CN216731459U - 一种真空吸盘 - Google Patents

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邱爱平
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Abstract

本实用新型公开了一种真空吸盘,包括真空吸盘本体、底板和真空发生器。真空吸盘本体上设置有至少一个吸附工位,其中每个吸附工位均包括沿真空吸盘本体上端面开设的至少一个闭环设置的吸附槽,吸附槽由内而外依次套设且间隔设置,一个吸附槽的槽底开设有贯穿真空吸盘本体的吸气孔,真空吸盘本体上端面开设连通吸附槽的至少一个导通槽。真空发生器固定在真空吸盘本体下端面且与对应设置的吸气孔连通。

Description

一种真空吸盘
技术领域
本实用新型涉及一种真空吸盘。
背景技术
在生产加工中,真空吸盘常被用来固定工件,真空吸盘通过负压来吸附工件。一个真空吸盘上面阵列分布有很多小孔,可以根据工件的大小,用胶条围一个比工件小的区域,就可以将工件固定在真空吸盘上。传统的真空吸盘上的小孔成阵列分布,下方形成与小孔导通的吸附腔,通过真空发生器将吸附腔抽吸处负压,以将真空吸盘上发工件进行吸附。但小孔的加工要求高,阵列打孔时,容易将不同的小孔连通,造成吸附力不够均匀,影响工件的吸附效果。
实用新型内容
为克服上述缺点,本实用新型的目的在于提供一种真空吸盘,对工件的吸附力更加均匀,且结构简单,易于加工,
为了达到以上目的,本实用新型采用的技术方案是:一种真空吸盘,其特征在于:包括
真空吸盘本体,所述真空吸盘本体上设置有至少一个吸附工位,其中每个所述吸附工位均包括沿真空吸盘本体上端面开设的至少一个闭环设置的吸附槽,所述吸附槽由内而外依次套设且间隔设置,一个所述吸附槽的槽底开设有贯穿真空吸盘本体的吸气孔,所述真空吸盘本体上端面开设连通吸附槽的至少一个导通槽;
真空发生器,所述真空发生器固定在真空吸盘本体下端面且与所述吸气孔对应设置,所述真空发生器与吸气孔连通。
本实用新型的有益效果在于:吸附槽套设且间隔设置,保证对工件的均匀吸附。同时只需要在真空吸盘本体开设一个吸气孔,通过到通槽就能将吸附槽导通,通过一个吸气即可将多个吸附槽抽吸处负压,在提高吸附效果的同时,加工更加简单。
进一步来说,所述吸附槽为环形结构或多边形结构中的一种。吸附槽的形状选用上述结构均可,不特殊限定,只要能形成负压,对工件均匀吸附即可。
进一步来说,每个所述加工工位上还设置有一密封圈,所述真空吸盘本体的上端面开设有至少一个密封槽,所述密封槽位于吸附槽外侧,所述密封圈嵌设在密封槽内。密封圈密封真空吸盘本体和工件之间,便于吸附槽形成负压。
进一步来说,所述真空吸盘本体的下端面开设有凹槽,所述真空发生器设置在凹槽内。凹槽的设置便于真空发生器放置,让整个真空吸盘结构更加紧凑,便于将真空吸盘搬运和固定到机床上。
进一步来说,所述凹槽为门字型结构,包括平行设置的放置部和连接放置部的走线部,所述真空发生器设置在放置部内,所述吸气孔开设在位于两个所述放置部之间的真空吸盘本体上。即真空发生器位于吸气孔的一侧,减少真空发生器与吸气孔连接的管道,结构更加紧凑,节约空间。
进一步来说,每个所述真空发生器均与一个汇流阀连接,所述汇流阀通过管道与外部的真空发生器连通,所述真空吸盘本体上开设有供汇流阀嵌入的缺口。真空发生器包括汇流口,汇流口穿过真空吸盘本体与管道连接。
进一步来说,所述真空吸盘本体的下端面设置有覆盖在真空发生器上的底板。底板能有效保护真空发生器,防止在搬运或使用过程中真空发生器掉落或磨损。
进一步来说,相邻所述吸附槽间的间隔相同,吸附槽均匀设置,提高对工件吸附的均匀度。
进一步来说,所述真空吸盘本体为一体成型的不锈钢件。
附图说明
图1为本实用新型一实施例的立体结构示意图;
图2为本实用新型一实施例的俯视图;
图3为图2中沿A-A线的剖视图;
图4为图2中沿B-B线的剖视图;
图5为本实用新型一实施例的俯视图;
图6为本实用新型一实施例的俯视图;
图7为本实用新型一实施例中真空吸盘本体的仰视图;
图8为本实用新型一实施例中真空吸盘本体的立体结构示意图。
图中:
1、真空吸盘本体;111、吸附槽;111a、吸气孔;112、导通槽;12、凹槽;13、缺口;14、密封槽;2、真空发生器;21、进气口;22、出气口;3、密封圈;4、汇流阀;41、分流口;42、汇流口;5、底板。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型的较佳实施例进行详细阐述,以使本实用新型的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解,从而对本实用新型的保护范围做出更为清楚明确的界定。
参见附图1和2所示,本实用新型的一种真空吸盘,包括真空吸盘本体1、底板5和真空发生器2,真空吸盘本体1的上端面设置有至少一个吸附工位,用于工件的吸附。底板5固定在真空吸盘本体1下端面,底板5和真空吸盘焊接或通过螺栓连接。底板5和真空吸盘本体1之间形成放置腔体,真空发生器2设置在腔体内,且与吸附工位对应设置。
每个吸附工位均包括沿真空吸盘本体1上端面开设的至少一个吸附槽111,吸附槽111闭环设置。吸附槽111由内而外依次套设且间隔设置,相邻的吸附槽111之间形成隔离区,相邻的吸附槽111之间间隔宽度相同。参照附图3和4所示,一个吸附槽111的槽底开设有贯穿真空吸盘本体1的吸气孔111a,真空吸盘本体1上端面开设连通吸附槽111的至少一个导通槽112,导通槽112贯穿隔离区,将吸附槽111导通。真空发生器2与对应设置的吸气孔111a连通。此时,当真空发生器2通过吸气孔111a对一个吸附槽111抽气形成负压时,由于导通槽112将若干吸附槽111导通,进而在所有吸附槽111内形成负压。由于吸附槽111由内而外依次套设且间隔相同,对工件的吸附力更加均匀。
参照附图6所示,在一实施例中,吸附槽111为环形结构,且环形结构同心设置。导通槽112沿环形结构的径向设置,导通槽112可设置有一个,也可根据实际需求设置有多个。在本实施例中,吸气孔111a开设在最内侧的吸附槽111上,但也不限定在此吸附槽111上。
参照附图2所示,在另一实施例中,吸附槽111为口字结构,即四边形,且吸附槽111的中心点为同一点。导通槽112垂直吸附槽111的一个侧边设置,导通槽112为一个。参照附图5所示,导通槽112开设有两个,分别垂直吸附槽111的两个侧边设置,能加快吸附槽111的负压形成。导通槽112也不限定个数,可根据实际需要设置数量和位置,只要能导通吸附槽111即可。当然吸附槽111的形状也可为三角形、五边形等,不限定吸附槽111的形状,能在吸附槽111内形成负压腔,对工件进行吸附即可。
参照附图1所示,位于最外侧的吸附槽111外还开设有至少一个密封槽14,密封槽14为闭环结构且与吸附槽111形状相同,密封槽14内嵌设有密封圈3。当工件放置到吸附工位时,工件下端面与真空吸盘本体1的上端面抵接。此时工件下端面同时能与密封圈3抵接,由于密封圈3的密封,工件和吸附槽111之间形成密封,当吸气孔111a抽气时,吸附槽111内形成负压腔,对工件进行吸附。
参照附图7和8所示,真空吸盘本体1的下端面开设有凹槽12,放置腔体由凹槽12和底板5围成。真空发生器2设置在凹槽12内,且固定在凹槽12槽底。真空发生器2包括真空发生器2主体,真空发生器2主体上开设有进气口21和出气口22,进气口21与对应设置的吸气孔111a连通,出气口22与外部的空压机连通。为了便于布线,凹槽12内还设置有汇流阀4,汇流阀4上设置有分流口41和汇流口42,每个分流口41均与回流口导通。真空发生器2的出气口22分别与一个分流口41连通,汇流口42穿过真空盘本体与空压机通过管道连接。
参照附图8所示,凹槽12为门字型,包括两个平行设置的放置部和连接放置部的走线部,真空发生器2放置在放置部内。吸气孔111a开设在位于两个放置部之间的真空吸盘本体1上。真空线本体的侧壁开设有与走线部位置对应的缺口13,汇流阀4固定在缺口13处,真空发生器2的出气口22连接的管道,沿走线部布线,并与汇流阀4连通。
真空吸盘本体1采用不锈钢材质,一体成型,凹槽12、吸附槽111、导通槽112和吸气孔111a均通过铣床加工。减小了加工难度,提高了加工效率。同时吸附力大,能满足吸附工件的需求。
加工时,加工好真空吸盘本体1,然后将真空发生器2固定在凹槽12内,并通过管道将真空发生器2的进气口21与吸气孔111a连通,真空发生器2的出气口22与汇流阀4的分流口41连通。将底板5和真空吸盘本体1固定连接即可。需要吸附工件时,根据工件的大小,将密封圈3嵌设在密封槽14内,然后将工件放置到真空吸盘本体1上端面。汇流阀4的汇流口42连接到外部真空机上,开启真空机,即可对吸附槽抽吸形成负压,以对工件进行固定。
以上实施方式只为说明本实用新型的技术构思及特点,其目的在于让熟悉此项技术的人了解本实用新型的内容并加以实施,并不能以此限制本实用新型的保护范围,凡根据本实用新型精神实质所做的等效变化或修饰,都应涵盖在本实用新型的保护范围内。

Claims (9)

1.一种真空吸盘,其特征在于:包括
真空吸盘本体,所述真空吸盘本体上设置有至少一个吸附工位,其中每个所述吸附工位均包括沿真空吸盘本体上端面开设的至少一个闭环设置的吸附槽,所述吸附槽由内而外依次套设且间隔设置,一个所述吸附槽的槽底开设有贯穿真空吸盘本体的吸气孔,所述真空吸盘本体上端面开设连通吸附槽的至少一个导通槽;
真空发生器,所述真空发生器固定在真空吸盘本体下端面且与所述吸气孔对应设置,所述真空发生器与吸气孔连通。
2.根据权利要求1所述的真空吸盘,其特征在于:所述吸附槽为环形结构或多边形结构中的一种。
3.根据权利要求1所述的真空吸盘,其特征在于:每个所述吸附工位上还设置有一密封圈,所述真空吸盘本体的上端面开设有至少一个密封槽,所述密封槽位于吸附槽外侧,所述密封圈嵌设在密封槽内。
4.根据权利要求1所述的真空吸盘,其特征在于:所述真空吸盘本体的下端面开设有凹槽,所述真空发生器设置在凹槽内。
5.根据权利要求4所述的真空吸盘,其特征在于:所述凹槽为门字型结构,包括平行设置的放置部和连接放置部的走线部,所述真空发生器设置在放置部内,所述吸气孔开设在位于两个所述放置部之间的真空吸盘本体上。
6.根据权利要求1所述的真空吸盘,其特征在于:每个所述真空发生器均与一个汇流阀连接,所述汇流阀通过管道与外部的真空发生器连通,所述真空吸盘本体上开设有供汇流阀嵌入的缺口。
7.根据权利要求1所述的真空吸盘,其特征在于:所述真空吸盘本体的下端面设置有覆盖在真空发生器上的底板。
8.根据权利要求1所述的真空吸盘,其特征在于:相邻所述吸附槽间的间隔相同。
9.根据权利要求1所述的真空吸盘,其特征在于:所述真空吸盘本体为一体成型的不锈钢件。
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