CS242164B1

CS242164B1 - Wiped film vacuum rectification device

Info

Publication number: CS242164B1
Application number: CS845532A
Authority: CS
Inventors: Jan Cvengros; Jan Balint
Original assignee: Jan Cvengros; Jan Balint
Priority date: 1984-07-18
Filing date: 1984-07-18
Publication date: 1986-04-17
Also published as: CS553284A1

Abstract

Vynález sa týká oboru vakuovéj destilácie a rektifikácie tepelne nestálých látok a rieši konštrukciu zariadenia pre vákuovú rektifikáciu so stieraným filmom. Na nosné] přírubě je súoso uchytený chladič, ktorý je spojený s horným odparovačom a tento je spojený s dolným odparovačom, ktorý je ukončený dnom. Súčasne súoso s nimi je v nosnej přírubě zasunutý vnútorný kondenzátor. Stierací komplex pozostáva z nosných tyčí, na ktorých sú v pravidelných intervaloch uložené stieracie prstence s odvádzacími žlabami a tieto odvádzacie žlaby sú ukončené stieracími segmentami, uloženými v puzdrách. Stieracie segmenty stierajú odparnú plochu v hornom odparovači a v dolnom odparovači.The invention relates to the field of vacuum distillation and rectification of thermally unstable substances and solves the design of a device for vacuum rectification with a wiped film. A cooler is coaxially mounted on the support flange, which is connected to the upper evaporator, and this is connected to the lower evaporator, which is terminated by a bottom. At the same time, an internal condenser is inserted coaxially with them in the support flange. The wiping complex consists of support rods, on which wiping rings with drainage channels are placed at regular intervals, and these drainage channels are terminated by wiping segments, mounted in housings. The wiping segments wipe the evaporation surface in the upper evaporator and in the lower evaporator.

Description

Vynález sa týká zariadenia pre vakuová rektifikáciu so stieraným filmom, určeného pre delenie a čistenie zmesi tepelne nestálých látok.The present invention relates to an apparatus for vacuum rectification with a wiped film for separating and cleaning a mixture of thermally unstable substances.

Doteraz známe zariadenia pre destilačné spracovanie tepelne citlivých látok sú bud kolonového typu, alebo typu filmových odpariek. Pri destilácii termolabilných látok sa kladle vefký doraz na dosiahnutie čo najnižšieho tlaku neskondenzovatelných plynov v zariadení, pretože s tým súvisí podstatné zníženie pracovnej teploty a tlež redukcia parciálneho tlaku kyslíka. Přístroje kolonového typu s orientovanou náplňou s nízkou stratou tlaku majú sice dostatočnú deliacu schopnost a dobrú výťažnosť, avšak existujúca strata tlaku vedie k vyšším pracovným teplotám.Previously known devices for the distillation treatment of thermally sensitive substances are either column type or film evaporator type. In the distillation of thermo-labile substances, a large stopper is placed to achieve the lowest possible pressure of the non-condensable gases in the plant, since this entails a substantial reduction in the working temperature and also a reduction in the oxygen partial pressure. Although low pressure loss-oriented column type apparatuses have sufficient separation capability and good yield, existing pressure loss leads to higher operating temperatures.

Ich hlavným nedostatkom sú dlhé doby posobenia zvýšených teplot na spracovávané kvapaliny, čo pre mnohé tepelne citlivé látky najma s vyššou molovou hmotnosťou je nevyhovujúce. Na druhej straně přístroje odparkového typu so stieraným filmom, najma krátkocestné alebo molekulové, ktoré pracujú prakticky bez straty tlaku a využívajú najnižšie možné pracovně teploty, poskytujú možnost spracovania tepelne citlivých látok bez ich tepelného poškodenia, majú však nízku deliacu schopnost, neprevyšujúcu spravidla jednu teoretickú etáž. Vo váčšine prípadov je aj táto deliaca schopnost dostačujúca, pri delení zmesi látok s relativné blízkou tenziou pár dosiahnutá ostrost delenia nevyhovuje. Viacnásobná destilácia v tom istom zariadení pri opakovaných operáciách alebo v batérii viacerých zariadení obvykle nie je riešením, pretože popři zvýšení ostrosti delenia rapidně klesá výťažnosť produktových frakcií. Boli preto navrhnuté přístroje so stieraným filmom a takou konštrukčnou úpravou destilačného priestoru, aby sa dosiahlo viacnásohné odparenie, znamenajúce zvýšenú ostrost delenia. Tak v zariadení podl'a U. S. 2 749 292 so stieraným filmom je kondenzát, zachytený na vertikálnom chladiči, uloženom v osi odparného valca, vracaný spát na odparnú plochu. Jeho nevýhodou je, že tento návrat je riešený komplikované rozstrekovaním po odparnej ploché, čím je daná možnost pretoku destilátu do zbytku, ďalej aparát má málo účinné stieranie pomocou rotujúcich reťazí, v důsledku zložitých a objemných vostavieb v destilačnom priestore má chladič malú plochu a konečne odparná plocha je vyhrievaná na rovnakú teplotu pozdíž celého ohrevného valca.Their main drawback is the long exposure times of the elevated temperatures to the liquids to be treated, which is unsatisfactory for many thermally sensitive substances, in particular with a higher molecular weight. On the other hand, wiped film evaporators, in particular short-path or molecular, which operate practically without pressure loss and utilize the lowest possible working temperatures, provide the ability to process thermally sensitive substances without their thermal damage but have a low separation capability not usually exceeding one theoretical floor. . In most cases, this separation ability is also sufficient, the separation sharpness achieved by the separation of a mixture of substances having a relatively close vapor pressure is not satisfactory. Multiple distillation in the same device in repeated operations or in a battery of multiple devices is not usually a solution, as the yield of product fractions rapidly decreases as the separation sharpness increases. Therefore, wiped-film apparatuses and a structural design of the distillation space have been designed to achieve multi-vaporization, which means increased sharpness of the separation. Thus, in the wiped film device of U.S. Pat. No. 2,749,292, the condensate retained on a vertical condenser mounted in the axis of the evaporation cylinder is returned to the evaporation surface. Its disadvantage is that this return is solved by complicated spraying on the evaporating flat, giving the possibility of the distillate to flow to the residue, furthermore the apparatus has little efficient wiping by rotating chains, due to complicated and bulky installations in the distillation space has cooler small area and finally evaporative the surface is heated to the same temperature along the entire heating cylinder.

V zariadení podlá U. S. 2 993 842 s rýchlo rotujúcim chladičom v osi zariadenia je návrat kondenzátu z chladiča zabezpečený účinkom odstredivej sily. Stleracie lišty, ktoré sú súčasťou rotujúceho chladiča, sú orientované pozdíž celého odparného valca súbežne s jeho osou a dosadajú na odparnú plochu účinkom odstredivej sily. Jeho nevýhodou je komplikované chladenie chladiča, rotujúceho s poměrně vysokou frekvenciou, a rovnoměrná teplota pozdíž celej odparnej plochy. Pri tomtso type stieračov aj napriek ich hrebeňovitému profilu dochádza k zhrňovaniu kvapaliny před stieračom a k jej rýchlemu odtoku nadol.In the apparatus of U.S. Pat. No. 2,993,842 with a rapidly rotating cooler in the axis of the apparatus, the return of condensate from the cooler is ensured by centrifugal force. The slats, which are part of the rotating cooler, are oriented along the entire evaporator cylinder parallel to its axis and are supported by a centrifugal force on the evaporator surface. Its disadvantage is the complicated cooling of the cooler rotating at a relatively high frequency, and a uniform temperature along the entire evaporation surface. With this type of wipers, despite their ridge-like profile, the liquid in front of the wiper swings up and rapidly flows downwards.

Všetky tieto nevýhody sú odstraněné u zariadenia pre vákuovú rektifikáciu so stieraným filmom podl'a vynálezu, ktorého podstatou je, že na nosnej přírubě je súoso uchytený chladič, ktorý je spojený s horným odparovačom a tento je spojený s dolným odparovačom, ktorý je ukončený dnom, a súčasne súoso s nimi je v nosnej prírube vložený vnútorný kondenzátor, pričom na nosných tyčiach stierača sú v pravidelných intervalech uložené stieracie prstence, vybavené v miestach kontaktu s vnútorným kondenzátorom manžetami a opatřené odvádzacími žfabami s puzdrami a stieracími segmentami tak, že stieracie segmenty sa dotýkajú odparnej plochy buď horného odparovača, alebo dolného odparovača.All these drawbacks are eliminated with the wiped-film vacuum rectification apparatus according to the invention, the principle being that a condenser is mounted coaxially on the support flange, which is connected to the upper evaporator and which is connected to the lower evaporator, which is terminated by a bottom, and at the same time coaxially an internal condenser is inserted in the carrier flange, with wiper rings mounted at regular intervals on the wiper carrier rods, provided with cuffs at the points of contact with the internal condenser and provided with gutters with sleeves and wiper segments so that the wiper segments contact the evaporator surface of either the upper evaporator or the lower evaporator.

Zariadenie pre vákuovú rektifikáciu podlá vynálezu má v porovnaní s doteraz známými konštrukčnými riešeniami niekolko výhod. Výhodná kombinácia rozličných pracovných teplot v dolnom odparovači, v horném odparovači, vo vnútornom kondenzátore a v chladiči umožňuje vytvořit vhodný separačný režim pozdíž celého zariadenia a dosiahnúť tak dostačujúce rozdelenie klučových zložiek.The vacuum rectification apparatus according to the invention has several advantages over the prior art designs. The advantageous combination of different working temperatures in the lower evaporator, the upper evaporator, the internal condenser and the cooler makes it possible to create a suitable separation mode along the entire plant and to achieve a sufficient distribution of the grease components.

V zariadení sú přitom zachované všetky předpoklady pre šetrnú destiláciu tepelne nestálých látok, ako je krátká doba pobytu na tepelne exponovaných plochách, existencia tenkého a účinné stieraného kvapalinového filmu a možnost využívat dostatočne nízký tlak neskondenzovatelných plynov pri minimálnom tlakovom spáde v zariadení, čím sa výrazné zníži pracovná teplota. Přívod kondenzátu vo funkcii refluxu z vnútorného kondenzátora spát na odparnú plochu je riešený jednoducho a účinné, pričom kondenzát sa odoberá oddelene z různých výšok vnútorného kondenzátora a rovnako separované sa vracia na odparný válec v různých výškách, vytvárajúc tak žiadúci vertikálny koncentračný gradient pozdíž oboch odparných ploch. Chladič s účinným chladením v hornej zóně zariadenia zaručuje úplnú kondenzáciu pár. Konstrukčně riešenie stieracích segmentov a ich uchytenie zaručujú účinné premiešavanie kvapalinového filmu, jeho rovnoměrné rozdelenie pozdíž celej odparnej plochy a vyrovnáváme teplotných a koncentračných gradientov vo filme v horizontálnom smere.The facility retains all the prerequisites for the gentle distillation of thermally unstable substances, such as short residence times on thermally exposed areas, the existence of a thin and efficient wiped liquid film and the possibility of using sufficiently low non-condensable gas pressure at minimum pressure drop in the plant. working temperature. The condensate supply in the function of reflux from the internal condenser to the evaporator surface is designed simply and efficiently, the condensate being withdrawn separately from different heights of the internal condenser and equally separated returned to the evaporator cylinder at different heights, creating the desired vertical concentration gradient along both evaporator surfaces. . A cooler with efficient cooling in the upper zone of the device guarantees complete condensation of the vapors. The design of the wiper segments and their attachment ensure effective mixing of the liquid film, its even distribution along the entire evaporation surface and equalize the temperature and concentration gradients in the film in the horizontal direction.

Na připojených výkresoch je na obr. 1 schematicky znázorněné zariadenie pre vákuovú rektifikáciu so stieraným filmom podl'a vynálezu, na obr. 2 konstrukčně riešenie stieracieho prstenca s príslušenstvom v řeze, obr. 3 v bokoryse a na obr. 4 v půdoryse.In the accompanying drawings, FIG. 1 schematically depicts a vacuum rectification apparatus with a wiped film according to the invention, FIG. 2 is a sectional view of a wiper ring with accessories, FIG. 3 in side view and FIG. 4 in plan view.

V nosnej přírubě 1 je uchytený chladič 2, na ktorý je připojený horný odparovač 3 a na tento je připojený dolný odparovač 4, ukončený dnom 5. Chladič 2, horný odparovač 3 a dolný odparovač 4 sú opatřené duplikátorovými plášťami a ukončené přírubami na oboch koncoch. V nosnej prírube 1 je súosou s chladičom 2, horným odparovačom 3 a dolným odparovačom 4 uložený vnútorný kondenzátor 6 prechádzajúci priestorom chladiča 2, horného odparovača 3 a čiastočne aj dolného odparovača 4. Na nosných tyčiach 7 proti odparnej ploché horného odparovača 3 a odparnej ploché dolného odparovača 4 sú v pravidelných intervaloch umiestnené steracie prstence 8. Stierací prstenec 8, který je umiestnený proti vnútornému kondenzátoru 6, je vybavený zo strany kontaktu s vnútorným kondenzátor om manžetou 9 z PTFE (teflon). Každý stierací prstenec 8 je opatřený niekolkými odvádzacími žtabmi 10 so sklonom 10 až 30 stupňov smerom k odparnej ploché horného odparovača 3, alebo dolného odparovača 4. Odvádzací žíab 10 je ukončený puzdrom 11 so stieracím segmentom 12. Stierací segment 12 je v puzdre 11 uložený vol'ne v smere radiálnom, zatial čo jeho pohybu v smere tangenciálnom je zabráněné. Stierací segment 12 vol'ne dosadá podl'a výšky uloženia na nosných tyčiach 7 na odparnú plochu buď horného odparovača 3, alebo dolného odparovača 4. Chladič 2 je opatřený v dolnej časti zberným žíabom 13, do ktorého ústi rúrka destilátu 14. Dolný odparovač 4 má vo svojej hornej časti umiestnenú rúrku nástreku 15. Dno 5 vo svojej najnižšej časti je opatřené rúrkou zbytku 16. V hornej časti chladiča 2 je rúrka vákua 17, cez ktorú je zariadenie připojené na vhodný zdroj vakua. Vnútorný kondenzátor 6 je opatřený vstupnou rúrkou 18, ktorá siaha až k jeho dnu, a výstupnou rúrkou 19, pričom tieto slúžia na přívod a odvod chladiaceho média. V úrovni rúrky nástreku 15 je uložený rozdělovač nástreku 18, tvořený prstencom z PTFE s vybraniami na straně kontaktu s dolným odparovačom 4. Rozdělovač nástreku 16 je uložený na nosných tyčiach 7 a vykonává rotačný pohyb spolu so stieracími prstencami 8, manžetami 9, odvádzacími žlabami 10, puzdrami 11, stieracími segmentami 12 a záchytným lievikom 20. Nosné tyče 7 sú v hornej časti ukončené hnaným ozubením 21, uloženým v nosnej prírube 1, do ktorého zapadá hnacie ozubenie 22 s hriadetom 23, utěsněným vakuovým těsněním 24. Rotačný pohyb nosných tyčí 7 je odvodený od motora 32. Na obr. 2, obr. 3 a obr. 4 je detailně ukázaný stierací prstenec 8 a s ním súvisiace konstrukčně prvky. Stierací prstenec 8 má na sebe niekolko otvorov 25 s osadením 26, cez ktoré prechádzajú nosné tyče 7. Požadovaná polohu stieracieho prstenca 8 na nosných tyčiach 7 zabezpečujú vymedzovacie rúrky 27. Stierací prstenec 8 má na svojom vonkajšom obvode vytvořený záchytný žlab 28 pomocou římsy 29. Na záchytný žlab 28 sú připojené viaceré odvádzacie žlaby 10, ktoré sú súčasne nosníkmi pre puzdra 11 so stieracími segmentami 12. Puzdro 11 je spojené s odvádzacím žíabom 10 cez nosník 30. Puzdro 11 spolu so stieracím segmentom 12 je voči rovině stieracieho prstenca 8 pootočené o uhol 10 — 30° podta obr. 3. Stierací segment 12 je na svojom vonkajšom obvode opatřený přepadovými otvormi 31. Odplynený nástrek sa privádza rúrkou nástreku 15 a pomocou rozdělovače nástreku 16, ktorý rotuje na nosných tyčiach 7, je rovnoměrně rozdělený po celom obvode dolného odparovača 4. V duplikátorovom plášti dolného odparovača 4 prúdi teplonosné médium z vonkajšieho zdroja. Destilovaná kvapalná zmes stéká po ohrevnej ploché dolného odparovača 4 smerom nadol a súčasne je nadvihovaná a intenzívně premiešavaná stieracími segmentami 12. Nadvihovanie kvapalinového filmu je zabezpečené pootočením stieracieho segmentu 12 voči rovině stieracieho prstenca 8 v kombinácii s vhodným zmyslom otáčania nosných tyčí 7. Vznikajúce páry prechádzajú do vyšších častí zariadenia, kde pri styku s povrchom vnútorného kondenzátora 6, ktorý je chladiacim médiom z vonkajšieho zdroja temperovaný na teplotu primerane nižšiu ako je teplota ohrevného média v dolnom odparovači 4, čiastočne kondenzujú. Kondenzát z vnútorného kondenzátora 6 sa zhromažďuje v záchytných žtaboch 28 stieracích prstencov 8, odkial' prechádza cez odvádzacie žtaby 10 a stieracie segmenty 12 na odparovaciu plochu horného odparovača 3, v ktorého duplikátorovom plášti prúdi z vonkajšieho zdroja teplonosné médium s teplotou vhodné nižšou voči teplote média v dolnom odparovači 4, avšak vyššou ako je teplota média pre vnútorný kondenzátor 6, tak, aby sa dosiahlo znovuodparenie prchavějších zložiek. Takto sa pri neadiabatickom režime postupné vytvoří koncentračný gradient po výške celého zariadenia, s ktorým súvisí výrazné obohatenie pár, prichádzajúcich ďo hornej časti zariadenia, na prchavejšiu zložku. Tieto páry potom úplne kondenzujú na chladiči 2, ktorý je chladený z vonkajšieho zdroja na dostatočne nízku teplotu, zaručujúcu totálnu kondenzáciu pár. Destilát stéká do zberného žlabu 13, odkial' je rúrkou destilátu 14 odvádzaný zo zariadenia. Destilačný zbytok je z dna 5 odvádzaný rúrkou zbytku 18. Odtok kondenzátu zo záchytného žlabu 28 k odparnej ploché horného odparovača 3, alebo dolného odparovača 4, zabezpečuje jednak sklon odvádzacích žlabov 10, jednak odstředivá sila, pochádzajúca z rotácie celého stieracieho komplexu. Případné kvapky kondenzátu z vnútorného kondenzátora 6 sa zachytávajú na záchytnom lievlku 20 a cez příslušný stierací prstenec 8 sú od242164 vedené na odparnú plochu dolného odparovača 4. Zariadenie može pracovat v rozsahu tlakov- neskondenzovatelných plynov 1—103 p_{a s} teplotou ohrevného média v duplikátore dolného odparovača 4 do 300 °C. Výhodná obvodová rýchlosť stieracích segmentov 12 je 15 — 20 m min^-1.The support flange 1 has a cooler 2 to which the upper evaporator 3 is connected and the lower evaporator 4 connected to the bottom 5 is connected thereto. The cooler 2, the upper evaporator 3 and the lower evaporator 4 are provided with duplicator jackets and terminated with flanges at both ends. In the carrier flange 1, an internal condenser 6 extends through the space of the cooler 2, the upper evaporator 3 and partly also the lower evaporator 4, coaxial with the cooler 2, the upper evaporator 3 and the lower evaporator 4. The wiper ring 8, which is located opposite the inner condenser 6, is provided with contacting the inner condenser with a PTFE cuff 9 (teflon). Each wiper ring 8 is provided with several discharge troughs 10 with a 10 to 30 degree inclination towards the evaporating flat upper vaporizer 3 or the lower vaporizer 4. The discharge trough 10 is terminated by a housing 11 with a wiper segment 12. The wiper segment 12 is housed in the housing 11. not in the radial direction, while its movement in the tangential direction is prevented. Depending on the bearing height of the support rods 7, the scraper segment 12 abuts against the evaporation surface of either the upper evaporator 3 or the lower evaporator 4. The cooler 2 is provided with a collecting chute 13 in the lower part, into which the distillate tube 14 opens. The bottom 5 at its lowest part is provided with a residue tube 16. At the top of the cooler 2 is a vacuum tube 17 through which the device is connected to a suitable vacuum source. The inner condenser 6 is provided with an inlet pipe 18 extending as far as the bottom thereof and an outlet pipe 19, which serve to supply and drain the coolant. At the level of the feed tube 15 there is a feed distributor 18 formed of a PTFE ring with recesses on the side of the contact with the lower vaporizer 4. The feed distributor 16 is supported on the support rods 7 and rotates together with the wiper rings 8, collars 9, discharge channels 10 The carrier rods 7 are terminated in the upper part by a driven toothing 21 mounted in a bearing flange 1, in which the drive toothing 22 with a shaft 23, sealed by a vacuum seal 24, fits rotatingly. is derived from the motor 32. In FIG. 2, FIG. 3 and FIG. 4 shows in detail the wiper ring 8 and the related construction elements. The wiper ring 8 has a plurality of holes 25 with a shoulder 26 through which the support rods 7 pass. The required position of the wiper ring 8 on the support rods 7 is provided by the spacing tubes 27. The wiper ring 8 has a retaining trough 28 on its outer circumference. A plurality of drainage troughs 10 are connected to the trough 28 and are at the same time the beams for the sleeve 11 with the wiper segments 12. The sleeve 11 is connected to the drain trough 10 via the beam 30. The sleeve 11 together with the wiper segment 12 is rotated relative to the plane of the wiper ring 8 angle 10 - 30 ° according to fig. 3. The scraper segment 12 is provided with overflow openings 31 on its outer periphery. The degassed feed is fed through the feed tube 15 and is distributed uniformly over the entire circumference of the lower evaporator 4 by means of the spray distributor 16 rotating on the support rods. 4, the heat transfer medium flows from an external source. The distilled liquid mixture flows down the heated flat evaporator 4 downwardly while being lifted and intensively mixed by the wiper segments 12. The liquid film is lifted by rotating the wiper segment 12 relative to the plane of the wiper ring 8 in combination with a suitable sense of rotation of the support rods. to the upper parts of the apparatus where they partially condense on contact with the surface of the internal condenser 6, which is cooled to a temperature reasonably lower than the temperature of the heating medium in the lower evaporator 4 by the coolant from an external source. The condensate from the internal condenser 6 collects in the collecting troughs 28 of the wiper rings 8, from where it passes through the drainage troughs 10 and the wiper segments 12 to the evaporator surface of the upper vaporizer 3 in which a heat transfer medium with an appropriate temperature lower than the temperature in the lower evaporator 4, but higher than the temperature of the medium for the internal condenser 6, so as to achieve re-evaporation of the more volatile components. Thus, in a non-adiabatic mode, a concentration gradient is gradually formed over the height of the entire apparatus, which is associated with a significant enrichment of the vapors coming from the top of the apparatus to the more volatile component. These vapors then completely condense on the cooler 2, which is cooled from an external source to a sufficiently low temperature to guarantee total vapor condensation. The distillate flows into the collecting trough 13 from where it is discharged from the apparatus through the distillate tube 14. The distillation residue is discharged from the bottom 5 through a residue pipe 18. The condensate drain from the collecting trough 28 to the evaporating flat upper evaporator 3 or the lower evaporator 4 provides both the slope of the discharge troughs 10 and the centrifugal force resulting from the rotation of the entire wiping complex. Possible condensate drops from the internal condenser 6 are captured on the catching funnel 20 and are routed through the respective wiper ring 8 to the evaporator surface of the lower evaporator 4 via the respective wiper ring 8. The device can operate in the range of pressure non-condensable gases 1-103 p _. 4 to 300 ° C. The preferred peripheral speed of the scraper segments 12 is 15-20 m ^min-1.

Claims

The apparatus may be operated at a pressure range of non-condensable gases 1 - 103 and with a temperature of the heating medium in the lower evaporator duplicator 4 to 300 ° C. The preferred circumferential speed of the wiping segments 12 is 15-20. m min-1. OBJECT

1. A film film vacuum rectification device, characterized in that it comprises a coherent gripper (2) which is connected to the upper evaporator (3) and is connected to the bottom evaporator (4), terminated by the bottom (5), which are attached to the support flange (1) and coaxial to one another, an inner condenser (6) is inserted in the support flange (1), wiper rings (8J provided with internal condensation contact locations) are regularly arranged on the support bars (7) -torome (6) with cuffs (9) and provided with drainage troughs [10] with sleeves (11) of the astiering segments (12) so that the scraping segments (12) contact the evaporating surface of either the upper evaporator (3) or a vaporizer (4).

Apparatus for vacuum rectification according to claim 1, characterized in that the discharge channel (10) is attached to the wiper ring (8) at an angle of 10-30 ° and the housing (11) with the wiper segment (12) is the angle of the wiper ring (8) is 10-30 °.

Apparatus for vacuum rectification according to claim 1, characterized in that the condenser (2) is provided with a distillate tube (14) and a vacuum tube (17), a lower evaporator (4) with an injection tube (15) and the bottom (5) is provided with a residue tube (16). 2 sheets of drawings