CN214830619U - 一种射频分控装置和真空镀膜设备 - Google Patents

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Abstract

本实用新型公开了一种射频分控装置和真空镀膜设备,属于真空镀膜技术领域。射频分控装置包括射频连接板、射频分控板和多个射频电极板,多个射频电极板分为多组,每组射频电极板包括一个正射频电极板和一个负射频电极板,多组射频电极板呈间隔排列设置;射频分控板连接在所有的正射频电极板上,射频连接板设置在所有的负射频电极板上;其中,射频分控板包括主板、支撑板和多个支板,主板上设有射频馈入点,射频馈入点与匹配器电连接,支撑板的一侧设置有主板,另一相对侧设有多个支板,多个支板与多个正射频电极板一一对应电连接。该射频分控装置和真空镀膜设备避免了各射频电极板射频功率分配不均,且具有镀膜均匀的优点。

Description

一种射频分控装置和真空镀膜设备
技术领域
本实用新型涉及真空镀膜技术领域,尤其涉及一种射频分控装置和真空镀膜设备。
背景技术
真空镀膜设备的射频分控板1’具有分配射频电压的作用,真空镀膜设备中的正射频电极板2’和负射频电极板3’间隔依次排列,在使用匹配器射频功率较小的情况下,射频进行的过程中正射频电极板2’和负射频电极板3’间会形成电容,则靠近射频馈入点的射频电极板容易获得较高电量进而充满其电容间所需的电量;因总射频功率一定,远离射频馈入点的射频电极板因其总射频电量不足难以充满其电容所需电量。
现有技术中的射频分控板1’常用电压分配方式,将射频功率接入各个射频电极板上。如图1所示,在射频功率馈入时,正射频电极板2’和负射频电极板 3’间会形成电容,进行储能直至充满其之间的电容量。靠近正射频馈入点的正射频电极板2’和靠近负射频馈入点的负射频电极板3’形成的电容优先充满电能,并逐渐向远处扩散,直至射频功率全部分配完;远离正射频馈入点的正射频电极板2’和负射频馈入点的负射频电极板3’容易得到较少的射频能量,则会造成靠近正/负射频馈入点和远离正/负射频馈入点的镀膜效果产生差异,膜厚均匀性较差。
实用新型内容
本实用新型的第一目的在于提出一种射频分控装置,该射频分控装置的射频分控板解决了造成各射频电极板射频功率分配不均,进而造成镀膜不均匀的技术问题。
本实用新型的第二目的在于提出一种真空镀膜设备,该真空镀膜设备的射频分控板解决了造成各射频电极板射频功率分配不均,进而造成镀膜不均匀的技术问题。
为达此目的,本实用新型采用以下技术方案:
一种射频分控装置,包括射频连接板、射频分控板和多个射频电极板,多个所述射频电极板分为多组,每组所述射频电极板包括一个正射频电极板和一个负射频电极板,多组所述射频电极板呈间隔排列设置;所述射频分控板连接在所有的所述正射频电极板上,所述射频连接板设置在所有的所述负射频电极板上;其中,所述射频分控板包括主板、支撑板和多个支板,所述主板上设有正射频馈入点,所述正射频馈入点与匹配器电连接,所述支撑板的一侧设置有所述主板,另一相对侧设有多个所述支板,多个所述支板与多个正射频电极板一一对应电连接。
可选地,多个所述支板平行间隔排列设置。
可选地,每个所述支板上均设有正射频馈出点,所述正射频馈出点与所述正射频电极板电连接。
可选地,所述射频连接板上设有连接片,所述连接片用于导入负极电压。
可选地,所述主板可拆卸连接在所述支撑板上。
可选地,所述主板通过螺钉连接在所述支撑板上。
可选地,所述主板的长度方向与所述支板的长度方向平行。
可选地,所述支撑板的长度方向与所述主板的长度方向垂直。
可选地,所述主板的两端分别设有第一翻边和第二翻边,所述第一翻边设置在所述支撑板上,所述第二翻边用于导入正极电压。
一种真空镀膜设备,还包括所述射频分控装置。
本实用新型相对于现有技术的有益效果:通过上述射频分控板,在接入正射频电极板之前通过射频分控板对射频电压进行分配,首先射频电压传递在主板上,再通过支撑板进行均匀分配,再将均匀分配后的射频电压传递到多个支板上,因此分配至各支板上的射频电压也是相等的。在正射频电极板上施加相等的电压,正射频电极板对工艺气体的激发程度相等,能够实现等量的等离子体,从而实现镀膜的均匀性。
附图说明
图1是现有技术中的射频分控装置的结构示意图;
图2是本实用新型具体实施方式提供的真空镀膜设备的结构示意图;
图3是本实用新型具体实施方式提供的射频分控装置的结构示意图;
图4是本实用新型具体实施方式提供的射频分控板的结构示意图;
图5是本实用新型具体实施方式提供的主板的结构示意图。
现有技术的附图标记:
1’-射频分控板,2’-正射频电极板,3’-负射频电极板。
本实用新型的附图标记:
1-射频连接板,11-连接片,2-射频分控板,21-主板,211-正射频馈入点, 212-第一翻边,213-第二翻边,22-支撑板,23-支板,231-正射频馈出点,3- 射频电极板,31-正射频电极板,32-负射频电极板。
具体实施方式
为使本实用新型解决的技术问题、采用的技术方案和达到的技术效果更加清楚,下面结合附图并通过具体实施方式来进一步说明本实用新型的技术方案。
下面参考图2-图5描述本实用新型实施例的射频分控装置的具体结构。
如图2至图4所示,本实施例提供了一种射频分控装置,包括射频连接板1、射频分控板2和多个射频电极板3,多个射频电极板3分为多组,每组射频电极板3包括一个正射频电极板31和一个负射频电极板32,多组射频电极板3呈间隔排列设置;射频分控板2连接在所有的正射频电极板31上,射频连接板1设置在所有的负射频电极板32上;其中,射频分控板2包括主板21、支撑板22 和多个支板23,主板21上设有正射频馈入点211,正射频馈入点211与匹配器电连接,支撑板22的一侧设置有主板21,另一相对侧设有多个支板23,多个支板23与多个正射频电极板31一一对应电连接。
需要说明的是,射频分控装置的射频分控板2包括主板21、支撑板22和多个支板23,主板21上设有正射频馈入点211,正射频馈入点211与匹配器100 电连接,支撑板22的一侧设置有主板21,另一相对侧设有多个支板23,多个支板23与多个正射频电极板31一一对应电连接。通过上述射频分控板2,在接入正射频电极板31之前通过射频分控板2对射频电压进行分配,首先射频电压传递在主板21上,再通过支撑板22进行均匀分配,再将均匀分配后的射频电压传递到多个支板23上,因此分配至各支板23上的射频电压也是相等的。在正射频电极板31上施加相等的电压,正射频电极板31对工艺气体的激发程度相等,能够实现等量的等离子体,从而实现镀膜的均匀性。
可选地,如图3至图4所示,多个支板23平行间隔排列设置。可以理解的是,将多个支板23平行间隔排列设置,则能够更好地与多组射频电极板中的多个正射频电极板31一一对应地进行电连接,传导效果更佳。
可选地,如图4所示,每个支板23上均设有正射频馈出点231,正射频馈出点231与正射频电极板31电连接,便于导出均匀分配后的射频电压。
可选地,如图3所示,射频连接板1上设有连接片11,连接片11用于导入负极电压。
可选地,如图3所示,主板21可拆卸连接在支撑板22上,便于安装、拆卸或者维修。
可选地,主板21通过螺钉连接在支撑板22上。在本实用新型的一些实施例中,主板21通过螺钉能够牢固地连接在支撑板22上,稳定性好,不易松动。当然,在其他实施例中,主板21也可通过其他连接件或者连接方式设置在支撑板22上,此处不做具体限制。
可选地,如图3和图4所示,主板21的长度方向与支板23的长度方向平行,在接入正射频电极板31之前通过射频分控板2对射频电压进行分配,首先射频电压传递在主板21上,再通过支撑板22进行均匀分配,再将均匀分配后的射频电压传递到多个支板23上,因此分配至各支板23上的射频电压也是相等的。将主板21的长度方向与支板23的长度方向设置为平行,更有利于均匀分配电压。
可选地,如图3和图4所示,支撑板22的长度方向与主板21的长度方向垂直。可以理解的是,将支撑板22的长度方向与主板21的长度方向设置为垂直,便于主板21上的射频电压通过支撑板22均匀传递到支板23上。
可选地,如图5所示,主板21的两端分别设有第一翻边212和第二翻边213,第一翻边212设置在支撑板22上,第二翻边213用于导入正极电压。可以理解的是,在支板23的两端设置第一翻边212和第二翻边213,便于分别与支撑板 22和匹配器进行电连接,使得结构更加合理化。
如图2和图3所示的一种真空镀膜设备,还包括射频分控装置。可以理解的是,本实用新型的真空镀膜设备采用设置主板21、支撑板22和支板23的组合结构,来实现射频分配功能,在其接入正射频电极板31的接口处,分配至各支板23上的射频电压是相等的,则各层电压也是相等的。在正射频电极板31 上施加相等的电压,正射频电极板31对工艺气体的激发程度相等,能够实现等量的等离子体,从而实现镀膜的均匀性。
在本说明书的描述中,参考术语“有些实施例”、“其他实施例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本实用新型的至少一个实施例或示例中。在本说明书中,对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或示例。而且,描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。
此外,需要理解的是,术语“上”、“下”、“内”、“外”、“竖直”、“水平”等指示的方位或者位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本实用新型和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本实用新型的限制。
在本实用新型中,除非另有明确的规定和限定,“相连”、“连接”、“安装”、“固定”等术语应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或成一体;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接连接,也可以通过中间媒介间接连接,可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述属于在本实用新型中的具体含义。
此外,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征,用于区别描述特征,无顺序之分,无轻重之分。在本实用新型的描述中,除非另有说明,“多个”的含义是两个或两个以上。
以上内容仅为本实用新型的较佳实施例,对于本领域的普通技术人员,依据本实用新型的思想,在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处,本说明书内容不应理解为对本实用新型的限制。

Claims (10)

1.一种射频分控装置,其特征在于,包括射频连接板(1)、射频分控板(2)和多个射频电极板(3),多个所述射频电极板(3)分为多组,每组所述射频电极板(3)包括一个正射频电极板(31)和一个负射频电极板(32),多组所述射频电极板(3)呈间隔排列设置;所述射频分控板(2)连接在所有的所述正射频电极板(31)上,所述射频连接板(1)设置在所有的所述负射频电极板(32)上;其中,所述射频分控板(2)包括主板(21)、支撑板(22)和多个支板(23),所述主板(21)上设有正射频馈入点(211),所述正射频馈入点(211)与匹配器电连接,所述支撑板(22)的一侧设置有所述主板(21),另一相对侧设有多个所述支板(23),多个所述支板(23)与多个所述正射频电极板(31)一一对应电连接。
2.如权利要求1所述的射频分控装置,其特征在于,多个所述支板(23)平行间隔排列设置。
3.如权利要求1所述的射频分控装置,其特征在于,每个所述支板(23)上均设有正射频馈出点(231),所述正射频馈出点(231)与所述正射频电极板(31)电连接。
4.如权利要求1所述的射频分控装置,其特征在于,所述射频连接板(1)上设有连接片(11),所述连接片(11)用于导入负极电压。
5.如权利要求1所述的射频分控装置,其特征在于,所述主板(21)可拆卸连接在所述支撑板(22)上。
6.如权利要求5所述的射频分控装置,其特征在于,所述主板(21)通过螺钉连接在所述支撑板(22)上。
7.如权利要求1所述的射频分控装置,其特征在于,所述主板(21)的长度方向与所述支板(23)的长度方向平行。
8.如权利要求7所述的射频分控装置,其特征在于,所述支撑板(22)的长度方向与所述主板(21)的长度方向垂直。
9.如权利要求1所述的射频分控装置,其特征在于,所述主板(21)的两端分别设有第一翻边(212)和第二翻边(213),所述第一翻边(212)设置在所述支撑板(22)上,所述第二翻边(213)用于导入正极电压。
10.一种真空镀膜设备,其特征在于,包括权利要求1-9任一项所述的射频分控装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN117026214A (zh) * 2023-08-10 2023-11-10 拉普拉斯新能源科技股份有限公司 导电载具及半导体加工设备
CN119480603A (zh) * 2024-11-22 2025-02-18 北京北方华创微电子装备有限公司 射频馈入装置及半导体工艺设备

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