CS256328B1 - Přísada do slabě kyselých zinkovacích lázní a obsahem organických ketosloučenin - Google Patents
Přísada do slabě kyselých zinkovacích lázní a obsahem organických ketosloučenin Download PDFInfo
- Publication number
- CS256328B1 CS256328B1 CS864016A CS401686A CS256328B1 CS 256328 B1 CS256328 B1 CS 256328B1 CS 864016 A CS864016 A CS 864016A CS 401686 A CS401686 A CS 401686A CS 256328 B1 CS256328 B1 CS 256328B1
- Authority
- CS
- Czechoslovakia
- Prior art keywords
- mono
- tri
- additive
- compounds
- bath
- Prior art date
Links
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
Přísada složena ze sloučenin obecného vzorce 1, kde znamená R^-fenyl, mono-, dinebo tri-methylfenyl, mono-, di- nebo tri- -hydroxifenyl, mono-, di- nebo tri-methoxyfenyl, mono-, di- nebo tri-ethoxyfenyl, furfuryl, pyridyl, Rg-alkyl, alkenyl, alkoxyl o počtu uhlíků 1 až 12, -CH=CH-C&H5, R - (CH - CH) - C - (X) n-0 nebo 1, jež obsahuje samotné nebo ve X n M směsích. Působí jako účinný inhibitor ved- N - OH lejších chemických a elektrochemických reakcí, při kterých dochází k degradaci organických ketosloučenin, jež jako součást leskutvorných přísad zajištují technické parametry zinkových povlaků, vylu- >· ■ čovaných ze slabě kyselých lázní. Optimální koncentrace přísady je 0,0005 až 0,05 g na 1 000 ml lázně.
Description
Vynález se týká přísady do galvanických slabé kyselých zinkovacích lázní s obsahem amonných solí, tj. na bázi chloridu nebo síranu zinečnatého, chloridu nebo octanu amonného, případ™ ne. obou, nebo bez amonných solí, tj. na bázi chloridu nebo síranu zinečnatého, chloridu sodného nebo draselného a kyseliny boříte a s obsahem leskutvorných přísad založených na bázi organických ketosloučenin.
Pro zajištění vhodných technických parametrů zinkových povlaků vylučovaných ze slabě kyselých lázní, tj. vyrovnávání, lesku, vnitřního pnutí, tažnosti atd. byla v minulosti navržena cel á řada organických látek spolu s účinnými tenzidy, jež zajištují jejich emulgaci v roztoku. Jako nejefektivnější z těchto látek se jeví ketosloučeníny, při jejichž použití se dosahuje nejvýhodnějších hodnot parametrů povlaků. Obvykle jsou zakomponovány spolu s tenzidy a dalšími organickými látkami do leskutvorných přísad, jež se do galvanické lázně dávkují na základě prošlého elektrického náboje a velikosti výnosu na zboží. Během pokovování se sorbují na aktivní centra kovového povrchu a přispívají tak k rozmnožení krystalizačních center, což je podmínkou vzniku jemně krystalických depozitů,a současně brzdí vylučování na vrcholech mikronerovností, tj. jsou příčinou vyrovnávacího efektu. Následně dochází k jejich elektrochemické degradaci a odplavení rozkladných produktů do roztoku.
Vedle tohoto procesu, který přímo souvisí s vylučováním povlaků, probíhají v roztoku vedlejší chemické a elektrochemické reakce, při kterých dochází k degradaci ketosloučenin, sniž by se podílely na vlastním pokovení. Tyto reakce způsobují ztráty účinné' látky a současně zvyšují koncentrsci nežádoucích rozkladných produktů, jež se musí z lázně periodicky odstraňovat.
v
Popsané nedostatky odstraňuje přísada podle vynálezu, jehož podstata spočívá v tom, že přísada je tvořena sloučeninami
- 2 256 328 obecného vzorce «
R, - (CH = CH) - G - R9, x η μ - c.
N - OH kde znamená R^ - fenyl, mono-, di- nebo tri-methylfenyl, mono-, di- nebo tri-hydroxifenyl, mono-, di- nebo tri-methoxyfenyl, mono-, di- nebo tri-ethoxyfenyl, furfuryl, pyridyl.
Rg - alkyl, alkenyl, alkoxyl o počtu uhlíků 1 až 12
-ch=ch-c6h5.
n - 0 nebo 1, jež obsahuje samotné nebo ve směsích.
Bylo zjištěno, že tato přísada má schopnost působit jako inhibitor vedlejších chemických a elektrochemických reakcí, které účinně potlačuje. Aplikace přísady do zinkovácí lázně se projevuje efektivnějším využitím organických ketosloučenin při galvanickém pokovení. Tento efekt se zvláště výrazně projevuje v lázních s velkým proudovým zatížením, kde podíl vedlejších reakcí silně narůstá. Optimální koncentrace přísady je 0,0005 až 0,05 g na 1000 ml lázně. Je vhodné ji nadávkovat přímo do doplňovací leskutvorné přísady s obsahem ketosloučenin a tak zajistit udržování její koncentrace v doporučeném rozmezí.
Podrobné vysvětlení je podáno na následujících příkladech.
Příklad 1
0, OOlá^oximu acetofenonu bylo nadávkováno do slabě kyselé zinkovácí lázně s obsahem 70 g chloridu zinečnatého, 30 g kyseliny borité, 175 δ chloridu draselného, 3 g 4-methoxybenzoanu sodného, 12 g neionogenního tenzidu (5 ethoxylových skupin v molekule), 3 g kopolymeru ethylen a propylenoxidu (m.h. 2500), 0,03 g methylnaftylketonu a 0,2 g benzylidenacetonu v 1000 ml. Lázeň byla zatížena stejnosměrným proudem až do průchodu náboje 150 A.h na 1000 ml. Během této doby byl po průchodu 10 A.h na 1000 ml periodicky doplňován methylnaftylketon a benzylidenaceton v příslušném poměru tak, aby bylo dosaženo shodné úrovně lesku vylučovaných povlaků, jako na začátku pokusu. Srovnání bylo provedeno na zkušebních panelech pokovených v Hullově
- 3 256 328 cele. Shodná zkouška byla provedena v lázni bez obsahu oximu acetofenonu. Spotřeba ketosloučenin byla v lázni s nadávkovaným oximem o 8 až ícjfc nižší.
Přiklad 2
0,0005 g oximu acetofenonu a 0,0005 g oximu benzylidenacetonu bylo nadávkováno do zinkovací lázně podle příkladu 1, jež byla zatížena stejnosměrným proudem shodně jako v příkladu 1, Spotřeba ketosloučenin byla v lázni s nadávkovanou směsí oximů o 12 až 15t& nižší.
Příklad 3
0,001 g oximu benzylidenacetonu bylo nadávkováno do zinkovací lázně podle příkladu 1, jež byla zatížena stejnosměrným proudem shodně jako v příkladu 1.
Spotřeba ketosloučenin byla v lázni s nadávkovaným oximem o 6 až 8p nižší.
nich. družstev.
Claims (1)
- - 4 - P Ř Ξ D I, " Š T VYNÁLEZU 256 328 Přísada do sladě kyselých zinkovacích lázní s obsahemorganických ketosloučenin, jež se rozhodující měrou podílejína tvorbě parametrů vylučovaných povlaků,tj. vyrovnávání,lesku, vnitřním pnutí, tažnosti, a galvanické lázně, tj. hloub-kové účinnosti a krycí schopnosti, jež má schopnost působitjako inhibitor vedlejších chemických a elektrochemickýchreakcí, vyznačená tím, že sestává ze sloučenin obe-cnéhovzorce R-, - (CH = CH) - C - R9, ± n „ £ N - OH kde znamená R^ - fenyl, mono-, di- nebo tri-methylfenyl, mono-,di- nebo tri-hydroxifenyl, mono-, di- nebotri-methoxyfenyl, mono-, di- nebo tri-ethoxy-fenyl, furfury1, pyri dyl. Rg ~ alkyl, slkenyl, alkoxyl o počtu uhlíků 1 až12, -CH=CH-0gH5. n - 0 nebo 1, jež obsahuje samotné nebo ve směsích.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CS864016A CS256328B1 (cs) | 1986-06-02 | 1986-06-02 | Přísada do slabě kyselých zinkovacích lázní a obsahem organických ketosloučenin |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CS864016A CS256328B1 (cs) | 1986-06-02 | 1986-06-02 | Přísada do slabě kyselých zinkovacích lázní a obsahem organických ketosloučenin |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CS401686A1 CS401686A1 (en) | 1987-08-13 |
| CS256328B1 true CS256328B1 (cs) | 1988-04-15 |
Family
ID=5381932
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CS864016A CS256328B1 (cs) | 1986-06-02 | 1986-06-02 | Přísada do slabě kyselých zinkovacích lázní a obsahem organických ketosloučenin |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CS (1) | CS256328B1 (cs) |
-
1986
- 1986-06-02 CS CS864016A patent/CS256328B1/cs unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CS401686A1 (en) | 1987-08-13 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US3303111A (en) | Electro-electroless plating method | |
| US3161575A (en) | Copper pyrophosphate electroplating solutions | |
| EP0180523B1 (fr) | Procédé perfectionné de phosphatation au zinc, bain d'activation et d'affinage mis en oeuvre dans ce procédé et concentré correspondant | |
| KR20140042877A (ko) | 지르코늄 기재의 도금 조성물 및 방법 | |
| JPH09302498A (ja) | 錫−銀合金電気めっき浴 | |
| CS256328B1 (cs) | Přísada do slabě kyselých zinkovacích lázní a obsahem organických ketosloučenin | |
| US4406756A (en) | Hard chromium plating from hexavalent plating bath | |
| JP2002004081A (ja) | シリコンウエハーへの電気めっき方法 | |
| US4592809A (en) | Electroplating composition and process and surfactant compound for use therein | |
| SE502520C2 (sv) | Bad, sätt och användning vid elektroplätering med tenn- vismutlegeringar | |
| JP4355987B2 (ja) | スズ−亜鉛合金を電着するための水溶液 | |
| FR2461024A1 (fr) | Procedes et compositions de depot electrolytique d'argent, utilisant des composes d'argent, des electrolytes sans cyanure et des composes de phosphonate organique | |
| JPH0774475B2 (ja) | 銀めっきの前処理液 | |
| US6248228B1 (en) | Metal alloy halide electroplating baths | |
| CA2226744A1 (en) | Nickel hypophosphite solutions containing increased nickel concentration | |
| US2805194A (en) | Bright copper plating | |
| EP0384679A1 (en) | Electrolytic deposition of gold-containing alloys | |
| NL8301833A (nl) | Zinkbekledingsbaden die glansmiddelen bevatten. | |
| US6179985B1 (en) | Metal alloy fluoroborate electroplating baths | |
| GB2109789A (en) | Benzaldehyde ether derivatives and their use in zn-electroplating | |
| JPH0776205B2 (ja) | α−ヒドロキシプロピンスルホン酸およびその塩、その製法およびこれを含有する酸性ニツケル浴 | |
| SU1035097A1 (ru) | Электролит меднени | |
| CS258358B1 (cs) | Leekutvorná pHsada pro elektrolytické vylučováni zinkových povlaků o tlouštkách do 50 pm | |
| RU2133306C1 (ru) | Электролит для осаждения покрытий из сплава медь-олово | |
| SU463744A1 (ru) | Блескообразующа добавка |