CN219293647U - 一种涡轮流体双向抛光装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及一种涡轮流体双向抛光装置，包括底板，所述底板上设置有可通过流体的第一通孔；底板上端连接有套筒；套筒上端连接有压板，所述压板上设置有可通过流体的第二通孔；涡轮设置在套筒内，且涡轮的一端与底板连接，另一端与压板连接；所述底板上设置有让位槽，所述让位槽居中处连接有芯体，所述芯体远离底板的一端与涡轮的齿顶连接，流体可沿芯体表面流经齿槽和齿顶，通过在芯体上设置有第一台阶，第一台阶和底板之间的间隙形成临时料仓，避免了磨料流体直接冲击涡轮产品，提高研磨质量；磨料流体可从第一通孔进入，由第二通孔流出；也可以从第二通孔进入，沿第一通孔流出，双向进行抛光，极大的提高了抛光的效率。
Description
技术领域
本实用新型涉及流体抛光技术领域，特别涉及一种涡轮流体双向抛光装置。
背景技术
在精密加工中，车、铣、磨等加工后的表面会产生刀痕，裂纹等便面损伤，另外刀具的磨损等也会影响工件的表面性能，需要通过抛光消除表面损伤。对于结构复杂的工件，传统的抛光方式效率较低，不利于大批量的生产，而通过流体介质抛光的方式，能够以较低的成本，在达到表面质量要求的同时适用于大批量的生产。现有技术中的流体加工，流体介质进入抛光治具时，直接与工件进行接触，高速的流体介质直接对工件的表面造成冲刷，会造成工件表面产生细小凹痕，影响工件表面质量，且抛光不均匀，效率较低等。因此，本实用新型进行了涡轮流体双向抛光装置，以解决现有技术中存在的问题。
实用新型内容
本实用新型目的是：提供一种涡轮流体双向抛光装置，以解决现有技术中抛光效率低，抛光质量差等问题。
本实用新型的技术方案是：一种涡轮流体双向抛光装置，包括底板，所述底板上设置有可通过流体的第一通孔；底板上端连接有套筒；套筒上端连接有压板，所述压板上设置有可通过流体的第二通孔；涡轮设置在套筒内，且涡轮的一端与底板连接，另一端与压板连接；
所述底板上设置有让位槽，所述让位槽居中处连接有芯体，所述芯体远离底板的一端与涡轮的齿顶连接，流体可沿芯体表面流经齿槽和齿顶。
优选的，所述芯体靠近底板的一端设置有环形的第一台阶，所述第一台阶的底面与底板有间隙。
优选的，所述第一通孔环形圆周排列设置有多个，且所述第一通孔沿芯体方向上的投影在第一台阶的底面上。
优选的，所述第二通孔设置在压板的居中处，且与涡轮的轴孔连接。
优选的，所述压板下端沿外圆周设置有第二台阶，所述套筒的上端套设在第二台阶上。
优选的，所述底板的上端沿外圆周设置有第三台阶，所述套筒的下端套设在第三台阶上。
优选的，所述让位槽上端沿其外圆周设置有第四台阶，涡轮的下端嵌设在第四台阶上。
优选的，所述底板的下端还连接有过渡法兰。
与现有技术相比，本实用新型的优点是：
(1)通过在芯体上设置有第一台阶，第一台阶和底板之间的间隙形成临时料仓，避免了磨料流体直接冲击涡轮产品，提高研磨质量；
(2)芯体的上端面与涡轮齿轮的齿顶连接，起到导流作用，其与齿顶之间形成微小间隙，可使得磨料流体从齿顶处流过，实现对齿顶的抛光；同时磨料经过齿槽，实现齿槽的抛光；
(3)第二台阶和第三台阶的设置，增强了底板和套筒之间及压板和套筒之间的密封，避免了磨料流体外溢；第四台阶的设置，对涡轮产品实现快速定位，且通过压板的抵压，避免了抛光过程中位移；
(4)磨料流体可从第一通孔进入，沿芯体上表面经过齿顶、齿槽，再经过涡轮轴孔，最后由第二通孔流出；也可以从第二通孔进入，反向流动，最后沿第一通孔流出，双向进行抛光，极大的提高了抛光的效率。
附图说明
下面结合附图及实施例对本实用新型作进一步描述：
图1为本实用新型所述涡轮流体双向抛光装置爆炸结构示意图；
图2为本实用新型所述涡轮流体双向抛光装置正式剖视示意图；
图3为本实用新型所述底板和芯体的结构示意图。
其中：底板1，第一通孔11，让位槽12，第四台阶121，第三台阶13，芯体2，第一台阶21，套筒3，压板4，第二通孔41，第二台阶42，过渡法兰5，涡轮6。
具体实施方式
下面结合具体实施例，对本实用新型的内容做进一步的详细说明：
如图1-3所示，一种涡轮流体双向抛光装置，包括底板1，底板1上设置有可通过流体的第一通孔11，第一通孔11环形圆周排列设置有多个，且第一通孔11沿芯体2方向上的投影在第一台阶21的底面上。底板1上端连接有套筒3；套筒3上端连接有压板4，压板4上设置有可通过流体的第二通孔41，第二通孔41设置在压板4的居中处，且与涡轮的轴孔连接。涡轮设置在套筒3内，且涡轮的一端与底板1连接，另一端与压板4连接；底板1的下端还连接有过渡法兰5。
底板1上设置有让位槽12，让位槽12居中处连接有芯体2，芯体2远离底板1的一端与涡轮的齿顶连接，流体可沿芯体2表面流经齿槽和齿顶。芯体2靠近底板1的一端设置有环形的第一台阶21，第一台阶21的底面与底板1有间隙。
本实施例中，涡轮放置后，通过过渡法兰5和压板4与抛光设备连接；抛光时，研磨流体从第一通孔11进入，经由芯体2和底板1之间的间隙，进入芯体2的上表面；流体在芯体2的上表面经过时，经由齿顶和齿槽，实现对齿顶和齿槽的抛光；再经过涡轮的轴孔，最后通过第二通孔41流出。
需要说明的是，研磨流体可从第二通孔41流入，按上述反向的流动过程对涡轮实现反向的抛光，流体不断的双向流动，极大的提高了抛光的效率。
压板4下端沿外圆周设置有第二台阶42，套筒3的上端套设在第二台阶42上。底板1的上端沿外圆周设置有第三台阶13，套筒3的下端套设在第三台阶13上。让位槽12上端沿其外圆周设置有第四台阶121，涡轮的下端嵌设在第四台阶121上。
本实施例中，第二台阶42和第三台阶13的设置，实现了抛光装置的整体的密封，避免在抛光时，流体过相应的连接处溢出，而影响抛光质量；第四台阶121对涡轮起到的定位的作用，当涡轮放置于第四台阶121处后，压板4刚好与涡轮的上端面相抵压，对涡轮进行压紧。
上述实施例只为说明本实用新型的技术构思及特点，其目的在于让熟悉此项技术的人能够了解本实用新型的内容并据以实施，并不能以此限制本实用新型的保护范围。对于本领域技术人员而言，显然本实用新型不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本实用新型的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本实用新型，因此无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本实用新型的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本实用新型内。
Claims (8)
1.一种涡轮流体双向抛光装置，其特征在于：包括底板，所述底板上设置有可通过流体的第一通孔；底板上端连接有套筒；套筒上端连接有压板，所述压板上设置有可通过流体的第二通孔；涡轮设置在套筒内，且涡轮的一端与底板连接，另一端与压板连接；
所述底板上设置有让位槽，所述让位槽居中处连接有芯体，所述芯体远离底板的一端与涡轮的齿顶连接，流体可沿芯体表面流经齿槽和齿顶。
2.根据权利要求1所述的一种涡轮流体双向抛光装置，其特征在于：所述芯体靠近底板的一端设置有环形的第一台阶，所述第一台阶的底面与底板有间隙。
3.根据权利要求2所述的一种涡轮流体双向抛光装置，其特征在于：所述第一通孔环形圆周排列设置有多个，且所述第一通孔沿芯体方向上的投影在第一台阶的底面上。
4.根据权利要求1所述的一种涡轮流体双向抛光装置，其特征在于：所述第二通孔设置在压板的居中处，且与涡轮的轴孔连接。
5.根据权利要求1所述的一种涡轮流体双向抛光装置，其特征在于：所述压板下端沿外圆周设置有第二台阶，所述套筒的上端套设在第二台阶上。
6.根据权利要求1所述的一种涡轮流体双向抛光装置，其特征在于：所述底板的上端沿外圆周设置有第三台阶，所述套筒的下端套设在第三台阶上。
7.根据权利要求1所述的一种涡轮流体双向抛光装置，其特征在于：所述让位槽上端沿其外圆周设置有第四台阶，涡轮的下端嵌设在第四台阶上。
8.根据权利要求1所述的一种涡轮流体双向抛光装置，其特征在于：所述底板的下端还连接有过渡法兰。
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