CN215201403U - 流体研磨机 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种流体研磨机，包括水平移动机构，以及与水平移动机构连接的移动架，所述移动架上设有料杆驱动机构，所述水平移动机构用于带动移动架进行往复运动；磨料腔体机构，设于料杆驱动机构下方，所述磨料腔体机构包括支撑座，设于支撑座上的磨料腔，以及设于磨料腔与支撑座之间的弹性件，所述磨料腔底部设有振动电机。本实用新型提供的流体研磨机，可以进水平方向的移动，方便产品的安装与拆卸，并提高产品的研磨效果和研磨效率。

Description

流体研磨机

技术领域

本实用新型涉及研磨设备技术领域，具体地说，涉及一种流体研磨机。

背景技术

流体研磨机可用于多种产品的表面抛光，例如门把手、医疗零件、智能手表、手机金属外壳、首饰、眼镜架、塑胶件等智能穿戴金属配件表面抛光。研磨机通常包括用于带动产品转动的驱动装置和放置研磨料的磨料腔体机构，其利用研磨料与产品表面发生高速碰撞，使得流体研磨料对产品表面产生磨削作用。

现有技术中，由于磨料箱内的磨料流动性差，工件无法与磨料充分接触，其打磨质量受局限，表面处理效率难以满足生产需求。且产品在安装至驱动装置的研磨杆时，需要将其下方的磨料腔体机构移动，然后工人进入驱动装置下方，并将产品安装至驱动装置下方的研磨杆，从而完成产品的安装，且拆卸产品时需要进行同样的操作，因此产品的安装与拆卸都很麻烦，且有较大的安全隐患。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种流体研磨机，可以进水平方向的移动，方便产品的安装与拆卸，并提高产品的研磨效果和研磨效率。

本实用新型公开的流体研磨机所采用的技术方案是:

一种流体研磨机，包括水平移动机构，以及与水平移动机构连接的移动架，所述移动架上设有料杆驱动机构，所述水平移动机构用于带动移动架进行往复运动；磨料腔体机构，设于料杆驱动机构下方，所述磨料腔体机构包括支撑座，设于支撑座上的磨料腔，以及设于磨料腔与支撑座之间的弹性件，所述磨料腔底部设有振动电机。

作为优选方案，所述磨料腔包括腔体，以及设于腔体底部的护罩，所述弹性件设于护罩与支撑座之间且位于护罩内。

作为优选方案，所述护罩与腔体之间设有支撑件。

作为优选方案，还包括升降机构，以及与升降机构连接的升降架，所述水平移动机构设于升降架，所述升降机构用于带动升降架进行往复运动。

作为优选方案，所述升降机构包括升降伺服电机和升降组件，所述升降组件包括与升降伺服电机连接的蜗轮蜗杆组，以及与蜗轮蜗杆组连接的丝杆，所述丝杆固定于升降架。

作为优选方案，所述升降机构还包括导向柱，以及设于升降架上的导轨块，所述导轨块开设有导向槽，所述导向柱设于导向槽内。

作为优选方案，所述升降组件设有两组，两组所述蜗轮蜗杆组之间通过连接轴连接。

作为优选方案，所述水平移动机构包括设于升降架上的导轨和气缸，以及设于导轨上的滑块，所述移动架设于滑块上，所述气缸与移动架连接。

作为优选方案，所述升降机构上还设有挡板，所述挡板与料杆驱动机构的位置相对应。

作为优选方案，所述料杆驱动机构包括公转机构和自转机构，所述公转机构包括公转电机、公转盘和公转轴，所述公转电机与公转轴连接，所述公转轴与公转盘连接，所述自转机构包括自转电机、第一自转轴、第一齿轮、传动组和第二齿轮，所述自转电机与第一自转轴连接，所述第一自转轴与第一齿轮连接，所述传动组套设于公转轴，所述传动组分别与第一齿轮和第二齿轮连接，所述第二齿轮设于公转盘上。

本实用新型公开的流体研磨机的有益效果是：将料杆驱动机构安装在移动架上，而水平移动机构可以带动移动架进行水平方向的往复运动，从而带动料杆驱动机构进行水平方向的往复运动。料杆驱动机构水平移动后，可以从磨料腔体机构上方直接移外露，因此产品的安装和拆卸都无需移出磨料腔体机构，也无需工人进入驱动装置下方，方便了产品的安装与拆卸，降低了工人安全风险。水平移动机构带动移动架进行往复运动时，可以使得料杆驱动机构相对磨料腔中的研磨料进行水平方向的相对运动，同时振动电机可以带动磨料腔进行振动，使得研磨料与产品进行充分接触，以及一定相对运动，从而提高研磨效果和研磨效率。而磨料腔与支撑座之间的弹性件，可以使得磨料腔进行有效振动的同时避免剧烈振动。

附图说明

图1是本实用新型流体研磨机的结构示意图。

图2是本实用新型流体研磨机的部分结构示意图。

图3是本实用新型流体研磨机的磨料腔体机构剖视结构示意图

图4是本实用新型流体研磨机的料杆驱动机构剖视结构示意图。

具体实施方式

下面结合具体实施例和说明书附图对本实用新型做进一步阐述和说明:

请参考图1、图2和图3，流体研磨机包括水平移动机构10，以及与水平移动机构10连接的移动架20，所述移动架20上设有料杆驱动机构30，所述水平移动机构10用于带动移动架20进行往复运动。

磨料腔体机构90，设于料杆驱动机构30下方，所述磨料腔体机构90包括支撑座92，设于支撑座92上的磨料腔94，以及设于磨料腔94与支撑座92之间的弹性件98，所述磨料腔94底部设有振动电机96。

将料杆驱动机构30安装在移动架20上，而水平移动机构10可以带动移动架20进行水平方向的往复运动，从而带动料杆驱动机构30进行水平方向的往复运动。料杆驱动机构30水平移动后，可以从磨料腔体机构90上方直接移外露，因此产品的安装和拆卸都无需移出磨料腔体机构90，也无需工人进入驱动装置下方，方便了产品的安装与拆卸，降低了工人安全风险。水平移动机构10带动移动架20进行往复运动时，可以使得料杆驱动机构30相对磨料腔94中的研磨料进行水平方向的相对运动，同时振动电机96可以带动磨料腔94进行振动，使得研磨料与产品进行充分接触，以及一定相对运动，从而提高研磨效果和研磨效率。而磨料腔94与支撑座92之间的弹性件98，可以使得磨料腔94进行有效振动的同时避免剧烈振动。

本实施例中，所述磨料腔94包括腔体，以及设于腔体底部的护罩942，所述弹性件98设于护罩942与支撑座92之间且位于护罩942内。本实施例中，护罩942的直径大于支撑座92顶部的直径，可避免护罩942振动时与支撑座92发生碰撞。

进一步的，所述护罩942与腔体之间设有支撑件944。支撑件944设有若干个，并均匀的环绕护罩942设置，通过增加支撑件944可以增强磨料腔94底部的强度，以满足振动要求。

流体研磨机还包括升降机构40，以及与升降机构40连接的升降架50，所述水平移动机构10设于升降架50，所述升降机构40用于带动升降架50进行往复运动。将水平移动机构10安装在升降架50上，而升降机构40可以带动升降架50进行垂直方向的往复运动，从而带水平移动机构10进行垂直方向的往复运动。升降机构40带动水平移动机构10进行往复运动时，可以使得料杆驱动机构30相对磨料腔体机构90中的研磨料进行垂直方向的相对运动，从而进一步的提高研磨效果。

本实施例中，升降机构40安装于机架上，用于带动其上方的升降架50、水平移动机构10和料杆驱动机构30进行垂直方向的往复移动。而水平移动机构10连接移动架20，并用于带动其上方的料杆驱动机构30进行水平方向的往复运动。

具体的，所述升降机构40包括升降伺服电机42和升降组件44，所述升降组件44包括与升降伺服电机42连接的蜗轮蜗杆组，以及与蜗轮蜗杆组连接的丝杆46，所述丝杆46固定于升降架50。蜗轮蜗杆组包括蜗杆，以及与蜗杆连接的蜗轮。升降伺服电机42驱动蜗杆进行转动，蜗轮外侧与蜗杆啮合，蜗轮内侧与丝杆46啮合。本实施例中，采用丝杆升降机来实现升降架50的升降。进一步的，所述升降组件44设有两组，两组所述蜗轮蜗杆组之间通过连接轴48连接。两组蜗杆分别通过联轴器与连接轴连接，因此两组蜗杆可以通过同一个升降伺服电机42进行驱动。具体的，设有四组丝杆升降机，并分别设于升降架50的两侧，每一侧的两个丝杆使用同一个升降伺服电机42驱动。另一实施方式中，升降机构40也可以采用其它的升降结构，例如气缸驱动。

进一步的，所述升降机构40还包括导向柱47，以及设于升降架50上的导轨块49，所述导轨块49开设有导向槽，所述导向柱47设于导向槽内。导向柱47固定于机架上，当升降架50进行移动时，导轨块49沿着导向槽进行滑动，从而保证升降架50进行精准的移动。进一步的，所述导轨块49为导向轮。导向轮与导向柱47进行滑动摩擦，从而降低了导向轮与导向柱47之间的摩擦。

本实施例中，所述水平移动机构10包括设于升降架50上的导轨14和气缸12，以及设于导轨14上的滑块16。所述移动架20设于滑块16上，所述气缸12与移动架20连接。另一实施方式中，水平移动机构10也可以通过直线模组来实现，移动架20设于直线模组的移动块上。

本实施例中，所述升降机构40上还设有挡板60，所述挡板60与料杆驱动机构30的位置相对应。挡板用于遮挡溅出的研磨料。

请参考图4，本实施例中，所述料杆驱动机构30包括公转机构和自转机构。所述公转机构包括公转电机72、公转盘76和公转轴74，所述公转电机72与公转轴74连接，所述公转轴74与公转盘76连接。公转电机72驱动公转轴74从而带动公转盘76自转。

所述自转机构包括自转电机82、第一自转轴83、第一齿轮84、传动组85和第二齿轮88。所述自转电机82与第一自转轴83连接，所述第一自转轴83与第一齿轮84连接。所述传动组85套设于公转轴74，所述传动组85分别与第一齿轮84和第二齿轮88连接，所述第二齿轮88设于公转盘76上。自转电机82驱动第一自转轴83从而带动第一齿轮84转动，第一齿轮84通过传动组85带动第二齿轮88转动，第二齿轮88用于带动研磨料杆转动，从而带动产品转动完成研磨。具体的，传动组85包括固定连接的第三齿轮86和第四齿轮87。

最后应当说明的是，以上实施例仅用以说明本实用新型的技术方案，而非对本实用新型保护范围的限制，尽管参照较佳实施例对本实用新型作了详细地说明，本领域的普通技术人员应当理解，可以对本实用新型的技术方案进行修改或者等同替换，而不脱离本实用新型技术方案的实质和范围。

Claims (10)

1.一种流体研磨机，其特征在于，包括水平移动机构，以及与水平移动机构连接的移动架，所述移动架上设有料杆驱动机构，所述水平移动机构用于带动移动架进行往复运动；

磨料腔体机构，设于料杆驱动机构下方，所述磨料腔体机构包括支撑座，设于支撑座上的磨料腔，以及设于磨料腔与支撑座之间的弹性件，所述磨料腔底部设有振动电机。

2.如权利要求1所述的流体研磨机，其特征在于，所述磨料腔包括腔体，以及设于腔体底部的护罩，所述弹性件设于护罩与支撑座之间且位于护罩内。

3.如权利要求2所述的流体研磨机，其特征在于，所述护罩与腔体之间设有支撑件。

4.如权利要求1所述的流体研磨机，其特征在于，还包括升降机构，以及与升降机构连接的升降架，所述水平移动机构设于升降架，所述升降机构用于带动升降架进行往复运动。

5.如权利要求4所述的流体研磨机，其特征在于，所述升降机构包括升降伺服电机和升降组件，所述升降组件包括与升降伺服电机连接的蜗轮蜗杆组，以及与蜗轮蜗杆组连接的丝杆，所述丝杆固定于升降架。

6.如权利要求5所述的流体研磨机，其特征在于，所述升降机构还包括导向柱，以及设于升降架上的导轨块，所述导轨块开设有导向槽，所述导向柱设于导向槽内。

7.如权利要求5所述的流体研磨机，其特征在于，所述升降组件设有两组，两组所述蜗轮蜗杆组之间通过连接轴连接。

8.如权利要求2所述的流体研磨机，其特征在于，所述水平移动机构包括设于升降架上的导轨和气缸，以及设于导轨上的滑块，所述移动架设于滑块上，所述气缸与移动架连接。

9.如权利要求4所述的流体研磨机，其特征在于，所述升降机构上还设有挡板，所述挡板与料杆驱动机构的位置相对应。

10.如权利要求1所述的流体研磨机，其特征在于，所述料杆驱动机构包括公转机构和自转机构，所述公转机构包括公转电机、公转盘和公转轴，所述公转电机与公转轴连接，所述公转轴与公转盘连接，所述自转机构包括自转电机、第一自转轴、第一齿轮、传动组和第二齿轮，所述自转电机与第一自转轴连接，所述第一自转轴与第一齿轮连接，所述传动组套设于公转轴，所述传动组分别与第一齿轮和第二齿轮连接，所述第二齿轮设于公转盘上。

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