CN219959682U - 一种设有光学偏振插入层的半导体激光元件 - Google Patents
一种设有光学偏振插入层的半导体激光元件 Download PDFInfo
- Publication number
- CN219959682U CN219959682U CN202320491580.3U CN202320491580U CN219959682U CN 219959682 U CN219959682 U CN 219959682U CN 202320491580 U CN202320491580 U CN 202320491580U CN 219959682 U CN219959682 U CN 219959682U
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- csbinb
- nabitio
- pbzro
- nano
- layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 73
- 230000010287 polarization Effects 0.000 title claims abstract description 70
- 238000003780 insertion Methods 0.000 title claims abstract description 53
- 230000037431 insertion Effects 0.000 title claims abstract description 53
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 30
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 36
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 claims abstract description 14
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical group [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 147
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 25
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 25
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 21
- 229910004205 SiNX Inorganic materials 0.000 description 10
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 10
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 10
- 230000033228 biological regulation Effects 0.000 description 8
- 239000011258 core-shell material Substances 0.000 description 8
- 239000002096 quantum dot Substances 0.000 description 8
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 8
- 229910010093 LiAlO Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910020068 MgAl Inorganic materials 0.000 description 5
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 5
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 5
- 229910052596 spinel Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000011029 spinel Substances 0.000 description 5
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 2
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 230000005764 inhibitory process Effects 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000004020 luminiscence type Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 230000006798 recombination Effects 0.000 description 1
- 238000005215 recombination Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000010183 spectrum analysis Methods 0.000 description 1
- 230000002269 spontaneous effect Effects 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 230000005472 transition radiation Effects 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Semiconductor Lasers (AREA)
Abstract
本实用新型提供了一种设有光学偏振插入层的半导体激光元件,涉及半导体光电器件技术领域,从下至上依次包括衬底、下限制层、下波导层,有源层、上波导层、电子阻挡层、上限制层,有源层与上波层之间和有源层与下波导层之间设有光学偏振插入层,相比于现有技术,有源层与上波层之间和有源层与下波导层之间设有光学偏振插入层,可实现快速电荷转移,控制有源层发出激光的相位和偏振,实现精准的光学偏振调控,降低光场耗散,抑制光场模式泄漏,同时,改善光学灾变损伤,将垂直横向激光模式转换为单模,提升激光相干性,提升光束质量因子、限制因子和远场图像FFP质量。
Description
技术领域
本实用新型涉及半导体光电器件技术领域,具体而言,涉及一种设有光学偏振插入层的半导体激光元件。
背景技术
激光器广泛应用于激光显示、激光电视、激光投影仪、通讯、医疗、武器、制导、测距、光谱分析、切割、精密焊接、高密度光存储等领域。激光器的各类很多,分类方式也多样,主要有固体、气体、液体、半导体和染料等类型激光器;与其他类型激光器相比,全固态半导体激光器具有体积小、效率高、重量轻、稳定性好、寿命长、结构简单紧凑、小型化等优点。激光器与氮化物半导体发光二极管存在较大的区别,1)激光是由载流子发生受激辐射产生,光谱半高宽较小,亮度很高,单颗激光器输出功率可在W级,而氮化物半导体发光二极管则是自发辐射,单颗发光二极管的输出功率在mW级;2)激光器的使用电流密度达KA/cm2,比氮化物发光二极管高2个数量级以上,从而引起更强的电子泄漏、更严重的俄歇复合、极化效应更强、电子空穴不匹配更严重,导致更严重的效率衰减Droop效应;3)发光二极管自发跃迁辐射,无外界作用,从高能级跃迁到低能级的非相干光,而激光器为受激跃迁辐射,感应光子能量应等于电子跃迁的能级之差,产生光子与感应光子的全同相干光;4)原理不同:发光二极管为在外界电压作用下,电子空穴跃迁到量子阱或p-n结产生辐射复合发光,而激光器需要激射条件满足才可激射,必须满足有源区载流子反转分布,受激辐射光在谐振腔内来回振荡,在增益介质中的传播使光放大,满足阈值条件使增益大于损耗,并最终输出激光。氮化物半导体激光器存在以下问题:1)激光光波的型态可分为横模和纵横;垂直于光轴截面内的横模光强分布是由半导体激光器的波导结构决定,若横模复杂不稳定,输出光的相干性差;纵模在谐振腔传播方向上是驻波分布,很多纵模同时激射或存在模间变化,则不能获得很高时间上的相干性,远场图像FFP质量差。2)光场有耗散,光场模式泄漏到衬底形成驻波会导致衬底模式抑制效率低,远场图像FFP质量差。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种设有光学偏振插入层的半导体激光元件,解决了现有技术中存在的的问题。
一种设有光学偏振插入层的半导体激光元件,从下至上依次包括衬底、下限制层、下波导层,有源层、上波导层、电子阻挡层、上限制层,有源层与上波层之间和有源层与下波导层之间设有光学偏振插入层。
作为本实用新型优选的技术方案,所述光学偏振插入层为BP(黑磷)、NaNO2、PbZrO3、NaBiTiO3、CsBiNb2O7、Ti3C2Tx、CuInP2S6、WTe2的任意两种或任意两种以上组合。
作为本实用新型优选的技术方案,所述光学偏振插入层的任意组合包括以下二元组合的异质结、超晶格、量子阱、核壳结构、量子点等结构但不限于以下结构:BP/NaNO2,BP/PbZrO3,BP/NaBiTiO3,BP/CsBiNb2O7,BP/Ti3C2Tx,BP/CuInP2S6,BP/CuInP2S6,BP/WTe2,NaNO2/PbZrO3,NaNO2/NaBiTiO3,NaNO2/CsBiNb2O7,NaNO2/Ti3C2Tx,NaNO2/CuInP2S6,NaNO2/WTe2,PbZrO3/NaBiTiO3,PbZrO3/CsBiNb2O7,PbZrO3/Ti3C2Tx,PbZrO3/CuInP2S6,PbZrO3/WTe2,CsBiNb2O7/Ti3C2Tx,CsBiNb2O7/CuInP2S6,CsBiNb2O7/WTe2,Ti3C2Tx/CuInP2S6,Ti3C2Tx/WTe2,CuInP2S6/WTe2。
作为本实用新型优选的技术方案,所述光学偏振插入层的任意组合包括以下三元组合的异质结、超晶格、量子阱、核壳结构、量子点等结构但不限于以下结构:BP/NaNO2/PbZrO3,BP/NaNO2/NaBiTiO3,BP/NaNO2/CsBiNb2O7,BP/NaNO2/Ti3C2Tx,BP/NaNO2/CuInP2S6,BP/NaNO2/WTe2,BP/PbZrO3/NaBiTiO3,BP/PbZrO3/CsBiNb2O7,BP/PbZrO3/Ti3C2Tx,BP/PbZrO3/CuInP2S6,BP/PbZrO3/WTe2,BP/NaBiTiO3/CsBiNb2O7,BP/NaBiTiO3/Ti3C2Tx,BP/NaBiTiO3/CuInP2S6,BP/NaBiTiO3/WTe2,BP/CsBiNb2O7/Ti3C2Tx,BP/CsBiNb2O7/CuInP2S6,BP/CsBiNb2O7/WTe2,BP/Ti3C2Tx/CuInP2S6,BP/Ti3C2Tx/WTe2,BP/CuInP2S6/WTe2,NaNO2/PbZrO3/NaBiTiO3,NaNO2/PbZrO3/CsBiNb2O7,NaNO2/PbZrO3/Ti3C2Tx,NaNO2/PbZrO3/CuInP2S6,NaNO2/PbZrO3/WTe2,NaNO2/NaBiTiO3/CsBiNb2O7,NaNO2/NaBiTiO3/Ti3C2Tx,NaNO2/NaBiTiO3/CuInP2S6,NaNO2/NaBiTiO3/WTe2,NaNO2/CsBiNb2O7/Ti3C2Tx,NaNO2/CsBiNb2O7/CuInP2S6,NaNO2/CsBiNb2O7/WTe2,NaNO2/Ti3C2Tx/CuInP2S6,NaNO2/Ti3C2Tx/WTe2,NaNO2/CuInP2S6/WTe2,PbZrO3/NaBiTiO3/CsBiNb2O7,PbZrO3/NaBiTiO3/Ti3C2Tx,PbZrO3/NaBiTiO3/CuInP2S6,PbZrO3/NaBiTiO3/WTe2,PbZrO3/CsBiNb2O7/Ti3C2Tx,
PbZrO3/CsBiNb2O7/CuInP2S6,PbZrO3/CsBiNb2O7/WTe2,PbZrO3/Ti3C2Tx/CuInP2S6,
PbZrO3/Ti3C2Tx/WTe2,PbZrO3/CuInP2S6/WTe2,NaBiTiO3/CsBiNb2O7/Ti3C2Tx,
NaBiTiO3/CsBiNb2O7/CuInP2S6,NaBiTiO3/CsBiNb2O7/WTe2,CsBiNb2O7/Ti3C2Tx/CuInP2S6,CsBiNb2O7/Ti3C2Tx/WTe2,CsBiNb2O7/CuInP2S6/WTe2,Ti3C2Tx/CuInP2S6/WTe。
作为本实用新型优选的技术方案,所述光学偏振插入层的任意组合包括以下四元组合的异质结、超晶格、量子阱、核壳结构、量子点等结构但不限于以下结构:
BP/NaNO2/PbZrO3/NaBiTiO3,BP/NaNO2/PbZrO3/CsBiNb2O7,BP/NaNO2/PbZrO3/Ti3C2Tx,
BP/NaNO2/PbZrO3/CuInP2S6,BP/NaNO2/PbZrO3/WTe2,BP/PbZrO3/NaBiTiO3/CsBiNb2O7,
BP/PbZrO3/NaBiTiO3/Ti3C2Tx,BP/PbZrO3/NaBiTiO3/CuInP2S6,BP/PbZrO3/NaBiTiO3/WTe2,
BP/NaBiTiO3/CsBiNb2O7/Ti3C2Tx,BP/NaBiTiO3/CsBiNb2O7/CuInP2S6,
BP/NaBiTiO3/CsBiNb2O7/WTe2,BP/CsBiNb2O7/CuInP2S6/WTe2,NaNO2/PbZrO3/NaBiTiO3/CsBiNb2O7,NaNO2/PbZrO3/NaBiTiO3/Ti3C2Tx,NaNO2/PbZrO3/NaBiTiO3/CuInP2S6,
NaNO2/PbZrO3/NaBiTiO3/WTe2,NaNO2/NaBiTiO3/CsBiNb2O7/CuInP2S6,
NaNO2/NaBiTiO3/CsBiNb2O7/WTe2,NaNO2/CsBiNb2O7/Ti3C2Tx/CuInP2S6,
NaNO2/CsBiNb2O7/Ti3C2Tx/WTe2,NaNO2/Ti3C2Tx/CuInP2S6/WTe2,
PbZrO3/NaBiTiO3/CsBiNb2O7/Ti3C2Tx,PbZrO3/NaBiTiO3/CsBiNb2O7/CuInP2S6,
PbZrO3/NaBiTiO3/CsBiNb2O7/WTe2,PbZrO3/CsBiNb2O7/Ti3C2Tx/CuInP2S6,
PbZrO3/CsBiNb2O7/Ti3C2Tx/WTe2,PbZrO3/Ti3C2Tx/CuInP2S6/WTe2,
NaBiTiO3/CsBiNb2O7/Ti3C2Tx/CuInP2S6,NaBiTiO3/CsBiNb2O7/Ti3C2Tx/WTe2,NaBiTiO3/Ti3C2Tx/CuInP2S6/WTe2,CsBiNb2O7/Ti3C2Tx/CuInP2S6/WTe2。
作为本实用新型优选的技术方案,所述光学偏振插入层的任意组合包括以下五元、六元、七元、八元组合的异质结、超晶格、量子阱、核壳结构、量子点等结构但不限于以下结构:BP/NaNO2/PbZrO3/NaBiTiO3/CsBiNb2O7,BP/NaNO2/PbZrO3/NaBiTiO3/Ti3C2Tx,BP/NaNO2/PbZrO3/NaBiTiO3/CuInP2S6,BP/NaNO2/PbZrO3/NaBiTiO3/WTe2,BP/PbZrO3/NaBiTiO3/CsBiNb2O7/Ti3C2Tx,BP/PbZrO3/NaBiTiO3/CsBiNb2O7/CuInP2S6,BP/PbZrO3/NaBiTiO3/CsBiNb2O7/WTe2,BP/NaBiTiO3/CsBiNb2O7/Ti3C2Tx/CuInP2S6,BP/NaBiTiO3/CsBiNb2O7/Ti3C2Tx/WTe2,BP/CsBiNb2O7/Ti3C2Tx/CuInP2S6/WTe2,NaNO2/PbZrO3/NaBiTiO3/CsBiNb2O7/Ti3C2Tx,NaNO2/PbZrO3/NaBiTiO3/CsBiNb2O7/CuInP2S6,NaNO2/PbZrO3/NaBiTiO3/CsBiNb2O7/WTe2,NaNO2/NaBiTiO3/CsBiNb2O7/Ti3C2Tx/CuInP2S6,NaNO2/NaBiTiO3/CsBiNb2O7/Ti3C2Tx/WTe2,NaNO2/CsBiNb2O7/Ti3C2Tx/CuInP2S6/WTe2,PbZrO3/NaBiTiO3/CsBiNb2O7/Ti3C2Tx/CuInP2S6,PbZrO3/NaBiTiO3/CsBiNb2O7/Ti3C2Tx/WTe2,PbZrO3/CsBiNb2O7/Ti3C2Tx/CuInP2S6/WTe2,NaBiTiO3/CsBiNb2O7/Ti3C2Tx/CuInP2S6/WTe2,BP/NaNO2/PbZrO3/NaBiTiO3/CsBiNb2O7/Ti3C2Tx,BP/NaNO2/PbZrO3/NaBiTiO3/CsBiNb2O7/CuInP2S6,BP/NaNO2/PbZrO3/NaBiTiO3/CsBiNb2O7/WTe2,BP/PbZrO3/NaBiTiO3/CsBiNb2O7/Ti3C2Tx/CuInP2S6,BP/PbZrO3/NaBiTiO3/CsBiNb2O7/Ti3C2Tx/WTe2,BP/NaBiTiO3/CsBiNb2O7/Ti3C2Tx/CuInP2S6/WTe2,BP/PbZrO3/NaBiTiO3/CsBiNb2O7/Ti3C2Tx/CuInP2S6,BP/PbZrO3/NaBiTiO3/CsBiNb2O7/Ti3C2Tx/WTe2,BP/NaBiTiO3/CsBiNb2O7/Ti3C2Tx/CuInP2S6/WTe2,
NaNO2/PbZrO3/NaBiTiO3/CsBiNb2O7/Ti3C2Tx/CuInP2S6,
NaNO2/PbZrO3/NaBiTiO3/CsBiNb2O7/Ti3C2Tx/WTe2,
NaNO2/NaBiTiO3/CsBiNb2O7/Ti3C2Tx/CuInP2S6/WTe2,
PbZrO3/NaBiTiO3/CsBiNb2O7/Ti3C2Tx/CuInP2S6/WTe2,
BP/NaNO2/PbZrO3/NaBiTiO3/CsBiNb2O7/Ti3C2Tx/CuInP2S6,
BP/NaNO2/PbZrO3/NaBiTiO3/CsBiNb2O7/Ti3C2Tx/WTe2,
NaNO2/PbZrO3/NaBiTiO3/CsBiNb2O7/Ti3C2Tx/CuInP2S6/WTe2,
BP/NaNO2/NaBiTiO3/CsBiNb2O7/Ti3C2Tx/CuInP2S6/WTe2,
BP/NaNO2/PbZrO3/CsBiNb2O7/Ti3C2Tx/CuInP2S6/WTe2,
BP/NaNO2/PbZrO3/NaBiTiO3/Ti3C2Tx/CuInP2S6/WTe2,
BP/NaNO2/PbZrO3/NaBiTiO3/CsBiNb2O7/CuInP2S6/WTe2,
BP/NaNO2/PbZrO3/NaBiTiO3/CsBiNb2O7/Ti3C2Tx/WTe2,
BP/NaNO2/PbZrO3/NaBiTiO3/CsBiNb2O7/Ti3C2Tx/CuInP2S6/WTe2。
作为本实用新型优选的技术方案,有源层与上波层之间和有源层与下波导层之间设有光学偏振插入层,光学偏振插入层可实现快速电荷转移,控制有源层发出激光的相位和偏振,实现精准的光学偏振调控,降低光场耗散,抑制光场模式泄漏,同时,改善光学灾变损伤,将垂直横向激光模式转换为单模,提升激光相干性,提升光束质量因子、限制因子和远场图像FFP质量。
作为本实用新型优选的技术方案,所述光学偏振插入层(107)的厚度为5~500nm。
作为本实用新型优选的技术方案,所述下限制层(101)、下波导层(102),有源层(103)、上波导层(104)、电子阻挡层(105)、上限制层(106)包括GaN、AlGaN、InGaN、AlInGaN、AlN、InN、AlInN、SiC、Ga2O3、BN、GaAs、GaP、InP、AlGaAs、AlInGaAs、AlGaInP、InGaAs、AlInAs、AlInP、AlGaP、InGaP的任意一种或任意多元组合;所述半导体激光元件包括发光波长为200nm~300nm的半导体深紫外激光器,发光波长为300nm~420nm的半导体紫外激光器,发光波长为420nm~480nm的半导体蓝光激光器,发光波长为500nm~550nm的半导体绿光激光器,发光波长为550nm~700nm的半导体红光与黄光激光器,发光波长为800nm~1000nm的半导体红外激光器,发光波长为1000nm~1600nm的半导体远红外激光器。
作为本实用新型优选的技术方案,所述衬底包括蓝宝石、硅、Ge、SiC、AlN、GaN、GaAs、InP、蓝宝石/SiO2复合衬底、蓝宝石/AlN复合衬底、蓝宝石/SiNx、蓝宝石/SiO2/SiNx复合衬底、镁铝尖晶石MgAl2O4、MgO、ZnO、ZrB2、LiAlO2和LiGaO2复合衬底的任意一种。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果:
在本实用新型的方案中:
相比于现有技术,有源层与上波层之间和有源层与下波导层之间设有光学偏振插入层,可实现快速电荷转移,控制有源层发出激光的相位和偏振,实现精准的光学偏振调控,降低光场耗散,抑制光场模式泄漏,同时,改善光学灾变损伤,将垂直横向激光模式转换为单模,提升激光相干性,提升光束质量因子、限制因子和远场图像FFP质量。
附图说明
图1为本实用新型提供的一种设有光学偏振插入层的半导体激光元件的结构示意图。
图中标示:
100:衬底;101:下限制层;102:下波导层;103:有源层;104:上波导层,105:电子阻挡层,106:上限制层,107:光学偏振插入层。
具体实施方式
为使本实用新型实施例的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整的描述。显然,所描述的实施例是本实用新型的一部分实施例,而不是全部的实施例。
因此,以下对本实用新型的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本实用新型的范围,而是仅仅表示本实用新型的部分实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
需要说明的是,在不冲突的情况下,本实用新型中的实施例及实施例中的特征和技术方案可以相互组合。
实施例1
请参阅图1,本实施例提供一种技术方案:一种设有光学偏振插入层的半导体激光元件,从下至上依次包括衬底100、下限制层101、下波导层102,有源层103、上波导层104、电子阻挡层105、上限制层106,有源层103与上波层104之间和有源层103与下波导层102之间设有光学偏振插入层107。
所述光学偏振插入层107为BP(黑磷)、NaNO2、PbZrO3、NaBiTiO3、CsBiNb2O7、Ti3C2Tx、CuInP2S6、WTe2的任意一种。
所述有源层103与上波层104之间和有源层103与下波导层102之间设有光学偏振插入层107,光学偏振插入层107可实现快速电荷转移,控制有源层发出激光的相位和偏振,实现精准的光学偏振调控,降低光场耗散,抑制光场模式泄漏,同时,改善光学灾变损伤,将垂直横向激光模式转换为单模,提升激光相干性,提升光束质量因子、限制因子和远场图像FFP质量。
所述下限制层101、下波导层102,有源层103、上波导层104、电子阻挡层105、上限制层106包括GaN、AlGaN、InGaN、AlInGaN、AlN、InN、AlInN、SiC、Ga2O3、BN、GaAs、GaP、InP、AlGaAs、AlInGaAs、AlGaInP、InGaAs、AlInAs、AlInP、AlGaP、InGaP的任意一种或任意多元组合。
所述衬底100包括蓝宝石、硅、Ge、SiC、AlN、GaN、GaAs、InP、蓝宝石/SiO2复合衬底、蓝宝石/AlN复合衬底、蓝宝石/SiNx、蓝宝石/SiO2/SiNx复合衬底、镁铝尖晶石MgAl2O4、MgO、ZnO、ZrB2、LiAlO2和LiGaO2复合衬底的任意一种。
实施例2
请参阅图1,本实施例提供一种技术方案:一种设有光学偏振插入层的半导体激光元件,一种设有光学偏振插入层的半导体激光元件,从下至上依次包括衬底100、下限制层101、下波导层102,有源层103、上波导层104、电子阻挡层105、上限制层106,有源层103与上波层104之间和有源层103与下波导层102之间设有光学偏振插入层107。
所述有源层103与上波层104之间和有源层103与下波导层102之间设有光学偏振插入层107,光学偏振插入层107可实现快速电荷转移,控制有源层发出激光的相位和偏振,实现精准的光学偏振调控,降低光场耗散,抑制光场模式泄漏,同时,改善光学灾变损伤,将垂直横向激光模式转换为单模,提升激光相干性,提升光束质量因子、限制因子和远场图像FFP质量。
所述光学偏振插入层的任意组合包括以下二元组合的异质结、超晶格、量子阱、核壳结构、量子点等结构但不限于以下结构:BP/NaNO2,BP/PbZrO3,BP/NaBiTiO3,BP/CsBiNb2O7,BP/Ti3C2Tx,BP/CuInP2S6,BP/CuInP2S6,BP/WTe2,NaNO2/PbZrO3,NaNO2/NaBiTiO3,NaNO2/CsBiNb2O7,NaNO2/Ti3C2Tx,NaNO2/CuInP2S6,NaNO2/WTe2,PbZrO3/NaBiTiO3,PbZrO3/CsBiNb2O7,PbZrO3/Ti3C2Tx,PbZrO3/CuInP2S6,PbZrO3/WTe2,CsBiNb2O7/Ti3C2Tx,CsBiNb2O7/CuInP2S6,CsBiNb2O7/WTe2,Ti3C2Tx/CuInP2S6,Ti3C2Tx/WTe2,CuInP2S6/WTe。
所述下限制层101、下波导层102,有源层103、上波导层104、电子阻挡层105、上限制层106包括GaN、AlGaN、InGaN、AlInGaN、AlN、InN、AlInN、SiC、Ga2O3、BN、GaAs、GaP、InP、AlGaAs、AlInGaAs、AlGaInP、InGaAs、AlInAs、AlInP、AlGaP、InGaP的任意一种或任意多元组合。
所述衬底100包括蓝宝石、硅、Ge、SiC、AlN、GaN、GaAs、InP、蓝宝石/SiO2复合衬底、蓝宝石/AlN复合衬底、蓝宝石/SiNx、蓝宝石/SiO2/SiNx复合衬底、镁铝尖晶石MgAl2O4、MgO、ZnO、ZrB2、LiAlO2和LiGaO2复合衬底的任意一种。
实施例3
请参阅图1,本实施例提供一种技术方案:一种设有光学偏振插入层的半导体激光元件,一种设有光学偏振插入层的半导体激光元件,从下至上依次包括衬底100、下限制层101、下波导层102,有源层103、上波导层104、电子阻挡层105、上限制层106,有源层103与上波层104之间和有源层103与下波导层102之间设有光学偏振插入层107。
所述有源层103与上波层104之间和有源层103与下波导层102之间设有光学偏振插入层107,光学偏振插入层107可实现快速电荷转移,控制有源层发出激光的相位和偏振,实现精准的光学偏振调控,降低光场耗散,抑制光场模式泄漏,同时,改善光学灾变损伤,将垂直横向激光模式转换为单模,提升激光相干性,提升光束质量因子、限制因子和远场图像FFP质量。
所述光学偏振插入层107的任意组合包括以下三元组合的异质结、超晶格、量子阱、核壳结构、量子点等结构但不限于以下结构:BP/NaNO2/PbZrO3,BP/NaNO2/NaBiTiO3,BP/NaNO2/CsBiNb2O7,BP/NaNO2/Ti3C2Tx,BP/NaNO2/CuInP2S6,BP/NaNO2/WTe2,BP/PbZrO3/NaBiTiO3,BP/PbZrO3/CsBiNb2O7,BP/PbZrO3/Ti3C2Tx,BP/PbZrO3/CuInP2S6,BP/PbZrO3/WTe2,BP/NaBiTiO3/CsBiNb2O7,BP/NaBiTiO3/Ti3C2Tx,BP/NaBiTiO3/CuInP2S6,BP/NaBiTiO3/WTe2,BP/CsBiNb2O7/Ti3C2Tx,BP/CsBiNb2O7/CuInP2S6,BP/CsBiNb2O7/WTe2,BP/Ti3C2Tx/CuInP2S6,BP/Ti3C2Tx/WTe2,BP/CuInP2S6/WTe2,NaNO2/PbZrO3/NaBiTiO3,NaNO2/PbZrO3/CsBiNb2O7,NaNO2/PbZrO3/Ti3C2Tx,NaNO2/PbZrO3/CuInP2S6,NaNO2/PbZrO3/WTe2,NaNO2/NaBiTiO3/CsBiNb2O7,NaNO2/NaBiTiO3/Ti3C2Tx,NaNO2/NaBiTiO3/CuInP2S6,NaNO2/NaBiTiO3/WTe2,NaNO2/CsBiNb2O7/Ti3C2Tx,NaNO2/CsBiNb2O7/CuInP2S6,NaNO2/CsBiNb2O7/WTe2,NaNO2/Ti3C2Tx/CuInP2S6,NaNO2/Ti3C2Tx/WTe2,NaNO2/CuInP2S6/WTe2,PbZrO3/NaBiTiO3/CsBiNb2O7,PbZrO3/NaBiTiO3/Ti3C2Tx,PbZrO3/NaBiTiO3/CuInP2S6,PbZrO3/NaBiTiO3/WTe2,PbZrO3/CsBiNb2O7/Ti3C2Tx,
PbZrO3/CsBiNb2O7/CuInP2S6,PbZrO3/CsBiNb2O7/WTe2,PbZrO3/Ti3C2Tx/CuInP2S6,
PbZrO3/Ti3C2Tx/WTe2,PbZrO3/CuInP2S6/WTe2,NaBiTiO3/CsBiNb2O7/Ti3C2Tx,
NaBiTiO3/CsBiNb2O7/CuInP2S6,NaBiTiO3/CsBiNb2O7/WTe2,CsBiNb2O7/Ti3C2Tx/CuInP2S6,CsBiNb2O7/Ti3C2Tx/WTe2,CsBiNb2O7/CuInP2S6/WTe2,Ti3C2Tx/CuInP2S6/WTe。
所述下限制层101、下波导层102,有源层103、上波导层104、电子阻挡层105、上限制层106包括GaN、AlGaN、InGaN、AlInGaN、AlN、InN、AlInN、SiC、Ga2O3、BN、GaAs、GaP、InP、AlGaAs、AlInGaAs、AlGaInP、InGaAs、AlInAs、AlInP、AlGaP、InGaP的任意一种或任意多元组合。
所述衬底100包括蓝宝石、硅、Ge、SiC、AlN、GaN、GaAs、InP、蓝宝石/SiO2复合衬底、蓝宝石/AlN复合衬底、蓝宝石/SiNx、蓝宝石/SiO2/SiNx复合衬底、镁铝尖晶石MgAl2O4、MgO、ZnO、ZrB2、LiAlO2和LiGaO2复合衬底的任意一种。
实施例4
请参阅图1,本实施例提供一种技术方案:一种设有光学偏振插入层的半导体激光元件,一种设有光学偏振插入层的半导体激光元件,从下至上依次包括衬底100、下限制层101、下波导层102,有源层103、上波导层104、电子阻挡层105、上限制层106,有源层103与上波层104之间和有源层103与下波导层102之间设有光学偏振插入层107。
所述有源层103与上波层104之间和有源层103与下波导层102之间设有光学偏振插入层107,光学偏振插入层107可实现快速电荷转移,控制有源层发出激光的相位和偏振,实现精准的光学偏振调控,降低光场耗散,抑制光场模式泄漏,同时,改善光学灾变损伤,将垂直横向激光模式转换为单模,提升激光相干性,提升光束质量因子、限制因子和远场图像FFP质量。
所述光学偏振插入层107的任意组合包括以下四元组合的异质结、超晶格、量子阱、核壳结构、量子点等结构但不限于以下结构:BP/NaNO2/PbZrO3/NaBiTiO3,BP/NaNO2/PbZrO3/CsBiNb2O7,BP/NaNO2/PbZrO3/Ti3C2Tx,BP/NaNO2/PbZrO3/CuInP2S6,BP/NaNO2/PbZrO3/WTe2,BP/PbZrO3/NaBiTiO3/CsBiNb2O7,BP/PbZrO3/NaBiTiO3/Ti3C2Tx,BP/PbZrO3/NaBiTiO3/CuInP2S6,BP/PbZrO3/NaBiTiO3/WTe2,BP/NaBiTiO3/CsBiNb2O7/Ti3C2Tx,BP/NaBiTiO3/CsBiNb2O7/CuInP2S6,BP/NaBiTiO3/CsBiNb2O7/WTe2,BP/CsBiNb2O7/CuInP2S6/WTe2,NaNO2/PbZrO3/NaBiTiO3/CsBiNb2O7,NaNO2/PbZrO3/NaBiTiO3/Ti3C2Tx,
NaNO2/PbZrO3/NaBiTiO3/CuInP2S6,NaNO2/PbZrO3/NaBiTiO3/WTe2,
NaNO2/NaBiTiO3/CsBiNb2O7/CuInP2S6,NaNO2/NaBiTiO3/CsBiNb2O7/WTe2,NaNO2/CsBiNb2O7/Ti3C2Tx/CuInP2S6,NaNO2/CsBiNb2O7/Ti3C2Tx/WTe2,NaNO2/Ti3C2Tx/CuInP2S6/WTe2,PbZrO3/NaBiTiO3/CsBiNb2O7/Ti3C2Tx,PbZrO3/NaBiTiO3/CsBiNb2O7/CuInP2S6,PbZrO3/NaBiTiO3/CsBiNb2O7/WTe2,PbZrO3/CsBiNb2O7/Ti3C2Tx/CuInP2S6,PbZrO3/CsBiNb2O7/Ti3C2Tx/WTe2,PbZrO3/Ti3C2Tx/CuInP2S6/WTe2,
NaBiTiO3/CsBiNb2O7/Ti3C2Tx/CuInP2S6,NaBiTiO3/CsBiNb2O7/Ti3C2Tx/WTe2。
实施例5
请参阅图1,本实施例提供一种技术方案:一种设有光学偏振插入层的半导体激光元件,一种设有光学偏振插入层的半导体激光元件,从下至上依次包括衬底100、下限制层101、下波导层102,有源层103、上波导层104、电子阻挡层105、上限制层106,有源层103与上波层104之间和有源层103与下波导层102之间设有光学偏振插入层107。
所述有源层103与上波层104之间和有源层103与下波导层102之间设有光学偏振插入层107,光学偏振插入层107可实现快速电荷转移,控制有源层发出激光的相位和偏振,实现精准的光学偏振调控,降低光场耗散,抑制光场模式泄漏,同时,改善光学灾变损伤,将垂直横向激光模式转换为单模,提升激光相干性,提升光束质量因子、限制因子和远场图像FFP质量。
所述光学偏振插入层107的任意组合包括以下五元、六元、七元、八元组合的异质结、超晶格、量子阱、核壳结构、量子点等结构但不限于以下结构:
BP/NaNO2/PbZrO3/NaBiTiO3/CsBiNb2O7,BP/NaNO2/PbZrO3/NaBiTiO3/Ti3C2Tx,
BP/NaNO2/PbZrO3/NaBiTiO3/CuInP2S6,BP/NaNO2/PbZrO3/NaBiTiO3/WTe2,
BP/PbZrO3/NaBiTiO3/CsBiNb2O7/Ti3C2Tx,BP/PbZrO3/NaBiTiO3/CsBiNb2O7/CuInP2S6,
BP/PbZrO3/NaBiTiO3/CsBiNb2O7/WTe2,BP/NaBiTiO3/CsBiNb2O7/Ti3C2Tx/CuInP2S6,
BP/NaBiTiO3/CsBiNb2O7/Ti3C2Tx/WTe2,BP/CsBiNb2O7/Ti3C2Tx/CuInP2S6/WTe2,
NaNO2/PbZrO3/NaBiTiO3/CsBiNb2O7/Ti3C2Tx,NaNO2/PbZrO3/NaBiTiO3/CsBiNb2O7/CuInP2S6,
NaNO2/PbZrO3/NaBiTiO3/CsBiNb2O7/WTe2,NaNO2/NaBiTiO3/CsBiNb2O7/Ti3C2Tx/CuInP2S6,
NaNO2/NaBiTiO3/CsBiNb2O7/Ti3C2Tx/WTe2,NaNO2/CsBiNb2O7/Ti3C2Tx/CuInP2S6/WTe2,
PbZrO3/NaBiTiO3/CsBiNb2O7/Ti3C2Tx/CuInP2S6,PbZrO3/NaBiTiO3/CsBiNb2O7/Ti3C2Tx/WTe2,
PbZrO3/CsBiNb2O7/Ti3C2Tx/CuInP2S6/WTe2,NaBiTiO3/CsBiNb2O7/Ti3C2Tx/CuInP2S6/WTe2,BP/NaNO2/PbZrO3/NaBiTiO3/CsBiNb2O7/Ti3C2Tx,BP/NaNO2/PbZrO3/NaBiTiO3/CsBiNb2O7/CuInP2S6,BP/NaNO2/PbZrO3/NaBiTiO3/CsBiNb2O7/WTe2,BP/PbZrO3/NaBiTiO3/CsBiNb2O7/Ti3C2Tx/CuInP2S6,BP/PbZrO3/NaBiTiO3/CsBiNb2O7/Ti3C2Tx/WTe2,BP/NaBiTiO3/CsBiNb2O7/Ti3C2Tx/CuInP2S6/WTe2,BP/PbZrO3/NaBiTiO3/CsBiNb2O7/Ti3C2Tx/CuInP2S6,BP/PbZrO3/NaBiTiO3/CsBiNb2O7/Ti3C2Tx/WTe2,BP/NaBiTiO3/CsBiNb2O7/Ti3C2Tx/CuInP2S6/WTe2,
NaNO2/PbZrO3/NaBiTiO3/CsBiNb2O7/Ti3C2Tx/CuInP2S6,
NaNO2/PbZrO3/NaBiTiO3/CsBiNb2O7/Ti3C2Tx/WTe2,
NaNO2/NaBiTiO3/CsBiNb2O7/Ti3C2Tx/CuInP2S6/WTe2,
PbZrO3/NaBiTiO3/CsBiNb2O7/Ti3C2Tx/CuInP2S6/WTe2,
BP/NaNO2/PbZrO3/NaBiTiO3/CsBiNb2O7/Ti3C2Tx/CuInP2S6,
BP/NaNO2/PbZrO3/NaBiTiO3/CsBiNb2O7/Ti3C2Tx/WTe2,
NaNO2/PbZrO3/NaBiTiO3/CsBiNb2O7/Ti3C2Tx/CuInP2S6/WTe2,
BP/NaNO2/NaBiTiO3/CsBiNb2O7/Ti3C2Tx/CuInP2S6/WTe2,
BP/NaNO2/PbZrO3/CsBiNb2O7/Ti3C2Tx/CuInP2S6/WTe2,
BP/NaNO2/PbZrO3/NaBiTiO3/Ti3C2Tx/CuInP2S6/WTe2,
BP/NaNO2/PbZrO3/NaBiTiO3/CsBiNb2O7/CuInP2S6/WTe2,
BP/NaNO2/PbZrO3/NaBiTiO3/CsBiNb2O7/Ti3C2Tx/WTe2,
BP/NaNO2/PbZrO3/NaBiTiO3/CsBiNb2O7/Ti3C2Tx/CuInP2S6/WTe2。
所述下限制层101、下波导层102,有源层103、上波导层104、电子阻挡层105、上限制层106包括GaN、AlGaN、InGaN、AlInGaN、AlN、InN、AlInN、SiC、Ga2O3、BN、GaAs、GaP、InP、AlGaAs、AlInGaAs、AlGaInP、InGaAs、AlInAs、AlInP、AlGaP、InGaP的任意一种或任意多元组合。
所述衬底100包括蓝宝石、硅、Ge、SiC、AlN、GaN、GaAs、InP、蓝宝石/SiO2复合衬底、蓝宝石/AlN复合衬底、蓝宝石/SiNx、蓝宝石/SiO2/SiNx复合衬底、镁铝尖晶石MgAl2O4、MgO、ZnO、ZrB2、LiAlO2和LiGaO2复合衬底的任意一种。
实验例1:
采用实施例1中的技术方案进行绿光激光器实验,光学偏振插入层采用BP进行实验;
实验例2:
采用实施例2中的技术方案进行绿光激光器实验,光学偏振插入层采用BP/NaNO2进行实验;
实验例3:
采用实施例3中的技术方案进行绿光激光器实验,光学偏振插入层采用BP/NaNO2/PbZrO3进行实验;
实验例4:
采用实施例4中的技术方案进行绿光激光器实验,光学偏振插入层采用BP/NaNO2/PbZrO3/NaBiTiO3进行实验;
实验例5:
采用实施例5中的技术方案进行绿光激光器实验,光学偏振插入层采用BP/NaNO2/PbZrO3/NaBiTiO3/CsBiNb2O7进行实验;
实验例1-5的各项数据如下:
实验例1-5的各项数据平均值与传统激光元件的对比数据如下:
绿光激光器的光束质量因子从1.78下降至1.09,提升幅度为63%;限制因子从1.97%提升至2.68%,提升36%。
相比于现有技术,有源层与上波层之间和有源层与下波导层之间设有光学偏振插入层,可实现快速电荷转移,控制有源层发出激光的相位和偏振,实现精准的光学偏振调控,降低光场耗散,抑制光场模式泄漏,同时,改善光学灾变损伤,将垂直横向激光模式转换为单模,提升激光相干性,提升光束质量因子、限制因子和远场图像FFP质量。
以上实施例仅用以说明本实用新型而并非限制本实用新型所描述的技术方案,尽管本说明书参照上述的各个实施例对本实用新型已进行了详细的说明,但本实用新型不局限于上述具体实施方式,因此任何对本实用新型进行修改或等同替换;而一切不脱离实用新型的精神和范围的技术方案及其改进,其均涵盖在本实用新型的权利要求范围当中。
Claims (2)
1.一种设有光学偏振插入层的半导体激光元件,从下至上依次包括衬底(100)、下限制层(101)、下波导层(102),有源层(103)、上波导层(104)、电子阻挡层(105)、上限制层(106),其特征在于:有源层(103)与上波层(104)之间和有源层(103)与下波导层(102)之间设有光学偏振插入层(107)。
2.如权利要求1所述的一种设有光学偏振插入层的半导体激光元件,其特征在于,所述光学偏振插入层(107)的厚度为5~500nm。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202320491580.3U CN219959682U (zh) | 2023-03-15 | 2023-03-15 | 一种设有光学偏振插入层的半导体激光元件 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202320491580.3U CN219959682U (zh) | 2023-03-15 | 2023-03-15 | 一种设有光学偏振插入层的半导体激光元件 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN219959682U true CN219959682U (zh) | 2023-11-03 |
Family
ID=88555767
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202320491580.3U Active CN219959682U (zh) | 2023-03-15 | 2023-03-15 | 一种设有光学偏振插入层的半导体激光元件 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN219959682U (zh) |
-
2023
- 2023-03-15 CN CN202320491580.3U patent/CN219959682U/zh active Active
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN118054303A (zh) | 一种具有光吸收损耗抑制层的半导体激光器芯片 | |
CN116759889A (zh) | 一种设有离子共轭层的半导体激光元件 | |
CN116345307A (zh) | 一种设有范德瓦斯非线性层的半导体激光元件 | |
CN116131102A (zh) | 一种设有量子限制斯塔克调控层的半导体激光元件 | |
CN116667146A (zh) | 一种设有三线态激子富集层的半导体激光元件 | |
CN219959682U (zh) | 一种设有光学偏振插入层的半导体激光元件 | |
CN116487998A (zh) | 一种设有光学偏振插入层的半导体激光元件 | |
CN220233725U (zh) | 一种设有二维莫尔超晶格层的半导体激光元件 | |
CN220272957U (zh) | 一种设有极化调控层的半导体激光元件 | |
CN220272958U (zh) | 一种具有InN相分离抑制层的半导体激光器 | |
CN116526293A (zh) | 一种设有一维外尔费米子层的半导体激光元件 | |
CN220066403U (zh) | 一种设有等离激元耦合层的半导体激光元件 | |
CN116598890A (zh) | 一种设有极化调控层的半导体激光元件 | |
CN116544784A (zh) | 一种设有二维莫尔超晶格层的半导体激光元件 | |
CN220066405U (zh) | 一种设有拓扑声子态层的半导体激光元件 | |
CN116169558B (zh) | 一种具有衬底模式抑制层的半导体激光器 | |
CN117410828A (zh) | 一种半导体紫光紫外激光器 | |
CN116316070A (zh) | 一种设有电流诱导自旋极化层的半导体激光元件 | |
CN116667148A (zh) | 一种内置压电极化调控层的半导体激光元件 | |
CN116505378A (zh) | 一种具有非线性光学层的半导体激光元件 | |
CN116231454A (zh) | 一种设有热电整流层的半导体激光元件 | |
CN118054305A (zh) | 一种半导体激光器 | |
CN116470386A (zh) | 一种设有电子自旋态层的半导体激光元件 | |
CN116191198A (zh) | 一种设有自旋轨道耦合层的半导体激光元件 | |
CN116667147A (zh) | 一种内置拓扑平带层的半导体激光元件 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |