CN215543384U - 一种等离子自动清洗设备 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种等离子自动清洗设备，包括三轴移动平台、推料机构、出料弹夹、收料弹夹、输送台和喷枪，所述喷枪安装于所述三轴移动平台上并位于所述输送台的上方，所述出料弹夹和所述收料弹夹分别靠近所述输送台的两端设置，所述出料弹夹内设有若干层用于放置物料的托盘，所述推料机构用于推动所述出料弹夹中的所述托盘至所述输送台上，所述输送台设有用于令所述托盘停留在所述输送台上的阻挡组件。通过出料弹夹、收料弹夹以及输送台的设置实现了自动出料和收料，阻挡组件配合三轴移动平台及喷枪，可对托盘上不同位置的物料进行快速的清洗处理，同时推料机构可以快速平稳的将托盘推至输送台上，有利于提高等离子清洗的效率。
Description
技术领域
本实用新型涉及等离子处理设备技术领域，尤其涉及一种等离子自动清洗设备。
背景技术
低温等离子体中存在着大量的活性粒子使得反应物分子激发、电离或断键；且不会使被处理材料热解或烧蚀，因此在改性高分子材料表面上具有独特的应用价值。目前低温等离子表面处理被广泛应用于金属、微电子、聚合物、生物功能材料、低温灭菌及污染治理等多种领域。等离子表面处理具有成本低、无废弃物、无污染等显著优点，同时可以得到传统的化学方法难以达到的处理效果。
现有的等离子清洗设备，需要进行人工放料和收料，效率较低。
实用新型内容
本实用新型所要解决的技术问题是：提供一种高效的等离子自动清洗设备。
为了解决上述技术问题，本实用新型采用的技术方案为：一种等离子自动清洗设备，包括三轴移动平台、推料机构、出料弹夹、收料弹夹、输送台和喷枪，所述喷枪安装于所述三轴移动平台上并位于所述输送台的上方，所述出料弹夹和所述收料弹夹分别靠近所述输送台的两端设置，所述出料弹夹内设有若干层用于放置物料的托盘，所述推料机构用于推动所述出料弹夹中的所述托盘至所述输送台上，所述输送台设有用于令所述托盘停留在所述输送台上的阻挡组件。
进一步的，所述三轴移动平台包括分别由伺服电机控制的X轴导轨、Y轴导轨和Z轴导轨，所述X轴导轨平行于所述输送台，所述X轴导轨连接所述Y 轴导轨，所述Y轴导轨连接所述Z轴导轨，所述喷枪安装于所述Z轴导轨上。
进一步的，所述推料机构包括相连的第一直线步进电机和推杆，所述推杆对应于所述出料弹夹内的所述托盘设置。
进一步的，所述出料弹夹和所述收料弹夹分别安装有弹夹升降机构，所述弹夹升降机构包括弹夹支撑台以及依次传动相连的第一驱动电机、丝杆和升降块，所述弹夹支撑台与所述升降块连接。
进一步的，所述弹夹支撑台设有多个弹夹定位条。
进一步的，所述等离子自动清洗设备还包括推送机构，所述推送机构包括依次相连的第二直线步进电机、第一气缸和推板，所述推板抵接所述托盘远离所述收料弹夹的一端以推动所述托盘进入所述收料弹夹。
进一步的，所述输送台包括用于输送所述托盘的传送带，所述传送带的两端分别靠近所述出料弹夹和所述收料弹夹。
进一步的，所述输送台还包括第二驱动电机及同轴相连的第一带轮和第二带轮，所述第一带轮与所述传送带连接，所述第二带轮通过带传动与所述第二驱动电机连接。
进一步的，所述输送台的侧壁的顶部靠近所述出料弹夹的一端设有引导件，所述引导件向所述出料弹夹延伸。
进一步的，所述等离子自动清洗设备还包括机架，所述三轴移动平台、推料机构及输送台分别设于所述机架内，所述机架上安装有连通所述机架的内部空间的鼓风机。
本实用新型的有益效果在于：通过出料弹夹、收料弹夹以及输送台的设置实现了自动出料和收料，阻挡组件配合三轴移动平台及喷枪，可对托盘上不同位置的物料进行快速的清洗处理，同时推料机构可以快速平稳的将托盘推至输送台上，有利于提高等离子清洗的效率。
附图说明
图1为本实用新型实施例一的等离子自动清洗设备的外部结构示意图；
图2为本实用新型实施例一的等离子自动清洗设备的局部结构示意图；
图3为本实用新型实施例一的推料机构、弹夹升降机构和出料弹夹的联动状态的示意图；
图4为本实用新型实施例一的推杆的结构示意图；
图5为本实用新型实施例一的出料弹夹的结构示意图；
图6为本实用新型实施例一的输送台和推送机构的结构示意图；
图7为本实用新型实施例一的弹夹升降机构的结构示意图。
标号说明：
1、机架；2、三轴移动平台；21、X轴导轨；22、Y轴导轨；23、Z轴导轨；
3、推料机构；31、第一直线步进电机；32、推杆；321、横臂；322、支臂；
3221、弧形口；
4、推送机构；41、第二直线步进电机；42、第一气缸；43、推板；
5、出料弹夹；51、托盘；511、搭接部；52、开口；53、凹槽；
6、收料弹夹；7、弹夹升降机构；71、弹夹支撑台；711、弹夹定位条；
72、第一驱动电机；73、丝杆；74、升降块；
8、输送台；81、阻挡组件；811、第二气缸；812、阻挡块；82、传送带；
83、第一带轮；84、第二带轮；85、第二驱动电机；86、引导件；9、喷枪； 10、鼓风机。
具体实施方式
为详细说明本实用新型的技术内容、所实现目的及效果，以下结合实施方式并配合附图予以说明。
请参照图1至图7，一种等离子自动清洗设备，包括三轴移动平台2、推料机构3、出料弹夹5、收料弹夹6、输送台8和喷枪9，所述喷枪9安装于所述三轴移动平台2上并位于所述输送台8的上方，所述出料弹夹5和所述收料弹夹6分别靠近所述输送台8的两端设置，所述出料弹夹5内设有若干层用于放置物料的托盘51，所述推料机构3用于推动所述出料弹夹5中的所述托盘51至所述输送台8上，所述输送台8设有用于令所述托盘51停留在所述输送台8上的阻挡组件81。
从上述描述可知，本实用新型的有益效果在于：通过出料弹夹5、收料弹夹6以及输送台8的设置实现了自动出料和收料，阻挡组件81使托盘51停留在输送台8上，配合三轴移动平台2及喷枪9，可对托盘51上不同位置的物料进行快速的清洗处理，同时推料机构3可以快速平稳的将托盘51推至输送台8上，有利于提高等离子清洗的效率。
进一步的，所述三轴移动平台2包括分别由伺服电机控制的X轴导轨21、 Y轴导轨22和Z轴导轨23，所述X轴导轨21平行于所述输送台8，所述X轴导轨21连接所述Y轴导轨22，所述Y轴导轨22连接所述Z轴导轨23，所述喷枪9安装于所述Z轴导轨23上。
由上述描述可知，三轴移动平台2的三个导轨间相互配合，有利于灵活快速地将喷枪9移动至托盘51上待处理的物料的上方。
进一步的，所述推料机构3包括相连的第一直线步进电机31和推杆32，所述推杆32对应于所述出料弹夹5内的所述托盘51设置。
由上述描述可知，第一直线步进电机31能稳定带动推杆32稳定移动，从而稳定将托盘51推至输送台8上。
进一步的，所述出料弹夹5和所述收料弹夹6分别安装有弹夹升降机构7，所述弹夹升降机构7包括弹夹支撑台71以及依次传动相连的第一驱动电机72、丝杆73和升降块74，所述弹夹支撑台71与所述升降块74连接。
由上述描述可知，通过设置弹夹升降机构7，有利于出料弹夹5的自动连续出料和收料弹夹6的自动连续收料。
进一步的，所述弹夹支撑台71设有多个弹夹定位条711。
由上述描述可知，弹夹定位条711的设置有利于快速定位出料弹夹5和收料弹夹6。
进一步的，所述等离子自动清洗设备还包括推送机构4，所述推送机构4包括依次相连的第二直线步进电机41、第一气缸42和推板43，所述推板43抵接所述托盘51远离所述收料弹夹6的一端以推动所述托盘51进入所述收料弹夹6。
由上述描述可知，推送机构4的设置有利于推动托盘51更好地进入收料弹夹6。
进一步的，所述输送台8包括用于输送所述托盘51的传送带82，所述传送带82的两端分别靠近所述出料弹夹5和所述收料弹夹6。
由上述描述可知，传送带82的设置有利于平稳带动托盘51移动，良好衔接出料弹夹5和收料弹夹6。
进一步的，所述输送台8还包括第二驱动电机85及同轴相连的第一带轮83 和第二带轮84，所述第一带轮83与所述传送带82连接，所述第二带轮84通过带传动与所述第二驱动电机85连接。
进一步的，所述输送台8的侧壁的顶部靠近所述出料弹夹5的一端设有引导件86，所述引导件86向所述出料弹夹5延伸。
由上述描述可知，引导件86衔接输送台8和出料弹夹5，可以使托盘51更稳定地被推动至输送台8上。
进一步的，所述等离子自动清洗设备还包括机架1，所述三轴移动平台2、推料机构3及输送台8分别设于所述机架1内，所述机架1上安装有连通所述机架1的内部空间的鼓风机10。
由上述描述可知，鼓风机10的设置一方面排出废气和粉尘，另一方面为机架1的内部空间提供散热。
实施例一
请参照图1至图7，本实用新型的实施例一为：一种等离子自动清洗设备，可用于对电子元器件、光学元件和电子芯片等进行表面活化，去除污染物及去除静电等处理。
所述等离子自动清洗设备包括三轴移动平台2、推料机构3、出料弹夹5、收料弹夹6、输送台8和喷枪9，所述喷枪9安装于所述三轴移动平台2上并位于所述输送台8的上方，所述出料弹夹5和所述收料弹夹6分别靠近所述输送台8的两端设置，所述出料弹夹5内设有若干层用于放置物料的托盘51，所述推料机构3用于推动所述出料弹夹5中的所述托盘51至所述输送台8上，所述输送台8设有用于令所述托盘51停留在所述输送台8上的阻挡组件81。所述等离子自动清洗设备还包括机架1，所述三轴移动平台2、推料机构3及输送台8 分别设于所述机架1内。
本实施例中，所述喷枪9的处理高度为5～20mm，处理宽幅为2mm，在其他实施例中，可以更换喷枪9和调节喷枪9的处理高度、处理宽幅以及等离子功率来满足不同的物料处理需求。
优选的，所述三轴移动平台2包括分别由伺服电机控制的X轴导轨21、Y 轴导轨22和Z轴导轨23，所述X轴导轨21平行于所述输送台8，所述X轴导轨21连接所述Y轴导轨22，所述Y轴导轨22连接所述Z轴导轨23，所述喷枪9安装于所述Z轴导轨23上。每个导轨均由单独的伺服电机控制，使所述喷枪9平稳移动。
具体的，所述推料机构3包括相连的第一直线步进电机31和推杆32，所述推杆32对应于所述出料弹夹5内的所述托盘51设置。本实施例中，所述推料机构3位于所述出料弹夹5的一侧，所述第一直线步进电机31与所述出料弹夹 5平行设置，以提高空间利用率，所述推杆32包括垂直相连的横臂321和支臂 322，所述出料弹夹5的后端面板设有开口52，以使所述支臂322伸入推动所述托盘51。请参照图4，所述支臂322上抵接所述托盘51的一端设有弧形口3221，便于对位所述托盘51，优选支臂322的数量为两个，分别靠近所述托盘51的两侧设置，有利于托盘51的平衡受力。
请参照图3至图7，所述出料弹夹5和所述收料弹夹6分别安装有弹夹升降机构7，所述弹夹升降机构7包括弹夹支撑台71以及依次传动相连的第一驱动电机72、丝杆73和升降块74，所述弹夹支撑台71与所述升降块74连接。所述第一驱动电机72通过驱动丝杆73转动，使所述升降块74运动，从而带动所述弹夹支撑台71升降。所述弹夹升降机构7与所述推料机构3、所述输送台8 联动工作，当所述推料机构3推动单个所述托盘51至输送台8并退回初始位置后，所述弹夹升降机构7带动所述出料弹夹5运动一个层距，使下一个所述托盘51对位所述支臂322；当所述输送台8将单个所述托盘51推送至所述收料弹夹6后，所述弹夹升降机构7带动所述收料弹夹6移动一个层距，使下一个空层对位所述输送台8的台面，以收容下一个所述托盘51。
具体的，所述弹夹支撑台71设有多个弹夹定位条711，以便于定位所述出料弹夹5和所述收料弹夹6。
请参照图6，所述等离子自动清洗设备还包括推送机构4，所述推送机构4 包括依次相连的第二直线步进电机41、第一气缸42和推板43，所述推板43抵接所述托盘51远离所述收料弹夹6的一端以推动所述托盘51进入所述收料弹夹6。本实施例中，所述第一气缸42推动所述推板43升降，所述推送机构4位于所述输送台8的内部，并与所述阻挡组件81联动工作，所述阻挡组件81为活塞杆上带有阻挡块812的第二气缸811，且所述输送台8的两侧壁均安装有所述第二气缸811，当单个所述托盘51进入所述输送台8上时，所述第一气缸42 位于初始位置，所述推板43下降，所述第二气缸811上升，使所述托盘51停留在所述输送台8上；待所述喷枪9完成等离子清洗处理后，所述第二气缸811 下降，所述推板43上升，推动所述托盘51进入所述收料弹夹6内，接着所述推板43下降，所述第一气缸42退回至初始位置。
具体的，所述输送台8包括用于输送所述托盘51的传送带82，所述传送带 82的两端分别靠近所述出料弹夹5和所述收料弹夹6，所述输送台8还包括第二驱动电机85及同轴相连的第一带轮83和第二带轮84，所述第一带轮83与所述传送带82连接，所述第二带轮84通过带传动与第二驱动电机85连接。本实施例中，所述传送带82为防静电PU带，所述输送台8的两侧壁上均安装有所述传送带82，为了更好定位所述托盘51，所述托盘51对应所述传送带82设有搭接部511，同时，所述出料弹夹5和所述收料机构对应所述搭接部511设有凹槽53，以便于收容所述托盘51。
优选的，所述输送台8的侧壁的顶部靠近所述出料弹夹5的一端设有引导件86，所述引导件86向所述出料弹夹5延伸，避免所述托盘51偏位。
可选的，所述等离子自动清洗设备还包括机架1，所述机架1上安装有连通所述机架1的内部空间的鼓风机10，以排出所述机架1内部空间的废气和粉尘，同时提供散热。
综上所述，本实用新型提供的等离子自动清洗设备，出料弹夹、收料弹夹以及输送台的设置实现了自动出料和收料，阻挡组件使托盘停留在输送台上，配合三轴移动平台及喷枪，可对托盘上不同位置的物料进行快速的等离子清洗处理，同时推料机构对位准确，可以快速平稳的将托盘推至输送台上，有利于提高等离子处理的效率，各机构间联动稳定配合，使得等离子清洗设备具有良好的稳定性。
以上所述仅为本实用新型的实施例，并非因此限制本实用新型的专利范围，凡是利用本实用新型说明书及附图内容所作的等同变换，或直接或间接运用在相关的技术领域，均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。
Claims (10)
1.一种等离子自动清洗设备，其特征在于：包括三轴移动平台、推料机构、出料弹夹、收料弹夹、输送台和喷枪，所述喷枪安装于所述三轴移动平台上并位于所述输送台的上方，所述出料弹夹和所述收料弹夹分别靠近所述输送台的两端设置，所述出料弹夹内设有若干层用于放置物料的托盘，所述推料机构用于推动所述出料弹夹中的所述托盘至所述输送台上，所述输送台设有用于令所述托盘停留在所述输送台上的阻挡组件。
2.根据权利要求1所述的等离子自动清洗设备，其特征在于：所述三轴移动平台包括分别由伺服电机控制的X轴导轨、Y轴导轨和Z轴导轨，所述X轴导轨平行于所述输送台，所述X轴导轨连接所述Y轴导轨，所述Y轴导轨连接所述Z轴导轨，所述喷枪安装于所述Z轴导轨上。
3.根据权利要求1所述的等离子自动清洗设备，其特征在于：所述推料机构包括相连的第一直线步进电机和推杆，所述推杆对应于所述出料弹夹内的所述托盘设置。
4.根据权利要求1所述的等离子自动清洗设备，其特征在于：所述出料弹夹和所述收料弹夹分别安装有弹夹升降机构，所述弹夹升降机构包括弹夹支撑台以及依次传动相连的第一驱动电机、丝杆和升降块，所述弹夹支撑台与所述升降块连接。
5.根据权利要求4所述的等离子自动清洗设备，其特征在于：所述弹夹支撑台设有多个弹夹定位条。
6.根据权利要求1所述的等离子自动清洗设备，其特征在于：还包括推送机构，所述推送机构包括依次相连的第二直线步进电机、第一气缸和推板，所述推板抵接所述托盘远离所述收料弹夹的一端以推动所述托盘进入所述收料弹夹。
7.根据权利要求1所述的等离子自动清洗设备，其特征在于：所述输送台包括用于输送所述托盘的传送带，所述传送带的两端分别靠近所述出料弹夹和所述收料弹夹。
8.根据权利要求7所述的等离子自动清洗设备，其特征在于：所述输送台还包括第二驱动电机及同轴相连的第一带轮和第二带轮，所述第一带轮与所述传送带连接，所述第二带轮通过带传动与第二驱动电机连接。
9.根据权利要求1所述的等离子自动清洗设备，其特征在于：所述输送台的侧壁的顶部靠近所述出料弹夹的一端设有引导件，所述引导件向所述出料弹夹延伸。
10.根据权利要求1所述的等离子自动清洗设备，其特征在于：还包括机架，所述三轴移动平台、推料机构及输送台分别设于所述机架内，所述机架上安装有连通所述机架的内部空间的鼓风机。
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Cited By (2)
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| CN114618835A (zh) * | 2022-03-23 | 2022-06-14 | 鹏硕智能装备(深圳)有限公司 | Smt大气式等离子清洗机 |
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2021
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| CN114618835A (zh) * | 2022-03-23 | 2022-06-14 | 鹏硕智能装备(深圳)有限公司 | Smt大气式等离子清洗机 |
| CN117566415A (zh) * | 2023-12-12 | 2024-02-20 | 广东省双十智能科技有限公司 | 一种全自动弹夹上料设备 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant |