CN218954241U - 一种循环管、循环管组件以及刻蚀设备 - Google Patents
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Abstract
本申请实施例提供了一种循环管、循环管组件以及刻蚀设备。所述循环管具体包括:排气管、从里至外依次套接设置的内管、中层管以及外管;其中,内管的一端连接有进液孔,进液孔用于向内管内通入工作液体;内管上的顶部设置有第一出液孔,第一出液孔用于将内管内的工作液体通入中层管内;所述中层管的底部设置有第二出液孔,所述第二出液孔用于将所述中层管内的所述工作液体通入所述外管内,所述排气管连接在所述中层管上远离所述进液孔的一端;所述外管的顶部设置有第三出液孔,所述第三出液孔用于将所述外管内的所述工作液体排出。本申请实施例所述的循环管既可以防止气泡溢出至所述主刻蚀槽内,又可以兼顾所述硅片的背面抛光效果。
Description
技术领域
本申请属于光伏技术领域,具体涉及一种循环管、循环管组件以及刻蚀设备。
背景技术
刻蚀设备是一种对硅片进行酸背抛刻蚀工艺的设备。酸背抛刻蚀工艺通常利用HNO3和HF的混合液体对硅片下表面的抛光和边缘进行腐蚀,去除边缘的N型硅,使得硅片的上下表面相互绝缘。通常的,刻蚀设备可以包括主刻蚀槽、副刻蚀槽以及连通主刻蚀槽和副刻蚀槽的循环管。其中,主刻蚀槽通常用于进行硅片的刻蚀,副刻蚀槽通常用于加入新补加的工作液体,而循环管则可以用于主刻蚀槽和副刻蚀槽之间的工作液体循环。
现有的技术中,循环管通常为双层循环管,双层循环管容易在内外管内聚集气泡,气泡溢出后容易在硅片边缘炸裂,导致硅片边缘出现过刻的缺陷。双层循环管为了防止气泡溢出,外管出液孔必须要朝下安装,新工作液体无法直接喷到硅片上,会导致硅片的背面抛光效果不佳。也即,现有的循环管在防止气泡溢出的同时很难兼顾硅片的背面抛光效果。
实用新型内容
本申请旨在提供一种循环管、循环管组件以及刻蚀设备,以解决现有的循环管在防止气泡溢出的同时很难兼顾硅片的背面抛光效果的问题。
为了解决上述技术问题,本申请是这样实现的:
第一方面,本申请公开了一种循环管,所述循环管包括:排气管、从里至外依次套接设置的内管、中层管以及外管;其中,
所述内管的一端连接有进液孔,所述进液孔用于向所述内管内通入工作液体;
所述内管上的顶部设置有第一出液孔,所述第一出液孔用于将所述内管内的所述工作液体通入所述中层管内;
所述中层管的底部设置有第二出液孔,所述第二出液孔用于将所述中层管内的所述工作液体通入所述外管内,所述排气管连接在所述中层管上远离所述进液孔的一端;
所述外管的顶部设置有第三出液孔,所述第三出液孔用于将所述外管内的所述工作液体排出。
可选地,所述第一出液孔、所述第二出液孔以及所述第三出液孔的数量皆为多个,多个所述第一出液孔、多个所述第二出液孔以及多个所述第三出液孔皆沿所述循环管的轴向依次间隔设置。
可选地,沿所述循环管的轴向,所述循环管包括背离设置的第一端和第二端,所述进液孔设置在所述第一端;
沿所述循环管的轴向,所述循环管包括依次连接的第一段和第二段,所述第一段靠近所述第一端设置,所述第二段靠近所述第二端设置;
在所述第一段,沿所述循环管的轴向,相邻的两个所述第一出液孔之间的间距、相邻的两个所述第二出液孔之间的间距、以及相邻的两个所述第三出液孔之间的间距相等;
在所述第二段,沿所述循环管的轴向,相邻的两个所述第一出液孔之间的间距、相邻的两个所述第二出液孔之间的间距、以及相邻的两个所述第三出液孔之间的间距相等。
可选地,在所述第一段,沿所述循环管的轴向,相邻的两个所述第一出液孔之间的间距为第一间距;
在所述第二段,沿所述循环管的轴向,相邻的两个所述第一出液孔之间的间距为第二间距;
其中,所述第一间距大于所述第二间距。
可选地,所述第一间距为40至50毫米,所述第二间距为15至25毫米。
可选地,沿所述循环管的轴向,所述循环管包括背离设置的第一端和第二端,所述进液孔设置在所述第一端;
沿所述第一端至所述第二端的方向,相邻的两个所述第一出液孔之间的间距、相邻的两个所述第二出液孔之间的间距以及相邻的两个所述第三出液孔之间的间距依次递减。
可选地,沿所述循环管的轴向,所述第一出液孔和所述第二出液孔成单排设置,所述第三出液孔成多排设置。
第二方面,本申请还公开了一种循环管组件,所述循环管组件包括:进液管以及至少两个上述任一项所述的循环管;其中,
所述进液管分别与每一个所述循环管的进液孔连通,以向所述循环管的内管通入工作液体。
可选地,至少两个所述循环管平行设置;
所述进液管的轴向与硅片的运行方向平行;
所述循环管的轴向相对所述进液管的轴向倾斜。
可选地,所述循环管的轴向与所述进液管的轴向之间的夹角为70度至80度。
第二方面,本申请还公开了一种刻蚀设备,所述刻蚀设备包括:主刻蚀槽、副刻蚀槽以及上述任一项所述的循环管组件;其中,
所述循环管组件分别连通所述主刻蚀槽和所述副刻蚀槽。
本申请实施例中,在所述进液孔向所述内管内通入工作液体后,由于所述内管的顶部设置有第一出液孔,所述工作液体中的气泡会跟随所述工作液体从所述第一出液孔溢出至所述中层管。由于所述中层管远离所述进液孔的连接有排气管,所述中层管的底部设置有第二出液孔,所述气泡可以从所述排气管排出至所述循环管外,避免气泡进入所述外管主刻蚀槽内,所述工作液体则可以从所述第二出液孔进入所述外管。由于所述外管的顶部设置有第三出液孔,所述工作液体可以从顶部的第三出液孔喷出至所述循环管顶部的硅片背面,对所述硅片的背面进行刻蚀抛光,以提升所述硅片的背面抛光效果。也即,本申请实施例所述的循环管既可以防止气泡溢出至所述主刻蚀槽内,又可以兼顾所述硅片的背面抛光效果。
本实用新型的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出,部分将从下面的描述中变得明显,或通过本实用新型的实践了解到。
附图说明
本实用新型的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解,其中:
图1是本申请实施例所述的一种刻蚀设备的结构示意图;
图2是本申请实施例所述的一种循环管组件的结构示意图;
图3是本申请实施例所述的一种循环管的结构示意图;
图4是图3所示的循环管的剖面结构示意图;
附图标记:100-循环管组件,10-进液管,11-循环管,111-排气管,112-内管,1121-第一出液孔,113-中层管,1131-第二出液孔,114-外管,1141-第三出液孔,115-进液孔,200-主刻蚀槽,300-副刻蚀槽,400-管道,500-泵,20-硅片,A-第一段,B-第二段。
具体实施方式
下面将详细描述本实用新型的实施例,所述实施例的示例在附图中示出,其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的,仅用于解释本实用新型,而不能理解为对本实用新型的限制。基于本申请中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本申请保护的范围。
本申请的说明书和权利要求书中的术语“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本实用新型的描述中,除非另有说明,“多个”的含义是两个或两个以上。此外,说明书以及权利要求中“和/或”表示所连接对象的至少其中之一,字符“/”,一般表示前后关联对象是一种“或”的关系。
在本实用新型的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本实用新型和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本实用新型的限制。
在本实用新型的描述中,需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
本申请实施例提供了一种循环管,所述循环管可以构成用于刻蚀设备的循环管组件。具体的,所述循环管组件可以用于所述刻蚀设备中的工作液体循环。
参照图1,示出了本申请实施例所述的一种刻蚀设备的结构示意图。如图1所示,所述刻蚀设备具体可以包括:主刻蚀槽200、副刻蚀槽300以及循环管组件100;其中,循环管组件100分别连通主刻蚀槽200和副刻蚀槽300。
在具体的应用中,主刻蚀槽200和副刻蚀槽300皆可以用于容纳刻蚀硅片20的工作液体。其中,主刻蚀槽200可以用于容纳硅片20并对硅片20进行刻蚀,循环管组件100可以铺设在主刻蚀槽200的底部,副刻蚀槽300则可以用于容纳新的工作液体。所述刻蚀设备还可以包括连通管道400以及连接在管道400上的泵500,管道400分别与主刻蚀槽200内的循环管组件100以及副刻蚀槽300连通。在泵500的作用下,副刻蚀槽300内的工作液体可以依次通过管道400和循环管组件100进入主刻蚀槽200内,以将新的工作液体补充至主刻蚀槽200内。
参照图2,示出了本申请实施例所述的一种循环管组件的结构示意图,如图2所示,循环管组件100具体可以包括:进液管10以及至少两个循环管11;其中,进液管10分别与每一个循环管11的进液孔115连通,以向循环管11的内管112通入工作液体。
在具体的应用中,进液管10可以与管道400连通。管道400可以将副刻蚀槽300内的工作液体传输至进液管10内,并通过进液管10分配至每个循环管11内。最终,通过循环管11进入主刻蚀槽200内。在实际应用中,循环管组件100可以位于主刻蚀槽200的底部,硅片20在循环管11的顶部运行,循环管11内喷出的工作液体可以喷射至硅片20的背面,对硅片20的背面进行刻蚀抛光。
参照图3,示出了本申请实施例所述的一种循环管的结构示意图,参照图4,示出了图3所示的循环管的剖面结构示意图。如图3、图4所示,循环管11具体可以包括:排气管111、从里至外依次套接设置的内管112、中层管113以及外管114;其中,内管112的一端连接有进液孔115,进液孔115可以用于向内管112内通入工作液体;内管112上的顶部设置有第一出液孔1121,第一出液孔1121可以用于将内管112内的所述工作液体通入中层管113内;中层管113的底部设置有第二出液孔1131,第二出液孔1131可以用于将中层管113内的所述工作液体通入外管114内,排气管111连接在中层管113上远离进液孔115的一端;外管114的顶部设置有第三出液孔1141,第三出液孔1141可以用于将外管114内的所述工作液体排出。
在具体的应用中,循环管11中的内管112、中层管113以及外管114可以同轴设置。内管112、中层管113以及外管114的材质可以包括但不局限于金属、塑料、橡胶中的至少一种,橡胶优选使用硅胶。内管112的一端可以设置有进液孔115,进液孔115可以与所述刻蚀设备的管道400连接。副刻蚀槽300内新补充的工作液体可以从进液孔115进入内管112内。
本申请实施例中,在进液孔115向内管112内通入工作液体后,由于内管112的顶部设置有第一出液孔1121,所述工作液体中的气泡会跟随所述工作液体从第一出液孔1121溢出至中层管113。由于中层管113远离进液孔115的连接有排气管111,中层管113的底部设置有第二出液孔1131,所述气泡可以从排气管111排出至循环管11外,避免气泡进入外管114内,所述工作液体则可以从第二出液孔1131进入外管114。由于外管114的顶部设置有第三出液孔1141,所述工作液体可以从顶部的第三出液孔1141喷出至循环管11顶部的硅片20背面,对硅片20的背面进行刻蚀抛光,以提升硅片20的背面抛光效果。也即,本申请实施例所述的循环管11既可以防止气泡溢出至主刻蚀槽200内,又可以兼顾硅片20的背面抛光效果。
本申请实施例中,通过将循环管11设置成内管112、中层管113以及外管114的三层设置,可以提高所述工作液体在循环管11内的滞留时间。这样,就可以减小循环管11内新加入的所述工作液体的温度与主刻蚀槽200内原有的工作液体的温差,有利于刻蚀抛光硅片20的均匀性。
在具体的应用中,在进液孔115向内管112内通入工作液体后。由于内管112的第一出液孔1121设置在顶部,质量很轻的气泡会随着所述工作液体通过第一出液孔1121排到中层管113内。由于中层管113的第二出液孔1131设置在底部,且中层管113内连接有排气管111,质量很轻的气泡很难沉到中层管113的底部通过第二出液孔1131排到外管114内,而是通过排气管111排出至循环管11外部去,以避免所述气泡溢出至主刻蚀槽200内。由于外管114的顶部设置有第三出液孔1141,所述工作液体可以从顶部的第三出液孔1141喷出至循环管11顶部的硅片20背面,对硅片20的背面进行刻蚀抛光。由于循环管11喷出来的新补充的工作液体具有更高的活性,因此,可以提升硅片20的背面抛光效果。
在实际应用中,排气管111可以采用软管制成,所述软管的一端可以连接在中层管113的端部靠近顶部的位置,以便于质量较轻的气泡充分的溢出至排气管111内。排气管111的另一端可以延伸至主刻蚀槽200外部,以将所述气泡排出至主刻蚀槽200外。
需要说明的是,本申请实施例中,内管112的顶部可以包括内管112顶部的中心区域,或者内管112顶部偏离中心区域的位置。同理,中层管113的底部可以为中层管113底部的中心区域,或者中层管113底部偏离中心区域的位置。外管114的顶部可以包括外管114顶部的中心区域,或者外管114顶部偏离中心区域的位置。本申请实施例对于第一出液孔1121、第二出液孔1131以及第三出液孔1141的具体位置可以不做限定。在其他实施例中,较佳的,第一出液孔1121位于内管112顶部的中心区域;第二出液孔1131位于中层管113底部的中心区域;第三出液孔1141位于外管114顶部的中心区域。
如图3所示,第一出液孔1121、第二出液孔1131以及第三出液孔1141的数量皆为多个,多个第一出液孔1121、多个第二出液孔1131以及多个第三出液孔1141皆沿循环管11的轴向依次间隔设置,以便于所述工作液体可以依次通过多个第一出液孔1121、多个第二出液孔1131以及多个第三出液孔1141最终喷出至硅片20背面,以提高所述工作液体刻蚀抛光硅片20的均匀性。
在本申请的一些可选实施例中,沿循环管11的轴向,循环管11可以包括背离设置的第一端和第二端,进液孔115设置在所述第一端;沿循环管11的轴向,循环管11包括依次连接的第一段A和第二段B,第一段A靠近所述第一端设置,所述第二段B靠近所述第二端设置;在第一段A,沿循环管11的轴向,相邻的两个第一出液孔1121之间的间距、相邻的两个第二出液孔1131之间的间距、以及相邻的两个第三出液孔1141之间的间距相等;在第二段B,沿循环管11的轴向,相邻的两个第一出液孔1121之间的间距、相邻的两个第二出液孔1131之间的间距、以及相邻的两个第三出液孔1141之间的间距相等。
在具体的应用中,通过将第一段A相邻的两个第一出液孔1121之间的间距、相邻的两个第二出液孔1131之间的间距、以及相邻的两个第三出液孔1141之间的间距相等,并将所述第二段B相邻的两个第一出液孔1121之间的间距、相邻的两个第二出液孔1131之间的间距、以及相邻的两个第三出液孔1141之间的间距相等。不仅可以使得所述工作液体平稳顺畅的依次通过第一出液孔1121、第二出液孔1131以及第三出液孔1141,而且,还便于第一出液孔1121之间、第二进液孔115之间以及第三出液孔1141之间的间距控制。
在本申请的一些可选实施例中,在第一段A,沿循环管11的轴向,相邻的两个第一出液孔1121之间的间距为第一间距;在第二段B,沿循环管11的轴向,相邻的两个第一出液孔1121之间的间距为第二间距;其中,所述第一间距大于所述第二间距。
在具体的应用中,进入循环管11内的工作液体从循环管11的第一端流动至所述第二端的过程中,流速会依次递减,从第三出液孔1141喷出的工作液体的流量相应也会依次递减。本申请实施例中,通过将靠近第一端的第一段A的出液孔之间的距离设置的较大,并将靠近所述第二端的第二段B的出液孔之间的距离设置得较小,可以使得第一段A和第二段B的出液孔喷出的工作液体的整体流量较为均匀。这样,就可以提高循环管11喷出的工作液体对硅片20的背面进行刻蚀抛光时的均匀性。
可选地,所述第一间距为40至50毫米,所述第二间距为15至25毫米。在具体的应用中,在所述第一间距为40至50毫米,且所述第二间距为15至25毫米的情况下,不仅可以使得第一间距大于所述第二间距,调节循环管11喷出的工作液体的流速,而且,还有利于所述出液孔的加工。
需要说明的是,在具体的应用中,本领域技术人员可以根据实际需要所述第一间距和所述第一间距的具体值。例如,在第一出液孔1121、第二出液孔1131以及第三出液孔1141的孔径为2毫米,第一段A的长度为1000毫米,第二段B的距离为600毫米的情况下,所述第一间距可以为40、42、45或者50毫米等,所述第一间距可以为15、16、18或者20毫米等,本申请实施例对于所述第一间距和所述第二间距的具体值可以不做限定。
在本申请的另一写可选实施例中,沿循环管11的轴向,循环管11可以包括背离设置的第一端和第二端,进液孔115设置在所述第一端;沿所述第一端至所述第二端的方向,相邻的两个第一出液孔1121之间的间距、相邻的两个第二出液孔1131之间的间距以及相邻的两个第三出液孔1141之间的间距依次递减。
在具体的应用中,由于进入循环管11内的工作液体从循环管11的第一端流动至所述第二端的过程中,流速会依次递减,从第三出液孔1141喷出的工作液体的流量相应也会依次递减。因此,通过将沿所述第一端至所述第二端的方向,相邻的两个第一出液孔1121之间的间距、相邻的两个第二出液孔1131之间的间距以及相邻的两个第三出液孔1141之间的间距依次递减,可以使得第一段A和第二段B的出液孔喷出的工作液体的整体流量较为均匀。这样,就可以提高循环管11喷出的工作液体对硅片20的背面进行刻蚀抛光时的均匀性。
可选地,沿循环管11的轴向,第一出液孔1121和第二出液孔1131成单排设置,第三出液孔1141成多排设置。在具体的应用中,通过将第一出液孔1121和第二出液孔1131成单排设置,可以减少第一出液孔1121和第二出液孔1131的数量,便于内管112和中层管113的加工。通过将第三出液孔1141成多排设置,则可以进一步提升循环管11的出液均匀性,从而,可以提高循环管11喷出的工作液体对硅片20的背面进行刻蚀抛光时的均匀性。
需要说明的是,在具体的应用中,本领域技术人员可以根据实际需要设置第三出液孔1141的排数。例如,第三出液孔1141的排数可以为2、3或者5等,本申请实施例对于第三出液孔1141的排数不做具体限定。
综上,本申请实施例所述的循环管至少可以包括以下优点:
本申请实施例中,在所述进液孔向所述内管内通入工作液体后,由于所述内管的顶部设置有第一出液孔,所述工作液体中的气泡会跟随所述工作液体从所述第一出液孔溢出至所述中层管。由于所述中层管远离所述进液孔的连接有排气管,所述中层管的底部设置有第二出液孔,所述气泡可以从所述排气管排出至所述循环管外,避免气泡进入所述外管主刻蚀槽内,所述工作液体则可以从所述第二出液孔进入所述外管。由于所述外管的顶部设置有第三出液孔,所述工作液体可以从顶部的第三出液孔喷出至所述循环管顶部的硅片背面,对所述硅片的背面进行刻蚀抛光,以提升所述硅片的背面抛光效果。也即,本申请实施例所述的循环管既可以防止气泡溢出至所述主刻蚀槽内,又可以兼顾所述硅片的背面抛光效果。
本申请实施例还提供了一种图2所示的循环管组件。如图2所示,所述循环管组件100具体可以包括:进液管10以及至少两个循环管11;其中,进液管10分别与每一个循环管11的进液孔115连通,以向循环管11的内管112通入工作液体。
需要说明的是,本申请实施例中,循环管11的具体结构与前述各实施例中的循环管11的结构相同,其有益效果也类似,在此不做赘述。
本申请实施例中,进液管10可以与管道400连通。管道400可以将副刻蚀槽300内的工作液体传输至进液管10内,并通过进液管10分配至每个循环管11内。最终,通过循环管11进入主刻蚀槽200内。在实际应用中,循环管组件100可以位于主刻蚀槽200的底部,硅片20在循环管11的顶部运行,循环管11内喷出的工作液体可以喷射至硅片20的背面,对硅片20的背面进行刻蚀抛光。
在具体的应用中,进液管10和循环管11之间可以通过螺纹连接、卡接等连接方式实现连接,本申请实施例对于进液管10和循环管11之间的连接方式不做具体限定。
需要说明的是,图2中仅示出了循环管11的数量为5个的情况。在实际应用中,本领域技术人员可以根据实际需要设置循环管11的数量。例如,循环管11的数量可以为2、3、6或者8个等,本申请实施例对于循环管11的数量不做具体限定。
在本申请的一些可选实施例中,至少两个循环管11平行设置;进液管10的轴向与硅片20的运行方向平行;循环管11的轴向相对进液管10的轴向倾斜。这样,就可以增大循环管11出来的新的工作液体在主刻蚀槽200内的均匀分布,从而,可以提高硅片20刻蚀抛光质量。
可选地,循环管11的轴向与进液管10的轴向之间的夹角a为70度至80度。在具体的应用中,在夹角a为70度至80度的情况下,既可以使得循环管11出来的新的工作液体在主刻蚀槽200内的均匀分布,又便于循环管11与进液管10的加工和连接。
需要说明的是,在具体的应用中,本领域技术人员可以根据实际需要设置夹角a的具体值。例如,夹角a可以为70、72、75或者80度等,本申请实施例对于夹角a的具体值可以不做限定。
本申请实施例还提供了一种图1所示的刻蚀设备,所述刻蚀设备具体可以包括主刻蚀槽200、副刻蚀槽300以及上述任一实施例所述的循环管组件100;其中,循环管组件100分别连通主刻蚀槽200和副刻蚀槽300。
需要说明的是,本申请实施例中,循环管组件100的具体结构与前述各实施例中的循环管组件100的结构相同,其有益效果也类似,在此不做赘述。
在本说明书的描述中,参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示意性实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本实用新型的至少一个实施例或示例中。在本说明书中,对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或示例。而且,描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。
尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例,本领域的普通技术人员可以理解:在不脱离本实用新型的原理和宗旨的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型,本实用新型的范围由权利要求及其等同物限定。
Claims (10)
1.一种循环管,其特征在于,所述循环管包括:排气管、从里至外依次套接设置的内管、中层管以及外管;其中,
所述内管的一端连接有进液孔,所述进液孔用于向所述内管内通入工作液体;
所述内管上的顶部设置有第一出液孔,所述第一出液孔用于将所述内管内的所述工作液体通入所述中层管内;
所述中层管的底部设置有第二出液孔,所述第二出液孔用于将所述中层管内的所述工作液体通入所述外管内,所述排气管连接在所述中层管上远离所述进液孔的一端;
所述外管的顶部设置有第三出液孔,所述第三出液孔用于将所述外管内的所述工作液体排出。
2.根据权利要求1所述的循环管,其特征在于,所述第一出液孔、所述第二出液孔以及所述第三出液孔的数量皆为多个,多个所述第一出液孔、多个所述第二出液孔以及多个所述第三出液孔皆沿所述循环管的轴向依次间隔设置。
3.根据权利要求2所述的循环管,其特征在于,沿所述循环管的轴向,所述循环管包括背离设置的第一端和第二端,所述进液孔设置在所述第一端;
沿所述循环管的轴向,所述循环管包括依次连接的第一段和第二段,所述第一段靠近所述第一端设置,所述第二段靠近所述第二端设置;
在所述第一段,沿所述循环管的轴向,相邻的两个所述第一出液孔之间的间距、相邻的两个所述第二出液孔之间的间距、以及相邻的两个所述第三出液孔之间的间距相等;
在所述第二段,沿所述循环管的轴向,相邻的两个所述第一出液孔之间的间距、相邻的两个所述第二出液孔之间的间距、以及相邻的两个所述第三出液孔之间的间距相等。
4.根据权利要求3所述的循环管,其特征在于,在所述第一段,沿所述循环管的轴向,相邻的两个所述第一出液孔之间的间距为第一间距;
在所述第二段,沿所述循环管的轴向,相邻的两个所述第一出液孔之间的间距为第二间距;
其中,所述第一间距大于所述第二间距。
5.根据权利要求4所述的循环管,其特征在于,所述第一间距为40至50毫米,所述第二间距为15至25毫米。
6.根据权利要求2所述的循环管,其特征在于,沿所述循环管的轴向,所述循环管包括背离设置的第一端和第二端,所述进液孔设置在所述第一端;
沿所述第一端至所述第二端的方向,相邻的两个所述第一出液孔之间的间距、相邻的两个所述第二出液孔之间的间距以及相邻的两个所述第三出液孔之间的间距依次递减。
7.根据权利要求2所述的循环管,其特征在于,沿所述循环管的轴向,所述第一出液孔和所述第二出液孔成单排设置,所述第三出液孔成多排设置。
8.一种循环管组件,其特征在于,所述循环管组件包括:进液管以及至少两个权利要求1至7任一项所述的循环管;其中,
所述进液管分别与每一个所述循环管的进液孔连通,以向所述循环管的内管通入工作液体。
9.根据权利要求8所述的循环管组件,其特征在于,至少两个所述循环管平行设置;
所述进液管的轴向与硅片的运行方向平行;
所述循环管的轴向相对所述进液管的轴向倾斜;
其中,所述循环管的轴向与所述进液管的轴向之间的夹角为70度至80度。
10.一种刻蚀设备,其特征在于,所述刻蚀设备包括:主刻蚀槽、副刻蚀槽以及权利要求8至9任一项所述的循环管组件;其中,
所述循环管组件分别连通所述主刻蚀槽和所述副刻蚀槽。
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CN202223096811.5U CN218954241U (zh) | 2022-11-21 | 2022-11-21 | 一种循环管、循环管组件以及刻蚀设备 |
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- 2022-11-21 CN CN202223096811.5U patent/CN218954241U/zh active Active
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