CN213164811U - 研磨设备 - Google Patents
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Abstract
本申请提供了一种用于液晶面板的研磨设备包括机架和研磨机构。其中，所述机架的两端对称设置输送装置，所述输送装置之间的距离小于所述液晶面板的长度，所述输送装置的两侧设有限位板，所述液晶面板位于所述限位板之间；研磨机构，上下对应的设置在所述机架上，所述研磨机构位于所述输送装置之间，所述液晶面板从上下两个所述研磨机构之间穿过，所述研磨机构包括多个研磨盘，所述研磨盘抵接在所述液晶面板的表面，多个所述研磨盘的覆盖宽度大于所述液晶面板的宽度。根据本申请的技术方案，保证清理工作可以一次完成，大大提高了液晶面板清理的工作效率。
Description
技术领域
本申请涉及液晶面板技术领域，特别涉及一种研磨设备。
背景技术
液晶面板在加工过程中，需要先对其进行表面杂物的清理，现有的清理方法一般采用人工擦拭，这种方式对杂物清理不彻底，而且工作效率低。
实用新型内容
为解决上述技术问题，本申请提供了一种用于液晶面板的研磨设备，包括：
机架，所述机架的两端对称设置输送装置，所述输送装置之间的距离小于所述液晶面板的长度，所述输送装置的两侧设有限位板，所述液晶面板位于所述限位板之间；
研磨机构，上下对应的设置在所述机架上，所述研磨机构位于所述输送装置之间，所述液晶面板从上下两个所述研磨机构之间穿过，所述研磨机构包括多个研磨盘，所述研磨盘抵接在所述液晶面板的表面，多个所述研磨盘的覆盖宽度大于所述液晶面板的宽度。
可选地，所述限位板为橡胶板。
可选地，所述机架上转动连接有支撑杆，所述支撑杆位于所述输送装置和所述研磨机构之间。
可选地，所述支撑杆上设有橡胶套。
可选地，所述研磨机构还包括：
支架，设置在所述机架上；
传动组件，与所述研磨盘的主轴传动连接，用于带动所述研磨盘转动；
缓冲组件，与所述研磨盘的主轴传动连接，用于带动所述研磨盘上下浮动。
可选地，所述传动组件包括电机和传动轴，所述传动轴与所述电机的输出轴传动连接，所述传动轴上设有直交磁力齿轮，所述直交磁力齿轮与所述研磨盘的主轴传动连接。
可选地，所述缓冲组件包括平稳运动气缸，所述平稳运动气缸的输出轴与所述研磨盘的主轴传动连接。
应用本申请的技术方案，液晶面板在输送装置的带动下，从机架的一端移动至机架的另一端，限位板贴靠在液晶面板的两侧，防止液晶面板在移动的过程中发生偏移，上下对应设置的两个研磨机构可以同时对液晶面板的上下两表面进行清理，研磨盘的覆盖宽度大于液晶面板的宽度，保证清理工作可以一次完成，大大提高了液晶面板清理的工作效率。
附图说明
图1为本申请实施例的结构示意图；
图2为图1的剖视结构示意图；
图3为图1中研磨机构的结构示意图。
具体实施方式
如图1-3所示，本申请实施例提供的一种用于液晶面板的研磨设备包括机架1和研磨机构4。其中，机架1的两端对称设置输送带2，输送带2的从动轴7设置在机架1上，两条输送带2的运动方向如图1中箭头所示，并且，两条输送带2之间的距离小于液晶面板6的长度，保证液晶面板6可以顺利的由左侧输送带2移动至右侧输送带2上，在输送带2的两侧设有限位板3，限位板3平行与输送带2的延伸方向设置，限位板3通过连接板9固定在机架1上，限位板3分别抵靠在液晶面板6的两侧，起到导向的作用，防止液晶面板6在移动过程中发生偏移；两个研磨机构4上下对应的设置在机架1上，研磨机构4位于两条输送带2之间，液晶面板6从上下两个研磨机构4之间穿过，研磨机构4包括多个研磨盘44，研磨盘44分别抵接在液晶面板6的上下表面上，多个研磨盘44的覆盖宽度大于液晶面板6的宽度，保证在液晶面板6通过研磨机构4时，研磨结构4可以对液晶面板6一次性完成清理工作，避免多次清理，提高了工作效率。
具体地，限位板3为橡胶板。
在本实施例中，机架1上转动连接有支撑杆5，支撑杆5位于输送带2和研磨机构4之间，在支撑杆5上设有橡胶套8，支撑杆5对液晶面板6起到过渡支撑作用。
在本实施例中，研磨机构4还包括支架41、传动组件和缓冲组件。其中，支架41设置在机架1上，传动组件包括电机42和传动轴47，传动轴47与电机52的输出轴通过皮带43传动连接，传动轴47上设有直交磁力齿轮48，直交磁力齿轮48与研磨盘44的主轴46传动连接，电机42用于带动研磨盘44转动，实现对液晶面板6的清理，缓冲组件包括平稳运动气缸45，平稳运动气缸45的输出轴与研磨盘44的主轴46传动连接，平稳运动气缸45可以使研磨盘44上下浮动，以适应液晶面板6表面的不平整性，防止压伤液晶面板6，起到缓冲保护作用。
使用时，液晶面板在输送带的带动下，从机架的一端移动至机架的另一端，限位板贴靠在液晶面板的两侧，防止液晶面板在移动的过程中发生偏移，上下对应设置的两个研磨机构可以同时对液晶面板的上下两表面进行清理，研磨盘的覆盖宽度大于液晶面板的宽度，保证清理工作可以一次完成，大大提高了液晶面板清理的工作效率。
以上所述仅为本申请的优选实施例而已，并不用于限制本申请，对于本领域的技术人员来说，本申请可以有各种更改和变化。凡在本申请的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本申请的保护范围之内。
Claims (7)
1.一种研磨设备，其特征在于，包括：
机架，所述机架的两端对称设置输送装置，所述输送装置之间的距离小于液晶面板的长度，所述输送装置的两侧设有限位板，所述液晶面板位于所述限位板之间；
研磨机构，上下对应的设置在所述机架上，所述研磨机构位于所述输送装置之间，所述液晶面板从上下两个所述研磨机构之间穿过，所述研磨机构包括多个研磨盘，所述研磨盘抵接在所述液晶面板的表面，多个所述研磨盘的覆盖宽度大于所述液晶面板的宽度。
2.如权利要求1所述的研磨设备，其特征在于，所述限位板为橡胶板。
3.如权利要求1所述的研磨设备，其特征在于，所述机架上转动连接有支撑杆，所述支撑杆位于所述输送装置和所述研磨机构之间。
4.如权利要求3所述的研磨设备，其特征在于，所述支撑杆上设有橡胶套。
5.如权利要求1所述的研磨设备，其特征在于，所述研磨机构还包括：
支架，设置在所述机架上；
传动组件，与所述研磨盘的主轴传动连接，用于带动所述研磨盘转动；
缓冲组件，与所述研磨盘的主轴传动连接，用于带动所述研磨盘上下浮动。
6.如权利要求5所述的研磨设备，其特征在于，所述传动组件包括电机和传动轴，所述传动轴与所述电机的输出轴传动连接，所述传动轴上设有直交磁力齿轮，所述直交磁力齿轮与所述研磨盘的主轴传动连接。
7.如权利要求5所述的研磨设备，其特征在于，所述缓冲组件包括平稳运动气缸，所述平稳运动气缸的输出轴与所述研磨盘的主轴传动连接。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202021123741.6U CN213164811U (zh) | 2020-06-17 | 2020-06-17 | 研磨设备 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202021123741.6U CN213164811U (zh) | 2020-06-17 | 2020-06-17 | 研磨设备 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN213164811U true CN213164811U (zh) | 2021-05-11 |
Family
ID=75788309
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202021123741.6U Expired - Fee Related CN213164811U (zh) | 2020-06-17 | 2020-06-17 | 研磨设备 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN213164811U (zh) |
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2020
- 2020-06-17 CN CN202021123741.6U patent/CN213164811U/zh not_active Expired - Fee Related
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