CN223728613U - 一种电容器导箔条定位整形装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及电容器生产装置领域，具体公开了一种电容器导箔条定位整形装置，通过设有上压平装置和下支撑装置，当需要对导箔条进行整形的时候，将导箔条放在下支撑装置上，然后利用上压平装置和下支撑装置同时相对滑动，从而即可将导箔条进行压平整形处理，且通过设有定位片，将两根导箔条放于定位片的两侧，能够对导箔条之间的间距进行定位整形，从而进一步对导箔条进行整形处理，通过上压平装置和下支撑装置以及定位片能够自动对导箔条进行定位整形处理，从而大大节省工作时间、进一步的提高生产效率。

Description

一种电容器导箔条定位整形装置

技术领域

本实用新型涉及电容器生产装置领域，特别涉及了一种电容器导箔条定位整形装置。

背景技术

两个相互靠近的导体，中间夹一层不导电的绝缘介质，这就构成了电容器，当电容器的两个极板之间加上电压时，电容器就会储存电荷，电容器的结构一般包括电芯、套管、华司、导箔条、盖板等，其中导箔条与电芯连接，在电容器生产过程中，由于导箔条的形状会出现折弯，但是为了保证产品的合格性，导箔条必须要求完全平整，不能出现折弯、折皱现象，所以此时就需要对导箔条进行定位整形，目前传统的生产方式中对于导箔条整形都是人工手动利用工具对导箔条进行压平整形，这种人工手动的方式在生产过程中既费时又费力，严重影响生产效率，且导箔条整形质量效果也得不到保障。

本申请所要解决的技术问题为：设计一款能够自动对导箔条进行定位整形的电容器导箔条定位整形装置。

实用新型内容

为了克服现有技术的不足，本实用新型的目的在于提供一款能够自动对导箔条进行定位整形的电容器导箔条定位整形装置。

本实用新型所采用的技术方案为：一种电容器导箔条定位整形装置，包括用于将导箔条进行压平整形的上压平装置和下支撑装置，下支撑装置包括用于对两根导箔条之间间距进行调整控制的定位片，定位片之间相对滑动设置。

在一些实施方式中，包括支撑板，支撑板上设有竖向滑轨，上压平装置包括与竖向滑轨滑动配合的第一气动缸。

在一些实施方式中，上压平装置还包括与第一气动缸连接的第一连接块，第一连接块的下端设有压块。

在一些实施方式中，压块分别包括左压平块和右压平块，左压平块和右压平块相对设置，左压平块和右压平块之间形成限位槽，定位片位于限位槽内。

在一些实施方式中，，下支撑装置包括与竖向滑轨滑动配合的第二气动缸，第二气动缸设有与之固定安装的支撑座，支撑座上设有滑槽。

在一些实施方式中，定位片设有两个，每个定位片设有与之固定连接的滑动座，滑动座与滑槽之间限位滑动配合。

在一些实施方式中，第二气动缸还设有与之固定连接的横向气动缸，横向气动缸上分别设有与之传动配合的滑座，滑座设有两个且在横向气动缸上相对设置。

在一些实施方式中，滑座上设有连接板，连接板上设有推块。

在一些实施方式中，滑动座下方设有挡板，连接板上还设有推杆，推杆的一端与挡板相抵用于控制定位片之间的间距。

本实用新型具有如下技术效果：通过设有上压平装置和下支撑装置，当需要对导箔条进行整形的时候，将导箔条放在下支撑装置上，然后利用上压平装置和下支撑装置同时相对滑动，从而即可将导箔条进行压平整形处理，且通过设有定位片，将两根导箔条放于定位片的两侧，能够对导箔条之间的间距进行定位整形，从而进一步对导箔条进行整形处理，通过上压平装置和下支撑装置以及定位片能够自动对导箔条进行定位整形处理，从而大大节省工作时间、进一步的提高生产效率。

附图说明

图1为本实用新型电容器导箔条定位整形装置的结构示意图；

图2为本实用新型电容器导箔条定位整形装置的结构示意图；

图3为本实用新型电容器导箔条定位整形装置的上压平装置结构示意图；

图4为本实用新型电容器导箔条定位整形装置的下支撑装置结构示意图；

图5为本实用新型电容器导箔条定位整形装置的下支撑装置结构示意图；

图6为本实用新型电容器导箔条定位整形装置的支撑座结构示意图；

图7为本实用新型电容器导箔条定位整形装置的推杆与挡板配合示意图。

图中的标号与名称对应如下：1、上压平装置；2、下支撑装置；20、定位片；3、支撑板；30、竖向滑轨；10、第一气动缸；11、第一连接块；12、压块；120、左压平块；121、右压平块；122、限位槽；21、第二气动缸；22、支撑座；23、滑槽；24、滑动座；25、横向气动缸；26、滑座；27、连接板；28、推块；29、挡板；290、推杆；4、第一U型槽；5、第二U型槽。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1-7，本实用新型提供一种技术方案：一种电容器导箔条定位整形装置，包括支撑板3，在支撑板3上设有竖向滑轨30，竖向滑轨30上分别设有用于将导箔条进行压平整形的上压平装置1和下支撑装置2，上压平装置1和下支撑装置2均可在竖向滑轨30上进行滑动，当需要对导箔条进行压平整形时，先将导箔条放在下支撑装置2上，然后上压平装置1和下支撑装置2同时在竖向滑轨30上相对滑动从而对导箔条进行压平整形，此过程无需人工手动辅助参与，能够大大提高工作生产效率。

其中上压平装置1包括与竖向滑轨30滑动配合的第一气动缸10，在第一气动缸10上设有与之连接的第一连接块11，第一连接块11的下端设有压块12，其中压块12分别包括左压平块120和右压平块121，左压平块120和右压平块121之间相对设置，从而用于对两根导箔条进行压平整形，下支撑装置2包括用于对两根导箔条之间间距进行调整控制的定位片20，其中两个定位片20之间相对滑动设置，而左压平块120和右压平块121之间形成限位槽122，当对上压平装置1和下支撑装置2两者之间相对滑动对导箔条进行压平时，此时两个定位片20位于限位槽122内，从而限制两个定位片20之间的最大滑动间距，进入控制两根导箔条之间的间距，其中下支撑装置2包括与竖向滑轨30滑动配合的第二气动缸21，第二气动缸21设有与之固定安装的支撑座22，在支撑座22上设有滑槽23，每个定位片20都设有与之固定连接的滑动座24，其中滑动座24与滑槽23之间限位滑动配合，在第二气动缸21上还设有与之固定连接的横向气动缸25，其中横向气动缸25上分别设有与之传动配合的滑座26，滑座26设有两个并且在横向气动缸25上相对设置，在滑座26上还设有连接板27，连接板27上还设有推块28，当需要对导箔条进行压平整形时，首先将两根导箔条分别放在滑动座24上，即放在两个定位片20的外侧，然后此时第一气动缸10和第二气动缸21分别驱动上压平装置1和下支撑装置2在竖向滑轨30上相对滑动，所以会造成压块12与滑动座24之间抵触挤压，从而对位于滑动座24上的导箔条进行压平整形，然后此时横向气动缸25分别驱动两个滑座26进行相对滑动，即带动连接板27上的推板往定位片20的方向移动，由于此时推板的底面与滑动座24的表面滑动接触，所以如果此时两根导箔条之间间距太大或没保持平行时，当推板沿滑动座24的表面滑动时，会将导箔条往定位片20的方向推动，从而使两根导箔条的内侧与定位片20的外侧相贴，进而使两根导箔条之间保持平行，从而保证产品的质量，为了使推块28能够将导箔条推至与定位片20的侧边相贴，将推块28上开设有第一U型槽4，且在压块12上也设有与第一U型槽4相互错位的第二U型槽5，即使得推块28的前端和压块12的侧端形成U形结构，这样推块28在沿滑动座24的表面滑动时推块28与压块12之间能够通过第一U型槽4和第二U型槽5形成相互错位，从而使推块28的推动距离更大，进而也确保能够将导箔条推动至定位片20侧边从而使两根导箔条之间平行。

为了控制两个定位片20之间的间距保持不变，从而确保导箔条之间的间距统一，在滑动座24的下方设有挡板29，在连接板27上还设有推杆290，因为滑座26和滑动座24均设有两个，所以位于与滑动座24相对方向上的滑座26上的推杆290的一端与挡板29相抵，这样当滑座26在滑动时，能够带动推杆290对远离滑座26这一侧的挡板29施加一个相同方向的力，即当两个滑座26同时相对滑动时，此时两个滑动座24之间受到相背的推动力，而又由于两个定位片20位于限位槽122中间，此时定位片20的外侧会紧贴限位槽122的内壁，从而保持两个定位片20之间的间距，所以当推块28推动导箔条的时候能够确保导箔条之间的间距统一。

本实用新型的工作原理：通过设有上压平装置1和下支撑装置2，当需要对导箔条进行整形的时候，将导箔条放在下支撑装置2上，然后利用上压平装置1和下支撑装置2同时相对滑动，从而即可将导箔条进行压平整形处理，且通过设有定位片20，将两根导箔条放于定位片20的两侧，能够对导箔条之间的间距进行定位整形，从而进一步对导箔条进行整形处理，通过上压平装置1和下支撑装置2以及定位片20能够自动对导箔条进行定位整形处理，从而大大节省工作时间、进一步的提高生产效率。

最后应说明的是，以上所述仅为本实用新型的优选实例而已，并不用于限制本实用新型，尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换。凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (7)

1.一种电容器导箔条定位整形装置，其特征在于，包括用于将导箔条进行压平整形的上压平装置和下支撑装置，所述下支撑装置包括用于对两根导箔条之间间距进行调整控制的定位片，所述定位片之间相对滑动设置。

2.根据权利要求1所述的电容器导箔条定位整形装置，其特征在于，包括支撑板，所述支撑板上设有竖向滑轨，所述上压平装置包括与竖向滑轨滑动配合的第一气动缸。

3.根据权利要求2所述的电容器导箔条定位整形装置，其特征在于，所述上压平装置还包括与第一气动缸连接的第一连接块，所述第一连接块的下端设有压块。

4.根据权利要求3所述的电容器导箔条定位整形装置，其特征在于，所述压块分别包括左压平块和右压平块，所述左压平块和右压平块相对设置，所述左压平块和右压平块之间形成限位槽，所述定位片位于限位槽内。

5.根据权利要求2所述的电容器导箔条定位整形装置，其特征在于，所述下支撑装置包括与竖向滑轨滑动配合的第二气动缸，所述第二气动缸设有与之固定安装的支撑座，所述支撑座上设有滑槽，所述第二气动缸还设有与之固定连接的横向气动缸，所述横向气动缸上分别设有与之传动配合的滑座，所述滑座设有两个且在横向气动缸上相对设置。

6.根据权利要求5所述的电容器导箔条定位整形装置，其特征在于，所述定位片设有两个，每个所述定位片设有与之固定连接的滑动座，所述滑动座与滑槽之间限位滑动配合。

7.根据权利要求6所述的电容器导箔条定位整形装置，其特征在于，所述滑座上设有连接板，所述连接板上设有推块，所述滑动座下方设有挡板，所述连接板上还设有推杆，所述推杆的一端与挡板相抵用于控制定位片之间的间距。