CZ294227B6 - Způsob zhotovování mnohovrstevných optických systémů - Google Patents
Způsob zhotovování mnohovrstevných optických systémů Download PDFInfo
- Publication number
- CZ294227B6 CZ294227B6 CZ20004373A CZ20004373A CZ294227B6 CZ 294227 B6 CZ294227 B6 CZ 294227B6 CZ 20004373 A CZ20004373 A CZ 20004373A CZ 20004373 A CZ20004373 A CZ 20004373A CZ 294227 B6 CZ294227 B6 CZ 294227B6
- Authority
- CZ
- Czechia
- Prior art keywords
- layer
- layers
- groups
- nanoparticles
- surface groups
- Prior art date
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 15
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 15
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 claims abstract description 35
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims abstract description 21
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 18
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 claims abstract description 18
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims abstract description 17
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 16
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 16
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 13
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims abstract description 11
- 238000007906 compression Methods 0.000 claims abstract description 8
- 230000006835 compression Effects 0.000 claims abstract description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 37
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 28
- 229910003480 inorganic solid Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 12
- 238000010304 firing Methods 0.000 claims description 9
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 5
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 claims description 4
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 claims description 4
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 claims description 3
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 3
- GEIAQOFPUVMAGM-UHFFFAOYSA-N ZrO Inorganic materials [Zr]=O GEIAQOFPUVMAGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 150000003346 selenoethers Chemical class 0.000 claims description 3
- 150000004772 tellurides Chemical class 0.000 claims description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 2
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 claims description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 claims description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 claims description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 claims description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims 13
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000011254 layer-forming composition Substances 0.000 claims 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 abstract 1
- 230000009969 flowable effect Effects 0.000 abstract 1
- -1 sulfides (e.g. CdS Chemical class 0.000 description 14
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 11
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 description 8
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 8
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 7
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 7
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 5
- 239000006117 anti-reflective coating Substances 0.000 description 5
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 5
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 5
- MCTWTZJPVLRJOU-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-1H-imidazole Chemical group CN1C=CN=C1 MCTWTZJPVLRJOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HCGFUIQPSOCUHI-UHFFFAOYSA-N 2-propan-2-yloxyethanol Chemical compound CC(C)OCCO HCGFUIQPSOCUHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 4
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 4
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 4
- QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N (1-hydroxycyclohexyl)-phenylmethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1(O)CCCCC1 QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FGUUSXIOTUKUDN-IBGZPJMESA-N C1(=CC=CC=C1)N1C2=C(NC([C@H](C1)NC=1OC(=NN=1)C1=CC=CC=C1)=O)C=CC=C2 Chemical compound C1(=CC=CC=C1)N1C2=C(NC([C@H](C1)NC=1OC(=NN=1)C1=CC=CC=C1)=O)C=CC=C2 FGUUSXIOTUKUDN-IBGZPJMESA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 3
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 3
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 3
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 3
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 3
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 3
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 3
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 description 3
- 239000004922 lacquer Substances 0.000 description 3
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 3
- MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 1,2-Divinylbenzene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1C=C MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004448 alkyl carbonyl group Chemical group 0.000 description 2
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 description 2
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 2
- 239000012952 cationic photoinitiator Substances 0.000 description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 2
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 2
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- CWAFVXWRGIEBPL-UHFFFAOYSA-N ethoxysilane Chemical compound CCO[SiH3] CWAFVXWRGIEBPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 2
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 2
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012756 surface treatment agent Substances 0.000 description 2
- PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N (+/-)-1,3-Butanediol Chemical compound CC(O)CCO PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHPBZFOKBAGZBL-UHFFFAOYSA-N (3-hydroxy-2,2,4-trimethylpentyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(C)C(O)C(C)(C)COC(=O)C(C)=C JHPBZFOKBAGZBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 1,2-diphenyl-2-propan-2-yloxyethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC(C)C)C(=O)C1=CC=CC=C1 MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTALPKYXQZGAEG-UHFFFAOYSA-N 2-propan-2-ylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C(C)C)=CC=C3SC2=C1 KTALPKYXQZGAEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMVWCPGVLSILMU-UHFFFAOYSA-N 5,6-dihydrodibenzo[2,1-b:2',1'-f][7]annulen-11-one Chemical compound C1CC2=CC=CC=C2C(=O)C2=CC=CC=C21 BMVWCPGVLSILMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910004613 CdTe Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021589 Copper(I) bromide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021591 Copper(I) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004641 Diallyl-phthalate Substances 0.000 description 1
- 229910005543 GaSe Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021193 La 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021607 Silver chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 1
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 1
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 1
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910007709 ZnTe Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 125000000218 acetic acid group Chemical group C(C)(=O)* 0.000 description 1
- 125000003668 acetyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C(=O)O[*] 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- 150000004645 aluminates Chemical class 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 150000001413 amino acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 1
- 238000003491 array Methods 0.000 description 1
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 1
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 1
- UXWSUTBOOHDZIL-UHFFFAOYSA-N bis(1-hydroxycyclohexyl)methanone Chemical compound C1CCCCC1(O)C(=O)C1(O)CCCCC1 UXWSUTBOOHDZIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC=C QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004106 butoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- UHYPYGJEEGLRJD-UHFFFAOYSA-N cadmium(2+);selenium(2-) Chemical compound [Se-2].[Cd+2] UHYPYGJEEGLRJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 150000004770 chalcogenides Chemical class 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M copper(I) chloride Chemical compound [Cu]Cl OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000005034 decoration Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 239000012933 diacyl peroxide Substances 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000001227 electron beam curing Methods 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 150000002118 epoxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol Natural products OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 125000004836 hexamethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 1
- WPYVAWXEWQSOGY-UHFFFAOYSA-N indium antimonide Chemical compound [Sb]#[In] WPYVAWXEWQSOGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 description 1
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 description 1
- 238000002488 metal-organic chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 230000006911 nucleation Effects 0.000 description 1
- 238000010899 nucleation Methods 0.000 description 1
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 1
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229920001515 polyalkylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000197 pyrolysis Methods 0.000 description 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- SBIBMFFZSBJNJF-UHFFFAOYSA-N selenium;zinc Chemical compound [Se]=[Zn] SBIBMFFZSBJNJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 150000004760 silicates Chemical class 0.000 description 1
- ADZWSOLPGZMUMY-UHFFFAOYSA-M silver bromide Chemical compound [Ag]Br ADZWSOLPGZMUMY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M silver monochloride Chemical compound [Cl-].[Ag+] HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 1
- 238000009987 spinning Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 1
- 230000007480 spreading Effects 0.000 description 1
- 125000005402 stannate group Chemical group 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N titanium(IV) isopropoxide Chemical compound CC(C)O[Ti](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000411 transmission spectrum Methods 0.000 description 1
- STCOOQWBFONSKY-UHFFFAOYSA-N tributyl phosphate Chemical compound CCCCOP(=O)(OCCCC)OCCCC STCOOQWBFONSKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LTOKKZDSYQQAHL-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[4-(oxiran-2-yl)butyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCCC1CO1 LTOKKZDSYQQAHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y30/00—Nanotechnology for materials or surface science, e.g. nanocomposites
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/006—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with materials of composite character
- C03C17/008—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with materials of composite character comprising a mixture of materials covered by two or more of the groups C03C17/02, C03C17/06, C03C17/22 and C03C17/28
- C03C17/009—Mixtures of organic and inorganic materials, e.g. ormosils and ormocers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
- C03C17/3417—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials all coatings being oxide coatings
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
- G02B1/111—Anti-reflection coatings using layers comprising organic materials
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Nanotechnology (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Composite Materials (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Optical Integrated Circuits (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
Abstract
Způsob zhotovování optických mnohovrstevných systémů zahrnuje tyto stupně@ aB nanesení tekuté směsi obsahující pevné anorganické nanočástice s polymerizovatelnými a@nebo polykondenzovatelnými organickými povrchovými skupinami na skleněný substrátŹ bB polymerizace a@nebo polykondenzace povrchových skupin pevných nanočástic za vzniku organicky zesítěné vrstvyŹ cB nanesení další směsi podle stupně aB s jiným indexem lomu než má předchozí směs na organicky zesítěnou vrstvuŹ dB polymerizace a@nebo polykondenzace povrchových skupin pevných částic za vzniku další organicky zesítěné vrstvyŹ eB případně opakování výše uvedených stupňů aB a dB jednou nebo několikrát za vzniku dalších organicky zesítěných vrstev na již zhotovené organicky zesítěné vrstvy a@nebo jiné plochy substrátu a fB jednostupňové tepelné stlačení vrstveného systému a vypálení organických složekŕ
Description
Vynález se týká způsobu zhotovování mnohovrstevných systémů jednostupňových vypalováním („Stackeinbrand“).
Dosavadní stav techniky
Mnohovrstevné systémy s optickým účinkem mohou být zhotovovány na skelném podkladu tzv. postupem sol-gel, viz např. patentový spis DE 19 41 191—Distich a kol.. Princip zde popsané metody zhotovování mnohovrstevných systémů spočívá v tom, že odpovídající skelný substrát se ponořením opatří vrstvou sólu, poté při vyšších teplotách uschne a vypálí se za účelem stlačení. Po předběžném usušení při teplotách <100 °C je také možné připravit další vrstvu opětným ponořením a obě vrstvy pak najednou vypálit. Předběžné usušení je však nutné provádět při vyšších teplotách tak, aby první vrstva získala dostatečnou chemickou stabilitu, protože by se nově nanášená vrstva při jiném postupu poškodila. Tloušťka vrstvy, které lze docílit spojením několika jednotlivých vrstev, aniž je nutno každou jednotlivou vrstvu předem spékat, se pohybuje okolo 0,5 pm, jinak by docházelo ke vzniku nežádoucích trhlin. Trhliny vznikají v důsledku silného trojrozměrného zesítění porézních vrstevných systémů, protože není možno odstranit smrštění vzniklé uvolněním napětí, k němuž dochází při ohřevu. Navíc je způsob popsaný ve shora uvedeném dokumentu velice pracný, jelikož po každém, jednotlivém nanesení vrstvy následuje její tepelné zpracování; při zhotovování mnoha vrstev je totiž nutno vypalování provádět při teplotách v rozmezí 400-500 °C. Tím se stává zhotovování mnohovrstevných systémů pro speciální optické použití (antireflexní zušlechtění širokých pásů, zrcadla se studeným světlem) výjimečně náročné jak na manipulaci se skelným substrátem, tak i na vynaložené náklady.
V patentovém spise WO 93/24 424 byl popsán postup, podle kterého lze zapojením relaxačních mechanismů také zhotovovat silné vrstvy. Tyto silné vrstvy však nejsou upotřebitelné pro docílení optického účinku. Jelikož nevyhovují podmínce λ/4.
Podstata vynálezu
Úkol řešený vynálezem spočívá ve vytvoření optických mnohovrstevných systémů, pokud možno bez pracných tepelných mezikroků tak, aby se následně dosáhlo optického účinku.
Vynález se týká způsobu zhotovování optických mnohovrstevných systémů, který sestává z těchto stupňů:
a) nanesení tekuté směsi obsahující pevné anorganické nanočástice s polymerizovatelnými a/nebo polykondenzovatelnými organickými povrchovými skupinami na skelný substrát,
b) polymerizace a/nebo polykondenzace povrchových skupin pevných nanočástic za vzniku organicky zesítěné vrstvy,
c) nanesení další směsi podle stupně a) s jiným indexem lomu, než má předchozí směs na organicky zesítěnou vrstvu,
d) polymerizace a/nebo polykondenzace povrchových skupin pevných nanočástic za vzniku další organické zesítěné vrstvy,
-1 CZ 294227 B6
e) případně opakování výše uvedených stupňů c) a d) jednou nebo několikrát za vniku dalších organicky zesítěných vrstev na již zhotovené organicky zesítěné vrstvy a/nebo jiné plochy substrátu, a
f) jednostupňové tepelné stlačení vrstveného systému a vypálení organických složek.
Při použití pevných anorganických nanočástic, na které jsou naneseny polymerizovatelné nebo polykondenzovatelné skupiny, existuje možnost vytvářet chemicky stabilní vrstvy již při velice nízkých teplotách např. fotoplymerizací; stejným postupem lze nanášet i další vrstvy. Při tomto postupu bylo zcela neočekávaně zjištěno, že se nanesené vrstvy mohou - a to bez jakéhokoli vzniku trhlin při vytváření vrstevných systémů o deseti nebo i více vrstvách - bez problémů stlačit, přičemž je možno jejich optický účinek předem přesně vypočítat tak, aby odpovídal požadovanému účelu. Optický účinek závisí totiž na obsahu příslušných anorganických složek každého stávajícího systému vrstvení, na naneseném množství materiálu (tloušťka vrstvy) a na dosažené hodnotě indexu lomu materiálu po jeho konečném tepelném stlačení.
V následujícím popisu a patentových nárocích se užívaným termínem „anorganické pevné nanočástice“ označují částice o průměrné velikosti (o průměrném průměru částice) nepřesahující 200 nm, s výhodou nepřesahující 100 nm a zejména nepřesahující 70 nm. Dává se přednost velikosti částic mezi 5 až 50 nm.
Popis vynálezu
Anorganické pevné nanočástice mohou být z libovolného materiálu, s výhodou však jde o kovové částice a zejména o sloučeniny kovů jako jsou např. oxidy (případně hydratované) jako ZnO, CdO, SiO2, ZrO2, CeO2, SnO2, A12O2, In2O3, La2O3, Cu2O, Ta2Oí, Nb2O3, V2O3, MoO3, nebo WO3; chalkogenidy jako např. sulfidy (např. CdS, ZnS, PbS a Ag2S), selenidy (např. GaSe, CdSe a ZnSe) a teluridy (např. ZnTe nebo CdTe), halogenidy jako AgCl, AgBr, Agl, CuCl, CuBr, Cdl2, a Pbl2; karbidy jako CdC2 nebo SiC; arsenidy jako AlAs, GaAs a GeAs; antimonidy jako InSb; nitridy jako BN, A1N, Si3N4 a Ti3N4; fosfidy jako GaP, InP, Zn3P2 a Cd3P2; fosforečnany, křemičitany, zirkoničitany, hlinitany a cíničitany a odpovídající směsné oxidy (např. se strukturou Perowskitu jako BaTiO3 a PbTiO3).
S výhodou jde při provádění způsobu podle vynálezu o využití anorganických pevných nanočástic oxidů, selenidů a teluridů kovů a jejich směsí. Podle vynálezu se dává přednost nanočásticím SiO2, TiO2, ZrO2, ZnO, Ta5O2, SnO2, a A13O2, (ve všech modifikacích, zejména Boehmit, AIO(OH)), jakož i jejich směsí.
Jelikož anorganické pevné nanočástice, které lze podle vynálezu využít, vykazují široký rozsah indexu lomu, je možno vlastním výběrem těchto nanočástic snadno nastavit index lomu vrstvy nebo vrstev.
Zhotovování anorganických pevných nanočástic použitelných podle vynálezu je možno provádět obvyklým způsobem, např. použitím plamenné pyrolýzy, plazmovým postupem, kondenzací plynných fází, koloidní technikou, vysrážením, sol-gel-postupem, kontrolovaným nukleátovým a růstovým postupem, postupem MOCVD a (mikro) emulzním postupem. Tyto postupy jsou v literatuře dostatečně popsány. Zejména mohou být použity kovy (např. po redukci vysrážením), keramické oxidační systémy (vysrážením roztoku), ale také solné nebo mnohosložkové systémy. K solným nebo mnohosložkovým systémům patří také polovodičové systémy.
Zhotovování anorganických pevných nanočástic, opatřených polymerizovatelnými a/nebo polykondenzovatelnými organickými povrchovými skupinami, lze v principu provádět dvěma různými způsoby. První způsob spočívá v modifikaci povrchu již vyrobených anorganických pevných nanočástic. Druhý způsob se týká zhotovování těchto anorganických pevných nano
-2CZ 294227 B6 částic za použití jedné nebo několika sloučenin, které obsahují taková polymerizovatelná a/nebo polykondenzovatelná seskupení. Oba postupy budou v dalším textu a zejména v příkladech dále objasněny.
U organických polymerizovatelných a/nebo polykondenzovatelných povrchových skupin může jít o libovolné, odborníkovi dobře známé skupiny, které mohou být podrobeny radikálové, kationtové nebo aniontové, tepelné nebo fotochemické polymerizaci nebo tepelné nebo fotochemické polykondenzaci (případně za přítomnosti vhodného iniciátoru resp. katalyzátoru). Podle vynálezu se dává přednost povrchovým skupinám, které obsahují skupiny (meth)akryl, allyl, vinyl-nebo epoxyskupiny, přičemž jsou (meth)akrylové a epoxyskupiny považovány za zvláště výhodné. Mezi skupinami schopnými polykondenzace je nutno především uvést hydroxy, karboxy a amino skupiny, sjejichž pomocí lze dosáhnout vytvoření éterových, esterových a amidových vazeb mezi anorganickými pevnými nanočásticemi.
Podle vynálezu se klade důraz na to, aby na povrchu nanočástic se nacházející organická seskupení, která zahrnují polymerizovatelné a/nebo polykondenzovatelné skupiny, měla relativně nízkou molekulovou hmotnost. Zejména by neměla molekulová hmotnost (čistě organických) seskupení překročit 500, s výhodou 300, přednostně 200. To však samozřejmě nevylučuje použití seskupení o vyšší molekulové hmotnosti (např. 1000 a více).
Jak bylo již výše uvedeno, lze připravit polymerizovatelné nebo polykondenzovatelné povrchové skupiny v principu dvojím postupem. Jestliže se provádí modifikace povrchu již zhotovených anorganických pevných nanočástic, jsou pro tento účel vhodné všechny (zejména nízkomolekulámí) sloučeniny, které jednak obsahují jednu nebo více skupin, jež reagují s funkčními skupinami na povrchu pevných anorganických nanočástic (jako jsou např. OH-skupiny v případě oxidů), nebo mohou alespoň vést k výměně, a za druhé obsahují nejméně jednu polymerizovatelnou nebo polykondenzovatelnou skupinu. Lze použít všechny odpovídající sloučeniny, které vytvářejí např. jak kovalentní, tak i iontové nebo koordinační vazby k ploše anorganických pevných nanočástic, zatímco v případě pouhého výměnného účinku je možno např. uvést dipól— dipól výměnu, vazby vodíkových můstků a van der Waals interakce. Dává se přednost vytvoření kovalentních a/nebo koordinačních vazeb. Konkrétními příklady pro modifikaci povrchu anorganických pevných nanočástic jsou organické sloučeniny např. nenasycené kyseliny karboxylové, jako jsou organické sloučeniny např. nenasycené kyseliny karboxylové, jako kyselina akrylová nebo methakrylová β-dikarbonylové sloučeniny (např. β-diketony nebo kyseliny β-karbonylkarboxylové) s polymerizovatelnými dvojnými vazbami, nenasycené alkoholy a aminy, aminokyseliny, epoxidy a podobně. Podle vynálezu se dává přednost využití - zejména v případě nanočástic z oxidů - hydrolyticky kondenzovatelných silanů s alespoň (a především) jedním nehydrolyzovatelným zbytkem, který má polymerizovatelnou dvojnou vazbu uhlík-uhlík nebo epoxidový kruh. Dává se přednost silanům o obecném vzorci I
X-R^SiR^ I kde X znamená CH2=CR3-COO, CH2=CH nebo glycidiloxy, R3 znamená vodík nebo methyl, R1 dvouvazný uhlovodíkový zbytek s 1 až 10, s výhodou 1 až 6 uhlíkovými atomy, který případně obsahuje jedno nebo více heteroatomových seskupení (např. O, S, NH), které od sebe oddělují sousedící atomy uhlíku a zbytky R2, stejné nebo rozdílné, které jsou zvoleny ze skupin alkoxy, aryloxy, acyloxy a alkylkarbonyl, jakož i halogenatomů (zejména F, Cl a/nebo Br).
S výhodou jsou skupiny R2 identické a zvolené z halogenatomů, Ci4-alkoxyskupiny (např. methoxy, ethoxy, n-propoxy, i-propoxy a butoxy skupiny) C6_io aiyloxyskupiny (např. fenoxyskupiny), Cm acyloxyskupiny (např. acetoxy a propionyloxy skupiny) a C2_i0 alkylkarbonylskupiny (např. acetylskupiny).
Zejména výhodné zbytky R2 jsou Cw alkoxyskupiny a zvláště methoxy a ethoxy skupiny.
o
- J CZ 294227 B6
U zbytku R1 jde především o alkylen skupinu, zejména o skupinu s jedním až šesti atomy uhlíku, jako je např. ethylen, propylen, butylen a hexylen. Jestliže X je CH2=CH, znamená R1 především methylen a může v tomto případě znamenat také pouhou vazbu.
S výhodou je X CH2=CR3-COO (přičemž R3 je s výhodou CH3) nebo glycidyloxy skupina. Vzhledem k tomu se dává přednost silanům o obecném vzorci I (meth)akryloyloxyalkyltrhlkoxysilany jako např. 3-methakryloyloxypropyltri(m)ethoxysilan a glycidyloxyalkyltrialkoxysilany, jako např. 3-glycidyloxypropyltri(m)ethoxysilan.
Jestliže se anorganické pevné nanočástice zhotovují za použití jedné nebo více sloučenin, které obsahují polymerizovatelné/polykondenzovatelné skupiny, pak není nutno provádět následnou úpravu povrchu (ačkoli je však samozřejmě možné tuto úpravu provést jako přídavné opatření)
Zhotovování anorganických pevných nanočástic s polymerizovatelnými/polykondenzovatelnými 15 povrchovými skupinami in šitu lze objasnit na příkladu částic S1O2. Za tímto účelem je možno částice SiO2 zhotovit např. sol-gel-postupem za využití nejméně jednoho hydrolyticky polykondenzovatelného silanu s nejméně jednou polymerizovatelnou/polykondenzovatelnou skupinou. Jako silany jsou vhodné např. výše popsané silany o obecném vzorci I. Tyto silany se použijí s výhodou buď jako jediné nebo v kombinaci s jedním vhodným silanem o obecném vzorci II
SiR24 II kde R2 má výše uváděný význam. Výhodné silany o výše uváděním obecném vzorci II jsou tetramethoxysilan a tetraethoxysilan.
Samozřejmě je také možné jako přípravek nebo jako alternativu k silanům o obecném vzorci II využít jiné silany, např. takové, které obsahují jednu (nehydrolyzovatelnou) uhlovodíkovou skupinu bez jakékoli funkční skupiny, jako např. methyl-nebo fenyltrialkoxysilany.
Směs sloučenin aplikovaná při provádění způsobu podle vynálezu má formu ještě tekuté hmoty (suspenze). Tekutá složka této hmoty se např. skládá z vody a/nebo z (s výhodou s vodou mísitelného) organického rozpouštědla a/nebo sloučenin, které se při zhotovování nanočástic nebo při úpravě jejich povrchu využívají nebo vyrábějí (např. alkoholy v případě alkoxysilanů). V některých případech se přidávají vhodná organická rozpouštědla, jako alkoholy, étery, ketony, 35 estery, amidy a podobné sloučeniny. Přídavná složka tekuté hmoty může být např. tvořena alespoň jednou monomemí nebo oligomerní látkou, která obsahuje alespoň jednu skupinu, jež může reagovat s polymerizovatelnými/polykondenzovatelnými skupinami na povrchu nanočástic. Jako takové látky je možno uvést např. monomery s jednou polymerizovatelnou dvojnou vazbou, jako je ester kyseliny akrylové, ester kyseliny methakrylové, styren, vinylacetát a vinylchlorid.
Výhodné monomemí sloučeniny s více než jednou polymerizovatelnou vazbou jsou zejména sloučeniny o obecném vzorci III (CH2=CR3-COZ-)a-A III kde a = 2,3 nebo 4, s výhodou 2 nebo 3 a zejména 2;
Z = O nebo NH, z výhodou O;
R3= H, CH3;
A = n-mocný uhlovodíkový zbytek s 2 až 30, zejména 2 až 20 atomy uhlíku, který může vykazo50 vat jednu nebo více heteroatomových seskupení, které se vždy nacházejí mezi dvěma sousedícími atomy uhlíku (příklady pro taková heteroatomová seskupení jsou O, S, NH, NR (R = uhlovodíkový zbytek), především O).
-4CZ 294227 B6
Dále může uhlovodíkový zbytek A nést jeden nebo více substituentů, které se s výhodou volí z halogenů (zejména F, Cl a/nebo Br), alkoxy skupin (zejména Ci_4~alkoxy), hydroxy skupin, případně substituovaných skupinami amino, NO2, OCOR5 COR5 (R5=Ci_6-alkyl nebo fenyl). S výhodou není zbytek A substituován nebo je substituován halogenem a/nebo hydroxy skupinou.
V jednom z provedení způsobu podle vynálezu je uhlovodíkový zbytek A odvozen z alifatického diolu, alkylenglykolu, polyalkylenglykolu nebo případně z alkoxylovaného (např. ethoxylovaného) bifenolu (např. bifenol A).
Další použitelné sloučeniny s více než jednou dvojnou vazbou jsou např. allyl(meth)akrylát, divinylbenzen a diallylftalát. Zrovna tak jak např. možno použít sloučeninu s 2 nebo více epoxyskupinami (v případě použití povrchových skupin, které váží epoxid), např. bifenol A-diglycidyléter nebo také (oligomemí) kondenzát hydrolyzovatelného silanu (např. glycidoxypropyltrimethoxysilan.
Podíl organických složek ve směsi sloučenin podle vynálezu, používaných pro výrobu vrstev, neobnáší s výhodou více než 20 hmotn. % ve vztahu k obsahu pevných látek. Pro vytvoření vrstev s vysokým indexem lomu může např. podíl 15 hmotn. %.
Složení směsi sloučenin pro vytváření vrstev podle vynálezu má s výhodou hodnotu pH>3, zejména >4. Obecně se pH pohybuje v neutrálním rozmezí až do 8, s výhodou okolo 7,5.
Ve stupni a) způsobu podle vynálezu se nanáší směs vhodných sloučenin pro vytváření vrstev na skelný substrát a pokryje jej zcela nebo zčásti. Pro tento účel může využít odborník dobře známé postupy. Příkladem těchto postupů může být ponořování, nastříkání, nanášení natíracím nožem, štětcem, kartáčem nebo odstřeďování.
Před nanesením na substrát může být viskozita tekuté hmoty vhodně upravena např. přídavkem rozpouštědla nebo odpařením prchavých složek (zejména již obsažených rozpouštědel).
Substrát je možno před nanášením tekuté hmoty případně upravit (např. vyčistit, zbavit mastného nánosu atd.).
Ve stupni b) způsobu podle vynálezu se provádí polymerizace a/nebo polykondenzace polymerizovatelných/polykondenzovatelných povrchových skupin anorganických pevných nanočástic (a případně polymerizovatelných/polykondenzovatelných skupin případně použitých monomerních nebo oligomemích látek). Tato polymerizace/polykondenzace se provádí odborníku dobře známými postupy. Jako příklad je možno uvést tepelné, fotochemické (např. pomocí UV záření) zpracování, vytvrzení pomocí proudu elektronů, vytvrzení pomocí laseru, vytvrzení při teplotě místnosti atd. Případně se taková polymerizace/polykondenzace provádí za přítomnosti vhodného katalyzátoru resp. iniciátoru, který se nanese na substrát nejpozději těsně před nanášením tekuté směsi.
Jako iniciátor nebo iniciátorové systémy přicházejí v úvahu odborníkovi dobře známé iniciátory nebo iniciátorové systémy včetně radikálních fotoinicátorů radikálních termoiniciátorů, kationtových fotoiniciátorů, kationtových termoiniciátorů a jejich libovolných kombinací.
Konkrétní příklady použitelných radikálních fotoiniciátorů jsou Irgacure® 500 (1-hydroxycyklohexylketon, benzofenon) a jiné firmou Ciba-Geigy vyráběné fotoiniciátory typu Irgacure® 1173, 1116, 1398, 1174 a 1020 (od firmy Měrek); benzofenon, 2-chlorthiosanton, 2-methylthioxanton, 2-izopropylthioxanton, benzoin, 4,4'-dimethylbenzion, benzoinethyléter, benzoin-izopropyléter, benzildimethylketal, 1,1,1-trichloracetofenon, diethosyacetofenon a dibenzosuberon.
-5 CZ 294227 B6
Jako příklad radikálních termoiniciátorů lze uvést mezi jiným organické peroxidy ve formě diacylperoxidů, peroxidikarbonáty, alkylperestery, alkylperoxidy, perketaly, ketonperoxidy a alkylhydroperoxidy jako azosloučeniny. Konkrétními příklad jsou zejména dibenzoylperoxid, tetrabutylperbenzoát a azobisizobutyronitril.
Příkladem kationtového fotoiniciátoru je Cyracure® UVI-6974, zatímco výhodný kationtový termoiniciátor je 1-methylimidazol.
Tyto iniciátory se používají v odborníkovi dobře známých množstvích (s výhodou 0,01-5 io hmotn. %, zejména 0,1-2 hmotn. % ve vztahu k celkovému obsahu pevných látek ve směsi sloučenin pro vytváření vrstev. Pochopitelně je možné za určitých okolností použití jakéhokoli iniciátoru zcela vynechat, jak je tomu např. v případě vytvrzování nanesené vrstvy proudem elektronů nebo laserem.
Polymerizace/polykondenzace ve stupni b) podle vynálezu se s výhodou provádí tepelnou cestou nebo ozářením (zejména UV zářením). Zvláště se dává přednost fotochemické polymerizaci/polykondenzaci, resp. kombinaci tepelné a fotochemické polymerizace/polykondenzace.
Před stupněm, ve kterém probíhá polymerizace/polykondenzace, může docházet k odloučení 20 dalších létavých, nepolymerizovatelných/nepolykondenzovatelných sloučenin z vrstvy nanesené na skelný substrát. Toto odloučení létavých složek se však může také provést při polymerizaci/polykondenzaci nebo až po této operaci.
Dále bude popsán typický způsob podle vynálezu jako příklad, přičemž udaná rozmezí hodnot 25 a postupy jsou obecně platné a nezávislé na konkrétních použitých materiálech.
Nanočástice, např. z SiO2, TiO2, ZrO2 materiálů nebo jiných oxidových nebo simíkových materiálů (velikost částic od 30 do 100 nm, s výhodou 40 až 70 nm) se dispergují v rozpouštědle (např. v alkoholu jako methanol, ethanol, propanol) v koncentraci od 1 do 20 hmotn. %, s výho30 dou od 5 do 15 hmotn. %, přičemž se na ně působí prostředkem pro úpravu povrchu s polymerizovatelnými/polykondenzovatelnými skupinami v množství od 2 do 25 hmotn. %, zejména od 4 do 15 hmotn. % (ve vztahu na celkový obsah pevných látek).
Úpravu povrchu lze v případě použití silanu provést mícháním po delší dobu při teplotě 35 místnosti. Případně lze ještě přidat monomemí nebo oligomerní materiál s polymerizovatelnými/polykondenzovatelnými skupinami, který je kompatibilní s prostředkem pro úpravu povrchu, resp. s povrchovými skupinami, a to v množství např. do 20 hmotn. %, s výhodou od 4 do 15 hmotn. % (ve vztahu k celkovému obsahu pevných látek).
Po úpravě viskozity přidáním, resp. odloučením rozpouštědla se přidá jeden nebo více vhodných iniciátorů (vždy v množství např. od 0,01 do 5 hmotn. % ve vztahu k celkovému obsahu pevných látek), zrovna tak jako případně i další obvyklá aditiva.
Směs sloučenin pro vytváření vrstev se pak nanese na substrát, přičemž nanášené množství se 45 volí obecně v závislosti na žádaném indexu lomu a na rozsahu použití tak, aby se docílilo vrstvy v rozmezí od 50 do 200 nm, s výhodou od 100 do 150 nm.
Navazující polymerizace/polykondenzace (zesítění) probíhá při relativně nízké teplotě, s výhodou v rozmezí teplot od 10 do 50 °C, zejména od 10 do 30 °C, přednost se však dává teplotě 50 místnosti.
Ke snížení reakční doby se používá zejména fotopolymerizace; je možno využít jakýchkoli zdrojů světla, zejména zdrojů UV záření (např. rtuťových lamp, xenolamp, laserového světla).
-6CZ 294227 B6
Na vzniklou organicky zesítěnou vrstvu se nanesou popsaným způsobem jedna nebo více vrstev tak, aby se dosáhlo žádoucího spojení vrstev. U poslední (vnější) vrstvy není zapotřebí žádného zesíťovacího stupně, tato vrstva se může nanést přímo v konečném stupni f) při tepelném stlačení vrstev a vypalování organických složek.
Ve stupni f) se vrstvy ohřejí na teploty od 400 do 800 °C, s výhodou od 400 do 600 °C a to zejména od 400 do 500 °C a udržují se na této teplotě 1 minutu až jednu hodinu. Tímto způsobem se dosáhne celkového vypálení organických (uhlovodíkových) složek, aniž dojde ke tvorbě nějakých trhlin nebo jiným defektům.
Za tímto účelem se dává přednost provádět stlačení a vypálení ve stupni f) tak, že ohřev spojených vrstev probíhá z vnějšku dovnitř směrem ke skelnému substrátu. Tak se umožní, aby organické složky obsažené uvnitř spojených vrstev unikly postupem již ohřátých vnějších vrstev. Vrstvy se z téhož důvodu s výhodou ohřívají postupně o nejméně 100 K/min.
Optické mnohovrstevné systémy podle vynálezu lze např. využít pro interferenční a antireflexní systémy v těchto oblastech:
Optické filtry: antireflexní a reflexní filtry pro průmyslově vyráběné brýle, displeje, promítací plochy, povlaky mikročoček, solární články, „damage-resistant“ laserové vrstvy, pásmové filtry, absorpční filtry a děliče svazku.
Holografické vrstvy: systémy vedení světla, ukládání informací, spojovače laserů, vodiče vln, dekorace a architektura.
Vzorované vrstvy: odzrcadlovací systémy, fokusace v detektorových polích, osvětlení plochých promítacích ploch, tvorba obrazů při fotokopírování, vláknová optika.
Litografie: zhotovování mikrooptických prvků jako vodiče vln, mřížky, pinholes, ohybové mřížky, zrovna tak jako v oblasti techniky displejů, faserchip vazeb a zobrazovací optiky.
Příklady, které v textu následují, slouží k dalšímu objasnění vynálezu, nemají však žádný omezující charakter.
Zhotovování solů pro vytváření vrstev.
Příklad 1
Syntéza sólu pro zhotovení vrstev s vysokým indexem lomu
100 g izopropanolu se smíchá s 18 g kyseliny methakrylové a 1,348 g H2O bidestilované. Po míchání po dobu 10 min. se za stálého míchání přidává pomalu po kapkách 12,813 g tetraizopropylorthotitanátu. Míchá se 15 min., pak se přidá 10 g 2-izopropoxyethanolu. Tato směs se míchá po dobu 24 h. Získá se průhledný sol bez shluků s nanočásticemi zTiO2, jejichž mezní plochy jsou upraveny. Sol se rozředí 0,08 g Irgacure 184 (Ciba-Geigy) a 0,02 g 1-methylimidazolu, směs se po intenzivním míchání odfiltruje; výsledný produkt lze využít jako lak pro vytvoření vrstvy.
Příklad 2
Syntéza sólu pro zhotovení vrstev v nízkým indexem lomu
-7CZ 294227 B6
31,388 g TEOS se smíchá s 20,264 g ethanolu. Separátně se smíchá 20,264 g ethanolu, 0,9 ml 4 M HC1 a 22,275 g bidestilované H2O. Následně se obě směsi spojí. Do TEOS-solu se po 10 min. míchání přidá 12,1 g kyseliny methakrylové. Reakční směs se pak míchá po dobu 2 h při teplotě 25 °C. Získá se průhledný sol bez shluků s SiO2 nanočásticemi, jejichž mezní plochy jsou upraveny.
Oba sóly se dle požadovaného podílu pevných látek z SiO2, resp. TiO2 smíchají, přičemž se zředí izopropanolem. Ke směsi se přidá prostředek ke zlepšení rozlivu v množství 0,5 % z celkové hmotnosti (Byk 306). Sol se smíchá s 0,08 g Irgacure 184 (Ciba-Geigy) a 2,02 g 1-methylimidazolu. Směs odfiltrovaná po intenzivním míchání se může použít jako lak pro vytváření vrstev.
Příklad 3
Syntéza sólu pro zhotovování vrstev s vysokým indexem lomu
28,95 g sólu TiO2, zhotoveného podle příkladu 1, se smíchá s 0,663 g tributylesteru kyseliny fosforečné a směs se po 3 h míchá. Sol se poté po kapkách rozředí roztokem z 0,4 g destilovaného r γ-glycidylpropyl-trimethoxysilanu (GPTS) v 30 g 2-izopropoxyethanoIu při teplotě 100 °C. Po 1 h se směs ochladí na teplotu místnosti a přidá se 0,3 g hydrolyzovaného GPTS. Pro provedení GPTSS hydrolýzy se smíchá 23,63 g GPTSS (dest). S 2,70 g roztoku 0,1 N HC1 a 24 h se míchá. Poté se nízkomolekulámí reakční produkty při 3 hPa a 25 °C oddestilují. Následuje míchání po dobu 15 min; směs se při 3 hPa ve vakuu destiluje a poté rozředí 120 g 2-izopropoxyethanolu. Získá se průhledný sol bez shluků.
Příklad 4
Syntéza sólu pro zhotovování vrstev s nízkým indexem lomu
Směs z 11,81 g GPTS (dest.) a 4,15 g tetraethoxysilamu (TEOS) se za účelem hydrolýzy a kondenzace smíchá s 0,96 g roztoku 0,1 N HC1. Reakční směs se pak míchá 24 h při 20 °C, načež se destilací ve vakuu při 3 hPa odloučí nízkomolekulámí složky. Poté se zbylý reakční produkt rozředí 22 g izopropoxyethanolu. Sol se smíchá z 0,08 g Irgacure 184 (Ciba-Geigy) a 0,02 g 1-methyl-imidazolu. Směs se po intenzivním míchání odfiltruje; získá se lak pro vytváření vrstev.
Zhotovování interferenčních souvrství
Příklad 5
Zhotovení dvouvrstvého antireflexního nánosu na sklo (λ /4TiO2 a λ /4—SiO2)
Skleněná tabule se očistí a opatří vrstvou sólu z příkladu 1 ponořením (tažná rychlost 2,5 mm/s) a poté se pomocí UV sušičky (Belltron) při rychlosti pásu 2 m/min a výkonu ozáření 450 nW/cm' usuší. Následně se skleněná tabule při tažné rychlosti 3,2 mm/s opatří vrstvou sólu z příkladu 2 ponořením.
Tabule opatřená dvěma vrstvami se vloží do pece předehřáté na 450 °C, kde setrvá 10 min. Vyjme se z pece a na vzduchu se při teplotě místnosti ochladí. Tabule je opatřena antireflexním nánosem s reflexním spektrem dle obr. 1, Jde o V-filtr s reflexním minimem od 0 % při 560 run vlnové délky.
-8CZ 294227 B6
Příklad 6
Zhotovení třívrstvého antireflexního nánosu na sklo
Sol pro vytváření vrstev z příkladu 1 se intenzivně míchá se sólem z příkladu 2 v poměru 1:0,7 hmotn. % (ve vztahu na obsah pevných látek). Skleněná tabule se opatří vrstvou této směsi solů ponořením při tažné rychlosti 2,7 mm/s a analogicky jako v příkladu 5 se vytvrdí UV zářením. Pro zhotovení druhé vrstvy se použije sol z příkladu 1 spolu se sólem z příkladu 2 smícháním v poměru 1:0,85 hmotn. % a tabule se ponořením při tažné rychlosti 2,85 mm/s opatří vrstvou; jako v příkladu 5 se vytvrdí UV zářením. Poté se tabule opatří vrstvou sólu z příkladu 2 při tažné rychlosti 3,6 mm/s ponořením.
Poté se třemi vrstvami opatřená tabule přímo vloží do pece předehřáté na 450 °C, kde setrvá 10 min. Tabule se z pece vyjme a nechá se při teplotě místnosti na vzduchu vychladnout. Tabule je tak opatřena antireflexním nánosem, vykazujícím reflexní spektrum, které je znázorněno na obr. 2. Reflexní spektrum vykazuje po osvitu pro třívrstvý nános typickou formu W-filtru. Jednorázovým vypálením se dosáhne reflexního minima v celkovém rozsahu spektra od 380 nm610 nm se zbytkovou reflexí 2 %. V intervalu mezi 450 nm až 560 nm se reflexe pohybuje pod 1 % a při 500 nm je nulová. Naměřená křivka se shoduje se simulací vypočítané křivky.
Příklad 7
Zhotovení pětivrstvého antireflexního nánosu
Skleněná tabule se obvyklým způsobem očistí a nejprve se pokryje sólem z příkladu 1 při tažné rychlosti 1,2 mm/s ponořením a ihned se vytvrdí UV zářením (analogicky jako v příkladu 5). Poté se tabule rovněž ponořením opatří vrstvou sólu z příkladu 2 při tažné rychlosti 2,45 mm/s a znovu se vytvrdí UV zářením. Nyní se zase ponořením tabule opatří sólem z příkladu 1 při tažné rychlosti 1,2 mm/s a vytvrdí UV zářením. Pak se opět tabule opatří sólem z příkladu 2 ponořením při tažné rychlosti 2,45 mm/s. Poté se znovu ponořením nanese sol z příkladu 1 při tažné rychlosti 1,2 mm/s.
Nato se pěti vrstvami opatřená tabule vloží přímo do pece předehřáté na 450 °C, kde se ponechá 10 min. Tabule se vyjme z pece a při teplotě místnosti na vzduchu vychladne. Tabule představuje interferenční filtr opatřeny pěti vrstvami po obou stranách a odpovídá tak transmisnímu spektru znázorněnému na obr. 3. Jde o pásmový filtr pro rozsah vlnových délek mezi 620 nm a 900 nm vlnové délky.
PATENTOVÉ NÁROKY
Claims (15)
1. Způsob zhotovování optických mnohovrstevných systémů, vyznačený stupni
a) nanesení tekuté směsi, obsahující pevné anorganické nanočástice s polymerizovatelnými a/nebo polykondenzovatelnými organickými povrchovými skupinami, na skleněný substrát,
b) polymerizace a/nebo polykondenzace povrchových skupin pevných nanočástic za vzniku organicky zesítěné vrstvy,
c) nanesení další směsi podle stupně a) s jiným indexem lomu než má předchozí směs na organicky zesítěnou vrstvu,
-9CZ 294227 B6
d) polymerizace a/nebo polykondenzace povrchových skupin pevných částic za vzniku další organicky zesítěné vrstvy,
e) případně opakování výše uvedených stupňů a) a d) jednou nebo několikrát za vzniku dalších organicky zešítěných vrstev na již zhotovené organicky zesítěné vrstvy a/nebo jiné plochy substrátu, a
f) jednostupňové tepelné stlačení vrstveného systému a vypálení organických složek.
2. Způsob podle nároku 1, vyznačený tím, že se vytváření organicky zesítěné vrstvy nebo zešítěných vrstev provádí při teplotách do 50 °C, s výhodou do 30 °C.
3. Způsob podle jednoho z nároků 1 a 2, vyznačený tím, žek vytváření organicky zesítěné vrstvy nebo zešítěných vrstev dochází fotochemickou polymerizací a/nebo polykondenzací.
4. Způsob podle jednoho z nároků laž3, vyznačený tím, že jednostupňové stlačení a vypálení probíhá při teplotách v rozmezí od 400 do 800 °C, s výhodou od 400 do 600 °C.
5. Způsob podle jednoho z nároků laž4, vyznačený tím, že jednostupňové stlačení a vypálení se provádí tak, že ohřev souvrství probíhá zvnějšku směrem dovnitř.
6. Způsob podle nároku 5, vyznačený tím, že míra ohřevu vrstvy nebo vrstev je nejméně lOOK/min.
7. Způsob podle jednoho z nároků 1 až 6, vyznačený tím, že nanočástice jsou voleny z kovových sloučenin, zejména oxidů, sulfidů, selenidů a teluridů kovů a jejich směsí.
8. Způsob podle jednoho z nároků 1 až 7, vyznačený tím, že nanočástice jsou voleny z SiO2, TiO2, ZrO2, ZnO, Ta2O5, SnO2, a A12O3 a jejich směsí.
9. Způsob podle jednoho z nároků laž8, vyznačený tím, že polymerizovatelné a/nebo polykondenzovatelné povrchové skupiny jsou voleny z organických zbytků, které vykazují (meth)akrylovou, vinylovou, allylovou nebo epoxy skupinu.
10. Způsob podle jednoho z nároků 1 až 9, vyznačený tím, že použité pevné částice se zhotovují úpravou povrchu pevných nanočástic odpovídajícími povrchovými skupinami.
11. Způsob podle jednoho z nároků lažlO, vyznačený tím, že použité pevné částice se zhotovují aplikací alespoň jedné sloučeniny s odpovídajícími polymerizovatelnými/polykondenzovatelnými skupinami.
12. Způsob podle jednoho z nároků lažll, vyznačený tím, že zhotovování anorganických pevných částic se provádí sol-gel postupem.
13. Způsob podle jednoho z nároků 1 až 12, vyznačený tím, že složení směsí pro vytváření vrstev vykazuje hodnotu pH od 3 do 8.
14. Optické mnohovrstevné systémy, vytvořené způsobem podle nároku 1 až 13.
15. Použití optických mnohovrstevných systémů podle nároku 14 jako interferenčních filtrů nebo antireflexních systémů.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19823732A DE19823732A1 (de) | 1998-05-27 | 1998-05-27 | Verfahren zur Herstellung optischer Mehrschichtsysteme |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CZ20004373A3 CZ20004373A3 (en) | 2001-06-13 |
| CZ294227B6 true CZ294227B6 (cs) | 2004-10-13 |
Family
ID=7869109
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CZ20004373A CZ294227B6 (cs) | 1998-05-27 | 1999-05-26 | Způsob zhotovování mnohovrstevných optických systémů |
Country Status (10)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6455103B1 (cs) |
| EP (1) | EP1089946B1 (cs) |
| JP (1) | JP4310602B2 (cs) |
| KR (1) | KR100602076B1 (cs) |
| CN (1) | CN1213959C (cs) |
| AT (1) | ATE232840T1 (cs) |
| CZ (1) | CZ294227B6 (cs) |
| DE (2) | DE19823732A1 (cs) |
| ES (1) | ES2191437T3 (cs) |
| WO (1) | WO1999061383A1 (cs) |
Families Citing this family (53)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB9815271D0 (en) | 1998-07-14 | 1998-09-09 | Cambridge Display Tech Ltd | Particles and devices comprising particles |
| DE19952040A1 (de) | 1999-10-28 | 2001-05-03 | Inst Neue Mat Gemein Gmbh | Substrat mit einem abriebfesten Diffusionssperrschichtsystem |
| US7005229B2 (en) * | 2002-10-02 | 2006-02-28 | 3M Innovative Properties Company | Multiphoton photosensitization method |
| US7381516B2 (en) * | 2002-10-02 | 2008-06-03 | 3M Innovative Properties Company | Multiphoton photosensitization system |
| US7265161B2 (en) * | 2002-10-02 | 2007-09-04 | 3M Innovative Properties Company | Multi-photon reactive compositions with inorganic particles and method for fabricating structures |
| AU2001277540A1 (en) * | 2000-07-13 | 2002-01-30 | Essilor International Compagnie Generale D'optique | Method for forming a mirror coating onto an optical article |
| US6759452B2 (en) | 2000-12-22 | 2004-07-06 | Eastman Kodak Company | Polycarbonate nanocomposite optical plastic article and method of making same |
| US6441077B1 (en) | 2000-12-22 | 2002-08-27 | Eastman Kodak Company | Polysulfone nanocomposite optical plastic article and method of making same |
| US6586096B2 (en) | 2000-12-22 | 2003-07-01 | Eastman Kodak Company | Polymethylmethacrylate nanocomposite optical article and method of making same |
| US6552111B2 (en) | 2000-12-22 | 2003-04-22 | Eastman Kodak Company | Cyclic olefin polymeric nanocomposite optical plastic article and method of making same |
| US6518353B2 (en) | 2000-12-22 | 2003-02-11 | Eastman Kodal Company | Reduced temperature sensitive polymeric optical article and method of making same |
| US6498208B2 (en) | 2000-12-22 | 2002-12-24 | Eastman Kodak Company | Polystyrene nanocomposite optical plastic article and method of making same |
| US6642295B2 (en) | 2001-12-21 | 2003-11-04 | Eastman Kodak Company | Photoresist nanocomposite optical plastic article and method of making same |
| DE10213036A1 (de) * | 2002-03-22 | 2003-10-02 | Clariant Gmbh | Kunststofffolie mit Mehrschicht-Interferenzbeschichtung |
| US20050095420A1 (en) * | 2002-03-22 | 2005-05-05 | Institut Fur Neue Materialien Gem. Gmbh | Plastic film with a multilayered interference coating |
| US7232650B2 (en) * | 2002-10-02 | 2007-06-19 | 3M Innovative Properties Company | Planar inorganic device |
| WO2004059347A2 (en) * | 2002-12-20 | 2004-07-15 | Minerva Biotechnologies Corporation | Optical devices and methods involving nanoparticles |
| US8993221B2 (en) | 2012-02-10 | 2015-03-31 | Pixelligent Technologies, Llc | Block co-polymer photoresist |
| WO2005029180A2 (en) * | 2003-03-04 | 2005-03-31 | Pixelligent Technologies Llc | Applications of semiconductor nano-sized particles for photolithography |
| JP2004300172A (ja) * | 2003-03-28 | 2004-10-28 | Dainippon Printing Co Ltd | コーティング組成物、その塗膜、反射防止膜、反射防止フィルム、及び、画像表示装置 |
| US20030157245A1 (en) * | 2003-04-15 | 2003-08-21 | Tatman Sheila May | Method for forming a mirror coating onto an optical article |
| CN1822945B (zh) * | 2003-05-13 | 2011-04-06 | 埃西勒国际通用光学公司 | 镜片涂层固化方法 |
| EP1479734B1 (en) * | 2003-05-20 | 2009-02-11 | DSM IP Assets B.V. | Nano-structured surface coating process, nano-structured coatings and articles comprising the coating |
| DE10329917B4 (de) * | 2003-07-02 | 2005-12-22 | Schott Ag | Beschichtetes Abdeckglas für Photovoltaik-Module |
| JP4414188B2 (ja) * | 2003-09-30 | 2010-02-10 | 大日本印刷株式会社 | ハードコート層の滑り性を改善した積層体 |
| DE102004012977A1 (de) * | 2004-03-17 | 2005-10-06 | Institut für Neue Materialien Gemeinnützige GmbH | Kratzfestes optisches Mehrschichtsystem auf einem kristallinen Substrat |
| JP5062952B2 (ja) * | 2004-12-06 | 2012-10-31 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | レーザ発振器 |
| US7264872B2 (en) * | 2004-12-30 | 2007-09-04 | 3M Innovative Properties Company | Durable high index nanocomposites for AR coatings |
| GB2422608B (en) * | 2004-12-30 | 2008-10-01 | Ind Tech Res Inst | Self-cleaning coating comprising hydrophobically-modified particles |
| GB2421727B (en) * | 2004-12-30 | 2007-11-14 | Ind Tech Res Inst | Method for forming coating material and the material formed thereby |
| TWI321583B (en) * | 2006-11-16 | 2010-03-11 | Ind Tech Res Inst | Low stain and low mist adhesion coatings |
| EP1842882A1 (de) * | 2006-04-07 | 2007-10-10 | Ceram AG | Verfahren zur Beschichtung von Oberflächen und Beschichtungssystem zur Beschichtung von Oberflächen |
| EP2047332A4 (en) * | 2006-07-10 | 2009-11-18 | Pixelligent Technologies Llc | RESISTS FOR PHOTOLITHOGRAPHY |
| US8322754B2 (en) * | 2006-12-01 | 2012-12-04 | Tenaris Connections Limited | Nanocomposite coatings for threaded connections |
| CN101611080B (zh) * | 2007-02-26 | 2011-12-28 | 贝卡尔特股份有限公司 | 含纳米颗粒的层状结构 |
| US7868049B2 (en) | 2007-06-29 | 2011-01-11 | Industrial Technology Research Institute | Organic/inorganic hybrid material and method for manufacturing the same |
| US10788608B2 (en) | 2007-08-12 | 2020-09-29 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Non-color shifting multilayer structures |
| US10870740B2 (en) | 2007-08-12 | 2020-12-22 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Non-color shifting multilayer structures and protective coatings thereon |
| US10690823B2 (en) | 2007-08-12 | 2020-06-23 | Toyota Motor Corporation | Omnidirectional structural color made from metal and dielectric layers |
| DE102008056792B4 (de) * | 2008-11-11 | 2018-06-28 | Schott Ag | Verfahren zum Aufbringen einer porösen selbstreinigenden Entspiegelungsschicht sowie Glas mit dieser Entspiegelungsschicht und Verwendung einer selbstreinigenden porösen Entspiegelungsschicht |
| KR101679895B1 (ko) * | 2009-04-15 | 2016-11-25 | 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 | 나노공극형 물품을 위한 방법 및 장치 |
| US9464179B2 (en) | 2009-04-15 | 2016-10-11 | 3M Innovative Properties Company | Process and apparatus for a nanovoided article |
| DE102009035673B4 (de) | 2009-07-30 | 2021-02-18 | Leibniz-Institut Für Neue Materialien Gemeinnützige Gmbh | Verfahren zur Herstellung dünner Filme und deren Verwendung |
| US20120219788A1 (en) | 2009-10-16 | 2012-08-30 | Bayer Materialscience Ag | Highly refractive, scratchproof tio2 coatings in mono- and multilayers |
| EP2558522B1 (en) * | 2010-04-14 | 2018-08-01 | 3M Innovative Properties Company | Patterned gradient polymer film |
| US9017772B2 (en) * | 2010-07-08 | 2015-04-28 | Xerox Corporation | Process for fabrication of seamless UV cured intermediate transfer belts (ITB) |
| JP5781880B2 (ja) * | 2010-09-29 | 2015-09-24 | トヨタ モーター エンジニアリング アンド マニュファクチャリング ノース アメリカ,インコーポレイティド | 層ごとのスプレー法を介したuv反射率を有する構造色 |
| JP5771584B2 (ja) * | 2011-09-29 | 2015-09-02 | 富士フイルム株式会社 | 熱線遮蔽材 |
| CN103730601A (zh) * | 2013-12-26 | 2014-04-16 | 京东方科技集团股份有限公司 | 分布布拉格反射镜结构及制备方法和有机发光二极管结构 |
| AR100953A1 (es) | 2014-02-19 | 2016-11-16 | Tenaris Connections Bv | Empalme roscado para una tubería de pozo de petróleo |
| CN106461834B (zh) | 2014-04-01 | 2021-01-15 | 丰田自动车工程及制造北美公司 | 无色移的多层结构 |
| US9586385B2 (en) * | 2014-08-27 | 2017-03-07 | 3M Innovative Properties Company | Inorganic multilayer lamination transfer films |
| JP7484503B2 (ja) * | 2020-07-03 | 2024-05-16 | 富士通オプティカルコンポーネンツ株式会社 | 多層膜、光デバイス、光集積回路素子、及び光トランシーバ |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4830879A (en) * | 1986-09-25 | 1989-05-16 | Battelle Memorial Institute | Broadband antireflective coating composition and method |
| DE19613645A1 (de) * | 1996-04-04 | 1997-10-09 | Inst Neue Mat Gemein Gmbh | Optische Bauteile mit Gradientenstruktur und Verfahren zu deren Herstellung |
| US6280838B1 (en) * | 1997-01-10 | 2001-08-28 | U. S. Philips Corporation | Optical element, a display device provided with said optical element, and a method of manufacturing the optical element |
| FR2759464B1 (fr) * | 1997-02-10 | 1999-03-05 | Commissariat Energie Atomique | Procede de preparation d'un materiau optique multicouches avec reticulation-densification par insolation aux rayons ultraviolets et materiau optique ainsi prepare |
| MY122234A (en) * | 1997-05-13 | 2006-04-29 | Inst Neue Mat Gemein Gmbh | Nanostructured moulded bodies and layers and method for producing same |
-
1998
- 1998-05-27 DE DE19823732A patent/DE19823732A1/de not_active Withdrawn
-
1999
- 1999-05-26 EP EP99927759A patent/EP1089946B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1999-05-26 AT AT99927759T patent/ATE232840T1/de active
- 1999-05-26 WO PCT/EP1999/003621 patent/WO1999061383A1/de active IP Right Grant
- 1999-05-26 US US09/700,100 patent/US6455103B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-05-26 CN CNB998065757A patent/CN1213959C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1999-05-26 CZ CZ20004373A patent/CZ294227B6/cs not_active IP Right Cessation
- 1999-05-26 DE DE59904340T patent/DE59904340D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1999-05-26 ES ES99927759T patent/ES2191437T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1999-05-26 KR KR1020007013178A patent/KR100602076B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 1999-05-26 JP JP2000550797A patent/JP4310602B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR20010043777A (ko) | 2001-05-25 |
| US6455103B1 (en) | 2002-09-24 |
| DE19823732A1 (de) | 1999-12-02 |
| KR100602076B1 (ko) | 2006-07-14 |
| JP2002516249A (ja) | 2002-06-04 |
| DE59904340D1 (de) | 2003-03-27 |
| CN1303358A (zh) | 2001-07-11 |
| CZ20004373A3 (en) | 2001-06-13 |
| ES2191437T3 (es) | 2003-09-01 |
| EP1089946A1 (de) | 2001-04-11 |
| CN1213959C (zh) | 2005-08-10 |
| EP1089946B1 (de) | 2003-02-19 |
| WO1999061383A1 (de) | 1999-12-02 |
| ATE232840T1 (de) | 2003-03-15 |
| JP4310602B2 (ja) | 2009-08-12 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CZ294227B6 (cs) | Způsob zhotovování mnohovrstevných optických systémů | |
| JP4168412B2 (ja) | ナノ構造の成形体および層並びにそれらを製造する方法 | |
| US5858526A (en) | Composite material with a high refractive index, process for producing said composite material and optically active material incorporating said composite material | |
| US5716679A (en) | Optical elements containing nanoscaled particles and having an embossed surface and process for their preparation | |
| JP3802048B2 (ja) | 光学素子の製造方法 | |
| US20090141359A1 (en) | Plastic film with a multilayered interference coating | |
| US8133573B2 (en) | Scratch-resistant optical multi-layer system applied to a crystalline substrate | |
| WO1994001598A1 (fr) | Procede de fabrication de couches minces presentant des proprietes optiques | |
| JP2001511107A (ja) | 高屈折率と機械的耐磨耗性を有する酸化タンタルベースの無機ポリマー材料、その製法、および当該ポリマーを含む光学材料 | |
| JP2004123766A (ja) | コーティング用組成物 | |
| US8034435B2 (en) | Plastic film with a multilayered interference coating | |
| DE19746885A1 (de) | Nanostrukturierte Formkörper und Schichten sowie Verfahren zu deren Herstellung | |
| EP1487908B1 (de) | Kunststofffolie mit mehrschicht-interferenzbeschichtung | |
| JP3762108B2 (ja) | 防曇反射防止光学物品 | |
| MXPA00011020A (en) | Method for producing multilayered optical systems | |
| JP2001059902A (ja) | 反射防止積層体およびその製造方法 | |
| 高見和之 et al. | Preparation and reflectivity of self-organized nanograded SiO2/TiO2/PMMA thin films |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| MM4A | Patent lapsed due to non-payment of fee |
Effective date: 20170526 |