CN212934557U - 一种晶圆清洗设备 - Google Patents

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张心晖
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Abstract

本实用新型公开了一种晶圆清洗设备,包括箱体,所述箱体的正面固定连接有缓冲箱,所述箱体的背面固定连接有操作箱。本实用新型通过箱体、缓冲箱、操作箱、电机、U型轴、传动杆、活动座、第一移动杆、第一挡板、筛框、第二挡板、第二移动杆、移动板、滑轮、支撑板、水箱、抽水管、水泵、出水管、喷水管、进水管、排水管、凹槽、过滤板、通孔、滑槽、滑块、弹簧和喷头的设置,达到了清洗效果好且具备水循环功能的优点,解决了现有的清洗设备清洗效果差且不具备水循环功能的问题,当人们使用清洗设备时,可以有效的对晶圆原料进行清洗,不会导致晶圆原料清洗不彻底,不影响晶圆生产的质量,且清洗后的水能重复利用。

Description

一种晶圆清洗设备
技术领域
本实用新型涉及晶圆生产加工技术领域,具体为一种晶圆清洗设备。
背景技术
晶圆是指制作硅半导体积体电路所用的硅晶片,其原始材料是硅,高纯度的多晶硅溶解后掺入硅晶体晶种,然后慢慢拉出,形成圆柱形的单晶硅,硅晶棒在经过研磨,抛光,切片后,形成硅晶圆片,也就是晶圆,晶圆在生产加工过程中会用到清洗设备。
目前现有的清洗设备,清洗效果差且不具备水循环功能,当人们使用清洗设备时,无法有效的对晶圆原料进行清洗,导致晶圆原料清洗不彻底,影响晶圆生产的质量,且清洗后的水不能重复利用,浪费水资源,不方便人们使用。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种晶圆清洗设备,具备清洗效果好且具备水循环功能的优点,解决了现有的清洗设备清洗效果差且不具备水循环功能的问题。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种晶圆清洗设备,包括箱体,所述箱体的正面固定连接有缓冲箱,所述箱体的背面固定连接有操作箱,所述操作箱内腔底部的后侧固定连接有电机,所述电机的输出端固定连接有U型轴,所述U型轴的表面通过活动轴活动连接有传动杆,所述传动杆的正面通过活动轴活动连接有活动座,所述活动座的正面固定连接有第一移动杆,所述第一移动杆的正面贯穿至箱体的内腔并固定连接有第一挡板,所述第一挡板的正面固定连接有筛框,所述筛框的正面固定连接有第二挡板,所述第二挡板的正面固定连接有第二移动杆,所述第二移动杆的正面贯穿至缓冲箱的内腔并固定连接有移动板,所述筛框底部的四周固定连接有滑轮,所述滑轮的底部设置有支撑板,所述支撑板的两侧与箱体内腔的两侧固定连接,所述支撑板的顶部与滑轮的底部接触,所述支撑板的底部固定连接有水箱,所述水箱的底部与箱体内腔的底部固定连接,所述水箱的两侧均连通有抽水管,所述抽水管远离水箱的一端连通有水泵,所述水泵的内侧通过支撑座与箱体的两侧固定连接,所述水泵的顶部连通有出水管,所述出水管远离水泵的一端贯穿至箱体的内腔并连通有喷水管,所述喷水管的内侧连通有喷头。
优选的,所述箱体左侧的顶部连通有进水管,所述进水管的表面设置有第一阀门,所述水箱内腔的底部连通有排水管,所述排水管的底部贯穿至箱体的底部并设置有第二阀门。
优选的,所述喷水管外侧的顶部和底部均固定连接有固定块,且固定块的外侧与箱体内腔的两侧固定连接。
优选的,所述支撑板顶部的两侧均开设有凹槽,所述凹槽的内腔固定连接有过滤板,所过凹槽的底部开设有通孔,所述通孔的底部与水箱的顶部连通。
优选的,所述缓冲箱内腔的顶部和底部均开设有滑槽,所述滑槽的内腔滑动连接有滑块,所述滑块的内侧与移动板的顶部和底部固定连接。
优选的,所述缓冲箱的内腔设置有弹簧,所述弹簧的正面与缓冲箱内腔的正面固定连接,所述弹簧的背面与移动板的正面固定连接。
优选的,所述U型轴的顶部套接有轴承座,且轴承座的顶部与操作箱内腔的顶部固定连接。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果如下:
1、本实用新型通过箱体、缓冲箱、操作箱、电机、U型轴、传动杆、活动座、第一移动杆、第一挡板、筛框、第二挡板、第二移动杆、移动板、滑轮、支撑板、水箱、抽水管、水泵、出水管、喷水管、进水管、排水管、凹槽、过滤板、通孔、滑槽、滑块、弹簧和喷头的设置,达到了清洗效果好且具备水循环功能的优点,解决了现有的清洗设备清洗效果差且不具备水循环功能的问题,当人们使用清洗设备时,可以有效的对晶圆原料进行清洗,不会导致晶圆原料清洗不彻底,不影响晶圆生产的质量,且清洗后的水能重复利用,不浪费水资源,方便人们使用。
2、本实用新型通过设置第二阀门和排水管,对水箱内的水在工作后起到了便于更换的作用,解决了水箱内的水在工作后不便于更换的问题,通过设置过滤板,对水箱内的循环水起到了过滤杂质的作用,解决了循环水进入水箱时含有杂质的问题,通过设置第一挡板和第二挡板,对筛框在移动时起到了受力均匀的作用,解决了筛框在移动时受力不均匀的问题,通过设置滑轮,对筛框在移动时起到了移动流畅的作用,解决了筛框在移动时移动不流畅的问题,通过设置弹簧,对移动板在移动时起到了缓冲的作用,解决了移动板在移动时不能缓冲与缓冲箱发生碰撞的问题,通过设置滑槽和滑块,对移动板在移动时起到了移动稳定的作用,解决了移动板在移动时出现移动偏移的问题,且对移动板起到了限位的作用,避免移动板与缓冲箱发生碰撞。
附图说明
图1为本实用新型结构示意图;
图2为本实用新型箱体和操作箱结构右视剖面图;
图3为本实用新型缓冲箱结构右视剖面图。
图中:1、箱体;2、缓冲箱;3、操作箱;4、电机;5、U型轴; 6、传动杆;7、活动座;8、第一移动杆;9、第一挡板;10、筛框; 11、第二挡板;12、第二移动杆;13、移动板;14、滑轮;15、支撑板;16、水箱;17、抽水管;18、水泵;19、出水管;20、喷水管; 21、进水管;22、排水管;23、凹槽;24、过滤板;25、通孔;26、滑槽;27、滑块;28、弹簧;29、喷头。
具体实施方式
为了使本领域技术人员更好地理解本实用新型的技术方案,下面结合附图对本实用新型进行详细描述,本部分的描述仅是示范性和解释性,不应对本实用新型的保护范围有任何的限制作用。
应注意到:相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项,因此,一旦某一项在一个附图中被定义,则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。
需要说明的是,术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,或者是该实用新型产品使用时惯常摆放的方位或位置关系,仅是为了便于描述本实用新型和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本实用新型的限制。此外,术语“第一”、“第二”、“第三”等仅用于区分描述,而不能理解为指示或暗示相对重要性。
此外,术语“水平”、“竖直”、“悬垂”等术语并不表示要求部件绝对水平或悬垂,而是可以稍微倾斜。如“水平”仅仅是指其方向相对“竖直”而言更加水平,并不是表示该结构一定要完全水平,而是可以稍微倾斜。
在本实用新型的描述中,还需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“设置”、“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
请参阅图1-3,一种晶圆清洗设备,包括箱体1,箱体1的正面固定连接有缓冲箱2,箱体1的背面固定连接有操作箱3,操作箱3 内腔底部的后侧固定连接有电机4,电机4的输出端固定连接有U型轴5,U型轴5的表面通过活动轴活动连接有传动杆6,传动杆6的正面通过活动轴活动连接有活动座7,活动座7的正面固定连接有第一移动杆8,第一移动杆8的正面贯穿至箱体1的内腔并固定连接有第一挡板9,第一挡板9的正面固定连接有筛框10,筛框10的正面固定连接有第二挡板11,第二挡板11的正面固定连接有第二移动杆 12,第二移动杆12的正面贯穿至缓冲箱2的内腔并固定连接有移动板13,筛框10底部的四周固定连接有滑轮14,滑轮14的底部设置有支撑板15,支撑板15的两侧与箱体1内腔的两侧固定连接,支撑板15的顶部与滑轮14的底部接触,支撑板15的底部固定连接有水箱16,水箱16的底部与箱体1内腔的底部固定连接,水箱16的两侧均连通有抽水管17,抽水管17远离水箱16的一端连通有水泵18,水泵18的内侧通过支撑座与箱体1的两侧固定连接,水泵18的顶部连通有出水管19,出水管19远离水泵18的一端贯穿至箱体1的内腔并连通有喷水管20,喷水管20的内侧连通有喷头29;
箱体1左侧的顶部连通有进水管21,进水管21的表面设置有第一阀门,水箱16内腔的底部连通有排水管22,排水管22的底部贯穿至箱体1的底部并设置有第二阀门,通过设置第二阀门和排水管22,对水箱16内的水在工作后起到了便于更换的作用,解决了水箱16内的水在工作后不便于更换的问题;
喷水管20外侧的顶部和底部均固定连接有固定块,且固定块的外侧与箱体1内腔的两侧固定连接,通过设置过滤板24,对水箱16 内的循环水起到了过滤杂质的作用,解决了循环水进入水箱16时含有杂质的问题;
支撑板15顶部的两侧均开设有凹槽23,凹槽23的内腔固定连接有过滤板24,所过凹槽23的底部开设有通孔25,通孔25的底部与水箱16的顶部连通,通过设置第一挡板9和第二挡板11,对筛框 10在移动时起到了受力均匀的作用,解决了筛框10在移动时受力不均匀的问题;
缓冲箱2内腔的顶部和底部均开设有滑槽26,滑槽26的内腔滑动连接有滑块27,滑块27的内侧与移动板13的顶部和底部固定连接,通过设置滑轮14,对筛框10在移动时起到了移动流畅的作用,解决了筛框10在移动时移动不流畅的问题;
缓冲箱2的内腔设置有弹簧28,弹簧28的正面与缓冲箱2内腔的正面固定连接,弹簧28的背面与移动板13的正面固定连接,通过设置弹簧28,对移动板13在移动时起到了缓冲的作用,解决了移动板13在移动时不能缓冲与缓冲箱2发生碰撞的问题;
U型轴5的顶部套接有轴承座,且轴承座的顶部与操作箱3内腔的顶部固定连接,通过设置滑槽26和滑块27,对移动板13在移动时起到了移动稳定的作用,解决了移动板13在移动时出现移动偏移的问题,且对移动板13起到了限位的作用,避免移动板13与缓冲箱2发生碰撞,通过箱体1、缓冲箱2、操作箱3、电机4、U型轴5、传动杆6、活动座7、第一移动杆8、第一挡板9、筛框10、第二挡板 11、第二移动杆12、移动板13、滑轮14、支撑板15、水箱16、抽水管17、水泵18、出水管19、喷水管20、进水管21、排水管22、凹槽23、过滤板24、通孔25、滑槽26、滑块27、弹簧28和喷头29 的设置,达到了清洗效果好且具备水循环功能的优点,解决了现有的清洗设备清洗效果差且不具备水循环功能的问题,当人们使用清洗设备时,可以有效的对晶圆原料进行清洗,不会导致晶圆原料清洗不彻底,不影响晶圆生产的质量,且清洗后的水能重复利用,不浪费水资源,方便人们使用。
使用时,使用者首先将晶圆通过箱体1的上方放置在筛框10内,然后通过外设控制器启动水泵18和电机4,水泵18通过抽水管17 和出水管19将水箱16内的水输送至喷水管20,喷水管20通过喷头 29对筛框10内的晶圆进行喷水清洗,同时电机4带动U型轴5转动, U型轴5通过活动轴带动传动杆6前后移动,传动杆6通过活动座7 带动第一移动杆8前后移动,第一移动杆8带动第一挡板9前后移动,第一挡板9带动筛框10前后移动,筛框10带动滑轮14在支撑板15 上滑动,同步,筛框10带动第二挡板11前后移动,第二挡板11带动第二移动杆12前后移动,第二移动杆12带动移动板13前后移动,移动板13带动滑块27在滑槽26内滑动,与此同时,移动板13通过弹簧28进行缓冲,筛框10前后移动时带动晶圆筛动,并在喷头29 的配合下对晶圆进行反复清洗,清洗后的水流入凹槽23内,过滤板24 对清洗后的水进行过滤,过滤后的水通过通孔25流入水箱16,重复上述步骤,使水箱16内的水能够循环使用,当水箱16内的水使用一段时间需要更换时,可通过第二阀门和排水管22排出,并通过第一阀门和进水管21输入新的循环水,达到了清洗效果好且具备水循环功能的优点,解决了现有的清洗设备清洗效果差且不具备水循环功能的问题,当人们使用清洗设备时,可以有效的对晶圆原料进行清洗,不会导致晶圆原料清洗不彻底,不影响晶圆生产的质量,且清洗后的水能重复利用,不浪费水资源,方便人们使用。
本申请文件中使用到的标准零件均可以从市场上购买,而且根据说明书和附图的记载均可以进行订制,各个零件的具体连接方式均采用现有技术中成熟的螺栓、铆钉、焊接等常规手段,机械、零件和设备均采用现有技术中常规的型号,控制方式是通过控制器来自动控制,控制器的控制电路通过本领域的技术人员简单编程即可实现,属于本领域的公知常识,并且本实用新型主要用来保护机械装置,所以本实用新型不再详细解释控制方式和电路连接,且说明书中提到的外设控制器可为本文提到的电器元件起到控制作用,而且该外设控制器为常规的已知设备。
需要说明的是,在本文中,术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含,从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素,而且还包括没有明确列出的其他要素,或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。
本文中应用了具体个例对本实用新型的原理及实施方式进行了阐述,以上实例的说明只是用于帮助理解本实用新型的方法及其核心思想。以上仅是本实用新型的优选实施方式,应当指出,由于文字表达的有限性,而客观上存在无限的具体结构,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型原理的前提下,还可以做出若干改进、润饰或变化,也可以将上述技术特征以适当的方式进行组合;这些改进润饰、变化或组合,或未经改进将实用新型的构思和技术方案直接应用于其它场合的,均应视为本实用新型的保护范围。

Claims (7)

1.一种晶圆清洗设备,包括箱体(1),其特征在于:所述箱体(1)的正面固定连接有缓冲箱(2),所述箱体(1)的背面固定连接有操作箱(3),所述操作箱(3)内腔底部的后侧固定连接有电机(4),所述电机(4)的输出端固定连接有U型轴(5),所述U型轴(5)的表面通过活动轴活动连接有传动杆(6),所述传动杆(6)的正面通过活动轴活动连接有活动座(7),所述活动座(7)的正面固定连接有第一移动杆(8),所述第一移动杆(8)的正面贯穿至箱体(1)的内腔并固定连接有第一挡板(9),所述第一挡板(9)的正面固定连接有筛框(10),所述筛框(10)的正面固定连接有第二挡板(11),所述第二挡板(11)的正面固定连接有第二移动杆(12),所述第二移动杆(12)的正面贯穿至缓冲箱(2)的内腔并固定连接有移动板(13),所述筛框(10)底部的四周固定连接有滑轮(14),所述滑轮(14)的底部设置有支撑板(15),所述支撑板(15)的两侧与箱体(1)内腔的两侧固定连接,所述支撑板(15)的顶部与滑轮(14)的底部接触,所述支撑板(15)的底部固定连接有水箱(16),所述水箱(16)的底部与箱体(1)内腔的底部固定连接,所述水箱(16)的两侧均连通有抽水管(17),所述抽水管(17)远离水箱(16)的一端连通有水泵(18),所述水泵(18)的内侧通过支撑座与箱体(1)的两侧固定连接,所述水泵(18)的顶部连通有出水管(19),所述出水管(19)远离水泵(18)的一端贯穿至箱体(1)的内腔并连通有喷水管(20),所述喷水管(20)的内侧连通有喷头(29)。
2.根据权利要求1所述的一种晶圆清洗设备,其特征在于:所述箱体(1)左侧的顶部连通有进水管(21),所述进水管(21)的表面设置有第一阀门,所述水箱(16)内腔的底部连通有排水管(22),所述排水管(22)的底部贯穿至箱体(1)的底部并设置有第二阀门。
3.根据权利要求1所述的一种晶圆清洗设备,其特征在于:所述喷水管(20)外侧的顶部和底部均固定连接有固定块,且固定块的外侧与箱体(1)内腔的两侧固定连接。
4.根据权利要求1所述的一种晶圆清洗设备,其特征在于:所述支撑板(15)顶部的两侧均开设有凹槽(23),所述凹槽(23)的内腔固定连接有过滤板(24),所过凹槽(23)的底部开设有通孔(25),所述通孔(25)的底部与水箱(16)的顶部连通。
5.根据权利要求1所述的一种晶圆清洗设备,其特征在于:所述缓冲箱(2)内腔的顶部和底部均开设有滑槽(26),所述滑槽(26)的内腔滑动连接有滑块(27),所述滑块(27)的内侧与移动板(13)的顶部和底部固定连接。
6.根据权利要求1所述的一种晶圆清洗设备,其特征在于:所述缓冲箱(2)的内腔设置有弹簧(28),所述弹簧(28)的正面与缓冲箱(2)内腔的正面固定连接,所述弹簧(28)的背面与移动板(13)的正面固定连接。
7.根据权利要求1所述的一种晶圆清洗设备,其特征在于:所述U型轴(5)的顶部套接有轴承座,且轴承座的顶部与操作箱(3)内腔的顶部固定连接。
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CN113290466A (zh) * 2021-04-26 2021-08-24 高兵 一种半导体晶圆打磨清洗装置

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