CN216988877U - 一种用于晶片酸洗的循环槽 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及一种用于晶片酸洗的循环槽，属于晶片加工技术领域，包括包括槽体、槽盖，所述槽体的输出端连通有循环泵，所述循环泵的输出端连通有过滤器，所述过滤器的输出端连通有第一进液管，所述槽体设有用于调控槽体内温度的温控机构。本实用新型结构合理，能够实现循环槽内的循环无死角，设备密封性好，安全性高，能够有效提高晶片质量。

Description

一种用于晶片酸洗的循环槽

技术领域

本实用新型涉及一种用于晶片酸洗的循环槽，属于晶片加工技术领域。

背景技术

晶片酸洗过程中会释放高温，需要保持恒温，但是现有技术中，冷却水管盘旋在槽底，槽内为清洗液，即酸液，此时冷却水管浸泡在酸液中。假如冷却水管出现破损，就会出现相互渗透的情况，即冷却水流到清洗液中，清洗液也会流到冷却水管中，导致晶片损坏，甚至整个厂房设备受损。此外，晶片清洗循环槽的温度不稳定、浓度不均匀，也会是镜片缺陷率增加。

实用新型内容

针对上述技术问题，提供一种用于晶片酸洗的循环槽，具体方案如下：

一种用于晶片酸洗的循环槽，包括槽体、槽盖，所述槽体的输出端连通有循环泵，所述循环泵的输出端连通有过滤器，所述过滤器的输出端连通有第一进液管，所述槽体设有用于调控槽体内温度的温控机构。

优选的，所述温控机构包括位于槽体内的温度传感器、加热器、用降温的冷却组件，所述冷却组件包括位于槽体内的冷却管、冷却系统，所述冷却管与冷却系统连通，所述加热器的输入端与过滤器的输出端连通，所述加热器的输出端与第一进液管的首端连通。

优选的，所述冷却管的输入端连接有用来检测冷却管是否破损的检测装置。

优选的，所述第一进液管为两个，所述第一进液管的末端设有第一出液口，所述第一出液口安装有密封组件，第一进液管的外周安装有不少于个的第二进液管列，所述第二进液管列呈阵列分布，所述第二进液管列包括多个第二进液管。

优选的，所述第二进液管为圆管，同一纵截面上相邻第二进液管中线的夹角为a，其中20°≤a≤120°。

优选的，所述槽体上安装有喷淋组件，所述喷淋组件包括喷淋管，所述槽体的顶部设有多个用于溢流的溢流口、用于承载溢流液的环形槽，所述环形槽套在槽体的上部，所述环形槽的底面位于溢流口的下方，所述环形槽的底部设有排液口。

优选的，所述环形槽的槽底包括位于槽体左侧的第一水平段、位于槽体右侧的第二水平段第二水平段，所述第二水平段位于的斜下方，所述第一水平段、第二水平段之间设置有倾斜段，所述倾斜段与第二水平段的夹角为c，其中1°≤c≤20°。

优选的，所述循环泵的输出端连通有气动阀组件，所述气动阀组件包括第一气动阀、第二气动阀，所述第一气动阀连通有阻尼器，所述阻尼器的输出端与过滤器的输入端连通，所述第二气动阀连通有计量组件，所述计量组件包括计量桶、计量泵，所述计量桶的首端与第二气动阀连通，所述计量泵与计量桶连接。

优选的，所述循环泵连接有用于测定循环泵内浓度的浓度计。

本实用新型的有益效果：

本实用新型利用温控组件，能够实现对槽盖的温度的控制，实现槽内恒温，本实用新型结构合理，能够实现循环槽内的循环无死角，设备密封性好，安全性高，能够有效提高晶片质量。本实用新型结构合理，各组件之间采用可拆卸连接，便于安装维护。

附图说明

图1为所述一种用于晶片酸洗的循环槽的示意图；

图2为所述第一进液管的示意图；

图3为所述槽体、第一进液管、温控机构的连接示意图；

图4为所述槽体、环形槽的连接示意图。

具体实施方式

为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。

术语“外”、“内”、“左侧”、“右侧”、“前”、“后”等指示的方位、或位置关系为基于附图1所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

实施例一

如图1一种用于晶片酸洗的循环槽，包括槽体1，槽体1的顶部设置有槽盖图中未示意，所述槽体1的输出端连通有循环泵2，所述循环泵2的输出端连通有气动阀组件3，所述气动阀组件3包括第一气动阀31、第二气动阀32，所述第一气动阀31的一端、第二气动阀32的一端均与循环泵2的输出端连通，第一气动阀31的另一端端与阻尼器4的输入端连通，所述阻尼器4的输出端与过滤器5的输入端连通，过滤器5的输出端连通有第一进液管6，所述第二气动阀32的另一端连通有计量组件8，所述计量组件8包括计量桶81、计量泵82，所述计量桶81的首端与第二气动阀32连通，所述计量泵82与计量桶81连接，循环泵2连接有用于测定循环泵2内浓度的浓度计9。本实施所述阻尼器为脉动阻尼器，用于辅助计量泵82能够消除管路脉动。

槽体1上安装有喷淋组件，所述喷淋组件包括喷淋管，用于对晶圆进行喷洗，可以有效的将晶圆表面玷污物冲洗干净。所述槽体1的顶部设有多个用于溢流的溢流口11、用于承载溢流液的环形槽10，所述环形槽10套在槽体1的上部，所述环形槽10的底面位于溢流口11的下方，所述环形槽10的底面设有排液口101，该排液口101与循环泵2连通，循环泵2能够将环形槽10的溢流液抽取干净；

具体的，用于清洗晶圆的第一清洗液从第一进液管6进入到槽体1内，对槽内的晶圆进行清洗形成第二清洗液，第二清洗液从槽体1的排液口进入到循环泵2并形成第一清洗液，循环泵2输出的第一清洗液进入到第一气动阀31，然后经阻尼器4、过滤器5进入到第一进液管6然后进入到槽内，如此形成一个循环；同时计量桶81、计量泵82、浓度计9能够第一清洗液的输送、计量和调节进行进准控制，保证工艺的精确度，提高晶圆的质量。

同时喷淋组件对晶圆进行喷洗，有效去除晶圆表面的污染物，槽内第二清洗液过多是可以从溢流口11溢出，流入到环形槽10，循环泵2抽取环形槽10的溢流液，溢流液和第二清洗液在循环泵2形成第一清洗液，再次循环到槽体内。

实施例二

作为一种优选的方案，所述第一进液管6为两个，所述第一进液管6的末端设有第一出液口，所述第一出液口安装有密封组件，第一进液管6的外周安装有不少于1组的第二进液管列，所述第二进液管61呈阵列包分布，所述第二进液管列包括多个第二进液管60。所述第二进液管60为圆管，该圆管的直径范围为1cm-8cm，同一纵截面上相邻第二进液管60中线的夹角为a，所述20°≤a≤120°。本实施例中所述密封组件可以为胶塞、螺栓柱防止第一进液管6从末端排液的组件，本发明在此不做限制。图2为第一进液管6的截面图，以3组第二进液管列为示意，仅用于对本实施例的说明，不用于对本发明的限制。本实施例以3组第二进液管列为例进行说明，第一清洗液能够从第二进液管列进入到槽内，每组第二进液管列形成1个进液面，3个第二进液管列能够在第一进液管6的外周形成3个进液平面，3个进液平面能够在第一进液管6的圆周范围均匀进液，而现有技术中，一般从第一进液管的末端的第一出液口进入槽内。该结构的有益技术效果是，能够使晶圆周围的第一清洗液的浓度均匀性更高，晶圆的质量更好。

实施例三

作为一种优选的方案，如图1、3所示的槽体1内设有用于调控槽体1内温度的温控机构7，所述温控机构7包括位于槽体1内的温度传感器、加热器71、用降温的冷却组件72，所述冷却组件72包括位于槽体1内的冷却管721、冷却系统，所述冷却管721与冷却系统连通，所述加热器71的输入端与过滤器5的输出端连通，所述加热器71的输出端与第一进液管6的首端连通。本实施例中所述冷却组件可以为冷却箱等能够实现对冷却液降温的系统，本发明在此不做限制。

温度传感器实际检测槽内温度，当晶圆酸洗过程中会产生大量的热量时，为了保持槽内的恒温，可以启动冷却组价72进行降温；当槽内温度低时，可以启动加热器71将清洗液加温的合适的温度，本实施例能够保证槽内温度均匀性，对于提高晶片质量效果显著。

进一步的，所述冷却管721的输入端连接有用来检测冷却管721是否破损的检测装置，本实施例所述的检测装置为pH计。冷却管721盘旋在槽底，槽内为清洗液，即酸液，此时的冷却管721浸泡在酸液中。假如冷却721管出现破损，就会出现相互渗透的情况，即冷却水流到清洗液中，清洗液也会流到冷却水管中。此时pH计起到作用，可立刻检测出冷却水管中pH值的变化，判断管路有破损。防止冷却管721破损对设备或晶圆造成严重的影响。该结构能够有效提高设备的安全性和晶片的质量。

实施例四

作为一种优选的方案，如图3所示的溢流口11呈锯齿状结构所述溢流口11的纵截面为V字型结构，所述溢流口11纵截面的夹角为b，其中60°≤b≤150°，所述溢流口11的底部距离槽体1顶部距离为3cm～15cm；当槽体1内液体较多时，该结构能够使槽内液体能够顺利向外溢流到槽体1外的环形槽10。

如图4所示的环形槽10的槽底包括位于槽体1左侧的第一水平段、位于槽体1右侧的第二水平段、倾斜段，所述第二水平段位于第一水平段的斜下方，所述倾斜段两端分别与第一水平段、第二水平段连接，所述第二水平段上设有排液口101，该排液口101与循环泵2连通，所述倾斜段与第二水平段的夹角为c，所述1°≤c≤20°，该结能够使溢流液迅速流道第二水平段，然后经循环泵2抽液将环形槽10的溢流液抽取干净。本是结构简单、合理，能够快速完成槽内换液，提高加工效率。

对于本领域技术人员而言，本发明不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本发明的精神或基本特征的情况下，能够以其它的具体形式实现本发明。而且是非限制性的，本发明的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本发明内。

以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (9)

1.一种用于晶片酸洗的循环槽，包括槽体(1)、槽盖，其特征在于，所述槽体(1)的输出端连通有循环泵(2)，所述循环泵(2)的输出端连通有过滤器(5)，所述过滤器(5)的输出端连通有第一进液管(6)，所述槽体(1)设有用于调控槽体(1)内温度的温控机构(7)。

2.根据权利要求1所述的一种用于晶片酸洗的循环槽，其特征在于，

所述温控机构(7)包括位于槽体(1)内的温度传感器、加热器(71)、用降温的冷却组件(72)，所述冷却组件(72)包括位于槽体(1)内的冷却管(721)、冷却系统，所述冷却管(721)与冷却系统连通，所述加热器(71)的输入端与过滤器(5)的输出端连通，所述加热器(71)的输出端与第一进液管(6)的首端连通。

3.根据权利要求2所述的一种用于晶片酸洗的循环槽，其特征在于，所述冷却管(721)的输入端连接有用来检测冷却管(721)是否破损的检测装置。

4.根据权利要求1所述的一种用于晶片酸洗的循环槽，其特征在于，所述第一进液管(6)为两个，所述第一进液管(6)的末端设有第一出液口，所述第一出液口安装有密封组件，第一进液管(6)的外周安装有不少于1组的第二进液管列，所述第二进液管列呈阵列分布，所述第二进液管列包括多个第二进液管(60)。

5.根据权利要求4所述的一种用于晶片酸洗的循环槽，其特征在于，所述第二进液管(60)为圆管，同一纵截面上相邻第二进液管(60)中线的夹角为a，其中20°≤a≤120°。

6.根据权利要求1所述的一种用于晶片酸洗的循环槽，其特征在于，所述槽体(1)上安装有喷淋组件，所述喷淋组件包括喷淋管，所述槽体(1)的顶部设有多个用于溢流的溢流口(11)、用于承载溢流液的环形槽(10)，所述环形槽(10)套在槽体(1)的上部，所述环形槽(10)的底面位于溢流口(11)的下方，所述环形槽(10)的底部设有排液口。

7.根据权利要求6所述的一种用于晶片酸洗的循环槽，其特征在于，

所述环形槽(10)的槽底包括位于槽体(1)左侧的第一水平段、位于槽体(1)右侧的第二水平段第二水平段，所述第二水平段位于的斜下方，所述第一水平段、第二水平段之间设置有倾斜段，倾斜段与第二水平段的夹角为c，其中1°≤c≤20°。

8.根据权利要求1所述的一种用于晶片酸洗的循环槽，其特征在于，所述循环泵(2)的输出端连通有气动阀组件(3)，所述气动阀组件(3)包括第一气动阀(31)、第二气动阀(32)，所述第一气动阀(31)连通有阻尼器(4)，所述阻尼器(4)的输出端与过滤器(5)的输入端连通，所述第二气动阀(32)连通有计量组件(8)，所述计量组件(8)包括计量桶(81)、计量泵(82)，所述计量桶(81)的首端与第二气动阀(32)连通，所述计量泵(82)与计量桶(81)连接。

9.根据权利要求1所述的一种用于晶片酸洗的循环槽，其特征在于，所述循环泵(2)连接有用于测定循环泵(2)内浓度的浓度计(9)。

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