CN212542198U - 化成箔原料预处理装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型提供了一种化成箔原料预处理装置,目的是解决现有作为化成箔生产原料的腐蚀箔因其表面蚀孔内积聚杂质而导致的原料洁净度差的技术问题。该预处理装置包括依次设置的开卷架、超声波清洗槽和纯水清洗槽，超声波清洗槽两端设有转向辊组，纯水清洗槽处设有张力辊组，转向辊组和张力辊组间设有展平辊组。本实用新型通过设置在开卷架后的超声波清洗槽对开卷后的腐蚀箔进行超声波清洗处理，利用水体对腐蚀箔表面蚀孔的浸入以及超声波在水体中的传播，在蚀孔内产生持续振荡，使孔内杂质脱落而实现彻底去除。同时，配合设置于超声波清洗槽后的展平辊组对超声波清洗除杂后的腐蚀箔进行展平处理，有利于保证腐蚀箔进入化成处理装置的平整度。
Description
技术领域
本实用新型涉及化成箔生产技术领域，尤其是涉及一种化成箔原料预处理装置。
背景技术
化成箔是铝电解电容器的关键原材料，由特制的高纯铝箔经过电化学或化学腐蚀后扩大表面积，再经过电化成作用在表面形成一层氧化膜而得。其中，由高纯铝箔经腐蚀后可得表面具有蚀孔的腐蚀箔，腐蚀箔经多级电解氧化处理后即得化成箔。
目前，我国化成箔产业尚未成熟，国内腐蚀箔工艺仍处于摸索阶段，因此，我国化成箔生产原料主要依赖于进口腐蚀箔卷。腐蚀箔表面遍布蚀孔，蚀孔在腐蚀处理过程以及后续传输、卷制、运输等过程中均极易吸附杂质。杂质因处于蚀孔内而不易去除，使腐蚀箔洁净度较低，从而对化成箔的质量和性能产生不利影响。
发明内容
针对上述情况，为克服现有技术的缺陷，本实用新型提供一种化成箔原料预处理装置，解决了现有作为化成箔生产原料的腐蚀箔因其表面蚀孔内积聚杂质而导致的原料洁净度差的技术问题。
为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：
化成箔原料预处理装置，包括：开卷架，活动固定腐蚀箔卷；超声波清洗槽，用于对开卷后的腐蚀箔进行超声波清洗；纯水清洗槽，用于对腐蚀箔进行纯水水煮处理；转向辊组；展平辊组；张力辊组；其中，超声波清洗槽设置于开卷架和纯水清洗槽之间；超声波清洗槽两端分别设有转向辊组，使开卷后的腐蚀箔在超声波清洗槽内水平移动，并沿竖直方向自超声波清洗槽出料；张力辊组设置于纯水清洗槽处，带动腐蚀箔在纯水清洗槽内的水体中蛇形移动；展平辊组设置于超声波清洗槽和纯水清洗槽间，位于转向辊组出料端和张力辊组进料端间；转向辊组、展平辊组和张力辊组均由外部机架固定。
本实用新型通过设置在开卷架后的超声波清洗槽对开卷后的腐蚀箔进行超声波清洗处理，利用水体对腐蚀箔表面蚀孔的浸入以及超声波在水体中的传播，在蚀孔内产生持续振荡，使孔内杂质脱落而实现彻底去除。
本实用新型于超声波清洗槽后设置有展平辊组，对超声波清洗除杂后的腐蚀箔进行展平处理，有利于保证腐蚀箔进入化成处理装置的平整度。
进一步地，该化成箔原料预处理装置的超声波清洗槽前端设有第一转向辊组，后端设有第二转向辊组，其中，第一转向辊组为一对辊；第二转向辊组为两平行辊轴，其中一辊轴设置于超声波清洗槽内，另一辊轴悬设于超声波清洗槽上方。
本实用新型通过第一转向辊组将位于开卷架处的腐蚀箔导向入超声波清洗槽内，采用对辊作为第一转向辊组一方面可辅助张力辊组驱动导向开卷后的腐蚀箔，另一方面还可通过对辊间隙辅助腐蚀箔展平，以便保证超声波清洗效果。
本实用新型通过通过第一转向辊组与第二转向辊组的配合，控制腐蚀箔沿超声波清洗槽水平方向移动；通过第二转向辊组的竖直布局，将完成超声波清洗的腐蚀箔导出。
进一步地，该化成箔原料预处理装置的展平辊组高度大于转向辊组出料端高度和张力辊组进料端高度。利用展平辊的辊面对腐蚀箔进行展平处理。
进一步地，该化成箔原料预处理装置还包括：第一冲洗机构，用于冲洗开卷处的腐蚀箔；第二冲洗机构，用于冲洗自超声波清洗槽后端出料的腐蚀箔；其中，第一冲洗机构设置于开卷架处；第二冲洗机构悬设于超声波清洗槽后端的第二转向辊组两辊轴间的区域处。第一冲洗机构的雾化喷淋管朝向腐蚀箔卷开卷处喷射。该化成箔原料预处理装置的第一冲洗机构和第二冲洗机构均包括两平行的雾化喷淋管，雾化喷淋管对称夹设于腐蚀箔处，分别喷射腐蚀箔两表面。
本实用新型通过腐蚀箔卷开卷处设置的第一冲洗机构，于开卷时即对腐蚀箔表面进行冲洗，有利于去除因蚀孔内杂质摩擦而产生的静电，便于平整开卷；通过在第二转向辊组处设置的第二冲洗机构，于出料时对腐蚀箔表面进行二次冲洗，以避免表面自超声波清洗槽水体中携带去除的杂质进入后续处理装置中。
综上所述，本实用新型具有以下有益效果：
1. 本实用新型通过设置在开卷架后的超声波清洗槽对开卷后的腐蚀箔进行超声波清洗处理，利用水体对腐蚀箔表面蚀孔的浸入以及超声波在水体中的传播，在蚀孔内产生持续振荡，使孔内杂质脱落而实现彻底去除。
2. 本实用新型于超声波清洗槽后设置有展平辊组，对超声波清洗除杂后的腐蚀箔进行展平处理，有利于保证腐蚀箔进入化成处理装置的平整度。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本实用新型的结构示意图。
附图标记：1.开卷架，2.超声波清洗槽，3.纯水清洗槽，41.第一转向辊组，42.第二转向辊组，5.展平辊组，6.张力辊组，71.第一冲洗机构，72.第二冲洗机构，9.腐蚀箔卷。
具体实施方式
在下文中，仅简单地描述了某些示例性实施例。正如本领域技术人员可认识到的那样，在不脱离本实用新型实施例的精神或范围的情况下，可通过各种不同方式修改所描述的实施例。因此，附图和描述被认为本质上是示例性的而非限制性的。
在本实用新型实施例的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”、“前”、“后”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型实施例和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型实施例的限制。
此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本实用新型实施例的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
在本实用新型实施例中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接，还可以是通信；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型实施例中的具体含义。
在本实用新型实施例中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
下文的公开提供了许多不同的实施方式或例子用来实现本实用新型实施例的不同结构。为了简化本实用新型实施例的公开，下文中对特定例子的部件和设置进行描述。当然，它们仅仅为示例，并且目的不在于限制本实用新型实施例。此外，本实用新型实施例可以在不同例子中重复参考数字和/或参考字母，这种重复是为了简化和清楚的目的，其本身不指示所讨论各种实施方式和/或设置之间的关系。
下面结合附图对本实用新型的实施例进行详细说明。
如图1所示，本实用新型实施例提供了一种化成箔原料预处理装置，包括：
开卷架1，活动固定有腐蚀箔卷9；
超声波清洗槽2，用于对开卷后的腐蚀箔进行超声波清洗；
纯水清洗槽3，用于对腐蚀箔进行纯水水煮处理，设有张力辊组6；
其中，
开卷架1固定于超声波清洗槽2的前端，腐蚀箔卷9悬设于超声波清洗槽2前端上方；
超声波清洗槽2靠近前端的槽体内设有第一转向辊组41，靠近后端的槽体内及槽体上方设有第二转向辊组42的两个平行辊轴；
在第二转向辊组42与张力辊组6间设有展平辊组5，本实施例中，展平辊组5为一高度略高于第二转向辊组出料端辊轴和张力辊组入料端辊轴的单辊；
上述第一转向辊组41和第二转向辊组42中位于槽体内的辊轴，通过其端部与超声波清洗槽2活动连接固定；张力辊组6中位于槽体内的辊轴，也通过其端部与纯水清洗槽3活动连接固定；第二转向辊组42悬设于槽体上方的辊轴以及张力辊组6中位于槽体外的辊轴则通过其端部与外部机架（附图中未示出）活动连接固定；
此外，腐蚀箔卷9开卷处和第二转向辊组42两辊轴间的区域分别设有第一冲洗机构71和第二冲洗机构72，第一冲洗机构71和第二冲洗机构72结构相同，均为两平行对设的雾化喷淋管，通过其两端与开卷架1或外部机架（附图中未示出）连接固定，雾化喷淋方向朝向腐蚀箔表面。
使用时，腐蚀箔卷处的腐蚀箔由张力辊组带动被动开卷。第一冲洗机构于开卷处对腐蚀箔两表面进行雾化喷淋，冲洗表面浮尘。冲洗的水体落入或由腐蚀箔带入超声波清洗槽中。腐蚀箔在超声波清洗槽内由第一转向辊组和第二转向辊组带动水平移动，移动过程中完成超声波清洗。第二冲洗机构与第二转向辊组处对腐蚀箔两表面进行二次雾化喷淋，冲洗腐蚀箔表面残留的超声波清洗槽水体。腐蚀箔由第二转向辊组带动自超声波清洗槽竖直出料后，进入展平辊组完成展平后，进入张力辊组中蛇形移动，在纯水清洗槽中完成水煮活化处理。第一冲洗机构和第二冲洗机构，以及超声波清洗槽分别通过管路与外部水源连通，超声波清洗槽还可与外部水处理装置连通，保持槽内水体持续净化、循环。
Claims (7)
1.化成箔原料预处理装置，其特征在于，包括：
开卷架，活动固定腐蚀箔卷；
超声波清洗槽，用于对开卷后的腐蚀箔进行超声波清洗；
纯水清洗槽，用于对腐蚀箔进行纯水水煮处理；
转向辊组；
展平辊组；
张力辊组；
其中，所述超声波清洗槽设置于所述开卷架和所述纯水清洗槽之间；所述超声波清洗槽两端分别设有转向辊组，使开卷后的腐蚀箔在所述超声波清洗槽内水平移动，并沿竖直方向自超声波清洗槽出料；所述张力辊组设置于所述纯水清洗槽处，带动腐蚀箔在所述纯水清洗槽内的水体中蛇形移动；所述展平辊组设置于所述超声波清洗槽和所述纯水清洗槽间，位于所述转向辊组出料端和所述张力辊组进料端间；所述转向辊组、所述展平辊组和所述张力辊组由外部机架固定。
2.根据权利要求1所述的化成箔原料预处理装置，其特征在于，所述超声波清洗槽前端设有第一转向辊组，后端设有第二转向辊组，其中，
第一转向辊组为一对辊；
第二转向辊组为两平行辊轴，其中一辊轴设置于所述超声波清洗槽内，另一辊轴悬设于所述超声波清洗槽上方。
3.根据权利要求1所述的化成箔原料预处理装置，其特征在于，所述展平辊组高度大于所述转向辊组出料端高度和所述张力辊组进料端高度。
4.根据权利要求2所述的化成箔原料预处理装置，其特征在于，该预处理装置还包括：
第一冲洗机构，用于冲洗开卷处的腐蚀箔；
第二冲洗机构，用于冲洗自所述超声波清洗槽后端出料的腐蚀箔；
其中，所述第一冲洗机构设置于所述开卷架处；所述第二冲洗机构悬设于所述超声波清洗槽后端处。
5.根据权利要求4所述的化成箔原料预处理装置，其特征在于，所述第二冲洗机构设置于所述第二转向辊组两辊轴间的区域。
6.根据权利要求4所述的化成箔原料预处理装置，其特征在于，所述第一冲洗机构和所述第二冲洗机构均包括两平行的雾化喷淋管，所述雾化喷淋管对称夹设于腐蚀箔处，分别喷射所述腐蚀箔的两表面。
7.根据权利要求6所述的化成箔原料预处理装置，其特征在于，所述第一冲洗机构的雾化喷淋管朝向所述腐蚀箔卷开卷处喷射。
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