CN2736368Y - 一种光学镀膜设备 - Google Patents

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翁维襄
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鸿富锦精密工业(深圳)有限公司
鸿海精密工业股份有限公司
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Abstract

本实用新型提供一种光学镀膜设备,其包括:一真空室,一与该真空室相连接的真空泵,一设置在该真空室内部上方的旋转夹具,和一设置在该真空室内部底端的电子束蒸发系统。该电子束蒸发系统包括:一设置在底端中心的容器,用于放置靶材,设置在该容器附近的一电子枪、一聚焦器、一偏转磁场和一可移动挡板,以及一收集桶设置于该容器附近;该挡板可移动于第一位置和第二位置,当其移动至第一位置时,设置在靶材的容器上方并遮盖该容器,当其移动至第二位置时,设置在收集桶上方,并可将粘附于该挡板表面的吸附物脱落于收集桶中。本实用新型设备在靶材预融过程中,不会出现因挡板吸附性差而脱落蒸发物于靶材上,进而引起污染。

Description

一种光学镀膜设备

【技术领域】本实用新型涉及一种真空镀膜设备,尤其涉及一种光学镀膜设备。

【背景技术】真空镀膜技术是一种新颖的材料合成与加工的新技术,是表面工程技术领域的重要组成部分。真空镀膜技术是利用物理、化学手段将固体表面涂覆一层特殊性能的镀膜,从而使固体表面具有耐磨损、耐高温、耐腐蚀、抗氧化、防辐射、导电、导磁、绝缘和装饰等许多优于固体材料本身的优越性能,从而达到提高产品质量、延长产品寿命、节约能源和获得显著技术经济效益的作用。真空镀膜技术已在国民经济各个领域得到应用,如航空、航天、电子、信息、机械、石油、化工、环保、军事等领域。因此,真空镀膜技术被誉为最具有发展前途的重要技术之一。

随着技术的发展,真空镀膜设备主要包括:光学镀膜设备、磁控溅射镀膜设备和离子镀膜设备。光学镀膜设备主要应用于镀制各种光学薄膜,如单层或多层增透膜、滤光膜、分光膜、冷光膜等。

请参阅图1,1998年公开的第97111505.2号中国专利申请揭露一种光学真空镀膜设备1,其包括:一真空室10,一与该真空室10相连接的真空泵30,一设置在该真空室内部上方的旋转夹具16,一设置于该真空室内部底端的电子束蒸发系统。该电子束蒸发系统包括:一支撑柱15,一固定在该支撑柱15上端的可移动档板14,在该档板14下方设置一电子枪11、一聚焦器(图未示)、一偏转磁场(图未示)和一放置靶材13的容器12,该电子枪11发射的电子在聚焦器(图未示)中聚合成射线经过偏转磁场(图未示)射入靶材13,靶材13受激发产生蒸发粒子。

当靶材13在进行预融的过程中,档板14位于靶材容器13上方即A位置,靶材13受电子束激发后产生的蒸发物将粘附于档板14下表面。完成预融过程后,挡板14在A位置被从外部伸入真空室10内的控制构件(图未示)移动至离靶材13较远的B位置,进行后续的蒸镀。但是,当需蒸镀不同靶材时,档板14在不同预融过程中需来往于A和B位置,由于预融过程中粘附于档板14的靶材13蒸发物吸附性能差,容易掉落在靶材上,以致造成靶材污染。

有鉴于此,提供一种避免靶材在预融过程中,因档板吸附性差而脱落蒸发物于相同或不同靶材上而引起靶材污染的光学镀膜设备实为必要。

【实用新型内容】本实用新型的目的在于提供一种避免靶材于预融过程中,因档板吸附性差而脱落蒸发物于相同或不同靶材上,进而引起靶材污染的光学镀膜设备。

为实现本实用新型目的,本发明提供一种光学镀膜设备,其包括:一真空室,一与该真空室相连接的真空泵,一设置在该真空室内部上方的旋转夹具,和一设置在该真空室内部底端的电子束蒸发系统。该电子束蒸发系统包括:一设置在底端中心的容器,用于放置靶材,以及设置在该容器附近的一电子枪、一聚焦器、一偏转磁场和一可移动档板,以及一收集桶设置于该容器附近;该档板可移动于第一位置和第二位置之间,当其移动至第一位置时,置于靶材的容器上方并遮盖该容器,当其移动至第二位置时,置于收集桶上方,并可将粘附于该档板表面的吸附物脱落于收集桶中。

与现有技术相比较,本实用新型的光学镀膜设备由于在真空室内增加一收集桶,可于每次预融前将粘附于档板的靶材蒸发材料收集,减少蒸发材料落入靶材而引起靶材污染。

【附图说明】图1是第97111505.2号中国专利申请的光学镀膜设备示意图。

图2是本实用新型的光学镀膜设备立体示意图。

【具体实施方式】下面将结合附图对本实用新型作进一步的详细说明。

请参阅图2,本实用新型的光学镀膜设备2,其包括:一真空室20,一与该真空室相连接的真空泵40,一设置于该真空室20内部上方的旋转夹具26,一设置于该真空室内部底端的电子束蒸发系统。

该旋转夹具26包括多个围绕一块圆形支撑板设置的径向回转架262,其分别支撑于一根可旋转180°的转轴261上,其中,每个回转架262包括一夹紧装置(图未示)用于固定镀膜基片(图未示),该镀膜基片(图未示)可为双面镀膜基片或两单面镀膜基片。在镀膜过程中,该旋转夹具26可以保持高速旋转。

该电子束蒸发系统包括:一放置二氧化硅靶材23的坩埚22、一电子枪21、一聚焦器(图未示)、一偏转磁场(图未示)、一支撑柱25、一设置在该支撑柱25上端的可移动档板24和一收集桶28。其中,该放置靶材的容器22设置在真空室20内部底端中心,并外接机械转动装置(图未示),在镀膜过程中,其可以在该机械转动装置(图未示)作用下保持高速转动。

该电子枪21设置在该坩埚22附近。根据电子的发射路径,该聚焦器(图未示)、偏转磁场(图未示)设置在距离该电子枪21的适当位置,使该电子枪21发射的电子在聚焦器(图未示)中聚合成射线,再经过偏转磁场(图未示)射向二氧化硅靶材23。

该支撑柱25设置于真空室20内部底端并靠近该放置靶材的坩埚22,其高度大于该容器22的高度且不影响电子枪21发射电子射入二氧化硅靶材23进行预融。该支撑柱25上端的可移动档板24在A位置正好遮盖住放置有二氧化硅靶材23的坩埚22。

该收集桶28的端面面积大于或等于该档板24,其设置在远离该放置靶材的坩埚22的真空室20内部底端。当档板24被从外部伸入真空室20内的控制构件(图未示)移动至B位置时,该收集桶28处于该档板24正下方。在靠近该收集桶28的真空室侧壁上固定一用弹簧柱支撑的槌头29,当档板24处于B位置时,通过上述控制构件(图未示)使该槌头29敲击该档板24使吸附于档板24下表面的蒸发材料脱落并被收集桶28所收集。另外,也可以通过上述控制构件(图未示)直接敲击或刮擦该档板24使吸附于档板24下表面的蒸发材料脱落于收集桶28。在预融过程中,该收集桶28也会吸附二氧化硅蒸发粒子,为增加该收集桶28外表面的吸附能力,可以在该收集桶28外表面披覆金属网。

本实用新型的光学镀膜设备2的工作流程:(1)安装镀膜基片(图未示)于回转架262和安装二氧化硅靶材23于坩埚22;(2)使用真空泵40对真空室20进行抽真空;(3)使档板24处于A位置,进行预融程序:启动电子枪21、聚焦器、偏转磁场,电子枪21发射的电子于聚焦器中聚合成射线,经偏转磁场射入二氧化硅靶材23;(4)经适当时间完成预融后,使档板24移至B位置,再启动旋转夹具26使回转架262高速回转,二氧化硅蒸发粒子射入镀膜基片(图未示)进行镀膜。

(5)当需进一步镀制多层膜时,挡板24在B位置,敲击或刮擦该挡板24使吸附的蒸发材料脱落并被收集桶28收集,再重复上述步骤。

另外,本实用新型的光学镀膜设备还可进一步包括一膜厚控制仪,可用于控制每次镀膜的膜厚。

本实用新型的光学镀膜设备由于在真空室内增加一收集桶,可于每次预融前将吸附于档板的靶材蒸发材料收集,减少蒸发材料落入靶材而引起靶材污染。

Claims (10)

1.一种光学镀膜设备,其包括:一真空室,一与该真空室相连接的真空泵,一设置在该真空室内部上方的旋转夹具,和一设置在该真空室内部底端的电子束蒸发系统;该电子束蒸发系统包括:一设置在底端中心的容器,用于放置靶材,以及设置在该容器附近的一电子枪、一聚焦器、一偏转磁场和一可移动档板,其特征在于进一步包括一收集桶设置于该容器附近;该档板可移动于第一位置和第二位置之间,当其移动至第一位置时,置于靶材的容器上方并遮盖该容器,当其移动至第二位置时,置于收集桶上方,并可将粘附于该档板表面的吸附物脱落于收集桶中。
2.如权利要求1所述的光学镀膜设备,其特征在于旋转夹具包括多个回转架和支撑该多个回转架的多个转轴。
3.如权利要求1所述的光学镀膜设备,其特征在于容器外接机械转动装置,用于在镀膜过程中保持高速转动。
4.如权利要求1所述的光学镀膜设备,其特征在于容器为坩埚。
5.如权利要求1所述的光学镀膜设备,其特征在于靶材为二氧化硅。
6.如权利要求1所述的光学镀膜设备,其特征在于光学镀膜设备包括一支撑柱用于固定可移动档板。
7.如权利要求1所述的光学镀膜设备,其特征在于收集桶的端面面积大于或等于该档板面积。
8.如权利要求1所述的光学镀膜设备,其特征在于收集桶外表面披覆金属网。
9.如权利要求1所述的光学镀膜设备,其特征在于光学镀膜设备进一步包括一用弹簧柱支撑的槌头,其固定于靠近该收集桶的真空室侧壁,用于敲击该档板。
10.如权利要求1所述的光学镀膜设备,其特征在于光学镀膜设备进一步包括一膜厚控制仪。
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CN102234783A (zh) * 2010-04-28 2011-11-09 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 靶材基座及采用该靶材基座的镀膜装置
CN102808155A (zh) * 2012-08-01 2012-12-05 东莞宏威数码机械有限公司 电子轰击式蒸发源系统
WO2015143681A1 (zh) * 2014-03-26 2015-10-01 宋玉琪 真空炉体

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