CN215678295U - 防污染检测系统 - Google Patents

Abstract

本实用新型提出一种防污染检测系统，防污染检测系统包括：主机台；进样器，与所述主机台连接；保护装置，包括保护罩，传感器单元及过滤单元，其中，所述传感器单元位于所述保护装置内，所述过滤单元位于所述保护罩顶部；气体存储装置，包括传输管道，所述传输管道与所述保护装置的底部连接；阀体，位于所述传输管道上。通过本实用新型可以实现提高检测结果准确度，降低生产成本，提高产品的良品率。

Description

防污染检测系统

技术领域

本实用新型涉及半导体检测设备技术领域，特别涉及一种防污染检测系统。

背景技术

随着集成电路制程技术的集成化程度的提高，对于产品良品率的要求也越来越高。不仅在晶圆制程环境的洁净度方面有严格要求，还在晶圆检测设备内部的洁净度也有严格指标。其中，作业环境中产生的阴、阳离子为影响制程良品率的主要因素之一，如果作业环境中的离子浓度未进行有效控制，则会使得作业环境产生污染，进而使得产品失效，从而降低产品的良品率。当作业环境中的离子浓度超过规定值时，会使得集成电路芯片上的线路发生严重的腐蚀，导致产品的良品率降低。如何监控作业环境中的浓度，并提高检测结果的准确度是目前需要解决的问题。

实用新型内容

鉴于以上现有技术的缺点，本实用新型的目的在于提供一种防污染检测系统，提高检测结果准确度，降低生产成本，提高产品的良品率。

为了实现上述目的及其它相关目的，本实用新型提供一种防污染检测系统，其至少包括：

主机台；

进样器，与所述主机台连接；

保护装置，包括保护罩，传感器单元及过滤单元，其中，所述传感器单元位于所述保护装置内，所述过滤单元位于所述保护罩顶部；

气体存储装置，包括传输管道，所述传输管道与所述保护装置的底部连接；

阀体，位于所述传输管道上。

在本实用新型一实施例，所述保护罩包括：

气体输出口，贯穿于所述保护罩的顶面；

气体输入口，与所述气体输出口相对设置，且贯穿于所述保护罩的底面。

在本实用新型一实施例，所述气体输出口的数量至少为四个。

在本实用新型一实施例，所述气体输入口的数量至少为四个。

在本实用新型一实施例，所述保护装置还包括样品台，所述样品台位于所述保护罩的底部，所述样品台与所述进样器处于同一水平面上。

在本实用新型一实施例，所述保护装置还包括：

第一窗口，其位于所述保护装置的一侧面；

第二窗口，其位于所述保护装置的另一侧面。

在本实用新型一实施例，所述阀体为电磁阀。

在本实用新型一实施例，所述保护装置还包括连接口，所述连接口位于所述保护罩的一侧。

在本实用新型一实施例，所述传输管道包括第一传输管道和第二传输管道，所述第一传输管道位于所述保护装置的顶部，所述第二传输管道位于所述保护装置的底部。

在本实用新型一实施例，所述第一传输管道与所述第二传输管道相对位于所述保护装置的两侧。

综上所述，本实用新型提供一种防污染检测系统，通过将主机台和保护装置进行联动设计，当主机台运行时，保护装置内通入保护气体，实现气体节约使用，降低生产成本，避免因待测样品长时间放置而产生的重复采样行为，确保待测样品溶液的检测环境无污染。也就是说，即使长时间实施待测样品的放置活动，也可以确保检测结果的准确度，可以实现保护待测样品，使得待测样品的检测环境不受污染或者因待测样品长时间暴露在空气中而失效。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型一种防污染检测系统于一实施例中的结构示意图。

图2为本实用新型一种防污染检测系统于一实施例中的保护装置结构示意图。

图3为本实用新型一种防污染检测系统于一实施例中的保护装置立体结构示意图。

图4为本实用新型一种防污染检测系统于一实施例中的气体传输示意图。

图5为本方案中一种防污染检测方法于一实施例中的步骤S1～S2的流程图。

图6为本方案中一种防污染检测方法于一实施例中的应用防污染检测系统示意图。

图7为本方案中一种防污染检测方法于一实施例中的步骤S2中的步骤S21～S22中的流程示意图。

图8为本方案中一种防污染检测方法于一实施例中的步骤S21中的步骤S211～S212中的流程示意图。

具体实施方式

以下通过特定的具体实例说明本实用新型的实施方式，本领域技术人员可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本实用新型的其它优点与功效。本实用新型还可以通过另外不同的具体实施方式加以实施或应用，本说明书中的各项细节也可以基于不同观点与应用，在没有背离本实用新型的精神下进行各种修饰或改变。需说明的是，在不冲突的情况下，以下实施例及实施例中的特征可以相互组合。还应当理解，本实用新型实施例中使用的术语是为了描述特定的具体实施方案，而不是为了限制本实用新型的保护范围。下列实施例中未注明具体条件的试验方法，通常按照常规条件，或者按照各制造商所建议的条件。

请参阅图1至图8。须知，本说明书附图所绘示的结构、比例、大小等，均仅用以配合说明书所揭示的内容，以供熟悉此技术的人士了解与阅读，并非用以限定本实用新型可实施的限定条件，故不具技术上的实质意义，任何结构的修饰、比例关系的改变或大小的调整，在不影响本实用新型所能产生的功效及所能达成的目的下，均应仍落在本实用新型所揭示的技术内容所能涵盖的范围内。同时，本说明书中所引用的如“上”、“下”、“左”、“右”、“中间”及“一”等的用语，亦仅为便于叙述的明了，而非用以限定本实用新型可实施的范围，其相对关系的改变或调整，在无实质变更技术内容下，当亦视为本实用新型可实施的范畴。

当实施例给出数值范围时，应理解，除非本实用新型另有说明，每个数值范围的两个端点以及两个端点之间任何一个数值均可选用。除非另外定义，本实用新型中使用的所有技术和科学术语与本技术领域的技术人员对现有技术的掌握及本实用新型的记载，还可以使用与本实用新型实施例中所述的方法、设备、材料相似或等同的现有技术的任何方法、设备和材料来实现本实用新型。

采用离子色谱法检测制程工艺中的环境及机台内部等情况下的阴阳离子浓度，当待测样品放置在检测装置上时，长期暴露在空气中，样品中会产生杂质，导致样品受到污染，从而导致样品分析结果不准确，进而影响对制程工艺环境与设备使用环境的评估。具体说来，当Cl-浓度超过标准值时，使得半导体芯片上的Al导线产生严重的腐蚀现象，并生成AlCl3，进一步导致晶圆的良品率降低。当光罩室内的氨气含量异常过高时，使得光罩上有细微颗粒产生，从而导致曝光缺陷。当主机台内的氨气浓度过高时，使得物镜片表面产生雾化，造成曝光机时光线偏移，降低生产良率。

为了精准检测到制程环境及设备使用环境的阴阳离子，保护待测样品。请参考图1，本实用新型提供一种防污染检测系统，其包括，保护装置1，传感器单元2，过滤单元3，样品台4，进样器5，主机台6，阀体7，气体存储装置8，废气存储装置9及传输管道10。传感器单元2及样品台4位于在保护装置1内。过滤单元3位于在样品台4的上方。进样器5连接主机台6，进样器5用于汲取样品台4上的待测样品，主机台6用于检测分析待测样品。阀体7位于在传输管道10上，用于控制气体流入或者流出至气体存储装置8。气体存储装置8用于存放A类氮气。废气存储装置9用于存储经由保护装置1过滤后的废气。传输管道10分别连接保护装置1的顶部和底部，传输管道10用于A类氮气的输入及输出。

请参考图1、图2及图3，在本实用新型的一实施例中，保护装置1可位于在底座上，保护装置1可包括保护罩11，保护罩11用于保护待测样品的检测环境。保护装置1保护待测样品，使其不受外界环境的污染，也不会因长时间暴露在空气内，进而使待测样品产生失效。将待测样品溶液传送至保护装置1内，使得待测样品容易放置于样品台4上。打开保护装置1，保护装置1内与保护罩11连接的电磁阀感应开启，开启后的电磁阀使得传输管道10内的气体正常流通。

如图2及图3所示，在本实用新型的一实施例中，保护装置1的顶部可设置有气体输入口12，气体输入口12在本实用新型中位于在保护罩11底部，且贯穿于保护罩11的底面，气体输入口12用于连接传输管道10，使得传输管道10内的A类氮气通过气体输入口12输入保护罩11内。气体输入口12的数量范围是偶数个，气体输入口12的数量例如至少为四个，使得保护罩11内快速充盈A类氮气，节约气体的使用，降低生产成本。

请再参考图2及图3所示，在本实用新型的一实施例中，保护装置1的底部设置有气体输出口13，气体输出口13在本实用新型中位于在保护罩11顶部，且贯穿于保护罩11的顶面，气体输出口13用于连接废气管道，使得A类氮气及其他废气通过废气管道排出。气体输出口13的数量范围是偶数个，气体输出口13的数量例如至少为四个，使得保护罩11内的A类氮气及其他废气快速排出保护罩11，节约气体的使用，降低生产成本。

请再参考图2及图3所示，在本实用新型的一实施例中，保护装置1的主视面可位于有第一窗口14，第一窗口14位于在保护罩11的主视面，第一窗口14用于将待测样品进行窗口传输，使得操作人员方便传输待测样品。

如图2及图3所示，在本实用新型的一实施例中，保护装置1的后视面设置有第二窗口15，第二窗口15位于在保护罩11的后视面，第二窗口15用于传输进样器5，方便维修人员维修进样器5。

请再参考图2及图3所示，在本实用新型的一实施例中，保护装置1的右侧视面可设有连接口16，连接口16开设于保护罩11的一侧，且贯穿于保护罩11的一侧，连接口16用于将进样器5与主机台6进行连接。连接口16的形状例如是圆形或者多边形，方便进样器5输送待测样品溶液。

请再参考图1，在本实用新型的一实施例中，传感器单元2可位于在保护装置1内，传感器单元2例如可以是压力传感器。当主机台6停止检测待测样品溶液时，保护罩11内的压力值下降直至最小值，压力传感器不再检测相关气体信号，使得保护装置1内的压力传感器关闭，电磁阀停止工作，进而关闭气体输入口12连接形成的管路。传感器单元2在本实用新型中位于在保护装置1的内侧壁，传感器单元2用于监测保护装置1内的气体压力，预设位于保护罩11内的可承受的压力阈值，当保护罩11内的气体压力值等于预设压力阈值时，持续向保护罩11内通入A类氮气，废气排出至废气存储装置9。当保护罩11内的气体压力值符合小于预设压力阈值条件时，传感器单元2关闭，电磁阀闭合，使得气体存储装置8的通气口关闭，不再输入A类氮气至保护装置1内。

请再参考图1，在本实用新型的一实施例中，当未通入气体时，保护罩11内的传感器单元2未检测到气体信号及相对应气体容量的压力值，保护罩11顶部的过滤单元3自动打开，实现净化待测样品区的检测环境。当通入气体后，保护罩11内的传感器单元2检测到气体信号及相对应气体容量的压力值，且此压力值等于压力阈值时，气体持续向保护罩11内通入气体，节约气体的使用，降低生产成本。同时，气体与其他废气从气体输出口13通过传输管道10排出至废气存储装置9，确保待测样品在洁净环境下完成检测。

请参考图4，在本实用新型的一实施例中，过滤单元3可位于在保护装置1的顶部，且位于保护罩11的顶部。过滤单元3在本实用新型中位于在两个气体输出口13之间，当保护罩11内未通入A类氮气时，过滤单元3开始工作，并自动打开，与之相适应的是，当保护罩11内通入A类氮气时，过滤单元3停止工作。

请再参考图4，在本实用新型的一实施例中，样品台4通过旋转件可连接在底座上，样品台4用于放置待测样品。当进样器5吸取样品台4上的待测溶液后，通过连接口16将待测溶液输送至主机台6上进行检测分析待测溶液。

请再参考图4，在本实用新型的一实施例中，进样器5可设置在保护罩11内，进样器5可以是输液管，方便待测溶液的传输。进样器5可通过管道51连接主机台6，进样器5用于导入待测样品，经由管道51流经待测溶液，使得主机台5进行保护分析待测溶液，避免因待测样品长时间放置而产生的重复采样行为。

请再参考图4，在本实用新型的一实施例中，主机台6可位于在保护装置1的一侧，且通过传输管道10连接进样器5。主机台6进行待测样品溶液分析工作时，电磁阀感应开启，打开气体存储装置8的通气口，当气体通过传输管道10通入保护罩11内，保护罩11内的传感器单元2检测保护罩11内的气体压力值，使得压力传感器监测保护罩11内的A类氮气压力。主机台6通过抑制型电导检测系统将检测到的样品离子输出顺序信号传输至数据系统，进而判断离子浓度是否达标。

请再参考图4，在本实用新型的一实施例中，阀体7可位于在传输管道10上，且位于气体输入口12与气体存储装置8之间。阀体7例如可以是电磁阀，当打开第一窗口14，将待测样品放置在样品台4上检测时，保护装置1开始工作，电磁阀接收信号，电磁阀打开A类氮气通气口，使得A类氮气从气体存储装置8内通过气体输入口12传入保护罩11内，实现气体的节约使用。

请再参考图4，在本实用新型的一实施例中，气体存储装置8连接阀体7，气体存储装置8例如存储A类氮气或者其他保护气体，气体存储装置8通过阀体7的开闭，将A类氮气通过气体输入口12输入至保护罩11内。

请再参考图4，在本实用新型的一实施例中，废气存储装置9连接传输管道10，废气存储装置9相对设置在气体存储装置8的一侧，废气存储装置9通过气体输出口13将保护装置1内的A类氮气或者其他气体经由传输管道10排出。

请参考图1-图4，在本实用新型的一实施例中，传输管道10可包括第一传输管道101及第二传输管道102，第一传输管道101相对设置于第二传输管道102。第一传输管道101位于在保护装置1的顶部。第一传输管道101的数量例如至少为四个，用于连接气体输出口13，使得保护罩11内的废气由第一传输管道101排出。第二传输管道102位于在保护装置1的底部，第二传输管道102的数量例如至少为四个，用于连接气体出入口12，使得气体存储装置8内的待输入气体由第二传输管道102通过阀体7输入至保护装置1内。

为了清楚介绍本方案的技术内容，提供本方案的一个完整应用，请参考图5，其包括：S1、通过第一窗口14将待测样品溶液放置于保护装置1内的样品台4上；S2、通过进样器5将所述待测样品溶液输出至主机台6，主机台6检测所述待测样品溶液中的各个元素的离子浓度，判断所述待测样品溶液中的各个元素的离子浓度是否符合阈值。

请参考图4、图5、图6及图7，在本实用新型的一实施例中，在步骤S2中，主机台6检测保护装置1内的所述待测样品溶液中的各个元素的离子浓度的步骤包括：S21、当主机台6开始检测所述待测溶液样品时，阀体7和传感器单元2同步运行。

请参考图4、图6、图7及图8，在本实用新型的一实施例中，在步骤S21中，阀体7和传感器单元2同步运行的步骤包括：S211、预设传感器单元2压力阈值。S212、检测保护装置1内是否通入氮气，若传感器单元2检测到未通入氮气，则保护罩11上的过滤单元3自动打开，若传感器单元2检测到通入氮气，则保护罩11内继续通入氮气。

请参考图4、图5、图6及图7，在本实用新型的一实施例中，在步骤S22中，当主机台6停止检测所述待测溶液样品时，阀体7和所述传感器单元2停止工作。

综上所述，本实用新型提供一种防污染检测系统，确保待测样品溶液的检测环境无污染，当样品长时间暴露在空气中，也不影响待测样品的检测结果。通过将主机台6和保护装置1进行在线检测联动设计，当主机台6运行时，保护装置内通入保护气体，可以实现保护待测样品，使得待测样品的检测环境不受污染或者因待测样品长时间暴露在空气中而失效，降低生产成本，避免因待测样品长时间放置而产生的重复采样行为。所以，本实用新型有效克服了现有技术中的一些实际问题从而有很高的利用价值和使用意义。

上述实施例仅例示性说明本实用新型的原理及其功效，而非用于限制本实用新型。任何熟悉此技术的人士皆可在不违背本实用新型的精神及范畴下，对上述实施例进行修饰或改变。因此，举凡所属技术领域中具有通常知识者在未脱离本实用新型所揭示的精神与技术思想下所完成的一切等效修饰或改变，仍应由本实用新型的权利要求所涵盖。

Claims (10)

1.一种防污染检测系统，其特征在于，至少包括：

主机台；

进样器，与所述主机台连接；

保护装置，包括保护罩，传感器单元及过滤单元，其中，所述传感器单元位于所述保护装置内，所述过滤单元位于所述保护罩顶部；

气体存储装置，包括传输管道，所述传输管道与所述保护装置的底部连接；

阀体，位于所述传输管道上。

2.根据权利要求1所述的一种防污染检测系统，其特征在于，所述保护罩包括：

气体输出口，贯穿于所述保护罩的顶面；

气体输入口，与所述气体输出口相对设置，且贯穿于所述保护罩的底面。

3.根据权利要求2所述的一种防污染检测系统，其特征在于，所述气体输出口的数量至少为四个。

4.根据权利要求2所述的一种防污染检测系统，其特征在于，所述气体输入口的数量至少为四个。

5.根据权利要求1所述的一种防污染检测系统，其特征在于，所述保护装置还包括样品台，所述样品台位于所述保护罩的底部，所述样品台与所述进样器处于同一水平面上。

6.根据权利要求1所述的一种防污染检测系统，其特征在于，所述保护装置还包括：

第一窗口，其位于所述保护装置的一侧面；

第二窗口，其位于所述保护装置的另一侧面。

7.根据权利要求1所述的一种防污染检测系统，其特征在于，所述阀体为电磁阀。

8.根据权利要求1所述的一种防污染检测系统，其特征在于，所述保护装置还包括连接口，所述连接口位于所述保护罩的一侧。

9.根据权利要求1所述的一种防污染检测系统，其特征在于，所述传输管道包括第一传输管道和第二传输管道，所述第一传输管道位于所述保护装置的顶部，所述第二传输管道位于所述保护装置的底部。

10.根据权利要求9所述的一种防污染检测系统，其特征在于，所述第一传输管道与所述第二传输管道相对位于所述保护装置的两侧。

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