CN221676637U - 一种轮换式平面磨床 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种轮换式平面磨床，包括水平设置的机台及罩设与机台上的机罩，机台上设有内凹的导液槽，导液槽的一侧开口，该开口处连接有导液板；机罩的前侧开设有上下料口；还包括取料机构、校正机构、平台机构及打磨机构，取料机构设置在上下料口处；校正机构机台上；平台机构设置在校正机构的后侧，平台机构包括两组间隔设置的平台组件，两组平台组件分别承载固定待打磨的物料；打磨机构架设在平台机构的上方，用于打磨平台机构上固定的物料表面。本实用新型实现物料自动上下料以及放料前位置校正定位，有效提升上下料效率及放料精准性，采用双平台多片吸附承载方式，实现双平台轮换打磨，且单次同步完成多片物料打磨，有效提高打磨效率。

Description

一种轮换式平面磨床

技术领域

本实用新型涉及屏幕制造设备领域，特别指一种轮换式平面磨床。

背景技术

在3C领域，手机、平板电脑等智能终端设备组装过程中，其零配件需要进行表面处理，以便保证表面质量。在手机的零配件中，屏幕是一项核心配件。在屏幕制成工艺中，涉及到屏幕表面处理，其中，屏幕打磨用于在玻璃表面通过摩擦方式达到所需平面度和洁净度的玻璃。

传统的屏幕打磨设备一般采用单机打磨方式，打磨过程中通过手工取放玻璃，玻璃取放效率低下，且无法保证玻璃位置精准度；另外，每次仅能完成单片玻璃打磨，打磨效率低下。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题是针对上述现有技术的不足，提供一种实现物料自动上下料以及放料前位置校正定位，有效提升上下料效率及放料精准性，采用双平台多片吸附承载方式，实现双平台轮换打磨，且单次同步完成多片物料打磨，有效提高打磨效率的轮换式平面磨床。

本实用新型采用的技术方案如下：一种轮换式平面磨床，包括水平设置的机台及罩设与机台上的机罩，机罩与机台之间形成打磨空间，所述机台上设有内凹的导液槽，导液槽的一侧开口，该开口处连接有导液板，用于导出打磨液；所述机罩的前侧开设有上下料口，用于物料上下料；还包括取料机构、校正机构、平台机构及打磨机构，其中，所述取料机构设置在上下料口处，用于取放待打磨的物料；所述校正机构机台上，并靠近上下料口的前侧，用于承载并校正物料；所述平台机构设置在校正机构的后侧，平台机构包括两组间隔设置的平台组件，两组平台组件分别承载固定待打磨的物料，且沿左右方向移动，用于切换打磨物料；所述打磨机构架设在平台机构的上方，用于打磨平台机构上固定的物料表面。

优选的，所述取料机构包括第一取料模组、第二取料模组及取料组件，其中，所述第一取料模组通过设置于机台上的U型支架支撑；所述第二取料模组沿垂直于第一取料模组方向连接在第一取料模组的输出端上；所述取料组件连接于第二取料模组的输出端上；所述第一取料模组及第二取料模组驱动取料组件在水平面内沿相互垂直的方向直线运动。

优选的，所述取料组件包括旋转部件、旋转轴、旋转支板、升降气缸、升降座、取料气缸、取料支板及吸嘴；所述旋转部件包括旋转支座、旋转电机、主动轮、被动轮、感应器及感应片；所述旋转支座水平连接在第二取料模组的输出端上，并与第二取料模组之间形成间隙空间；所述旋转电机设置在旋转支座的底部，且输出轴穿过旋转支座伸入所述间隙空间内；所述主动轮位于间隙空间内，并套设在旋转电机的输出轴上；所述旋转轴竖直设置在旋转支座的下部，且与旋转支座可转动的连接；所述被动轮位于间隙空间内，并套设在旋转轴，被动轮与主动轮之间通过传动带连接。

优选的，所述旋转支板水平连接在旋转轴的下端；所述升降气缸竖直设置在旋转支板的一侧，且沿竖直方向输出动力；所述升降座连接于升降气缸的输出端上；所述取料气缸包括至少两个，至少两个取料气缸分别竖直设置在升降座上，且输出端朝下设置；所述取料支板包括至少两块，至少两块取料支板分别水平连接接在至少两个取料气缸的输出端上；所述吸嘴包括至少两个，至少两个吸嘴间隔设置在取料支板底部，通过真空负压吸附物料。

优选的，所述校正机构包括校正支座及校正组件，其中，所述校正支座竖直设置在机台上；所述校正组件水平设置在校正支座上，校正组件包括校正支架、物料支台、第一校正气缸、第一校正块、第二校正气缸、第二校正块及校正滚轮；所述校正支架设置在校正支座上，校正支架包括上下间隔设置的两层支撑板；所述物料支台水平设置在校正支架的上层支撑板上；所述第一校正气缸及第二校正气缸分别包括两个，两个第一校正气缸分别对称设置在校正支架的两侧部，两个第二校正气缸分别对称设置在校正支架的另外两侧部；所述第一校正块连接于第一校正气缸的输出端上，并延伸至物料支台的上方；所述第二校正块连接于第二校正气缸的输出端上，并延伸至物料支台上方；所述校正滚轮包括至少两个，至少两个校正滚轮分别可转动的设置在所述第一校正块及第二校正块上，第一校正块及第二校正块朝物料支台方向运动时，通过校正滚轮从侧部校正定位物料支台上放置的物料。

优选的，所述平台机构包括平台支座、防水横移组件及平台组件，其中，所述平台支座水平设置在机台上，平台支座内设有顶部开口的安装空间；所述防水横移组件设置在平台支座上，并沿直线方向运动，并维持平台支座安装空间的顶部开口闭合；所述平台组件包括两组，两组平台组件间隔设置在防水横移组件上，并随防水横移组件移动。

优选的，所述打磨机构包括横梁、旋转组件、升降组件、主轴、砂轮及阻挡组件，其中，所述横梁为U型结构，倒架于机台上；所述旋转组件设置在横梁的后侧；所述主轴竖直设置在横梁的前侧，并与旋转组件连接，经旋转组件驱动而旋转运动；所述升降组件设置在横梁的前侧壁上，并与主轴连接，且沿竖直方向输出动力；所述砂轮水平连接在主轴下端，并随主轴运动；所述阻挡组件包括两组，两组阻挡组件分别设置在砂轮的左右两侧，用于打磨时阻挡保护。

优选的，还包括修整盘机构，所述修整盘机构设置在平台机构的后侧；修整盘机构包括修整底座、修整支座、修整柔性套、驱动箱及油石盘，其中，所述修整底座水平设置在机台上，修整底座内设有安装空间；所述修整支座水平设置在修整底座上，并与修整底座活动连接；所述修整柔性套包括两个，两个修整柔性套分别设置在修整支座的两端，且修整柔性套的一端与修整底座连接，另一端与修整支座连接。

优选的，所述修整底座的安装空间内设有移动电机、移动丝杆及移动丝杆座；其中，所述移动电机水平设置；所述移动丝杆连接在移动电机的输出端上；所述移动丝杆座套设在移动丝杆上，并与移动丝杆螺纹连接，且移动丝杆座的顶部与修整支座固定连接，以带动修整支座来回直线运动；所述驱动箱设置在修整支座上，且输出端朝上设置；所述油石盘水平设置在驱动箱上方，并与驱动箱的输出端连接，以便在水平面内旋转运动。

优选的，还包括第二感应器及冲洗组件，所述第二感应器及冲洗组件通过支座及支杆设置在取料机构的U型支架的内侧壁上，且竖直方向的安装高度以及安装角度可调节；所述第二感应器用于感应移动至平台机构处的取料机构，以便平台机构将待取放料的吸附位旋转至取料机构下方；所述冲洗组件包括风刀及冲洗头；所述风刀用于吹出高压风墙辅助及清洁；所述冲洗头用于喷出磨液辅助打磨及清洁。

本实用新型的有益效果在于：

本实用新型针对现有技术存在的缺陷和不足自主研发设计了一种实现物料自动上下料以及放料前位置校正定位，有效提升上下料效率及放料精准性，采用双平台多片吸附承载方式，实现双平台轮换打磨，且单次同步完成多片物料打磨，有效提高打磨效率的轮换式平面磨床。

本实用新型旨在设计一种实现玻璃打磨整体工艺全自动，并成倍提升打磨产能，保证打磨质量一致性的轮换式平面磨床。具体的，本实用新型以机台作为承载结构，机台的台面上设有向下内凹的导液槽，导液槽在机台的一侧处开口，并连接有导液板，打磨过程中的磨液从打磨位置向下直接流入导液槽内，并经导液槽的开口处向外导出至导液板内经导液板导出，以便收集存储或经过过滤系统后循环使用，提高磨液使用率，减少打磨成本。机台上部罩设有机罩，机罩与机台之间形成安装空间，用于安装打磨相关机构，机罩的前侧壁上开设有上下料口，用于在打磨过程中取放物料。

在机罩内靠近上下料口出架设有取料机构，取料机构在机罩安装空间以及机罩外部之间自由活动，以便将外部玻璃料盒以及校正机构或平台机构之间来回取放玻璃，具体的，本实用新型的取料机构在水平面内通过第一取料模组和第二取料模组提供纵向方向及横向方向的运动自由度，通过设置于第二取料模组下部的旋转部件提供在水平面内旋转的运动自由度，通过竖直连接在旋转部件输出端下部的旋转轴带动水平连接于其下端的旋转支板水平旋转；通过旋转支板的一端竖直设置的升降气缸提供沿竖直方向的运动自由度，通过取料气缸驱动多个吸嘴升降运动实现取放料。本实用新型的取料组件具备多个方向的运动自由度，可灵活的在机罩内外完成自动取放玻璃的动作，提升玻璃取放效率。取料机构从外部吸取玻璃后先将其放置在校正机构上，玻璃经校正机构的物料支台水平承载支撑后，物料支台四侧的第一校正气缸和第二校正气缸分别驱动连接于其输出端上的第一校正块和第二校正块从四个方向向内靠近玻璃，并通过可转动设置于其上的校正滚轮贴近玻璃的侧边，从而实现对玻璃的校正定位，以保证取料机构准确的将玻璃放置在平台机构相应的吸附位上，使得每次打磨时玻璃的位置相对稳定，避免了因打磨相对位置不同导致的表面打磨程度不一的问题。玻璃校正完成后取料机构将校正后的玻璃吸取并搬移至平台机构上。本实用新型的平台机构主要用于承载打磨的玻璃，其特别之处在于具备可来回直线运动的双平台组件，通过双平台组件在上下料口和打磨机构之间来回移动，从而同时完成上下料和打磨，即一个平台组件上的物料进行打磨时，另一个平台组件上进行玻璃的取放料，该种方式能够有效节省单平台因打磨而导致无法上下料或因上下料无法进行打磨，降低了设备待机时间，提高整机打磨效率。同时，本实用新型的平台组件上吸盘表面设置有多个真空吸孔，真空吸孔布设在吸盘上时，在吸盘表面沿着其圆周方向形成多个吸附位，通过多个吸附位产生的真空负压，使得吸盘能够同时承载并吸附固定多片玻璃，实现了单次打磨多片玻璃的效果，能有效提高打磨的产能效率。本实用新型的吸盘通过设置于其下方的平台转座承载固定，并通过平台转座接通外部的气路，同时平台转座经其下部的平台电机驱动而带动吸盘旋转运动，在打磨过程中可控制吸盘与砂轮之间的旋转角度相反，从而提高打磨质量。另外，本实用新型的平台机构还包括有防水横移组件，防水横移组件设置在平台机构的平台支座上方，并通过横移座及其两端的柔性套实现了对平台支座内部空间的闭合保护，避免在打磨过程中打磨液向下渗透进入平台支座的内部空间，从而影响其内电子配件的正常使用，且提供直线动力驱动横移座来回直线运动过程中，通过其两侧的柔性套张开或收缩，始终维持对平台支座内部空间的闭合状态。本实用新型以架设在平台机构上方的打磨机构作为对物料的表面打磨的执行机构，打磨机构以倒U型结构的大理石横梁作为承载结构，在横梁的后侧竖直设置有打磨电机作为打磨时驱动砂轮旋转的动力机构，打磨电机的动力经皮带和花键套传递至竖直设置在横梁前侧的主轴上，为保证主轴在竖直方向可升降运动以便在打磨时靠近下方平台机构上的物料，因此花键套与主轴之间通过花键连接，利用花键使得花键套与主轴之间径向限位，同时保持轴向自由活动；同时，主轴的下端外部套设固定有滑座，滑座与主轴之间通过轴承组连接，使得滑座与主轴之间保持轴向限位且径向活动连接，从而滑座使得滑座可带动主轴升降运动，同时不干涉主轴的旋转；设置在横梁前侧壁上的升降电机驱动升降丝杆旋转，通过升降丝杆座将旋转运动转换成升降运动，带动滑座升降运动；另外，为平衡主轴升降时重力影响行走精度，通过设置在主轴两侧的平衡气缸提供沿竖直方向上的平衡力给滑座，以保证滑座升降控制的精准度。另外，在主轴的两侧还分别设有阻挡组件，阻挡组件的挡板围绕在主轴下端连接的砂轮外围，并在竖直方向上升降运动，以便在砂轮打磨物料时从外侧阻挡向外溅射的物质，起到保护打磨机内部机构的作用。另外，本实用新型在平台机构的后侧还设有修整盘机构，通过预设程序可根据砂轮材质和工件硬度设置修整时间间隔，定期对砂轮进行修整以改变砂轮的锋利性以及砂轮平面度，新砂轮需进行第一次的修整位置人工对刀，后续修整位置会根据第一次位置相应的进行下点，不需人工干预。

附图说明

图1为本实用新型的立体结构示意图之一。

图2为本实用新型的立体结构示意图之二。

图3为本实用新型的立体结构示意图之三。

图4为本实用新型的立体结构示意图之四。

图5为本实用新型隐藏机罩后的立体结构示意图之一。

图6为本实用新型隐藏机罩后的立体结构示意图之二。

图7为本实用新型隐藏机罩后的立体结构示意图之三。

图8为本实用新型隐藏机罩后的立体结构示意图之四。

图9为本实用新型的部件结构示意图之一。

图10为本实用新型的部件结构示意图之二。

图11为本实用新型的部件结构示意图之三。

图12为本实用新型的部件结构示意图之四。

图13为本实用新型取料机构的立体结构示意图之一。

图14为本实用新型取料机构的立体结构示意图之二。

图15为本实用新型取料组件的立体结构示意图之一。

图16为本实用新型取料组件的立体结构示意图之二。

图17为本实用新型平台机构的立体结构示意图之一。

图18为本实用新型平台机构的立体结构示意图之二。

图19为本实用新型平台机构的部件拆分结构示意图。

图20为本实用新型平台组件的立体结构示意图之一。

图21为本实用新型平台组件的立体结构示意图之二。

图22为本实用新型校正机构的立体结构示意图。

图23为本实用新型校正组件的立体结构示意图。

图24为本实用新型打磨机构的立体结构示意图之一。

图25为本实用新型打磨机构的立体结构示意图之二。

图26为本实用新型打磨机构的立体结构示意图之三。

图27为本实用新型打磨机构隐藏部件后的立体结构示意图。

图28为本实用新型打磨机构的部件结构示意图。

图29为本实用新型阻挡组件的立体结构示意图之一。

图30为本实用新型阻挡组件的立体结构示意图之二。

图31为本实用新型修整盘机构的立体结构示意图之一。

图32为本实用新型修整盘机构的立体结构示意图之二。

图33为本实用新型修整盘机构的部件拆分结构示意图。

具体实施方式

下面将结合附图对本实用新型作进一步描述：

如图1至图12所示，本实用新型采取的技术方案如下：一种轮换式平面磨床，包括水平设置的机台1及罩设与机台1上的机罩2，机罩2与机台1之间形成打磨空间，所述机台1上设有内凹的导液槽B，导液槽B的一侧开口，该开口处连接有导液板3，用于导出打磨液；所述机罩2的前侧开设有上下料口A，用于物料上下料；还包括取料机构4、校正机构5、平台机构6及打磨机构7，其中，所述取料机构4设置在上下料口A处，用于取放待打磨的物料；所述校正机构5机台1上，并靠近上下料口A的前侧，用于承载并校正物料；所述平台机构6设置在校正机构5的后侧，平台机构6包括两组间隔设置的平台组件65，两组平台组件65分别承载固定待打磨的物料，且沿左右方向移动，用于切换打磨物料；所述打磨机构7架设在平台机构6的上方，用于打磨平台机构6上固定的物料表面。

如图13至图14所示，作为本实用新型的一个实施例，本实用新型的取料机构4包括第一取料模组41、第二取料模组42及取料组件，其中，所述第一取料模组41通过设置于机台1上的U型支架支撑；所述第二取料模组42沿垂直于第一取料模组41方向连接在第一取料模组41的输出端上；所述取料组件连接于第二取料模组42的输出端上；所述第一取料模组41及第二取料模组42驱动取料组件在水平面内沿相互垂直的方向直线运动。

如图15至图16所示，作为本实用新型的一个实施例，本实用新型的取料组件包括旋转部件43、旋转轴44、旋转支板45、升降气缸46、升降座47、取料气缸48、取料支板49及吸嘴410，其中，所述旋转部件包括旋转支座431、旋转电机432、主动轮433、被动轮434、感应器435及感应片436；所述旋转支座431水平连接在第二取料模组42的输出端上，并与第二取料模组42之间形成间隙空间；所述旋转电机432设置在旋转支座431的底部，且输出轴穿过旋转支座431伸入所述间隙空间内；所述主动轮433位于间隙空间内，并套设在旋转电机432的输出轴上；所述旋转轴44竖直设置在旋转支座431的下部，且与旋转支座431可转动的连接；所述被动轮434位于间隙空间内，并套设在旋转轴44，被动轮434与主动轮433之间通过传动带连接；所述旋转支板45水平连接在旋转轴44的下端；所述升降气缸46竖直设置在旋转支板45的一侧，且沿竖直方向输出动力；所述升降座47连接于升降气缸46的输出端上；所述取料气缸48包括至少两个，至少两个取料气缸48分别竖直设置在升降座47上，且输出端朝下设置；所述取料支板49包括至少两块，至少两块取料支板49分别水平连接接在至少两个取料气缸48的输出端上；所述吸嘴410包括至少两个，至少两个吸嘴410间隔设置在取料支板49底部，通过真空负压吸附物料。

如图22至图23所示，作为本实用新型的一个实施例，本实用新型的校正机构5包括校正支座51及校正组件，其中，所述校正支座51竖直设置在机台1上；所述校正组件水平设置在校正支座51上，校正组件包括校正支架52、物料支台53、第一校正气缸54、第一校正块55、第二校正气缸56、第二校正块57及校正滚轮58；所述校正支架52设置在校正支座51上，校正支架52包括上下间隔设置的两层支撑板；所述物料支台53水平设置在校正支架52的上层支撑板上；所述第一校正气缸54及第二校正气缸56分别包括两个，两个第一校正气缸54分别对称设置在校正支架52的两侧部，两个第二校正气缸56分别对称设置在校正支架52的另外两侧部；所述第一校正块55连接于第一校正气缸54的输出端上，并延伸至物料支台53的上方；所述第二校正块57连接于第二校正气缸56的输出端上，并延伸至物料支台53上方；所述校正滚轮58包括至少两个，至少两个校正滚轮58分别可转动的设置在所述第一校正块55及第二校正块57上，第一校正块55及第二校正块57朝物料支台53方向运动时，通过校正滚轮58从侧部校正定位物料支台53上放置的物料。

如图17至图19所示，作为本实用新型的一个实施例，本实用新型的平台机构6包括平台支座61、防水横移组件及平台组件65，其中，所述平台支座61水平设置在机台1上，平台支座61内设有顶部开口的安装空间；所述防水横移组件设置在平台支座61上，并沿直线方向运动，并维持平台支座61安装空间的顶部开口闭合；所述平台组件65包括两组，两组平台组件65间隔设置在防水横移组件上，并随防水横移组件移动。

防水横移组件包括横移滑轨62、横移座63、柔性罩64、横移电机66、横移丝杆67及横移丝杆座68，其中，所述横移滑轨62包括两条，两条横移滑轨62平行间隔的设置在平台支座61的两侧上部；所述横移座63可滑动的嵌设在两条横移滑轨62上；所述柔性罩64包括两个，两个柔性罩64分别连接在横移座63的两端，柔性罩64的一端与横移座63连接，另一端与平台支座61连接，两个柔性罩64及横移座63将平台支座61的顶部开口闭合，并在横移座63来回直线运动时，两端的柔性罩64张开或收缩，以维持对平台支座61顶部开口闭合的状态；所述横移电机66设置在平台支座61上；所述横移丝杆67连接与横移电机66的输出端上，经横移电机66驱动而旋转运动；所述横移丝杆座68套设在横移丝杆67上，且顶部与所述横移座63的底部固定连接，以带动横移座63直线运动。

如图20至图21所示，作为本实用新型的一个实施例，本实用新型的平台组件65包括设置于横移座63上的传动箱体以及可转动的设置于传动箱体上方的吸盘656，其中，所述传动箱体内部空间设有平台电机651，平台电机651向上输出动力，且输出端上连接有第一传动轮652；所述第一传动轮652的侧部竖直设有传动轴；所述传动轴上套设有第二传动轮653，第二传动轮653与所述第一传动轮652啮合连接；所述传动轴上设有平台转座654；所述吸盘656水平固定在平台转座654上，并随平台转座654旋转运动。

平台转座654内部设有至少两条气路，至少两条气路在平台转座654的外侧壁上形成气口，该气口处连接有接头655，用于导入或导出气体；所述吸盘656表面设有至少两个沉孔657，用于将吸盘656通过螺钉固定在平台转座654上；所述吸盘656内部设有与平台转座654的气路相互连通的气腔，该气腔与吸盘656表面开设的至少两个气孔658连通，用于产生真空负压吸附物料或吹气顶开物料。

如图24至图28所示，作为本实用新型的一个实施例，本实用新型的打磨机构7包括横梁71、旋转组件、升降组件、主轴75、砂轮711及阻挡组件713，其中，所述横梁71为U型结构，倒架于机台1上；所述旋转组件设置在横梁71的后侧；所述主轴75竖直设置在横梁71的前侧，并与旋转组件连接，经旋转组件驱动而旋转运动；所述升降组件设置在横梁71的前侧壁上，并与主轴75连接，且沿竖直方向输出动力；所述砂轮711水平连接在主轴75下端，并随主轴75运动；所述阻挡组件713包括两组，两组阻挡组件713分别设置在砂轮711的左右两侧，用于打磨时阻挡保护。

旋转组件包括打磨电机72、皮带73及花键套74，其中，所述打磨电机72竖直设置在横梁71的后侧壁上，且输出轴朝上设置；所述花键套74套设在主轴75上，通过固定在主轴75外部的花键与主轴75连接，花键套74与主轴75通过花键实现径向限位，轴向活动连接；所述花键套74通过皮带73与所述打磨电机72的输出轴连接。

升降组件包括升降电机76、升降丝杆77、升降丝杆座78及滑座79，其中，所述升降电机76竖直设置在横梁71的前侧壁上；所述升降丝杆77连接在升降电机76的输出端上；所述升降丝杆座78套设在升降丝杆77上，并与升降丝杆77螺纹连接；所述主轴77的下端部形成直径增大的安装部710；所述滑座79套设在安装部710上，并与安装部710通过轴承组连接，滑座79通过轴承组与安装部710轴向限位，径向活动连接；所述滑座79与所述升降丝杆座78固定连接，升降丝杆座78带动滑座79升降运动；所述滑座79的两侧分别设有平衡气缸712，平衡气缸712连接在横梁71上，且输出端朝下延伸连接在滑座79上，用于平衡滑座79下降动力；所述砂轮711水平固定在主轴75的下端，并随主轴75旋转运动或升降运动；所述主轴75的中部开设有沿轴向方向延伸的液孔，液孔导通至砂轮表面，用于在打磨过程中注液。

如图29至图30所示，作为本实用新型的一个实施例，本实用新型的阻挡组件713包括阻挡支板7131、阻挡气缸7132、导柱7133及挡板7134，其中，所述阻挡支板7131水平连接在横梁71的前侧壁上；所述阻挡气缸7132竖直设置在阻挡支板7131上，且输出端朝下延伸；所述导柱7133包括至少两根，至少两根导柱7133竖直设置在阻挡支板7131上，并穿过阻挡支板7131在竖直方向上自由活动；所述挡板7134设置在阻挡支板7131下方，并分别与阻挡气缸7132的输出端以及导柱7133的下端连接固定；所述挡板7131沿着砂轮711的外侧延伸，以阻挡打磨过程中气液物体飞溅。

如图31至图33所示，作为本实用新型的一个实施例，本实用新型的还包括修整盘机构8，所述修整盘机构8设置在平台机构6的后侧；修整盘机构8包括修整底座81、修整支座82、修整柔性套83、驱动箱84及油石盘85，其中，所述修整底座81水平设置在机台1上，修整底座81内设有安装空间；所述修整支座82水平设置在修整底座81上，并与修整底座81活动连接；所述修整柔性套83包括两个，两个修整柔性套83分别设置在修整支座82的两端，且修整柔性套83的一端与修整底座81连接，另一端与修整支座82连接；修整底座81的安装空间内设有移动电机86、移动丝杆87及移动丝杆座88；所述移动电机86水平设置；所述移动丝杆87连接在移动电机86的输出端上；所述移动丝杆座88套设在移动丝杆87上，并与移动丝杆87螺纹连接，且移动丝杆座88的顶部与修整支座82固定连接，以带动修整支座82来回直线运动；所述驱动箱84设置在修整支座82上，且输出端朝上设置；所述油石盘85水平设置在驱动箱84上方，并与驱动箱84的输出端连接，以便在水平面内旋转运动。

如图5至图12所示，作为本实用新型的一个实施例，本实用新型的还包括第二感应器9及冲洗组件10，所述第二感应器9及冲洗组件10通过支座及支杆设置在取料机构4的U型支架的内侧壁上，且竖直方向的安装高度以及安装角度可调节；所述第二感应器9用于感应移动至平台机构6处的取料机构4，以便平台机构6将待取放料的吸附位旋转至取料机构4下方；所述冲洗组件10包括风刀及冲洗头；所述风刀用于吹出高压风墙辅助及清洁；所述冲洗头用于喷出磨液辅助打磨及清洁。

进一步的，本实用新型一种实现物料自动上下料以及放料前位置校正定位，有效提升上下料效率及放料精准性，采用双平台多片吸附承载方式，实现双平台轮换打磨，且单次同步完成多片物料打磨，有效提高打磨效率的轮换式平面磨床。本实用新型旨在设计一种实现玻璃打磨整体工艺全自动，并成倍提升打磨产能，保证打磨质量一致性的轮换式平面磨床。具体的，本实用新型以机台作为承载结构，机台的台面上设有向下内凹的导液槽，导液槽在机台的一侧处开口，并连接有导液板，打磨过程中的磨液从打磨位置向下直接流入导液槽内，并经导液槽的开口处向外导出至导液板内经导液板导出，以便收集存储或经过过滤系统后循环使用，提高磨液使用率，减少打磨成本。机台上部罩设有机罩，机罩与机台之间形成安装空间，用于安装打磨相关机构，机罩的前侧壁上开设有上下料口，用于在打磨过程中取放物料。在机罩内靠近上下料口出架设有取料机构，取料机构在机罩安装空间以及机罩外部之间自由活动，以便将外部玻璃料盒以及校正机构或平台机构之间来回取放玻璃，具体的，本实用新型的取料机构在水平面内通过第一取料模组和第二取料模组提供纵向方向及横向方向的运动自由度，通过设置于第二取料模组下部的旋转部件提供在水平面内旋转的运动自由度，通过竖直连接在旋转部件输出端下部的旋转轴带动水平连接于其下端的旋转支板水平旋转；通过旋转支板的一端竖直设置的升降气缸提供沿竖直方向的运动自由度，通过取料气缸驱动多个吸嘴升降运动实现取放料。本实用新型的取料组件具备多个方向的运动自由度，可灵活的在机罩内外完成自动取放玻璃的动作，提升玻璃取放效率。取料机构从外部吸取玻璃后先将其放置在校正机构上，玻璃经校正机构的物料支台水平承载支撑后，物料支台四侧的第一校正气缸和第二校正气缸分别驱动连接于其输出端上的第一校正块和第二校正块从四个方向向内靠近玻璃，并通过可转动设置于其上的校正滚轮贴近玻璃的侧边，从而实现对玻璃的校正定位，以保证取料机构准确的将玻璃放置在平台机构相应的吸附位上，使得每次打磨时玻璃的位置相对稳定，避免了因打磨相对位置不同导致的表面打磨程度不一的问题。玻璃校正完成后取料机构将校正后的玻璃吸取并搬移至平台机构上。本实用新型的平台机构主要用于承载打磨的玻璃，其特别之处在于具备可来回直线运动的双平台组件，通过双平台组件在上下料口和打磨机构之间来回移动，从而同时完成上下料和打磨，即一个平台组件上的物料进行打磨时，另一个平台组件上进行玻璃的取放料，该种方式能够有效节省单平台因打磨而导致无法上下料或因上下料无法进行打磨，降低了设备待机时间，提高整机打磨效率。同时，本实用新型的平台组件上吸盘表面设置有多个真空吸孔，真空吸孔布设在吸盘上时，在吸盘表面沿着其圆周方向形成多个吸附位，通过多个吸附位产生的真空负压，使得吸盘能够同时承载并吸附固定多片玻璃，实现了单次打磨多片玻璃的效果，能有效提高打磨的产能效率。本实用新型的吸盘通过设置于其下方的平台转座承载固定，并通过平台转座接通外部的气路，同时平台转座经其下部的平台电机驱动而带动吸盘旋转运动，在打磨过程中可控制吸盘与砂轮之间的旋转角度相反，从而提高打磨质量。另外，本实用新型的平台机构还包括有防水横移组件，防水横移组件设置在平台机构的平台支座上方，并通过横移座及其两端的柔性套实现了对平台支座内部空间的闭合保护，避免在打磨过程中打磨液向下渗透进入平台支座的内部空间，从而影响其内电子配件的正常使用，且提供直线动力驱动横移座来回直线运动过程中，通过其两侧的柔性套张开或收缩，始终维持对平台支座内部空间的闭合状态。本实用新型以架设在平台机构上方的打磨机构作为对物料的表面打磨的执行机构，打磨机构以倒U型结构的大理石横梁作为承载结构，在横梁的后侧竖直设置有打磨电机作为打磨时驱动砂轮旋转的动力机构，打磨电机的动力经皮带和花键套传递至竖直设置在横梁前侧的主轴上，为保证主轴在竖直方向可升降运动以便在打磨时靠近下方平台机构上的物料，因此花键套与主轴之间通过轴承连接，利用轴承使得花键套与主轴之间径向限位，同时保持轴向自由活动；同时，主轴的下端外部套设固定有滑座，滑座与主轴之间通过轴承组连接，使得滑座与主轴之间保持轴向限位且径向活动连接，从而滑座使得滑座可带动主轴升降运动，同时不干涉主轴的旋转；设置在横梁前侧壁上的升降电机驱动升降丝杆旋转，通过升降丝杆座将旋转运动转换成升降运动，带动滑座升降运动；另外，为平衡主轴升降时重力影响行走精度，通过设置在主轴两侧的平衡气缸提供沿竖直方向上的平衡力给滑座，以保证滑座升降控制的精准度。另外，在主轴的两侧还分别设有阻挡组件，阻挡组件的挡板围绕在主轴下端连接的砂轮外围，并在竖直方向上升降运动，以便在砂轮打磨物料时从外侧阻挡向外溅射的物质，起到保护打磨机内部机构的作用。另外，本实用新型在平台机构的后侧还设有修整盘机构，通过预设程序可根据砂轮材质和工件硬度设置修整时间间隔，定期对砂轮进行修整以改变砂轮的锋利性以及砂轮平面度，新砂轮需进行第一次的修整位置人工对刀，后续修整位置会根据第一次位置相应的进行下点，不需人工干预。

本实用新型的实施例只是介绍其具体实施方式，不在于限制其保护范围。本行业的技术人员在本实施例的启发下可以作出某些修改，故凡依照本实用新型专利范围所做的等效变化或修饰，均属于本实用新型专利权利要求范围内。

Claims (10)

1.一种轮换式平面磨床，包括水平设置的机台（1）及罩设与机台（1）上的机罩（2），机罩（2）与机台（1）之间形成打磨空间，其特征在于：

所述机台（1）上设有内凹的导液槽（B），导液槽（B）的一侧开口，该开口处连接有导液板（3），用于导出打磨液；

所述机罩（2）的前侧开设有上下料口（A），用于物料上下料；

还包括取料机构（4）、校正机构（5）、平台机构（6）及打磨机构（7），其中，

所述取料机构（4）设置在上下料口（A）处，用于取放待打磨的物料；

所述校正机构（5）机台（1）上，并靠近上下料口（A）的前侧，用于承载并校正物料；

所述平台机构（6）设置在校正机构（5）的后侧，平台机构（6）包括两组间隔设置的平台组件（65），两组平台组件（65）分别承载固定待打磨的物料，且沿左右方向移动，用于切换打磨物料；

所述打磨机构（7）架设在平台机构（6）的上方，用于打磨平台机构（6）上固定的物料表面。

2.根据权利要求1所述的一种轮换式平面磨床，其特征在于：所述取料机构（4）包括第一取料模组（41）、第二取料模组（42）及取料组件，其中，所述第一取料模组（41）通过设置于机台（1）上的U型支架支撑；所述第二取料模组（42）沿垂直于第一取料模组（41）方向连接在第一取料模组（41）的输出端上；所述取料组件连接于第二取料模组（42）的输出端上；所述第一取料模组（41）及第二取料模组（42）驱动取料组件在水平面内沿相互垂直的方向直线运动。

3.根据权利要求2所述的一种轮换式平面磨床，其特征在于：所述取料组件包括旋转部件（43）、旋转轴（44）、旋转支板（45）、升降气缸（46）、升降座（47）、取料气缸（48）、取料支板（49）及吸嘴（410）；所述旋转部件包括旋转支座（431）、旋转电机（432）、主动轮（433）、被动轮（434）、感应器（435）及感应片（436）；所述旋转支座（431）水平连接在第二取料模组（42）的输出端上，并与第二取料模组（42）之间形成间隙空间；所述旋转电机（432）设置在旋转支座（431）的底部，且输出轴穿过旋转支座（431）伸入所述间隙空间内；所述主动轮（433）位于间隙空间内，并套设在旋转电机（432）的输出轴上；所述旋转轴（44）竖直设置在旋转支座（431）的下部，且与旋转支座（431）可转动的连接；所述被动轮（434）位于间隙空间内，并套设在旋转轴（44），被动轮（434）与主动轮（433）之间通过传动带连接。

4.根据权利要求3所述的一种轮换式平面磨床，其特征在于：所述旋转支板（45）水平连接在旋转轴（44）的下端；所述升降气缸（46）竖直设置在旋转支板（45）的一侧，且沿竖直方向输出动力；所述升降座（47）连接于升降气缸（46）的输出端上；所述取料气缸（48）包括至少两个，至少两个取料气缸（48）分别竖直设置在升降座（47）上，且输出端朝下设置；所述取料支板（49）包括至少两块，至少两块取料支板（49）分别水平连接接在至少两个取料气缸（48）的输出端上；所述吸嘴（410）包括至少两个，至少两个吸嘴（410）间隔设置在取料支板（49）底部，通过真空负压吸附物料。

5.根据权利要求1所述的一种轮换式平面磨床，其特征在于：所述校正机构（5）包括校正支座（51）及校正组件，其中，

所述校正支座（51）竖直设置在机台（1）上；

所述校正组件水平设置在校正支座（51）上，校正组件包括校正支架（52）、物料支台（53）、第一校正气缸（54）、第一校正块（55）、第二校正气缸（56）、第二校正块（57）及校正滚轮（58）；所述校正支架（52）设置在校正支座（51）上，校正支架（52）包括上下间隔设置的两层支撑板；所述物料支台（53）水平设置在校正支架（52）的上层支撑板上；所述第一校正气缸（54）及第二校正气缸（56）分别包括两个，两个第一校正气缸（54）分别对称设置在校正支架（52）的两侧部，两个第二校正气缸（56）分别对称设置在校正支架（52）的另外两侧部；所述第一校正块（55）连接于第一校正气缸（54）的输出端上，并延伸至物料支台（53）的上方；所述第二校正块（57）连接于第二校正气缸（56）的输出端上，并延伸至物料支台（53）上方；所述校正滚轮（58）包括至少两个，至少两个校正滚轮（58）分别可转动的设置在所述第一校正块（55）及第二校正块（57）上，第一校正块（55）及第二校正块（57）朝物料支台（53）方向运动时，通过校正滚轮（58）从侧部校正定位物料支台（53）上放置的物料。

6.根据权利要求1所述的一种轮换式平面磨床，其特征在于：所述平台机构（6）包括平台支座（61）、防水横移组件及平台组件（65），其中，所述平台支座（61）水平设置在机台（1）上，平台支座（61）内设有顶部开口的安装空间；所述防水横移组件设置在平台支座（61）上，并沿直线方向运动，并维持平台支座（61）安装空间的顶部开口闭合；所述平台组件（65）包括两组，两组平台组件（65）间隔设置在防水横移组件上，并随防水横移组件移动。

7.根据权利要求1所述的一种轮换式平面磨床，其特征在于：所述打磨机构（7）包括横梁（71）、旋转组件、升降组件、主轴（75）、砂轮（711）及阻挡组件（713），其中，所述横梁（71）为U型结构，倒架于机台（1）上；所述旋转组件设置在横梁（71）的后侧；所述主轴（75）竖直设置在横梁（71）的前侧，并与旋转组件连接，经旋转组件驱动而旋转运动；所述升降组件设置在横梁（71）的前侧壁上，并与主轴（75）连接，且沿竖直方向输出动力；所述砂轮（711）水平连接在主轴（75）下端，并随主轴（75）运动；所述阻挡组件（713）包括两组，两组阻挡组件（713）分别设置在砂轮（711）的左右两侧，用于打磨时阻挡保护。

8.根据权利要求1所述的一种轮换式平面磨床，其特征在于：还包括修整盘机构（8），所述修整盘机构（8）设置在平台机构（6）的后侧；修整盘机构（8）包括修整底座（81）、修整支座（82）、修整柔性套（83）、驱动箱（84）及油石盘（85），其中，所述修整底座（81）水平设置在机台（1）上，修整底座（81）内设有安装空间；所述修整支座（82）水平设置在修整底座（81）上，并与修整底座（81）活动连接；所述修整柔性套（83）包括两个，两个修整柔性套（83）分别设置在修整支座（82）的两端，且修整柔性套（83）的一端与修整底座（81）连接，另一端与修整支座（82）连接。

9.根据权利要求8所述的一种轮换式平面磨床，其特征在于：所述修整底座（81）的安装空间内设有移动电机（86）、移动丝杆（87）及移动丝杆座（88）；其中，所述移动电机（86）水平设置；所述移动丝杆（87）连接在移动电机（86）的输出端上；所述移动丝杆座（88）套设在移动丝杆（87）上，并与移动丝杆（87）螺纹连接，且移动丝杆座（88）的顶部与修整支座（82）固定连接，以带动修整支座（82）来回直线运动；所述驱动箱（84）设置在修整支座（82）上，且输出端朝上设置；所述油石盘（85）水平设置在驱动箱（84）上方，并与驱动箱（84）的输出端连接，以便在水平面内旋转运动。

10.根据权利要求2至9中任一项所述的一种轮换式平面磨床，其特征在于：还包括第二感应器（9）及冲洗组件（10），所述第二感应器（9）及冲洗组件（10）通过支座及支杆设置在取料机构（4）的U型支架的内侧壁上，且竖直方向的安装高度以及安装角度可调节；所述第二感应器（9）用于感应移动至平台机构（6）处的取料机构（4），以便平台机构（6）将待取放料的吸附位旋转至取料机构（4）下方；所述冲洗组件（10）包括风刀及冲洗头；所述风刀用于吹出高压风墙辅助及清洁；所述冲洗头用于喷出磨液辅助打磨及清洁。