CN213950720U - 底曝辅助推流型奥贝尔氧化沟工艺模型 - Google Patents
底曝辅助推流型奥贝尔氧化沟工艺模型 Download PDFInfo
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Abstract
本实用新型涉及底曝辅助推流型奥贝尔氧化沟工艺模型，包括环形池体，设置于环形池体表面的旋转式曝气装置，设置在池体底部的底部曝气装置，以及靠近环形池体内壁的推流器，所述旋转式曝气装置包括设置在池体表面的碟型转动片以及驱动碟型转动片进行转动的驱动电机，所述底部曝气装置为若干个固定设置于池体底部的曝气管。
Description
技术领域
本实用新型涉及污水处理领域，尤其是一种模拟奥贝尔氧化沟的工艺模型。
背景技术
奥贝尔(Orbal)氧化沟是一种采用表面曝气的方式，一方面为沟内混合液提供氧气，一方面对混合液进行推流，保证混合液的充分混合。但是这种氧化沟存在这样一个问题，单一表面曝气，会在池内混合液污染物浓度较低的情况下，由于充分的推流，导致混合液过量曝气，从而造成生物系统细菌生存条件不适宜，继而影响污水处理效果，产生污水超标排放的风险。针对这一问题，越来越多的污水厂对厂内现存工艺进行工艺改造，其中，通常会选择进行增加底部曝气及推流系统的方式，解决原有单一表面曝气不能满足生产运行精细化管理需要的情况。然而，现有情况下，缺少对该改造后工艺有关模型的有关发明与研究，不能满足新发展，新功能的需要。
发明内容
本实用新型要解决的是提供一种模拟奥贝尔氧化沟的工艺模型。
为了解决上述技术问题，包括环形池体，设置于环形池体表面的旋转式曝气装置，设置在池体底部的底部曝气装置，以及靠近环形池体内壁的推流器，所述旋转式曝气装置包括设置在池体表面的碟型转动片以及驱动碟型转动片进行转动的驱动电机，所述底部曝气装置为若干个固定设置于池体底部的曝气管。所述环形池体包括设置在池中心的溢流池以及环绕于溢流池外的曝气池，所述溢流池内设置有连接水管以及闸门，外部水源通过分别通过连接水管以及闸门注入到池中心的溢流池后，再从溢流池中向曝气池中流入。所述碟型转动片一端固定于溢流池的外壁上，一端横跨曝气池固定设置于曝气池的内壁上，碟型转动片的数量为四个，并且四个碟形转动片分别绕着溢流池间隔排列设置，将曝气池划分成四个曝气区域。底部曝气装置包括设置于池体底面上部以及下部的横向曝气管，以及设置于横向曝气管之间的若干个间隔排列的竖向曝气管。所述曝气管上部设置有若干个曝气孔，所述横向曝气管上分别设置有与竖向曝气管连接的连接孔，以及延伸至环形池体外的通气孔。所述推流器包括转动扇叶，插设于转动扇叶上的转动轴以及驱动转动轴进行转动的转动电机，所述转动扇叶设置于曝气池中，并且扇叶的转动方向设置可驱动曝气池中的水流加速运动。环形池体材质为透明玻璃材质。
采用了上述结构后，通过增加旋转式曝气装置来模拟奥贝尔氧化沟表面曝气的技术效果，而在底部又同时增加底部曝气装置，则可以在工艺上模拟了现有氧化沟的生产工艺，具体的，采用碟形转动片来让池体表面进行曝气，增加曝气管对池体底部进行曝气，不仅结构简单，而且曝气效果良好，适合后期对池体曝气效果进行观测。
附图说明
图1所示为本专利俯视结构示意图；
图2所示为池底底部结构示意图。
具体实施方式
环形池体1，旋转式曝气装置2，底部曝气装置3，推流器4，碟型转动片21，曝气孔31，横向曝气管32，竖向曝气管33，连接孔34，通气孔35。
如图1所示，包括环形池体1，设置于环形池体1表面的旋转式曝气装置2，设置在池体底部的底部曝气装置3，以及靠近环形池体内壁的推流器4，所述旋转式曝气装置2包括设置在池体表面的碟型转动片21以及驱动碟型转动片进行转动的驱动电机，所述底部曝气装置3为若干个固定设置于池体底部的曝气管3。所述环形池体1包括设置在池中心的溢流池11以及环绕于溢流池外的曝气池12，所述溢流池内设置有连接水管以及闸门111，外部水源通过分别通过连接水管以及闸门注入到池中心的溢流池11后，再从溢流池11中向曝气池中流入。所述碟型转动片21一端固定于溢流池11的外壁上，一端横跨曝气池12固定设置于曝气池的内壁上，碟型转动片21的数量为四个，并且四个碟形转动片21分别绕着溢流池11间隔排列设置，将曝气池划分成四个曝气区域。底部曝气装置包括设置于池体底面上部以及下部的横向曝气管32，以及设置于横向曝气管之间的若干个间隔排列的竖向曝气管33。所述曝气管3上部设置有若干个曝气孔31，所述横向曝气管32上分别设置有与竖向曝气管33连接的连接孔34，以及延伸至环形池体外的通气孔35。所述推流器包括转动扇叶，插设于转动扇叶上的转动轴以及驱动转动轴进行转动的转动电机，所述转动扇叶设置于曝气池中，并且扇叶的转动方向设置可驱动曝气池中的水流加速运动。环形池体材质为透明玻璃材质。通过增加旋转式曝气装置来模拟奥贝尔氧化沟表面曝气的技术效果，而在底部又同时增加底部曝气装置，则可以在工艺上模拟了现有氧化沟的生产工艺，具体的，采用碟形转动片来让池体表面进行曝气，增加曝气管对池体底部进行曝气，不仅结构简单，而且曝气效果良好，适合后期对池体曝气效果进行观测。
Claims (6)
1.底曝辅助推流型奥贝尔氧化沟工艺模型，其特征在于：包括环形池体，设置于环形池体表面的旋转式曝气装置，设置在池体底部的底部曝气装置，以及靠近环形池体内壁的推流器，所述旋转式曝气装置包括设置在池体表面的碟型转动片以及驱动碟型转动片进行转动的驱动电机，所述底部曝气装置为若干个固定设置于池体底部的曝气管。
2.根据权利要求1所述的底曝辅助推流型奥贝尔氧化沟工艺模型，其特征在于：所述环形池体包括设置在池中心的溢流池以及环绕于溢流池外的曝气池，所述溢流池内设置有连接水管以及闸门，外部水源通过分别通过连接水管以及闸门注入到池中心的溢流池后，再从溢流池中向曝气池中流入。
3.根据权利要求2所述的底曝辅助推流型奥贝尔氧化沟工艺模型，其特征在于：所述碟型转动片一端固定于溢流池的外壁上，一端横跨曝气池固定设置于曝气池的内壁上，碟型转动片的数量为四个，并且四个碟形转动片分别绕着溢流池间隔排列设置，将曝气池划分成四个曝气区域。
4.根据权利要求3所述的底曝辅助推流型奥贝尔氧化沟工艺模型，其特征在于：底部曝气装置包括设置于池体底面上部以及下部的横向曝气管，以及设置于横向曝气管之间的若干个间隔排列的竖向曝气管，所述曝气管上部设置有若干个曝气孔，所述横向曝气管上分别设置有与竖向曝气管连接的连接孔，以及延伸至环形池体外的通气孔。
5.根据权利要求4所述的底曝辅助推流型奥贝尔氧化沟工艺模型，其特征在于：所述推流器包括转动扇叶，插设于转动扇叶上的转动轴以及驱动转动轴进行转动的转动电机，所述转动扇叶设置于曝气池中，并且扇叶的转动方向设置可驱动曝气池中的水流加速运动。
6.根据权利要求5所述的底曝辅助推流型奥贝尔氧化沟工艺模型，其特征在于：环形池体材质为透明玻璃材质。
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| CN202021878600.5U CN213950720U (zh) | 2020-09-01 | 2020-09-01 | 底曝辅助推流型奥贝尔氧化沟工艺模型 |
Applications Claiming Priority (1)
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Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN213950720U true CN213950720U (zh) | 2021-08-13 |
Family
ID=77192776
Family Applications (1)
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| CN202021878600.5U Active CN213950720U (zh) | 2020-09-01 | 2020-09-01 | 底曝辅助推流型奥贝尔氧化沟工艺模型 |
Country Status (1)
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|---|---|
| CN (1) | CN213950720U (zh) |
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2020
- 2020-09-01 CN CN202021878600.5U patent/CN213950720U/zh active Active
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