnohavidových optických planámích vlnovodů podle předkládaného vynálezu, v němž je navrženo jejich provedení bez podložky, jde tedy o tzv. free standing struktury.
Navržené zařízení je určeno pro výrobu samonosných flexibilních polymemích mnohavidových optických planámích vlnovodů obsahujících polymemí vrstvy. Zařízení obsahuje alespoň jeden blok nanášení polymemích vrstev a alespoň jeden blok osvětlování polymemích vrstev UV zářením, přičemž tyto polymemí vrstvy zahrnují spodní funkční vrstvu, vlnovodnou vrstvu a horní krycí funkční vrstvu.
-2CZ 307839 B6
Polymemí vrstvy přitom obsahují také dočasné polymemí vrstvy. Podstatou zařízení je to, že blok pro nanášení polymerních vrstev obsahuje také sekci vkládání dočasné podložky pro nanášení dočasných polymerních vrstev, přičemž zařízení dále zahrnuje rovněž alespoň jeden blok pro odstraňování dočasných polymerních vrstev, v němž je obsažena také sekce oddělení dočasné podložky. Blok nanášení polymerních vrstev přitom zahrnuje zvláštní blok nanášení dočasných polymerních vrstev.
Je výhodné, když v sobě blok nanášení polymerních vrstev zahrnuje rovněž zvláštní blok nanášení spodní funkční vrstvy a horní krycí funkční vrstvy a zvláštní blok nanášení vlnovodné vrstvy.
V jednom výhodném provedení je blok nanášení spodní funkční vrstvy a horní krycí funkční vrstvy rozdělen na speciální blok nanášení spodní funkční vrstvy a speciální blok nanášení horní krycí funkční vrstvy.
Je navrženo také výhodné provedení, v němž blok nanášení spodní funkční vrstvy a horní krycí funkční vrstvy obsahuje zařízení pro nanášení optické tenké vrstvy s prvním indexem lomu a v němž blok nanášení vlnovodné vrstvy obsahuje zařízení pro nanášení optické tenké vrstvy s druhým indexem lomu, přičemž druhý index lomu je při stejné vlnové délce vyšší než první index lomu.
Výhodné je také provedení, v němž blok nanášení dočasných polymerních vrstev obsahuje zařízení pro nanášení polyvinylalkoholu.
Je výhodné, když blok odstraňování dočasných polymerních vrstev obsahuje zařízení pro mechanické oddělování dočasných polymerních vrstev.
V jiném výhodném provedení blok odstraňování dočasných polymerních vrstev obsahuje zařízení pro rozpouštění dočasných polymerních vrstev.
V této variantě je také výhodné, když blok odstraňování dočasných polymerních vrstev obsahuje přívod demineralizované vody.
Zařízení může být doplněno také tak, že za blok odstraňování dočasných polymerních vrstev je zařazen laminátor určený pro laminaci papíru.
Výhodou tohoto zařízení je zejména to, že umožňuje vyrábět flexibilní mnohavidové optické planámí vlnovody bez nutnosti použití flexibilních podložek.
Objasnění výkresů
Na obr. 1 je uveden příklad finálního provedení optického planámího mnohavidového vlnovodu realizovaného pomocí zařízení podle předkládaného vynálezu.
Na obr. 2 je znázorněn meziprodukt výroby tohoto vlnovodu, který ještě obsahuje dočasnou podložku a dočasnou polymemí vrstvu a ještě neobsahuje ochrannou fólii.
Na obr. 3 je znázorněno blokové schéma zařízení, které je předmětem předkládaného vynálezu.
Příklady uskutečnění vynálezu
Níže uvedené příklady ukazují jen některá z možných konkrétních provedení zařízení dle předkládaného řešení, přičemž i kombinace těchto výhodných provedení spadají do předmětu ochrany vynálezu. Rovněž do předmětu ochrany spadají zařízení s některými odlišnými parametry oproti těm, které jsou uvedeny níže u výhodných provedení - zařízení dle předkládaného vynálezu tak může například realizovat i vlnovody s jinými rozměry a nanášet polymery jiných např. optických vlastností,
-3 CZ 307839 B6 než je uvedeno v příkladech níže, mohou být také využity jiné způsoby nanášení polymemích vrstev, než je níže uvedené rotační lití apod.
Na obr. 1 je uvedeno topologické schéma příkladného finálního provedení optického planámího mnohavidového vlnovodu, který je vyroben pomocí zařízení dle předkládaného řešení za použití dočasné polymemí vrstvy 5, typicky z polyvinylalkoholu, zkráceně PVA.
Na obr. 1 je znázorněna spodní funkční vrstva 1, typicky z materiálu s komerčním názvem EpoClad nebo jiného polymemího vlnovodného materiálu, vlnovodná vrstva 2, typicky z materiálu s komerčním názvem EpoCore nebo jiného polymemího vlnovodného materiálu, horní krycí funkční vrstva 3, typicky z materiálu s komerčním názvem EpoClad nebo jiného polymemího vlnovodného materiálu a ochranná fólie 4. Vždy přitom platí, že index vlnovodné vrstvy 2 je při stejné vlnové délce vyšší než index lomu spodní funkční vrstvy 1 i než index lomu horní krycí funkční vrstvy 3. Pro příklad uvádíme indexy lomu výše zmíněných typických materiálů na vlnové délce 850 nm: v případě polymeru EpoCore je index lomu 1,586, v případě polymeru EpoClad 1,574.
Na obr. 2 je zakresleno topologické schéma meziproduktu výroby tohoto vlnovodu v zařízení dle předkládaného vynálezu, kde je vidět také dočasná podložka 6 a dočasná polymemí vrstva 5. Dočasných polymemích vrstev 5 může být naneseno i více na sobě, přitom mohou být z různých druhů polymerů, jejichž různé vlastnosti mohou být vhodné např. z jedné strany u níže uložené dočasné polymemí vrstvy 5 pro aplikaci na dočasnou podložku 6 a z drahé strany u výše uložené dočasné polymemí vrstvy 5 vhodné pro nanesení spodní funkční vrstvy 1_: Dočasná polymemí vrstva 5 může být v jednom provedení z polymeru PVA. Dočasnou podložkou 6 může být s výhodou podložka z křemíku nebo ze skla.
Blokové schéma zařízení pro výrobu samonosných flexibilních polymemích optických mnohavidových planámích vlnovodů je uvedeno na obr. 3, přičemž zde ukázané zařízení je kombinací několika výhodných provedení, která nemusejí být vždy současně přítomna.
Zařízení vždy obsahuje alespoň jeden blok 7 nanášení polymemích vrstev a alespoň jeden blok 8 osvětlování polymemích vrstev UV zářením. Uvedené polymemí vrstvy, které jsou v zařízení nanášeny, zahrnují spodní funkční vrstvu 1, vlnovodnou vrstvu 2 a horní krycí funkční vrstvu 3, a na rozdíl od stavu techniky mezi polymemí vrstvy, které jsou v zařízení nanášeny v bloku 7 nanášení polymemích vrstev, patří i alespoň jedna dočasná polymemí vrstva 5. Tato dočasná polymemí vrstva 5 se v zařízení nanáší na dočasnou podložku 6. Blok 7 nanášení polymemích vrstev obsahuje také sekci
7,1.1 vkládání této dočasné podložky 6.
Zařízení dále také vždy zahrnuje rovněž alespoň jeden blok 9 odstraňování dočasných polymemích vrstev 5, v němž je obsažena také sekce 9.1 oddělení dočasné podložky 6.
Tento blok 9 pro odstraňování dočasných polymemích vrstev 5 je řazen vedle bloku 7 nanášení polymemích vrstev.
Další bloky zahrnuté na obr. 3 už odpovídají specifickým výhodným provedením, která nemusejí být v zařízení dle předkládaného vynálezu obsažena vždy.
Je tak například výhodné, když je blok 7 nanášení polymemích vrstev rozdělen na různé bloky pro nanášení různých typů polymemích vrstev, což ale není podmínkou nutnou fungování zařízení, je možné také provedení, v němž blok 7 není rozdělen, a všechny typy polymemích vrstev se tedy nanášejí v jediném bloku, neboje rozdělen na méně podbloků, než je uvedeno na obr. 3.
Jak je znázorněno na obr. 1, blok 7 nanášení polymemích vrstev v sobě zahrnuje zvláštní blok 7,1 nanášení dočasných polymemích vrstev 5.
-4CZ 307839 B6
Rovněž je výhodné, když v sobě blok 7 nanášení polymemích vrstev zahrnuje také samostatný blok 7,2 nanášení spodní funkční vrstvy 1 a horní krycí funkční vrstvy 3, což je vhodné proto, že spodní funkční vrstva 1 a horní krycí vrstva 3 bývají typicky ze stejného materiálu.
Naproti tomu vlnovodná vrstva 2 je z jiného materiálu, proto je výhodné, když je v bloku 7 nanášení polymemí vrstev zahrnut i a zvláštní blok 7,3 nanášení vlnovodné vrstvy 2.
Dále jsou možná a výhodná některá specifická provedení výše uvedených bloků:
Tak například blok 7,2 nanášení spodní funkční vrstvy 1 a horní krycí funkční vrstvy 3 je ve výhodném provedení znázorněném na obr. 3 rozdělen na speciální blok 7,2,1 nanášení spodní funkční vrstvy 1 a speciální blok 7,2,2 nanášení horní krycí funkční vrstvy 3, což může být výhodné pro urychlení procesu výroby.
Jelikož spodní funkční vrstva 1 a horní krycí funkční vrstva 3 jsou z materiálu s nižším indexem lomu než vlnovodná vrstva 2, je výhodné, když blok 7,2 nanášení spodní funkční vrstvy 1 a horní krycí funkční vrstvy 3 obsahuje zařízení pro nanášení optické tenké vrstvy s indexem lomu, zatímco blok 7,3 nanášení vlnovodné vrstvy 2 obsahuje zařízení pro nanášení optické tenké vrstvy s druhým indexem lomu, přičemž druhý index lomu je při stejné vlnové délce vyšší než první index lomu. Blok 7,2 nanášení spodní funkční vrstvy 1. a horní krycí funkční vrstvy 3 může být uzpůsoben například pro nanášení materiálu EpoClad, blok 7,3 nanášení vlnovodné vrstvy 2 může být uzpůsoben pro nanášení materiálu EpoCore.
Původci tohoto vynálezu experimentálně ověřili, že jako dočasnou polymemí vrstvu 5 je vhodné zvolit vrstvu z materiálu polyvinylalkohol (dále PVA). Je proto výhodné, když blok 7,1 nanášení dočasných polymemích vrstev 5 obsahuje zařízení pro nanášení vrstvy PVA.
Blok 9 odstraňování dočasných polymemích vrstev 5 v sobě s výhodou obsahuje zařízení pro mechanické oddělování dočasných polymemích vrstev 5.
Alternativou je pak odstraňování dočasných polymemích vrstev 5 mechanicky. Pro tento účel blok 9 odstraňování dočasných polymemích vrstev 5 obsahuje zařízení pro rozpouštění dočasných polymemích vrstev 5. Rozpouštění je s výhodou prováděno pomocí demineralizované vody, proto blok 9 odstraňování dočasných polymemích vrstev 5 ve výhodném provedení obsahuje přívod demineralizované vody.
Je rovněž výhodné, když je na konci procesu výroby vzniklý vlnovod zalaminován, proto je výhodné, když je za blok 9 odstraňování dočasných polymemích vrstev 5 zařazen laminátor, přičemž s výhodou lze využít laminátor určený pro laminací papíru.
Funkce zařízení je popsána níže, přičemž kromě základní funkce zařízení jsou specifikovány i např. některé výhodné způsoby nanášení polymemích vrstev, které ale nejsou nezbytné. Rozměrové, teplotní a časové parametry i komerční označení použitých materiálů jsou uváděny pro příklad výhodných provedení, jsou možná ale i jiná provedení vynálezu s odlišnými parametry.
V jednom příkladném provedení je dočasná polymemí vrstva 5 nanesena optimálně pomocí metody rotačního lití v bloku 7,1 nanášení dočasných polymemích vrstev na dočasnou podložku 6, která je vložena v sekci vkládání dočasné podložky 7.1.1. Spodní funkční vrstva 1, horní krycí funkční vrstva 3 a vlnovodná vrstva 2 mohou být v jednom příkladném provedení také naneseny pomocí metody rotačního lití. Jsou ale možné i jiné způsoby nanášení těchto vrstev. Blok osvětlování polymemích vrstev UV zářením 8 slouží k vytvrzení spodní funkční vrstvy 1, vlnovodné vrstvy 2 a horní krycí funkční vrstvy 3. V jednom výhodném provedení může být blok 8 osvětlování polymemích vrstev UV zářením obsahovat optický litograf, v jiném výhodném provedení osvitovou jednotku určenou pro osvit desek plošných spojů, možná je také kombinace obou těchto zařízení v jednom bloku 8 osvětlování polymemích vrstev UV zářením. Blok 9 odstraňování dočasných polymemích vrstev obsahuje sekci
-5 CZ 307839 B6
9.1 oddělení dočasné podložky 6. V jenom výhodném provedení je dočasná podložka rozpuštěna v demineralizované vodě.
Dočasná podložka 6 je vložena do bloku 7 nanášení polymemích vrstev v sekci 7,1.1 vkládání dočasné podložky. Na dočasnou podložku 6, která může být ze skla nebo z křemíku, je v bloku 7 nanášení polymemích vrstev, konkrétně ve zvláštním bloku 7,1 nanášení dočasných polymemích vrstev, nanesena dočasná polymemí vrstva 5, typicky z PVA. Jednou z možností je, že materiál PVA je dodáván ve formě granulí nebo prášku a PVA je rozpuštěno v demineralizované vodě v poměru 1 g PVA na 25 ml demineralizované vody, rozpuštění pak probíhá při teplotě 60 °C po dobu 60 minut. Pro rozpuštění je pak kapalné PVA použito jako dočasná polymemí vrstva 5, která je nanesena technologií rotačního lití na dočasnou podložku 6. Na dočasnou polymemí vrstvu 5 je pak nanesena spodní funkční vrstva 1, nejvýhodněji pomocí metody rotačního lití, přičemž otáčky jsou přizpůsobeny nanášené tloušťce. Tloušťka spodní funkční vrstvy 1. musí být větší nebo rovna 20 μιη. V jednom z provedení může být spodní funkční vrstva 1 tvořena z polymemího materiálu epoxidové pryskyřice EpoClad.
Po nanesení spodní funkční vrstvy 1, kterou tvoří materiál EpoClad, je vrstva zahřívána na plotně pro ohřev desek na teplotu 50 °C po dobu 10 minut, potom je teplota postupně zvyšována rychlostí 10 °C za minutu až do teploty 90 °C. Při této teplotě je vzorek ponechán po dobu 10 minut. Potom je vzorek ochlazen na pokojovou teplotu a vytvrzen pomocí UV záření v bloku 8 osvětlování polymemích vrstev UV zářením po dobu 2 minut. Vytvrzení pomocí UV světla jev rámci bloku 8 s výhodou provedeno pomocí osvitové jednotky pro desky plošných spojů, která umožňuje velkoformátový osvit. Výhodou tohoto postupu jsou nižší pořizovací a provozní náklady než při použití optického litografu. Následuje opět ohřev na plotně na teplotu 50 °C po dobu 10 minut, potom je teplota opět postupně zvyšována rychlostí 10 °C za minutu až do teploty 90 °C, kdy je vzorek vystaven této teplotě po dobu 10 minut.
Následuje nanesení vlnovodné vrstvy 2, která je s výhodou tvořena epoxidovou pryskyřicí EpoCore. Nanesení vlnovodné vrstvy 2 na spodní funkční vrstvu 1 je opět s výhodou provedeno pomocí metody rotačního lití, kde jsou otáčky nastaveny tak, aby byla nanesena vrstva EpoCore s tloušťkou 50 μιη. Po nanesení vlnovodné vrstvy 2 je vlno vodná vrstva 2 zahřívána na plotně na teplotu 50 °C po dobu 10 minut a potom je teplota postupně zvyšována rychlostí 10 °C za minutu až do teploty 90 °C. Při této teplotě je vzorek ponechán po dobu 10 minut. Vytvoření optických vlnovodů o šířce vlnovodných kanálů o rozměru typicky 50 pm je provedeno pomocí optického litografu osvitem UV zářením přes chromovou masku, přičemž optický litograf je umístěn v bloku 8 osvětlování polymemích vrstev UV zářením. Vzorek je pak zahříván na teplotu 50 °C po dobu 10 minut, potom je teplota postupně zvyšována rychlostí 10 °C za minutu až do teploty 90 °C. Při této teplotě je vzorek ponechán po dobu 10 minut. Po ochlazení vzorku na pokojovou teplotu dojde ke vložení vzorku do vývojky, typicky s komerčním označením mr-Dev 600. Při tomto technologickém kroku je odleptána neosvícená část vlnovodné vrstvy 2. Po vytažení vzorku z vývojky je vzorek omyt v izopropylalkoholu a v demineralizované vodě. Takto je vytvořen optický mnohavidový kanálkový vlnovod s rozměrem 50 x 50 pm (výška x šířka) a délkou optického vlnovodu až 8 cm.
Následuje nanesení horní krycí funkční vrstvy 3, která je typicky tvořena stejným materiálem jako spodní funkční vrstva 1, epoxidovou pryskyřicí EpoClad. Nanesení horní krycí funkční vrstvy 3 je opět provedeno pomocí metody rotačního lití tak, aby tloušťka horní krycí funkční vrstvy 3 byla minimálně 20 μιη. Po nanesení horní krycí vrstvy 3 je vzorek zahříván na plotně na teplotu 50 °C po dobu 10 minut, potom je teplota postupně zvyšována rychlostí 10 °C za minutu až do teploty 90 °C. Při této teplotě je vzorek ponechán po dobu 10 minut. Potom je vzorek ochlazen na pokojovou teplotu a vytvrzen pomocí UV záření po dobu 2 minut v osvitové jednotce pro osvit desek plošných spojů, která je součástí bloku 8 osvětlování polymemích vrstev UV zářením. Následuje opět ohřev a to na teplotu 50 °C po dobu 10 minut, potom je teplota opět postupně zvyšována rychlostí 10 °C za minutu až do teploty 90 °C, kdy je vzorek vystaven této teplotě po dobu 10 minut.
Nanášení spodní funkční vrstvy 1 se provádí v bloku 7 nanášení polymemích vrstev, s výhodou pak ve zvláštním bloku 7,2 nanášení spodní funkční vrstvy 1 a horní krycí funkční vrstvy 3. V nejvýhodnějším
-6CZ 307839 B6 provedení je pak pro nanášení spodní funkční vrstvy vyhrazen speciální blok 7,2.1 nanášení spodní funkční vrstvy 1.
Obdobně nanášení horní krycí funkční vrstvy 3 se provádí v bloku 7 nanášení polymemích vrstev, s výhodou pak ve zvláštním bloku 7,2 nanášení spodní funkční vrstvy 1 a horní krycí funkční vrstvy 3. V nej výhodnějším provedení je pak pro nanášení horní krycí funkční vrstvy vyhrazen speciální blok
7,2,2 nanášení horní krycí funkční vrstvy 3.
Nanášení vlnovodné vrstvy 2 se provádí v bloku 7 nanášení polymemích vrstev, s výhodou pak ve zvláštním bloku 7,3 nanášení vlnovodné vrstvy 2.
Vznikne tak struktura, která je vyobrazena na obr. 2.
Následuje oddělení vytvořené struktury vrstev 1, 2 a 3 od skleněné nebo křemíkové dočasné podložky 6 v bloku odstraňování dočasné polymemí vrstvy 9. Oddělení lze provést mechanicky odtržením spodní funkční vrstvy 1 od dočasné polymemí vrstvy 5. Mechanické oddělení se může provádět strojově nebo manuálně. V případě manuálního oddělení se nejdříve opatrně skalpelem oddělí začátek spodní funkční vrstvy 1 od dočasné polymemí vrstvy 5, která je na dočasné podložce 6. Pak dojde k úplnému oddělení vrstev 1, 2 a 3 od dočasné podložky 6 s dočasnou polymemí vrstvou 5 pomocí pinzety, kde toto proběhne v sekci 9.1 oddělení dočasné podložky 6.
Jinou možností, jak oddělit dočasnou podložku 6 od struktury vrstev 1, 2 a 3, je rozpuštění dočasné polymemí vrstvy 5 v bloku 9 odstraňování dočasných polymemích vrstev. Po tomto rozpuštění je v sekci 9.1 oddělení dočasné podložky 6 tato podložka oddělena od struktury vrstev 1, 2 a 3.
Rozpuštění dočasné polymemí vrstvy 5 je s výhodou provedeno pomocí demineralizované vody a dojde tím k oddělení struktur vrstev 1, 2 a 3 od dočasné podložky 6. Za tímto účelem blok 9 odstraňování dočasných polymemích vrstev 5 obsahuje přívod demineralizované vody.
Demineralizovaná voda je přivedena do nádoby, kterou je možno zahřát na vyšší teplotu až cca 50 °C pro snazší a rychlejší oddělení vlnovodné struktury vrstev 1, 2, 3 od dočasné podložky 6.
Následuje zalaminování optického vlnovodu do ochranné fólie 4 pro větší odolnost proti mechanickému poškození. Zalaminování je s výhodou provedeno pomocí laminátoru pro laminaci papim. Laminátor je zařazen za blok 9 odstraňování dočasných polymemích vrstev 5. Vhodný je například laminátor pro kancelářské účely NeptuneTM 2 125 Laminator, kdy je použita standartní laminovací fólie s tloušťkou 80 pm. Po tomto krokuje vytvořená struktura podle vyobrazení na obr. 1. Výhodou oproti vlnovodným strukturám, které navíc obsahují podložku a/nebo strukturám, které nejsou zalaminovány, je větší odolnost proti mechanickému poškození, menší hmotnost, větší ohebnost a snazší manipulace.
Následuje nařezání na čipy a případně nakonektorování.
Optický kanálkový vlnovod je na obou koncích seříznut pomocí diamantové kotoučové pily, kde je pro dosažení optické kvality čel vlnovodů použito rychlost otáček 30 000 otáček za minutu s rychlostí posunu 1 mm/s.
Na závěr může být k optickému vlnovodu připevněn optický konektor (např. standartní MTO/MTP konektor), který není uveden na přiloženém výkrese a který umožní propojování běžně používaných optoelektronických modulů.
Na závěr uvádíme ještě podrobnosti k technologiím, které mohou být s výhodou použity v zařízení podle předkládaného řešení, a některé výhodné zejména rozměrové parametry.
Součástí bloku 7 nanášení polymemích vrstev i součástí každého z jeho podbloků může být zařízení pro nanášení tenkých vrstev pomocí metody rotačního lití, tzv. spin coater, který umožní nanesení dočasné polymemí vrstvy 5, dále pak nanesení spodní funkční vrstvy 1, vlnovodné vrstvy 2 a horní
-7 CZ 307839 B6 krycí funkční vrstvy 3. V jednom výhodném provedení je součástí bloku 8 osvětlování polymemích vrstev UV zářením optický litograf, který je určen pro osvit vlno vodné vrstvy 2, a velkoplošná osvitová jednotka určená pro osvit desek plošných spojů, která je určena pro osvit spodní funkční vrstvy 1 a horní krycí funkční vrstvy 3.
V jednom provedení je nanášení vrstev prováděno pomocí technologie rotačního lití, které umožňuje změnu rychlosti otáček držáku podložek, a to tak, aby bylo možno nanést dočasnou polymemí vrstvu 5, typicky z PVA, s tloušťkou v oboustranně uzavřeném intervalu od 10 do 500 nm, spodní funkční vrstvu 1 v s tloušťkou větší než 20 pm, vlnovodnou vrstvu 2 s tloušťkou v intervalu od 45 pm do 55 pm a horní krycí funkční vrstvu 3 s tloušťkou větší než 20 pm.
V dalším výhodném provedení zařízení obsahuje právě jeden blok pro nanášení polymemích vrstev, který obsahuje zařízení pro rotační lití, kde tloušťka nanášených vrstev je řízena rychlostí otáček držáku pro podložky.
Vlnovod je tvořen spodní funkční vrstvou 1, která musí mít tloušťku minimálně 20 pm, na kterou je nanesena vlnovodná vrstva 2, s typickými rozměry 50 x 50 pm (výška x šířka) a minimální délkou 4 cm, na kterou je nanesena horní krycí funkční vrstva 3, která je ze stejného materiálu jako spodní funkční vrstva 1_ a také musí mít minimální tloušťku 20 pm. V některých provedeních je pak možno pro větší odolnost mechanického namáhání provést zalaminování pomocí laminační ochranné fólie 4.
Zařízení pro rotační lití je používáno pro nanášení polymemích vrstev, například fotorezistů, v polovodičovém průmyslu. V zařízení dle předkládaného technického řešení musí nanášení polymemích vrstev, tj. spodní funkční vrstvy 1, vlno vodné vrstvy 2, horní krycí funkční vrstvy 3 a dočasné polymemí vrstvy 5, probíhat při přesně definovaných otáčkách, s definovaným zrychlením a po určitou dobu, aby byly jednotlivé nanesené vrstvy homogenní a měly požadovanou tloušťku.
Průmyslová využitelnost
Předkládané řešení je využitelné pro výrobu flexibilních polymemích optických vlnovodů k propojování čip-čip nebo desek plošných spojů pomocí optického signálu. Výhodou tohoto řešení je možnost výroby optických flexibilních vlnovodů, které pro výrobu nevyžadují použití flexibilní podložky.
PATENTOVÉ NÁROKY
Claims (9)
1. Zařízení pro výrobu samonosných flexibilních polymemích mnohavidových optických planámích vlnovodů obsahujících polymemí vrstvy, kde toto zařízení obsahuje alespoň jeden blok (7) nanášení polymemích vrstev a alespoň jeden blok (8) osvětlování polymemích vrstev UV zářením, přičemž tyto polymemí vrstvy zahrnují spodní funkční vrstvu (1), vlnovodnou vrstvu (2) a horní krycí funkční vrstvu (3), vyznačující se tím, že zmíněné polymemí vrstvy zahrnují také alespoň jednu dočasnou polymemí vrstvu (5) a že blok (7) nanášení polymemích vrstev v sobě zahrnuje blok (7.1) nanášení dočasných polymemích vrstev (5), když tento blok (7) nanášení polymemích vrstev obsahuje také sekci (7.1.1) vkládání dočasné podložky (6) pro nanášení dočasných polymemích vrstev (5), přičemž zařízení dále zahrnuje rovněž alespoň jeden blok (9) odstraňování dočasných polymemích vrstev (5), v němž je obsažena také sekce (9.1) oddělení dočasné podložky (6).
2. Zařízení podle nároku 1, vyznačující se tím, že blok (7) nanášení polymemích vrstev v sobě zahrnuje rovněž blok (7.2) nanášení spodní funkční vrstvy (1) a horní krycí funkční vrstvy (3) a blok (7.3) nanášení vlnovodné vrstvy (2).
-8CZ 307839 B6
3. Zařízení podle nároku 2, vyznačující se tím, že blok (7.2) nanášení spodní funkční vrstvy (1) a horní krycí funkční vrstvy (3) je rozdělen na speciální blok (7.2.1) nanášení spodní funkční vrstvy (1) a speciální blok (7.2.2) nanášení horní krycí funkční vrstvy (3).
4. Zařízení podle nároku 2 nebo 3, vyznačující se tím, že blok (7.2) nanášení spodní funkční vrstvy (1) a horní krycí funkční vrstvy (3) obsahuje zařízení pro nanášení optické tenké vrstvy s prvním indexem lomu a že blok (7.3) nanášení vlnovodné vrstvy (2) obsahuje zařízení pro nanášení optické tenké vrstvy s druhým indexem lomu, přičemž druhý index lomu je při stejné vlnové délce vyšší než první index lomu.
5. Zařízení podle kteréhokoli z nároků 1 až 4, vyznačující se tím, že blok (7.1) nanášení dočasných polymemích vrstev (5) obsahuje zařízení pro nanášení polyvinylalkoholu.
6. Zařízení podle kteréhokoli z nároků 1 až 5, vyznačující se tím, že blok (9) odstraňování dočasných polymemích vrstev (5) obsahuje zařízení pro mechanické oddělování dočasných polymemích vrstev (5).
7. Zařízení podle kteréhokoli z nároků 1 až 5, vyznačující se tím, že blok (9) odstraňování dočasných polymemích vrstev (5) obsahuje zařízení pro rozpouštění dočasných polymemích vrstev (5).
8. Zařízení podle nároku 7, vyznačující se tím, že blok (9) odstraňování dočasných polymemích vrstev (5) obsahuje přívod demineralizované vody.
9. Zařízení podle kteréhokoli z nároků 1 až 8, vyznačující se tím, že za blok (9) odstraňování dočasných polymemích vrstev (5) je zařazen laminátor.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CZ2018-92A CZ201892A3 (cs) | 2018-02-23 | 2018-02-23 | Zařízení pro výrobu samonosných flexibilních polymerních optických mnohavidových planárních vlnovodů |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CZ2018-92A CZ201892A3 (cs) | 2018-02-23 | 2018-02-23 | Zařízení pro výrobu samonosných flexibilních polymerních optických mnohavidových planárních vlnovodů |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CZ307839B6 true CZ307839B6 (cs) | 2019-06-12 |
| CZ201892A3 CZ201892A3 (cs) | 2019-06-12 |
Family
ID=66700733
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CZ2018-92A CZ201892A3 (cs) | 2018-02-23 | 2018-02-23 | Zařízení pro výrobu samonosných flexibilních polymerních optických mnohavidových planárních vlnovodů |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CZ (1) | CZ201892A3 (cs) |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0535861A2 (en) * | 1991-09-30 | 1993-04-07 | AT&T Corp. | Method for making planar optical waveguides and resulting devices |
| US20030002836A1 (en) * | 2001-06-29 | 2003-01-02 | Fan Zhong | GePSG core for a planar lightwave circuit |
| US6778753B2 (en) * | 2001-07-25 | 2004-08-17 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Halogenated optical polymer composition |
| CZ306971B6 (cs) * | 2016-10-18 | 2017-10-18 | České vysoké učení technické v Praze, Fakulta elektrotechnická, Katedra mikroelektroniky | Způsob výroby flexibilních mnohavidových optických planámích vlnovodů a zařízení k provádění tohoto způsobu |
-
2018
- 2018-02-23 CZ CZ2018-92A patent/CZ201892A3/cs unknown
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0535861A2 (en) * | 1991-09-30 | 1993-04-07 | AT&T Corp. | Method for making planar optical waveguides and resulting devices |
| US20030002836A1 (en) * | 2001-06-29 | 2003-01-02 | Fan Zhong | GePSG core for a planar lightwave circuit |
| US6778753B2 (en) * | 2001-07-25 | 2004-08-17 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Halogenated optical polymer composition |
| CZ306971B6 (cs) * | 2016-10-18 | 2017-10-18 | České vysoké učení technické v Praze, Fakulta elektrotechnická, Katedra mikroelektroniky | Způsob výroby flexibilních mnohavidových optických planámích vlnovodů a zařízení k provádění tohoto způsobu |
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| Bc. Petr Hypš: Flexibilní optické polymerní vlnovody pro přenos dat mezi elektrooptickými moduly, diplomová práce, ČVUT Praha 2015 * |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CZ201892A3 (cs) | 2019-06-12 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN100523886C (zh) | 光波导及其制造方法 | |
| JP3836127B2 (ja) | 光ファイバーの、導波路への連結を容易にする高分子ミクロ構造体 | |
| US6962667B2 (en) | Process for producing polymer optical waveguide | |
| CN102369467B (zh) | 制造光波导芯部的方法、制造光波导的方法、光波导和光电复合配线板 | |
| KR20030012940A (ko) | 이온 교환법을 이용한 평면형 광도파로 제조 방법 | |
| WO2014043267A1 (en) | Methods of fabricating photoactive substrates suitable for electromagnetic transmission and filtering applications | |
| WO2003079082A2 (en) | Fiber array and methods of fabrication | |
| JP6123261B2 (ja) | 光導波路及びその製造方法 | |
| CN101669053A (zh) | 光电复合基板的制造方法、由该方法制造的光电复合基板和使用该基板的光电复合组件 | |
| JPH08286064A (ja) | 高分子光導波路の作製方法 | |
| US20040026803A1 (en) | Process for producing polymer optical waveguide and producing apparatus therefor | |
| US7190871B2 (en) | Polysilane thin films for directly patternable waveguides | |
| CN112678766B (zh) | 一种转移纳米结构的方法及其应用 | |
| CZ307839B6 (cs) | Zařízení pro výrobu samonosných flexibilních polymerních optických mnohavidových planárních vlnovodů | |
| CZ31697U1 (cs) | Zařízení pro výrobu samonosných flexibilních polymerních optických mnohavidových planárních vlnovodů | |
| CN101498814B (zh) | 光波导 | |
| US20160170096A1 (en) | Lens member manufacturing method, lens member, curved surface shape pattern manufacturing method, and resin film for forming curved surface shape pattern | |
| CN101498813B (zh) | 光波导 | |
| Lüngen et al. | 3D optical coupling techniques on polymer waveguides for wafer and board level integration | |
| JP4219137B2 (ja) | 光配線接続体 | |
| JP2012113031A (ja) | 光ファイバコネクタ及びその製造方法 | |
| CZ306971B6 (cs) | Způsob výroby flexibilních mnohavidových optických planámích vlnovodů a zařízení k provádění tohoto způsobu | |
| Lee et al. | Surface input/output optical splitter film for multilayer optical circuits | |
| JP2006030357A (ja) | 光導波路の製造方法および光導波路 | |
| CZ30054U1 (cs) | Zařízení pro výrobu flexibilních mnohavidových optických planárních vlnovodů |