CN216224006U - 一种气相二氧化硅与丙烯酸异片酯加工用配比设备 - Google Patents

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Abstract

本实用新型公开了一种气相二氧化硅与丙烯酸异片酯加工用配比设备,包括操作箱,所述操作箱左端固定安装有阶梯,所述操作箱上端左部固定安装有支撑架,所述支撑架上端固定安装有进料装置,所述操作箱上端中部固定安装有搅拌装置,所述搅拌装置位于支撑架的右侧并固定连接进料装置的下端右部,所述搅拌装置上端固定安装有桶盖,所述桶盖上端固定安装有旋转装置,所述搅拌装置下端固定安装有下料斗,所述下料斗下部设置有下料阀,所述操作箱上端右部固定安装有控制器。本实用新型所述的一种气相二氧化硅与丙烯酸异片酯加工用配比设备,搅拌效率高,带有过滤效果,双容器设置防止配比时发生失误,提高配比精准度。

Description

一种气相二氧化硅与丙烯酸异片酯加工用配比设备
技术领域
本实用新型涉及化学物品加工技术领域,特别涉及一种气相二氧化硅与丙烯酸异片酯加工用配比设备。
背景技术
气相二氧化硅(俗称气相白碳黑)产品为人工合成物×射线列定形白色流动性粉末,具有各种比表面积和容积严格的粒度分布。本产品是一种白色、松散、无定形、无毒、无味、无嗅,无污染的非金属氧化物。由于其纳米效应,在材料中表现出卓越的补强、增稠、触变、绝缘、消光、防流挂等性质,因而广泛的应用于橡胶、塑料、涂料、胶粘剂、密封胶等高分子工业领域。在现有的加工用配比设备在配比的过程中至少有以下弊端:1、向配比装置内加入原料时,无法精准的把控好原料的比例,有时会因为工作人员的失误使两种配比的原料的比例失衡,导致配比出来的成品达不到预期的效果,从而影响到产品的质量,费时费力,且会造成不必要的损失;2、现有的加工用配比设备搅拌性能差,搅拌不均匀,且搅拌时设备不稳定,工作效率低,配比出来的原料有杂质,下料时容易产生飞溅,故此,我们推出一种新的气相二氧化硅与丙烯酸异片酯加工用的配比设备。
实用新型内容
本实用新型的主要目的在于提供一种气相二氧化硅与丙烯酸异片酯加工用配比设备,可以有效解决背景技术中的问题。
为实现上述目的,本实用新型采取的技术方案为:
一种气相二氧化硅与丙烯酸异片酯加工用配比设备,包括操作箱,所述操作箱左端固定安装有阶梯,所述操作箱上端左部固定安装有支撑架,所述支撑架上端固定安装有进料装置,所述操作箱上端中部固定安装有搅拌装置,所述搅拌装置位于支撑架的右侧并固定连接进料装置的下端右部,所述搅拌装置上端固定安装有桶盖,所述桶盖上端固定安装有旋转装置,所述搅拌装置下端固定安装有下料斗,所述下料斗下部设置有下料阀,所述操作箱上端右部固定安装有控制器。
优选的,所述旋转装置包括电机,所述电机右端固定连接有保护罩,所述电机输出端贯穿保护罩固定连接有转动杆,所述有转动杆外表面左部和外表面右部均穿插固定连接有大齿轮,所述转动杆外表面中部通过轴承活动连接有固定轴,两个所述大齿轮下部均啮合连接有小齿轮。
优选的,两个所述大齿轮与固定轴不接触,两个所述小齿轮下部均通过轴承与桶盖活动连接,所述固定轴下端固定连接在桶盖上端,所述固定轴、大齿轮和小齿轮均位于保护罩内部且与保护罩内壁不接触。
优选的,所述进料装置包括两个容器,两个所述容器外表面下部均设置有阀门,两个所述阀门右端均贯穿容器的外表面并穿插连接有球形阀,所述球形阀外表面开有穿通的出水口,两个所述容器下端共同固定连接有集料管。
优选的,搅拌装置包括搅拌桶,所述搅拌桶左侧外表面上部开有穿通的集料口,所述搅拌桶下内壁设置有两个轴承,所述搅拌桶内通过两个轴承活动连接有两个转动柱,两个所述转动柱外表面均固定安装有若干个搅拌叶,若干个所述搅拌叶交错分布且互不接触,所述搅拌桶下端固定安装有过滤网。
优选的,所述集料口内壁与集料管外表面固定连接,两个所述转动柱上端分别与两个小齿轮下端固定连接,若干个所述搅拌叶均与搅拌桶内壁不接触,所述过滤网位于下料斗内部。
与现有技术相比,本实用新型具有如下有益效果:
1、本实用新型中,通过在进料装置上设置两个带有球形阀的容器,在将需要配比的原料倒入带有刻度的容器内,当原料达到配比要求时,打开阀门,原料通过球形阀的出水口进入集料管后涌入搅拌装置内进行搅拌,这样能保证配比时比例的精准度,提高配比的质量,提高工作效率;
2、本实用新型中,将两个容器固定安装在支撑架上,防止搅拌时发生晃动,提高稳定性,通过电机的转动,带动两个转动柱转动使得若干个搅拌叶同时在搅拌桶内转动,搅拌效率高,使原料充分的搅拌,再通过搅拌桶下端设置的过滤网,使配比出来的质量更好,通过在搅拌桶下方安装带有下料阀的下料斗,使在下料时通过下料阀控制球形阀出水口的大小从而控制下料速度防止原料飞溅。
附图说明
图1为本实用新型一种气相二氧化硅与丙烯酸异片酯加工用配比设备的整体结构示意图;
图2为本实用新型一种气相二氧化硅与丙烯酸异片酯加工用配比设备的旋转装置整体结构示意图;
图3为本实用新型一种气相二氧化硅与丙烯酸异片酯加工用配比设备的进料装置整体结构示意图;
图4为本实用新型一种气相二氧化硅与丙烯酸异片酯加工用配比设备的搅拌装置结构示意图。
图中:1、阶梯;2、操作箱;3、支撑架;4、进料装置;401、容器;402、球形阀;403、集料管;404、阀门;5、旋转装置;501、电机;502、保护罩;503、固定轴;504、大齿轮;505、转动杆;506、小齿轮;6、桶盖;7、搅拌装置;701、搅拌桶;702、集料口;703、转动柱;704、搅拌叶;705、轴承;706、过滤网;8、控制器;9、下料斗;10、下料阀。
具体实施方式
为使本实用新型实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解,下面结合具体实施方式,进一步阐述本实用新型。
在本实用新型的描述中,需要说明的是,术语“上”、“下”、“内”、“外”“前端”、“后端”、“两端”、“一端”、“另一端”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本实用新型和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本实用新型的限制。此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性。
在本实用新型的描述中,需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“设置有”、“连接”等,应做广义理解,例如“连接”,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
实施例
请参阅图1-4,本实用新型提供一种技术方案:
一种气相二氧化硅与丙烯酸异片酯加工用配比设备,包括操作箱2,操作箱2左端固定安装有阶梯1,操作箱2上端左部固定安装有支撑架3,支撑架3上端固定安装有进料装置4,操作箱2上端中部固定安装有搅拌装置7,搅拌装置7位于支撑架3的右侧并固定连接进料装置4的下端右部,搅拌装置7上端固定安装有桶盖6,桶盖6上端固定安装有旋转装置5,搅拌装置7下端固定安装有下料斗9,下料斗9下部设置有下料阀10,操作箱2上端右部固定安装有控制器8。
本实施例中,旋转装置5包括电机501,电机501右端固定连接有保护罩502,电机501输出端贯穿保护罩502固定连接有转动杆505,有转动杆505外表面左部和外表面右部均穿插固定连接有大齿轮504,转动杆505外表面中部通过轴承活动连接有固定轴503,两个大齿轮504下部均啮合连接有小齿轮506;两个大齿轮504与固定轴503不接触,两个小齿轮506下部均通过轴承与桶盖6活动连接,固定轴503下端固定连接在桶盖6上端,固定轴503、大齿轮504和小齿轮506均位于保护罩502内部且与保护罩502内壁不接触;通过在旋转装置5上设置保护罩502,使电机501在工作时,保护罩502内部的齿轮转动不受外部的干扰,防止小石头或者其他物品导致旋转装置5无法正常工作,电机501带动两个大齿轮504转动从而带动两个小齿轮506与两个大齿轮504啮合转动,两个小齿轮506下部均与桶盖6轴承连接,方便小齿轮506与转动柱703转动连接。
本实施例中,进料装置4包括两个容器401,两个容器401外表面下部均设置有阀门404,两个阀门404右端均贯穿容器401的外表面并穿插连接有球形阀402,球形阀402外表面开有穿通的出水口,两个容器401下端共同固定连接有集料管403;搅拌装置7包括搅拌桶701,搅拌桶701左侧外表面上部开有穿通的集料口702,搅拌桶701下内壁设置有两个轴承705,搅拌桶701内通过两个轴承705活动连接有两个转动柱703,两个转动柱703外表面均固定安装有若干个搅拌叶704,若干个搅拌叶704交错分布且互不接触,搅拌桶701下端固定安装有过滤网706;集料口702内壁与集料管403外表面固定连接,两个转动柱703上端分别与两个小齿轮506下端固定连接,若干个搅拌叶704均与搅拌桶701内壁不接触,过滤网706位于下料斗9内部;通过将进料装置4固定安装在支撑架3上,使设备在搅拌时保持稳定,容器401为透明玻璃材质且带有刻度条,使配比更精准,通过设置两个带有球形阀402的容器401,在将需要配比的原料倒入带有刻度的容器401内,当原料达到配比要求时,打开门阀404,将原料通过集料管403流入搅拌装置7内,这样能保证配比时不会因为比例不均匀影响配比的效果,提高配比质量,提高工作效率,通过在搅拌装置7内设置若干个搅拌叶704,且若干个搅拌叶704交错分布互不接触,可以充分的将需要配比的原料进行搅拌,再通过搅拌桶701下端设置的过滤网706,过滤杂质,使配比出来的质量更加的高,通过在搅拌桶701下方安装带有下料阀10的下料斗9,因下料斗9为上大下小,使在下料时缓慢的下料,使在下料时通过下料阀控制球形阀出水口的大小从而控制下料速度防止原料飞溅,实用性强,适合气相二氧化硅与丙烯酸异片酯加工用的配比设备。
需要说明的是,本实用新型为一种气相二氧化硅与丙烯酸异片酯加工用配比设备,在使用过程中,首先工作人员将气相二氧化硅与丙烯酸异片酯的原料从阶梯1上分别灌入到两个带有刻度的容器401内,根据刻度调制需要的比例,再通过转动阀门404,使容器401下端的球形阀402发生转动,球形阀402内部开有穿通的出水口,通过转动球形阀402的幅度控制出水口的大小,根据出水口的大小控制容器401内部的原料流入集料管403的量,容器401内的原料通过集料管403流入搅拌桶701内,通过控制器8启动电机501,电机501带动转动柱505转动,从而使若干组搅拌叶704对搅拌桶701内的原料进行搅拌,在搅拌过程中,由于若干组搅拌叶704交错分布转动,使得在搅拌过程中原料能够充分的进行搅拌,搅拌的原料通过搅拌桶701下方设置的过滤网706流入下料斗9内,过滤网706起到去除杂质的作用,提高了配比的精准度和质量,下料斗9为上大下小使原料具有更好的流通性,通过转动下方设置的下料阀10将原料从下料斗9排出,下料斗9设有下料阀10,在下料时可以通过下料阀10控制下料的快慢,防止下料时的飞溅,整个装置搅拌效率高且配比精准,适合气相二氧化硅与丙烯酸异片酯加工配比的使用。
以上显示和描述了本实用新型的基本原理和主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解,本实用新型不受上述实施例的限制,上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理,在不脱离本实用新型精神和范围的前提下,本实用新型还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。

Claims (6)

1.一种气相二氧化硅与丙烯酸异片酯加工用配比设备,包括操作箱(2),其特征在于:所述操作箱(2)左端固定安装有阶梯(1),所述操作箱(2)上端左部固定安装有支撑架(3),所述支撑架(3)上端固定安装有进料装置(4),所述操作箱(2)上端中部固定安装有搅拌装置(7),所述搅拌装置(7)位于支撑架(3)的右侧并固定连接进料装置(4)的下端右部,所述搅拌装置(7)上端固定安装有桶盖(6),所述桶盖(6)上端固定安装有旋转装置(5),所述搅拌装置(7)下端固定安装有下料斗(9),所述下料斗(9)下部设置有下料阀(10),所述操作箱(2)上端右部固定安装有控制器(8)。
2.根据权利要求1所述的一种气相二氧化硅与丙烯酸异片酯加工用配比设备,其特征在于:所述旋转装置(5)包括电机(501),所述电机(501)右端固定连接有保护罩(502),所述电机(501)输出端贯穿保护罩(502)固定连接有转动杆(505),所述有转动杆(505)外表面左部和外表面右部均穿插固定连接有大齿轮(504),所述转动杆(505)外表面中部通过轴承活动连接有固定轴(503),两个所述大齿轮(504)下部均啮合连接有小齿轮(506)。
3.根据权利要求2所述的一种气相二氧化硅与丙烯酸异片酯加工用配比设备,其特征在于:两个所述大齿轮(504)与固定轴(503)不接触,两个所述小齿轮(506)下部均通过轴承与桶盖(6)活动连接,所述固定轴(503)下端固定连接在桶盖(6)上端,所述固定轴(503)、大齿轮(504)和小齿轮(506)均位于保护罩(502)内部且与保护罩(502)内壁不接触。
4.根据权利要求1所述的一种气相二氧化硅与丙烯酸异片酯加工用配比设备,其特征在于:所述进料装置(4)包括两个容器(401),两个所述容器(401)外表面下部均设置有阀门(404),两个所述阀门(404)右端均贯穿容器(401)的外表面并穿插连接有球形阀(402),所述球形阀(402)外表面开有穿通的出水口,两个所述容器(401)下端共同固定连接有集料管(403)。
5.根据权利要求1所述的一种气相二氧化硅与丙烯酸异片酯加工用配比设备,其特征在于:搅拌装置(7)包括搅拌桶(701),所述搅拌桶(701)左侧外表面上部开有穿通的集料口(702),所述搅拌桶(701)下内壁设置有两个轴承(705),所述搅拌桶(701)内通过两个轴承(705)活动连接有两个转动柱(703),两个所述转动柱(703)外表面均固定安装有若干个搅拌叶(704),若干个所述搅拌叶(704)交错分布且互不接触,所述搅拌桶(701)下端固定安装有过滤网(706)。
6.根据权利要求5所述的一种气相二氧化硅与丙烯酸异片酯加工用配比设备,其特征在于:所述集料口(702)内壁与集料管(403)外表面固定连接,两个所述转动柱(703)上端分别与两个小齿轮(506)下端固定连接,若干个所述搅拌叶(704)均与搅拌桶(701)内壁不接触,所述过滤网(706)位于下料斗(9)内部。
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