CN221846981U - 一种乳化锅真空液面控制系统 - Google Patents

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陈碧华
赵承佑
王祥斌
张金年
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Abstract

本实用新型公开了一种乳化锅真空液面控制系统,本实用新型涉及液位控制装置技术领域,该乳化锅真空液面控制系统,通过设置液位光电感应器、电子控制阀和液位传感器,通过网络终端可以组合成一个完整的真空液面控制系统,当乳化真空时,料体液位高度控制真空压力,设定好液位高度上限后,系统自动控制其真空压力,随料体液位释放真空压力,从而精准地测量和控制液位,避免在生产过程中产生不安全因素。

Description

一种乳化锅真空液面控制系统
技术领域
本实用新型涉及液位控制装置技术领域,具体为一种乳化锅真空液面控制系统。
背景技术
目前,乳化锅通常用于化妆品、制药、催化剂等产品制造,化妆品在生产过程中需要进行乳化,乳化是将油性成分和水性成分均匀混合,并形成一个稳定的乳状混合物,能够改善化妆品的品质,使其更容易涂抹和吸收,乳化过程中,随着真空泵持续工作,料体的液位随真空压力增高,生产过程中会产生不安全因素。
例如专利号为CN201811142893.8的发明,公开了一种乳化设备的液位控制器,设置在乳化锅内,所述乳化锅上方设置有真空管道,所述真空管道与外部抽真空系统连接,所述液位控制器包括设置在乳化锅上方的液位传感器,所述液位传感器与设置在乳化锅外部的PLC控制器连接,所述PLC控制器与外部抽真空系统连接,所述液位传感器用于感应液位位置,并向PLC控制器反馈信号,所述PLC控制器接收液位传感器反馈信号,并控制外部抽真空系统的启闭;所述液位控制器还包括设置在乳化锅上方的自清洗元件,所述自清洗元件用于对液位传感器进行间歇式冲洗。与现有技术相比,本发明自动控制液面高度,提高乳化锅的操作稳定性;
该专利无法精准地测量和控制液位,料体的液位随真空压力增高,生产过程中还是会产生不安全因素。
实用新型内容
针对现有技术的不足,本实用新型提供了一种乳化锅真空液面控制系统,解决了生产过程中会产生不安全因素的问题。
为实现以上目的,本实用新型通过以下技术方案予以实现:一种乳化锅真空液面控制系统,包括乳化锅本体,所述乳化锅本体上安装有内部搅拌组件,所述内部搅拌组件侧面设置有液位光电感应器,所述乳化锅本体上安装有真空管,所述真空管中段设置有电子控制阀,所述真空管端部设置有真空泵,所述乳化锅本体内部安装有内部冲洗组件,所述内部搅拌组件下端设置有液位传感器,所述乳化锅本体外部设置有保温套,所述乳化锅本体下端设置有出料管,所述乳化锅本体外部固定连接有安装板,所述安装板上可拆卸式安装有固定螺栓。
优选的,所述内部搅拌组件包括驱动电机,所述驱动电机的输出轴设置有联轴器,所述联轴器下端固定安装有搅拌轴。
进一步的,所述搅拌轴外部固定安装有转盘,所述转盘外部固定安装有刮边板。
进一步的,所述刮边板内侧固定连接有搅拌杆,所述搅拌杆均匀分布在刮边板上。
优选的,所述内部冲洗组件包括喷头,所述喷头上表面固定连接有进水管,所述进水管向上延伸至乳化锅本体外部。
进一步的,所述喷头上下两侧设置有均匀分布的第一喷嘴,所述喷头内侧设置有第二喷嘴。
有益效果
本实用新型提供了乳化锅真空液面控制系统。与现有技术相比具备以下
有益效果:
该乳化锅真空液面控制系统,通过设置液位光电感应器、电子控制阀和液位传感器,通过网络终端可以组合成一个完整的真空液面控制系统,当乳化真空时,料体液位高度控制真空压力,设定好液位高度上限后,系统自动控制其真空压力,随料体液位释放真空压力,从而精准地测量和控制液位,避免在生产过程中产生不安全因素。
附图说明
图1为本实用新型结构示意图;
图2为本实用新型中内部搅拌组件的结构示意图;
图3为本实用新型中内部冲洗组件的结构示意图;
图4为本实用新型的整体结构示意图。
图中:1、乳化锅本体;2、内部搅拌组件;201、驱动电机;202、联轴器;203、搅拌轴;204、转盘;205、刮边板;206、搅拌杆;3、真空管;4、电子控制阀;5、真空泵;6、液位光电感应器;7、内部冲洗组件;701、喷头;702、第一喷嘴;703、第二喷嘴;704、进水管;8、安装板;9、固定螺栓;10、保温套;11、出料管;12、液位传感器。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
请参阅图1-4,本实用新型提供一种技术方案:一种乳化锅真空液面控制系统,包括乳化锅本体1,乳化锅本体1上安装有内部搅拌组件2,内部搅拌组件2侧面设置有液位光电感应器6,乳化锅本体1上安装有真空管3,真空管3中段设置有电子控制阀4,真空管3端部设置有真空泵5,乳化锅本体1内部安装有内部冲洗组件7,内部搅拌组件2下端设置有液位传感器12,乳化锅本体1外部设置有保温套10,乳化锅本体1下端设置有出料管11,乳化锅本体1外部固定连接有安装板8,安装板8上可拆卸式安装有固定螺栓9,液位光电感应器6、电子控制阀4和液位传感器12通过网络终端可以组合成一个完整的真空液面控制系统,当乳化真空时,料体液位高度控制真空压力,设定好液位高度上限后,系统自动控制其真空压力,随料体液位释放真空压力,从而精准地测量和控制液位。
内部搅拌组件2包括驱动电机201,驱动电机201的输出轴设置有联轴器202,联轴器202下端固定安装有搅拌轴203,搅拌轴203外部固定安装有转盘204,转盘204外部固定安装有刮边板205,刮边板205内侧固定连接有搅拌杆206,搅拌杆206均匀分布在刮边板205上,驱动电机201转动带动联轴器202转动,从而带动搅拌轴203转动,搅拌轴203在转动过程中带动转盘204、刮边板205和搅拌杆206转动,可以用来混合物料,内部冲洗组件7包括喷头701,喷头701上表面固定连接有进水管704,进水管704向上延伸至乳化锅本体1外部,喷头701上下两侧设置有均匀分布的第一喷嘴702,喷头701内侧设置有第二喷嘴703,外部清水通过进水管704注入乳化锅本体1中,可以冲洗乳化锅本体1的内壁,清理起来十分方便。
工作时,先将液位光电感应器6和电子控制阀4固定在乳化锅本体1上,将其与终端网络相连,可以组合成一个完整的真空液面控制系统,当乳化真空时,料体液位高度控制真空压力,设定好液位高度上限后,系统自动控制其真空压力,随料体液位释放真空压力,可以改变乳化锅本体1内部的压强,从而精准地测量和控制液位,避免在生产过程中产生不安全因素。
同时本说明书中未作详细描述的内容均属于本领域技术人员公知的现有技术。

Claims (6)

1.一种乳化锅真空液面控制系统,包括乳化锅本体(1),其特征在于:所述乳化锅本体(1)上安装有内部搅拌组件(2),所述内部搅拌组件(2)侧面设置有液位光电感应器(6),所述乳化锅本体(1)上安装有真空管(3),所述真空管(3)中段设置有电子控制阀(4),所述真空管(3)端部设置有真空泵(5),所述乳化锅本体(1)内部安装有内部冲洗组件(7),所述内部搅拌组件(2)下端设置有液位传感器(12),所述乳化锅本体(1)外部设置有保温套(10),所述乳化锅本体(1)下端设置有出料管(11),所述乳化锅本体(1)外部固定连接有安装板(8),所述安装板(8)上可拆卸式安装有固定螺栓(9),所述液位光电感应器(6)、真空泵(5)和液位传感器(12)通过终端网络连接。
2.根据权利要求1所述的一种乳化锅真空液面控制系统,其特征在于:所述内部搅拌组件(2)包括驱动电机(201),所述驱动电机(201)的输出轴设置有联轴器(202),所述联轴器(202)下端固定安装有搅拌轴(203)。
3.根据权利要求2所述的一种乳化锅真空液面控制系统,其特征在于:所述搅拌轴(203)外部固定安装有转盘(204),所述转盘(204)外部固定安装有刮边板(205)。
4.根据权利要求3所述的一种乳化锅真空液面控制系统,其特征在于:所述刮边板(205)内侧固定连接有搅拌杆(206),所述搅拌杆(206)均匀分布在刮边板(205)上。
5.根据权利要求1所述的一种乳化锅真空液面控制系统,其特征在于:所述内部冲洗组件(7)包括喷头(701),所述喷头(701)上表面固定连接有进水管(704),所述进水管(704)向上延伸至乳化锅本体(1)外部。
6.根据权利要求5所述的一种乳化锅真空液面控制系统,其特征在于:所述喷头(701)上下两侧设置有均匀分布的第一喷嘴(702),所述喷头(701)内侧设置有第二喷嘴(703)。
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