CS256328B1 - Přísada do slabě kyselých zinkovacích lázní a obsahem organických ketosloučenin - Google Patents

Přísada do slabě kyselých zinkovacích lázní a obsahem organických ketosloučenin Download PDF

Info

Publication number
CS256328B1
CS256328B1 CS864016A CS401686A CS256328B1 CS 256328 B1 CS256328 B1 CS 256328B1 CS 864016 A CS864016 A CS 864016A CS 401686 A CS401686 A CS 401686A CS 256328 B1 CS256328 B1 CS 256328B1
Authority
CS
Czechoslovakia
Prior art keywords
mono
tri
additive
compounds
bath
Prior art date
Application number
CS864016A
Other languages
English (en)
Other versions
CS401686A1 (en
Inventor
Jiri Coller
Zbynek Kuehnl
Milos Novotny
Jiri Zaruba
Original Assignee
Jiri Coller
Zbynek Kuehnl
Milos Novotny
Jiri Zaruba
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Jiri Coller, Zbynek Kuehnl, Milos Novotny, Jiri Zaruba filed Critical Jiri Coller
Priority to CS864016A priority Critical patent/CS256328B1/cs
Publication of CS401686A1 publication Critical patent/CS401686A1/cs
Publication of CS256328B1 publication Critical patent/CS256328B1/cs

Links

Landscapes

  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Abstract

Přísada složena ze sloučenin obecného vzorce 1, kde znamená R^-fenyl, mono-, dinebo tri-methylfenyl, mono-, di- nebo tri- -hydroxifenyl, mono-, di- nebo tri-methoxyfenyl, mono-, di- nebo tri-ethoxyfenyl, furfuryl, pyridyl, Rg-alkyl, alkenyl, alkoxyl o počtu uhlíků 1 až 12, -CH=CH-C&H5, R - (CH - CH) - C - (X) n-0 nebo 1, jež obsahuje samotné nebo ve X n M směsích. Působí jako účinný inhibitor ved- N - OH lejších chemických a elektrochemických reakcí, při kterých dochází k degradaci organických ketosloučenin, jež jako součást leskutvorných přísad zajištují technické parametry zinkových povlaků, vylu- >· ■ čovaných ze slabě kyselých lázní. Optimální koncentrace přísady je 0,0005 až 0,05 g na 1 000 ml lázně.

Description

Vynález se týká přísady do galvanických slabé kyselých zinkovacích lázní s obsahem amonných solí, tj. na bázi chloridu nebo síranu zinečnatého, chloridu nebo octanu amonného, případ™ ne. obou, nebo bez amonných solí, tj. na bázi chloridu nebo síranu zinečnatého, chloridu sodného nebo draselného a kyseliny boříte a s obsahem leskutvorných přísad založených na bázi organických ketosloučenin.
Pro zajištění vhodných technických parametrů zinkových povlaků vylučovaných ze slabě kyselých lázní, tj. vyrovnávání, lesku, vnitřního pnutí, tažnosti atd. byla v minulosti navržena cel á řada organických látek spolu s účinnými tenzidy, jež zajištují jejich emulgaci v roztoku. Jako nejefektivnější z těchto látek se jeví ketosloučeníny, při jejichž použití se dosahuje nejvýhodnějších hodnot parametrů povlaků. Obvykle jsou zakomponovány spolu s tenzidy a dalšími organickými látkami do leskutvorných přísad, jež se do galvanické lázně dávkují na základě prošlého elektrického náboje a velikosti výnosu na zboží. Během pokovování se sorbují na aktivní centra kovového povrchu a přispívají tak k rozmnožení krystalizačních center, což je podmínkou vzniku jemně krystalických depozitů,a současně brzdí vylučování na vrcholech mikronerovností, tj. jsou příčinou vyrovnávacího efektu. Následně dochází k jejich elektrochemické degradaci a odplavení rozkladných produktů do roztoku.
Vedle tohoto procesu, který přímo souvisí s vylučováním povlaků, probíhají v roztoku vedlejší chemické a elektrochemické reakce, při kterých dochází k degradaci ketosloučenin, sniž by se podílely na vlastním pokovení. Tyto reakce způsobují ztráty účinné' látky a současně zvyšují koncentrsci nežádoucích rozkladných produktů, jež se musí z lázně periodicky odstraňovat.
v
Popsané nedostatky odstraňuje přísada podle vynálezu, jehož podstata spočívá v tom, že přísada je tvořena sloučeninami
- 2 256 328 obecného vzorce «
R, - (CH = CH) - G - R9, x η μ - c.
N - OH kde znamená R^ - fenyl, mono-, di- nebo tri-methylfenyl, mono-, di- nebo tri-hydroxifenyl, mono-, di- nebo tri-methoxyfenyl, mono-, di- nebo tri-ethoxyfenyl, furfuryl, pyridyl.
Rg - alkyl, alkenyl, alkoxyl o počtu uhlíků 1 až 12
-ch=ch-c6h5.
n - 0 nebo 1, jež obsahuje samotné nebo ve směsích.
Bylo zjištěno, že tato přísada má schopnost působit jako inhibitor vedlejších chemických a elektrochemických reakcí, které účinně potlačuje. Aplikace přísady do zinkovácí lázně se projevuje efektivnějším využitím organických ketosloučenin při galvanickém pokovení. Tento efekt se zvláště výrazně projevuje v lázních s velkým proudovým zatížením, kde podíl vedlejších reakcí silně narůstá. Optimální koncentrace přísady je 0,0005 až 0,05 g na 1000 ml lázně. Je vhodné ji nadávkovat přímo do doplňovací leskutvorné přísady s obsahem ketosloučenin a tak zajistit udržování její koncentrace v doporučeném rozmezí.
Podrobné vysvětlení je podáno na následujících příkladech.
Příklad 1
0, OOlá^oximu acetofenonu bylo nadávkováno do slabě kyselé zinkovácí lázně s obsahem 70 g chloridu zinečnatého, 30 g kyseliny borité, 175 δ chloridu draselného, 3 g 4-methoxybenzoanu sodného, 12 g neionogenního tenzidu (5 ethoxylových skupin v molekule), 3 g kopolymeru ethylen a propylenoxidu (m.h. 2500), 0,03 g methylnaftylketonu a 0,2 g benzylidenacetonu v 1000 ml. Lázeň byla zatížena stejnosměrným proudem až do průchodu náboje 150 A.h na 1000 ml. Během této doby byl po průchodu 10 A.h na 1000 ml periodicky doplňován methylnaftylketon a benzylidenaceton v příslušném poměru tak, aby bylo dosaženo shodné úrovně lesku vylučovaných povlaků, jako na začátku pokusu. Srovnání bylo provedeno na zkušebních panelech pokovených v Hullově
- 3 256 328 cele. Shodná zkouška byla provedena v lázni bez obsahu oximu acetofenonu. Spotřeba ketosloučenin byla v lázni s nadávkovaným oximem o 8 až ícjfc nižší.
Přiklad 2
0,0005 g oximu acetofenonu a 0,0005 g oximu benzylidenacetonu bylo nadávkováno do zinkovací lázně podle příkladu 1, jež byla zatížena stejnosměrným proudem shodně jako v příkladu 1, Spotřeba ketosloučenin byla v lázni s nadávkovanou směsí oximů o 12 až 15t& nižší.
Příklad 3
0,001 g oximu benzylidenacetonu bylo nadávkováno do zinkovací lázně podle příkladu 1, jež byla zatížena stejnosměrným proudem shodně jako v příkladu 1.
Spotřeba ketosloučenin byla v lázni s nadávkovaným oximem o 6 až 8p nižší.
nich. družstev.

Claims (1)

  1. - 4 - P Ř Ξ D I, " Š T VYNÁLEZU 256 328 Přísada do sladě kyselých zinkovacích lázní s obsahemorganických ketosloučenin, jež se rozhodující měrou podílejína tvorbě parametrů vylučovaných povlaků,tj. vyrovnávání,lesku, vnitřním pnutí, tažnosti, a galvanické lázně, tj. hloub-kové účinnosti a krycí schopnosti, jež má schopnost působitjako inhibitor vedlejších chemických a elektrochemickýchreakcí, vyznačená tím, že sestává ze sloučenin obe-cnéhovzorce R-, - (CH = CH) - C - R9, ± n „ £ N - OH kde znamená R^ - fenyl, mono-, di- nebo tri-methylfenyl, mono-,di- nebo tri-hydroxifenyl, mono-, di- nebotri-methoxyfenyl, mono-, di- nebo tri-ethoxy-fenyl, furfury1, pyri dyl. Rg ~ alkyl, slkenyl, alkoxyl o počtu uhlíků 1 až12, -CH=CH-0gH5. n - 0 nebo 1, jež obsahuje samotné nebo ve směsích.
CS864016A 1986-06-02 1986-06-02 Přísada do slabě kyselých zinkovacích lázní a obsahem organických ketosloučenin CS256328B1 (cs)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS864016A CS256328B1 (cs) 1986-06-02 1986-06-02 Přísada do slabě kyselých zinkovacích lázní a obsahem organických ketosloučenin

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CS864016A CS256328B1 (cs) 1986-06-02 1986-06-02 Přísada do slabě kyselých zinkovacích lázní a obsahem organických ketosloučenin

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CS401686A1 CS401686A1 (en) 1987-08-13
CS256328B1 true CS256328B1 (cs) 1988-04-15

Family

ID=5381932

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CS864016A CS256328B1 (cs) 1986-06-02 1986-06-02 Přísada do slabě kyselých zinkovacích lázní a obsahem organických ketosloučenin

Country Status (1)

Country Link
CS (1) CS256328B1 (cs)

Also Published As

Publication number Publication date
CS401686A1 (en) 1987-08-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US3303111A (en) Electro-electroless plating method
US3161575A (en) Copper pyrophosphate electroplating solutions
EP0180523B1 (fr) Procédé perfectionné de phosphatation au zinc, bain d'activation et d'affinage mis en oeuvre dans ce procédé et concentré correspondant
KR20140042877A (ko) 지르코늄 기재의 도금 조성물 및 방법
JPH09302498A (ja) 錫−銀合金電気めっき浴
CS256328B1 (cs) Přísada do slabě kyselých zinkovacích lázní a obsahem organických ketosloučenin
US4406756A (en) Hard chromium plating from hexavalent plating bath
JP2002004081A (ja) シリコンウエハーへの電気めっき方法
US4592809A (en) Electroplating composition and process and surfactant compound for use therein
SE502520C2 (sv) Bad, sätt och användning vid elektroplätering med tenn- vismutlegeringar
JP4355987B2 (ja) スズ−亜鉛合金を電着するための水溶液
FR2461024A1 (fr) Procedes et compositions de depot electrolytique d'argent, utilisant des composes d'argent, des electrolytes sans cyanure et des composes de phosphonate organique
JPH0774475B2 (ja) 銀めっきの前処理液
US6248228B1 (en) Metal alloy halide electroplating baths
CA2226744A1 (en) Nickel hypophosphite solutions containing increased nickel concentration
US2805194A (en) Bright copper plating
EP0384679A1 (en) Electrolytic deposition of gold-containing alloys
NL8301833A (nl) Zinkbekledingsbaden die glansmiddelen bevatten.
US6179985B1 (en) Metal alloy fluoroborate electroplating baths
GB2109789A (en) Benzaldehyde ether derivatives and their use in zn-electroplating
JPH0776205B2 (ja) α−ヒドロキシプロピンスルホン酸およびその塩、その製法およびこれを含有する酸性ニツケル浴
SU1035097A1 (ru) Электролит меднени
CS258358B1 (cs) Leekutvorná pHsada pro elektrolytické vylučováni zinkových povlaků o tlouštkách do 50 pm
RU2133306C1 (ru) Электролит для осаждения покрытий из сплава медь-олово
SU463744A1 (ru) Блескообразующа добавка