CN217092357U - 单晶硅抛光液排出系统 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了、单晶硅抛光液排出系统，包括机床内部排水管，底座，支架以及过滤结构；机床内部排水管安装在过滤结构上，过滤结构安装在支架上，支架安装在底座上；过滤结构包括：过滤组件，排放组件和清洗组件；过滤组件安装在机床内部排水管上，排放组件安装在支架上，清洗组件安装在支架上；本实用新型涉及单晶硅生产技术领域，具备以下有益效果：使得可以初步的过滤抛光液内含有的大量固体颗粒；使得在排放之前再次进行过滤，将过滤后的抛光液进行收集回流循环利用，将过滤出的杂质的排出，使得抛光液到循环使用，节约了成本；使得可以简单便捷的对排放组件进行清洗，有效的放置了排放管道内壁堵塞。
Description
技术领域
本实用新型涉及单晶硅生产技术领域，具体为单晶硅抛光液排出系统。
背景技术
现有的农乳用的搅拌设备存在：
1传统的农乳搅拌装置在使用时，在排出管道上不设置有过滤结构，导致排放的抛光液内含有大量的固体颗粒；
2传统的农乳搅拌装置在使用时，排放时不设置有过滤结构，导致排放大量的抛光液，照成浪费；
3现有的农乳搅拌装置在使用时，排放管道没有清洗结构且清洗费事，会导致排放管内壁堵塞，因此我们设计单晶硅抛光液排出系统。
实用新型内容
为实现以上目的，本实用新型通过以下技术方案予以实现：单晶硅抛光液排出系统，包括机床内部排水管，底座，支架以及过滤结构；机床内部排水管安装在过滤结构上，过滤结构安装在支架上，支架安装在底座上；
过滤结构包括：过滤组件，排放组件和清洗组件；
过滤组件安装在机床内部排水管上，排放组件安装在支架上，清洗组件安装在支架上；
过滤组件包括：过滤箱，第一支撑板，第一过滤网；
过滤箱安装在支架上，支撑板安装过滤箱内，过滤网安装在支撑板上，。
优选的，过滤箱上设有开合门。
优选的，排放组件包括：第一连接管，箱体，第二支撑板，第二过滤网，第一三片式阀体，第二三片式阀体，电磁阀，收集箱，回流管；
第一连接管一端安装在过滤箱上，一端安装在箱体上，第一三片式阀体安装在箱体上，第二片式阀体安装在排放管上，排放管安装在三片式阀体上，电磁阀安装在箱体上，收集箱安装在底座上，回流管安装在箱体上，。
优选的，第一连接管上设置有单向阀。
优选的，清洗组件包括：水箱，第二连接管，第三三片式阀体；
水箱安装在底座上，第二连接管一端安装在水箱上，一段安装在箱体上，第三三片式阀体安装在第二连接管上。
优选的，水箱内设置有水泵。
有益效果
本实用新型提供了单晶硅抛光液排出系统，具备以下有益效果：
1设置有过滤组件,通过过滤箱，第一支撑板和第一过滤网的相互陪配合，使得可以初步的过滤抛光液内含有的大量固体颗粒；
2设置有排放组件，通过第一连接管，箱体，第二支撑板，第二过滤网，第一三片式阀体，第二三片式阀体，电磁阀和收集箱的相互配合，使得在排放之前再次进行过滤，将过滤后的抛光液进行收集回流循环利用，将过滤出的杂质的排出，使得抛光液到循环使用，节约了成本；
3设置有清洗组件，通过水箱，第二连接管和第三三片式阀体的相互配合，使得可以简单便捷的对排放组件进行清洗，有效的放置了排放管道内壁堵塞；
附图说明
图1为本实用新型单晶硅抛光液排出系统的主视结构示意图。
图2为本实用新型单晶硅抛光液排出系统的俯视结构示意图。
图中：1、机床内部排水管；2、底座；3、支架；4、过滤箱；5、第一支撑板；6、第一过滤网；7、第一连接管；8、箱体；9、第二支撑板；10、第二过滤网；11、第一三片式阀体；12、第二三片式阀体；13、电磁阀；14、收集箱；15、回流管；16、水箱；17、第二连接管；18、第三三片式阀体；19、排放管。
具体实施方式
基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
请参阅图1-2，本实用新型提供一种技术方案。
实施例1：
请参阅附图1-2，在具体实施过程中，单晶硅抛光液排出系统，包括机床内部排水管1，底座2，支架3以及过滤结构；机床内部排水管1安装在过滤结构上，过滤结构安装在支架3上，支架3安装在底座2上；
过滤结构包括：过滤组件，排放组件和清洗组件；
过滤组件安装在机床内部排水管1上，排放组件安装在支架3上，清洗组件安装在支架3上；
过滤组件包括：过滤箱4，第一支撑板5，第一过滤网6；
过滤箱4安装在支架3上，支撑板安装过滤箱4内，过滤网安装在支撑板上。
需要说明的是，机床内部的排水管，将收集的抛光液流入到收集箱14内，通过安装在过滤箱4内的支撑板上的第一过滤网6进行过滤。支撑板起到了固定支撑的作用，使得可以初步的过滤抛光液内含有的大量固体颗粒
实施例2，过滤箱4上设有开合门。
需要说明的是，便于更换和清洗过滤箱4内的第一过滤网6。
实施例3，排放组件包括：第一连接管7，箱体8，第二支撑板9，第二过滤网10，第一三片式阀体11，第二三片式阀体12，电磁阀13，收集箱14，回流管15；
第一连接管7一端安装在过滤箱4上，一端安装在箱体8上，第一三片式阀体11安装在箱体8上，第二片式阀体安装在排放管19上，排放管19安装在三片式阀体上，电磁阀13安装在箱体8上，收集箱14安装在底座2上，回流管15安装在箱体8上。
需要说明的是，通过第一连接管7，将初步过滤后的抛光液导流到箱体8内，通过安装在箱体8内的第二支撑板9上的第二过滤网10对抛光液再次进行过滤，过滤后的抛光液通过回流管15进行回收，过滤除的杂质进入到排放管19内，从而进到收集箱14内，进行统一收集处理，电磁阀13控制第一三片式阀体11和第二三片式阀体12，进行回流和排放的工作，使得在排放之前再次进行过滤，将过滤后的抛光液进行收集回流循环利用，将过滤出的杂质的排出，使得抛光液到循环使用，节约了成本
实施例4，第一连接管7上设置有单向阀。
需要说明的是，放置抛光液的回流，影响过滤效果。
实施例5，清洗组件包括：水箱16，第二连接管17，第三三片式阀体18；
水箱16安装在底座2上，第二连接管17一端安装在水箱16上，一段安装在箱体8上，第三三片式阀体18安装在第二连接管17上。
需要说明的是，通过第二连接管17，将水箱16内的水引流到箱体8内，对箱体8内部进行冲洗，通过电磁阀13控制第三三片式阀体18，控制水流的进出，使得可以简单便捷的对排放组件进行清洗，有效的放置了排放管19道内壁堵塞
实施例6，水箱16内设置有水泵。
需要说明的是，水泵可以有效的将水进入到第二连接管17内。
尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。
Claims (6)
1.单晶硅抛光液排出系统，包括机床内部排水管，底座，支架以及过滤结构；其特征在于，机床内部排水管安装在过滤结构上，过滤结构安装在支架上，支架安装在底座上；
过滤结构包括：过滤组件，排放组件和清洗组件；
过滤组件安装在机床内部排水管上，排放组件安装在支架上，清洗组件安装在支架上；
过滤组件包括：过滤箱，第一支撑板，第一过滤网；
过滤箱安装在支架上，支撑板安装过滤箱内，过滤网安装在支撑板上。
2.根据权利要求1所述的单晶硅抛光液排出系统，其特征在于，过滤箱上设有开合门。
3.根据权利要求1所述的单晶硅抛光液排出系统，其特征在于，排放组件包括：第一连接管，箱体，第二支撑板，第二过滤网，第一三片式阀体，第二三片式阀体，电磁阀，收集箱，回流管，排放管；
第一连接管一端安装在过滤箱上，一端安装在箱体上，第一三片式阀体安装在箱体上，第二片式阀体安装在排放管上，排放管安装在三片式阀体上，电磁阀安装在箱体上，收集箱安装在底座上，回流管安装在箱体上。
4.根据权利要求3所述的单晶硅抛光液排出系统，其特征在于，第一连接管上设置有单向阀。
5.根据权利要求1所述的单晶硅抛光液排出系统，其特征在于，清洗组件包括：水箱，第二连接管，第三三片式阀体；
水箱安装在底座上，第二连接管一端安装在水箱上，一段安装在箱体上，第三三片式阀体安装在第二连接管上。
6.根据权利要求5所述的单晶硅抛光液排出系统，其特征在于，水箱内设置有水泵。
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