CN2887888Y - 真空蒸镀装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开一种真空蒸镀装置，其包括一真空腔、一喷头、一工作台和一扩散板。该喷头和该工作台在该真空腔内相对设置，该扩散板固定在该喷头上。

Description

真空蒸镀装置

【技术领域】

本实用新型涉及一种真空蒸镀装置。

【背景技术】

有机发光显示器(Organic Lighting Emitting Display，简称OLED)通常包括电子注入层、电子传输层、发光层、空穴传输层和空穴注入层等多层薄膜结构，该多层薄膜结构一般通过成膜方法形成，其各层薄膜的膜厚分布对有机电激发光显示器的品质有较大的影响。

业界主要包括两种成膜方法。一种是喷墨(Ink-jet Printing)方法，即将喷头充满待镀液态材料，通过加热产生气泡或其它方法挤压该液态材料，将其喷到欲镀膜的基底上，该方法要求材料液滴微小，打点精确从而实现均匀成膜。另一种方法是真空蒸镀法，即在真空条件下对蒸镀材料进行加热，使其熔融、蒸发后通过喷头均匀沉积在欲镀膜的基底上，冷却后在该基底表面形成一层薄膜。

在真空蒸镀法中，为提高基底蒸镀膜厚的均匀性，一般真空蒸镀装置利用一条状(Bar-Type)喷头，该喷头上设置有一排导气孔，将基底放置在喷头下方的工作台上，蒸气由导气孔导出，通过喷头和其下工作台之间的位移，将蒸气较均匀沉积在该基底上。

请同时参阅图1和图2，图1是现有技术真空蒸镀装置的结构示意图，图2是图1所示真空蒸镀装置的左视图。该真空蒸镀装置1包括一真空腔11、一喷头12、一工作台13和一导气管15。该喷头12和该工作台13在该真空腔11内相对设置，该喷头12是长条形，其具有一腔体122，该腔体122与该导气管15相连通。该喷头12上进一步设置有多个导气孔121，该导气孔121等间距分布在该喷头12上。

该真空蒸镀装置1的蒸镀过程如下所述：首先，将待镀基底21放置在该工作台13上；其次，提供一抽气装置(图未示)将该真空腔11抽成真空；最后，维持该真空腔11为真空状态，由该导气管15向该喷头12提供蒸气，同时，该喷头12在机械臂(图未示)控制下开始相对于该工作台13移动，蒸气通过该腔体122并经该导气孔121喷出沉积在该基底21上。

请参阅图3，图3是该真空蒸镀装置1的蒸气流动动作示意图。待镀蒸气通过该导气管15进入该喷头12的腔体122，在该腔体122内扩散后通过该导气孔121喷出沉积在该基底21上。但是，由于该导气孔121为均匀分布，而该蒸气通过该导气孔121时并非均匀分布，从中间部分的导气孔121喷出的蒸气流速和密度较大，从外围部分的导气孔121喷出的蒸气的流速和密度较小，从而容易导致该基底21的沉积膜厚度中间部分较大，外围部分较小。

【实用新型内容】

为了克服现有技术真空蒸镀装置蒸镀不均的现象，有必要提供一种蒸镀较均匀的真空蒸镀装置。

一种真空蒸镀装置包括一真空腔、一喷头、一工作台和一扩散板。该喷头和该工作台在该真空腔内相对设置，该扩散板固定在该喷头上。

和现有技术相比，本实用新型的真空蒸镀装置的扩散板能将喷头流出的蒸气减速并扩散为较均匀分布，有效提高蒸镀的均匀性。

【附图说明】

图1是现有技术的真空蒸镀装置的结构示意图。

图2是图1所示真空蒸镀装置的左视图。

图3是图1所示真空蒸镀装置的蒸气流动动作示意图。

图4是本实用新型真空蒸镀装置第一实施方式的结构示意图。

图5是图4所示真空蒸镀装置的左视图。

图6是图4所示真空蒸镀装置的扩散板平面示意图。

图7是本实用新型真空蒸镀装置第二实施方式的结构示意图。

图8是图7所示真空蒸镀装置的扩散板的平面示意图。

【具体实施方式】

请同时参阅图4和图5，图4是本实用新型真空蒸镀装置第一实施方式的结构示意图，图5是图4所示的蒸镀装置的左视图。本实用新型真空蒸镀装置3包括一真空腔31、一喷头32、一工作台33、一扩散板34和一导气管35。

该真空腔31是一可提供真空条件的腔体，其自身具有抽气装置(图未示)，该抽气装置能够持续工作，维持该真空腔31为真空状态。该喷头32与该工作台33在该真空腔内相对设置，该喷头32设置有多个导气孔321，该导气管35与该导气孔321相连通，其在工作过程中向该喷头32提供蒸气，该扩散板34固定在该喷头32上。请同时参阅图6，图6是该扩散板34的平面示意图，该扩散板34上设置有多个开孔341，该开孔341分布在该扩散板34上，其形状是圆柱形，该开孔341根据蒸气流动特性设计成中间区域较疏，外围区域较密的分布，从而将从该导气孔321流出的蒸气扩散为均匀分布。

该真空蒸镀装置3的蒸镀过程包括以下步骤：首先，将一待镀基底41放置在该工作台33上；其次，将该真空腔31抽真空；最后，维持该真空腔31为真空状态，提供一蒸气依次通过该导气管35、该喷头32和该扩散板34喷出，同时，该喷头32相对于该工作台33连续移动，将从该扩散板34喷出的蒸气连续均匀蒸镀在该基底41上。

相对于现有技术，本实用新型真空蒸镀装置3的扩散板34能将喷头32喷出的流速、密度不均的蒸气减速并经该扩散板34的分布不均的开孔341扩散为均匀分布，从而有效提高蒸镀均匀性。

该真空蒸镀装置3的开孔341还可以是圆锥形，立方锥形或正棱柱形等其它形状，该开孔341的孔径大小可以根据需要设计成不相同。该真空蒸镀装置3可以进一步包括设置在该真空腔31内的一掩膜板，用以获得所需要的蒸镀图形。该导气管35导入的蒸气是小分子材料蒸气。该类型的扩散板34也可以用在喷头32和基底41大小相当的面蒸镀装置中。

请参阅图7，图7是本实用新型真空蒸镀装置第二实施方式的结构示意图。该真空蒸镀装置5的结构与本实用新型第一实施方式的真空蒸镀装置3的结构相似，其包括一真空腔51、一喷头52、一工作台53、一扩散板54和一导气管55。该真空蒸镀装置5与该真空蒸镀装置3的区别在于：该扩散板54是一设置至少一狭缝的扩散板。请参阅图8，图8是该扩散板54的平面示意图。该扩散板54上设置有至少一狭缝541，该狭缝541平行分布在该扩散板54上，其形状是矩形，其上设置有多个扰流间隙子542，该扰流间隙子542用两根相互垂直的金属丝固定在该狭缝541上，其是八面体型，表面是光滑结构，其分布规律是中间区域较密，两边较疏，并可以通过调节垂直于该狭缝541的金属丝使该扰流间隙子542沿着该狭缝541移动，该扰流间隙子542的作用是减缓蒸气流动速度，使蒸气缓慢扩散成均匀分布。

该真空蒸镀装置5对基底61进行蒸镀，其所用的蒸镀方法与本实用新型第一实施方式的蒸镀装置3所用的蒸镀方法相似。不同的是，该蒸镀装置5是利用多个扰流间隙子542将从喷头52喷出的蒸气减速并扩散成均匀分布，从而达到提高蒸镀均匀性的目的。且该扩散板54的蒸气喷出口是狭缝，面积较大，能有效防止蒸气沉积在该扩散板54而导致堵塞蒸气喷出口的现象。

该真空蒸镀装置5的扰流间隙子542还可以是橄榄形，碟形等其它形状，表面也可以具有条纹或螺纹等其它结构。该扰流间隙子542也可以用卡榫固定在该狭缝541上。该真空蒸镀装置5还可以进一步包括设置在该真空腔51内的一掩膜板，用来获得所需要的蒸镀图案。该类型的扩散板54也可以用在喷头52与基底61大小相当的面蒸镀装置中。

Claims (10)

1.一种真空蒸镀装置，其包括一真空腔、一喷头、一工作台，该喷头和该工作台在该真空腔内相对设置，其特征在于：该真空蒸镀装置进一步包括一扩散板，该扩散板固定在该喷头上。

2.如权利要求1所述的真空蒸镀装置，其特征在于：该喷头设置有多个导气孔。

3.如权利要求1所述的真空蒸镀装置，其特征在于：该扩散板设置有多个开孔。

4.如权利要求3所述的真空蒸镀装置，其特征在于：该开孔分布为中间区域疏，两侧区域密。

5.如权利要求3所述的真空蒸镀装置，其特征在于：该开孔的形状是圆柱形、圆锥形、立方锥形或正棱柱形。

6.如权利要求1所述的真空蒸镀装置，其特征在于：该扩散板设置有至少一狭缝。

7.如权利要求6所述的真空蒸镀装置，其特征在于：该狭缝上设置有多个扰流间隙子。

8.如权利要求7所述的真空蒸镀装置，其特征在于：该扰流间隙子分布为中间密，两侧疏。

9.如权利要求7所述的真空蒸镀装置，其特征在于：该扰流间隙子用金属丝或卡榫固定在该狭缝处。

10.如权利要求7所述的真空蒸镀装置，其特征在于：该扰流间隙子可以沿狭缝移动。

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