CN214162582U - 一种研磨机构 - Google Patents

Abstract

本申请公开了一种研磨机构，包括：压力气缸，升降设置；旋转支架，连接所述压力气缸，所述旋转支架上设置有轴承组件、旋转电机、旋转轴、旋转接头，所述旋转接头连通真空气源，所述旋转轴依次卡接穿过所述轴承组件、所述旋转电机后与所述旋转接头连接，所述旋转轴开设有与所述旋转接头密封连通的轴腔；吸附组件，顶部连接所述旋转轴且设有与所述轴腔连通的吸附孔，底部吸附有可拆卸的研磨片。本研磨机构能够使研磨片在制作过程中平行公差好保证，研磨机构与研磨平台的平行度不易改变，研磨稳定性强，产品良率也有保证，制作过程简单。

Description

一种研磨机构

技术领域

本实用新型涉及研磨方面的技术领域，尤其涉及一种研磨机构。

背景技术

研磨设备行业具有产品更新换代快、对产品的良率有较高的要求的特点，这就对研磨设备的清洁能力以及稳定性提出了一个更高的要求。目前，研磨设备主要由研磨机构和研磨平台构成，当研磨平台承载研磨材料沿研磨机构移动进行研磨时，需要控制研磨机构和研磨平台两者的平行度在合理的公差范围内。

现有技术中，研磨机构上的研磨安装板是利用磁铁吸附原理吸附研磨盘，其中，研磨盘安装板上安装有磁铁和定位销钉，而研磨盘由磁吸不锈钢板、研磨缓冲材和研磨片粘贴而成，这种研磨盘在制作过程中与研磨平台的平行公差难保证。假设将研磨机构上的研磨盘安装板和研磨平台的平行度调好在合理的公差范围内时，当把研磨盘安装到研磨盘安装板上，再去测量研磨盘和研磨平台的平行度，如果研磨盘和研磨平台两者的平行度误差较大，就会出现研磨机构和研磨平台不平行的现象，当研磨平台移动进行研磨时，就会存在因受力不均造成研磨均匀性差、研磨稳定性难保证等问题，且研磨片更换需要拆卸整个研磨盘，研磨耗材更换速度慢，影响生产效率。

由于研磨盘和研磨平台的平行度又不好控制，有些研磨设备则利用微调机构进行微调实现平行，这种研磨设备具有结构复杂、操作繁琐的弊端，不利于调试和设备维护。

实用新型内容

(一)实用新型目的

本实用新型的目的是提供一种研磨机构，能够使研磨片在制作过程中平行公差好保证，研磨机构与研磨平台的平行度不易改变，研磨稳定性强，产品良率也有保证，制作过程简单。

(二)技术方案

为了实现上述目的，本实用新型采用如下的技术方案以提供一种研磨机构，包括:

压力气缸，升降设置；旋转机构，包括连接所述压力气缸的旋转支架，所述旋转支架上设置有轴承组件、旋转电机、旋转轴、旋转接头，所述旋转接头连通真空气源，所述旋转轴依次卡接穿过所述轴承组件、所述旋转电机后与所述旋转接头连接，所述旋转轴开设有与所述旋转接头密封连通的轴腔；吸附组件，顶部连接所述旋转轴且设有与所述轴腔连通的吸附孔，底部吸附有可拆卸的研磨片。

本研磨机构利用旋转电机与轴承组件对旋转轴进行固定，由于研磨旋转轴是由旋转电机和旋转轴承双重受力，保证研磨片在研磨时机构的研磨稳定，不会因为刚性不足造成受力不均而影响产品生产效率。再者，将缓冲材质直接安装在研磨机构上，利用真空吸附原理实现快速安装研磨片，研磨片在制作过程中平行公差好保证，研磨机构与研磨平台的平行度不易改变，研磨稳定性强，产品良率也有保证，制作过程简单。

在一些实施例中，所述轴承组件包括：轴承固定件、套接在所述轴承固定件内侧的旋转轴承，所述轴承固定件套设在所述旋转支架与所述旋转电机，所述旋转轴承套接在所述轴承固定件内侧，所述旋转轴穿过所述轴承固定件和所述旋转轴承后插入所述旋转电机内。

在一些实施例中，所述轴承固定件与所述旋转轴之间套设有油封环，该油封环抵接在所述轴承固定件的顶面与所述旋转电机的底面。由此，旋转轴承上部安装有油封进行密封，防止水气进入到旋转电机和旋转轴承内部中。

在一些实施例中，所述吸附组件的两侧设置有喷水管，所述喷水管上开设有多个喷水孔。由此，喷水管通过喷水孔供水，用于对在研磨过程中的研磨片进行清洗。

在一些实施例中，所述吸附组件包括：

研磨连接件，密封连接在所述旋转轴底部，设有与所述轴腔连通的连接孔；

第一密封板，抵接在所述研磨连接件的底面，开设有与所述连接孔连通的第一通孔和连通所述第一通孔的真空槽；

第二密封板，密封罩设在所述真空槽上，布设有与所述真空槽连通的多个第二通孔；

缓冲件，贴附在所述第二密封板上且开设有与所述第二通孔连通的所述吸附孔。

由此，把用于固定研磨片的吸附组件设置在研磨机构上，而吸附组件采用真空吸附原理将研磨片吸附在研磨机构上，由于研磨片在制作过程中本身的平行度是能满足要求的，所以把研磨片吸附在缓冲件上后，并不会改变研磨机构和吸附平台的平行度，而且在研磨过程中，真空吸附吸力也大于研磨片和产品之间的摩擦力，采用真空吸附原理，快速安装，快速更换，节约时间。

在一些实施例中，所述第一密封板与所述第二密封板之间密封套设有密封圈。由此，在第一密封板与第二密封板安装时利用密封圈使两者密封连接，然后把缓冲件安装在第二密封板上，再把第一密封板与研磨连接件连接起来，最后将研磨连接件和旋转轴进行密封连接，这样从旋转接头一路真空连通到缓冲件上，利用缓冲件上的吸附孔将研磨片吸附到研磨机构上，真空密封性强，结构稳定。

在一些实施例中，包括：升降组件，包括升降电机、升降导轨、第一滑块、第二滑块，所述第一滑块和所述第二滑块平行移动在所述升降导轨上，所述第一滑块上设置有用于安装所述压力气缸的气缸固定板，所述气缸固定板连接所述升降电机，所述第二滑块连接所述旋转支架。

在一些实施例中，所述气缸固定板上设置有定位件，所述旋转支架上设置有行程件，所述行程件设置在所述定位件的一侧且与所述定位件的另一侧移动抵接。该定位件与行程件配合能够限定旋转支架的升降高度，使旋转轴带动吸附组件上的研磨片在限定高度内进行有效的研磨作业。

在一些实施例中，所述行程件呈L型或U型。

在一些实施例中，还包括：平行所述吸附组件的研磨平台，所述研磨平台包括：水平导轨、吸附平台，所述水平导轨设置在所述吸附组件下方，所述吸附平台移动设置在所述水平导轨上用于承载研磨物料，受驱沿所述水平导轨进行横向移动。

附图说明

图1是本实用新型一实施例的研磨机构的剖视图；

图2是本实用新型一实施例的研磨机构的分解结构示意图；

图3是本实用新型一实施例的吸附组件的立体仰视图；

图4是本实用新型一实施例的研磨机构的另一分解结构示意图；

图5是本实用新型一实施例的研磨平台的结构示意图。

附图标记：

1、压力气缸；2、旋转机构；20、旋转支架；201、安装孔；21、旋转电机；22、电机固定板；221、固定孔；23、轴承固定件；24、旋转轴承；25、旋转轴；251、轴腔；26、旋转接头；27、油封环；28、喷水管；281、喷水孔；29、密封环；3、吸附组件；31、研磨连接件；311、连接孔；32、第一密封板；321、第一通孔；322、真空槽；33、第二密封板；331、第二通孔； 34、缓冲件；341、吸附孔；35、密封圈；4、研磨片；5、升降组件；51、升降电机；52、升降导轨；53、第一滑块；54、第二滑块；55、气缸固定板；6、行程件；7、定位件；8、研磨平台；81、水平导轨；82、吸附平台；9、防护罩。

具体实施方式

下面结合说明书的附图，通过对本实用新型的具体实施方式作进一步的描述，使本实用新型的技术方案及其有益效果更加清楚、明确。

请参照附图1-5所示的本实施例所公开的一种研磨机构，该研磨机构包括：压力气缸1、旋转机构2、旋转支架20、轴承组件、旋转电机21、旋转轴25、旋转接头26，其中，压力气缸1升降设置，旋转机构2包括连接压力气缸1的旋转支架20，旋转支架20上设置有轴承组件、旋转电机21、旋转轴25、旋转接头26，旋转接头26连通真空气源，旋转轴25依次卡接穿过轴承组件、旋转电机21后与旋转接头26连接，旋转轴25开设有与旋转接头 26密封连通的轴腔251；吸附组件3的顶部连接旋转轴25且设有与轴腔连通的吸附孔341，吸附组件3的底部吸附有可拆卸的研磨片4，其中，压力气缸 1通过连接旋转支架20以驱动该旋转支架20进行升降，从而控制旋转机构2 下压的压力以掌控研磨片4对研磨物料80的研磨压力；而吸附组件3用于安装研磨片4且能够与旋转机构2配合实现研磨机构的水平度调节。

其中，旋转轴25可以设置为整根采用不锈钢轴加工进行连接，保证不会出现偏心、以及轴心和轴底部安装面不垂直现象，这样能保证研磨时和研磨平台8面的水平度，其余机构做比较难保证垂直度。本研磨机构利用旋转电机21与轴承组件对旋转轴25进行固定，由于研磨旋转轴25是由旋转电机 21和旋转轴承24双重受力，保证研磨片4在研磨时机构的研磨稳定，不会因为刚性不足造成受力不均而影响产品生产效率。再者，将缓冲材质直接安装在研磨机构上，利用真空吸附原理实现快速安装研磨片4，研磨片4在制作过程中平行公差好保证，研磨机构与研磨平台8的平行度不易改变，研磨稳定性强，产品良率也有保证，制作过程简单。

如图1、2、4所示，在本实施例中，轴承组件包括：轴承固定件23、套接在轴承固定件23内侧的旋转轴承24，旋转支架20的底面开设有用于固定轴承固定件23的安装孔201，安装孔201的顶面设置有用于支撑旋转电机21 的电机固定板22，电机固定板22上开设有固定孔221，旋转轴25穿过轴承固定件23和旋转轴承24后沿固定孔221插入旋转电机21内。由此，轴承组件与旋转轴25进行密封配合保证真空不会泄漏，直接从旋转轴25的轴心位置打孔直接连接研磨连接件31，所以保证真空吸附通道不会因为连接部件太多而有变化。

如图1、2所示，在本实施例中，轴承固定件23与旋转轴25之间套设有油封环27，该油封环27抵接在轴承固定件23的顶面与旋转电机21的底面。由此，旋转轴承24上部安装有油封进行密封，防止水气进入到旋转电机21 和旋转轴承24内部中。

如图4所示，在本实施例中，吸附组件3的两侧设置有喷水管28，喷水管28上开设有多个喷水孔281。由此，喷水管28通过喷水孔281供水，用于对在研磨过程中的研磨片4进行清洗。

如图1-4所示，在本实施例中，吸附组件3包括：研磨连接件31、第一密封板32、第二密封板33、缓冲件34，其中，研磨连接件31密封连接在旋转轴25底部，且研磨连接件31设有与轴腔连通的连接孔311；第一密封板 32抵接在研磨连接件31的底面，第一密封板32通过密封环29抵接在研磨连接件31和第二密封板33之间，且第一密封板32开设有与连接孔311连通的第一通孔321和连通第一通孔321的真空槽322；第二密封板33密封罩设在真空槽322上，且第一密封板32布设有与真空槽322连通的多个第二通孔 331；缓冲件34贴附在第二密封板33上且开设有与第二通孔331连通的吸附孔341。

由此，把用于固定研磨片4的吸附组件3设置在研磨机构上，而吸附组件3采用真空吸附原理将研磨片4吸附在研磨机构上，由于研磨片4在制作过程中本身的平行度是能满足要求的，所以把研磨片4吸附在缓冲件34上后，并不会改变研磨机构和吸附平台82的平行度，而且在研磨过程中，真空吸附吸力也大于研磨片4和产品之间的摩擦力，采用真空吸附原理，快速安装，快速更换，节约时间。

如图1、2、4所示，在本实施例中，第一密封板与第二密封板33之间密封套设有密封圈35。由此，在第一密封板32与第二密封板33安装时利用密封圈35使两者密封连接，然后把缓冲件34安装在第二密封板33上，再把第一密封板32与研磨连接件31连接起来，最后将研磨连接件31和旋转轴25 进行密封连接，这样从旋转接头26一路真空连通到缓冲件34上，利用缓冲件34上的吸附孔341将研磨片4吸附到研磨机构上，真空密封性强，结构稳定。

如图1、4、5所示，在本实施例中，包括：升降组件5，包括升降电机 51、升降导轨52、第一滑块53、第二滑块54，第一滑块53和第二滑块54 平行移动在升降导轨52上，第一滑块53上设置有用于安装压力气缸1的气缸固定板55，气缸固定板55连接升降电机51，第二滑块54连接旋转支架 20。由此，该升降组件5能够带动压力气缸1和/或旋转支架20进行上下升降移动。

如图1、2所示，在本实施例中，气缸固定板55上设置有定位件7，旋转支架20上设置有行程件6，行程件6设置在定位件7的一侧且与定位件7 的另一侧移动抵接。该定位件7与行程件6配合能够限定旋转支架20的升降高度，使旋转轴25带动吸附组件3上的研磨片4在限定高度内进行有效的研磨作业。具体的，在本实施例中，行程件6呈L型。可以理解的，在其他实施例中，行程件6可以设置为U型。

如图4、5所示，在本实施例中，旋转机构2的整体外部设置有防护罩9，该防护罩9可以为钣金制作的钣金防护罩9，能够防止在研磨过程中，喷水管28的水淋到旋转机构2上。同时，吸附组件3的研磨片4水平度调节结构全部设置在防护罩9外，可以在调整水平度时不用拆卸太多机构，方便调试，防水效果好。

如图5所示，在本实施例中，本研磨机构还包括：平行所述吸附组件3 的研磨平台8，所述研磨平台8包括：水平导轨81、吸附平台82，所述水平导轨81设置在所述吸附组件3下方，所述吸附平台82移动设置在所述水平导轨81上用于承载研磨物料80，受驱沿所述水平导轨81进行横向移动。

本研磨机构可以设置为清洗机中的研磨部件，同时可以用于研磨LCD，即研磨物料80可以设置为LCD。进行研磨前，需先搬送研磨物料80至吸附平台82上进行真空吸附，然后吸附平台82移动至研磨位置，研磨机构下降进行研磨LCD表面，此时喷水管28的喷水孔281进行喷水至研磨物料80上，研磨物料80上就会有水润湿，把研磨物料80的表面异物进行研磨清洁等工序,研磨片4研磨时本身也会磨损，需要定期更换，更换时还不能使研磨片4 和吸附平台82的平行度发生改变，而且更换时时间不能太长，本吸附组件3 采用真空吸附研磨片4原理，研磨机构使用前需提前将吸附组件3与放置研磨物料80的吸附平台82设置平行，其中，吸附组件3上有安装缓冲件34，把研磨片4通过吸附孔341的真空吸附的方式吸附在缓冲件34上，研磨片4 在制作过程中本身的平行度是能满足要求的，所以把研磨片4吸附在缓冲件34上后，并不会改变研磨机构和吸附平台82的平行度，而且在研磨过程中，真空吸附吸力也大于研磨片4和产品之间的摩擦力，所以研磨片4在研磨过程中也并不会掉落，而且在研磨磨料需要更换时，更换时间也比较快，直接打开真空用双手把研磨片4放到安装位置上进行真空吸附，然后检查下真空压力表看压力值大小，判断是否吸的正确和牢固。

应当理解的是，本实用新型的上述具体实施方式仅仅用于示例性说明或解释本实用新型的原理，而不构成对本实用新型的限制。因此，在不偏离本实用新型的精神和范围的情况下所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。此外，本实用新型所附权利要求旨在涵盖落入所附权利要求范围和边界、或者这种范围和边界的等同形式内的全部变化和修改例。

Claims (10)

1.一种研磨机构，其特征在于，包括：

压力气缸，升降设置；

旋转机构，包括连接所述压力气缸的旋转支架，所述旋转支架上设置有轴承组件、旋转电机、旋转轴、旋转接头，所述旋转接头连通真空气源，所述旋转轴依次卡接穿过所述轴承组件、所述旋转电机后与所述旋转接头连接，所述旋转轴开设有与所述旋转接头密封连通的轴腔；

吸附组件，顶部连接所述旋转轴且设有与所述轴腔连通的吸附孔，底部吸附有可拆卸的研磨片。

2.根据权利要求1所述的研磨机构，其特征在于，所述轴承组件包括：轴承固定件、套接在所述轴承固定件内侧的旋转轴承，所述轴承固定件套设在所述旋转支架与所述旋转电机，所述旋转轴承套接在所述轴承固定件内侧，所述旋转轴穿过所述轴承固定件和所述旋转轴承后插入所述旋转电机内。

3.根据权利要求2所述的研磨机构，其特征在于：所述轴承固定件与所述旋转轴之间套设有油封环，该油封环抵接在所述轴承固定件的顶面与所述旋转电机的底面。

4.根据权利要求1所述的研磨机构，其特征在于：所述吸附组件的两侧设置有喷水管，所述喷水管上开设有多个喷水孔。

5.根据权利要求1所述的研磨机构，其特征在于，所述吸附组件包括：

研磨连接件，密封连接在所述旋转轴底部，设有与所述轴腔连通的连接孔；

第一密封板，抵接在所述研磨连接件的底面，开设有与所述连接孔连通的第一通孔和连通所述第一通孔的真空槽；

第二密封板，密封罩设在所述真空槽上，布设有与所述真空槽连通的多个第二通孔；

缓冲件，贴附在所述第二密封板上且开设有与所述第二通孔连通的所述吸附孔。

6.根据权利要求5所述的研磨机构，其特征在于：所述第一密封板与所述第二密封板之间密封套设有密封圈。

7.根据权利要求1所述的研磨机构，其特征在于，包括：

升降组件，包括升降电机、升降导轨、第一滑块、第二滑块，所述第一滑块和所述第二滑块平行移动在所述升降导轨上，所述第一滑块上设置有用于安装所述压力气缸的气缸固定板，所述气缸固定板连接所述升降电机，所述第二滑块连接所述旋转支架。

8.根据权利要求7所述的研磨机构，其特征在于：所述气缸固定板上设置有定位件，所述旋转支架上设置有行程件，所述行程件设置在所述定位件的一侧且与所述定位件的另一侧移动抵接。

9.根据权利要求8所述的研磨机构，其特征在于：所述行程件呈L型或U型。

10.根据权利要求1-9任一项所述的研磨机构，其特征在于，还包括：平行所述吸附组件的研磨平台，水平导轨、吸附平台，所述水平导轨设置在所述吸附组件下方，所述吸附平台移动设置在所述水平导轨上用于承载研磨物料，受驱沿所述水平导轨进行横向移动。

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