CN211408619U - 锅盖组件及具有其的烹饪器具 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供了一种锅盖组件及具有其的烹饪器具，锅盖组件包括：面盖，面盖内部具有安装空间；内锅盖，内锅盖安装在安装空间中；衬圈，衬圈安装在内锅盖与面盖之间，衬圈和/或面盖上设置有导流结构，导流结构形成导通安装空间与外界的导流通道。本实用新型的烹饪器具给进入安装空间中的液体提供了专有的通道以流出到外界，避免了相关技术中完全通过衬圈与面盖之间的安装间隙进行导流，安装间隙过长所造成的液体流出困难的问题。

Description

锅盖组件及具有其的烹饪器具

技术领域

本实用新型涉及家用电器技术领域，具体而言，涉及一种锅盖组件及具有其的烹饪器具。

背景技术

电压力锅是传统高压锅和电饭锅的升级换代产品，它结合了压力锅和电饭锅的优点，彻底解决了压力锅的安全问题，解除了普通压力锅困扰消费者多年的安全隐患，省时省电，自动便捷，经久耐用。

相关技术中的电压力锅的上盖组件，包含面盖、内锅盖、衬圈等零部件，电压力锅在工作时，会有蒸汽或者汤汁溢出进入到上盖组件内部；在清洗的时候，水流也会进入到上盖组件内部，而这些进入上盖组件内部的液体一般从面盖与内锅盖、衬圈等零部件之间的间隙流出。目前往往为了保证整个上盖组件的美观，面盖与内锅盖、衬圈之间的间隙通常比较小且面面贴合量(竖直方向)较大，导致进入上盖组件内部的液体，不容易从各零件之间的间隙流出，上盖组件变得潮湿，潮湿的环境容易滋生细菌，甚至影响到食物的卫生情况，危害用户的健康。

实用新型内容

本实用新型的主要目的在于提供一种锅盖组件及具有其的烹饪器具，以解决相关技术中的烹饪器具的上盖组件中的水分无法有效排出的问题。

为了实现上述目的，本实用新型提供了一种锅盖组件，包括：面盖，面盖内部具有安装空间；内锅盖，内锅盖安装在安装空间中；衬圈，衬圈安装在内锅盖与面盖之间，衬圈和/或面盖上设置有导流结构，导流结构形成导通安装空间与外界的导流通道。

应用本实用新型的技术方案，本实用新型的衬圈和/或面盖上设置有导流结构，导流结构在安装空间与外界之间形成导流通道，给进入安装空间中的液体提供了专有的通道以流出到外界，避免了相关技术中完全通过衬圈与面盖之间的安装间隙进行导流，安装间隙过长所造成的液体流出困难的问题。

进一步地，导流结构包括第一导流面，第一导流面设置在衬圈的外周，并沿衬圈的周向设置，第一导流面自衬圈的内部向衬圈的外部逐渐向下倾斜，通过加工第一导流面可以使得衬圈的侧壁厚度减小，使得衬圈与面盖内壁之间形成的通道减短，从而使得液体经过时更加流畅。

进一步地，衬圈包括主体及设置在主体侧壁底端的环形凸台，导流结构包括导流凹槽，导流凹槽设置在环形凸台的侧壁上，并在环形凸台的上端面上形成导流口，通过加工导流凹槽使得衬圈与面盖内壁之间形成的通道减短，液体经过时更加流畅。

进一步地，衬圈包括主体及设置在主体侧壁底端的环形凸台，环形凸台包括本体部和导流部，导流部位于本体部的外周，导流结构包括第一导流面和导流凹槽，导流部的上表面构成第一导流面，第一导流面自衬圈的内部向衬圈的外部逐渐向下倾斜，导流凹槽设置在导流部的侧壁上，并在第一导流面上形成导流口，通过加工第一导流面及导流凹槽，进一步使得衬圈与面盖内壁之间形成的通道减短。

进一步地，导流凹槽为多个，多个导流凹槽沿衬圈的周向等间隔地设置，以提高导流效率。

进一步地，导流凹槽的底部设置有第二导流面，第二导流面自衬圈的内部向衬圈的外部逐渐向下倾斜，以避免液体在导流凹槽中发生滞留。

进一步地，面盖的内端面上设置有让位槽，让位槽用于对衬圈的周向进行让位，让位槽的上端面部分地遮挡导流口，以为衬圈提供安装空间。

进一步地，衬圈包括主体及设置在主体侧壁底端的环形凸台，导流结构包括导流通孔，导流通孔设置在环形凸台的上端面上，导流通道形成在导流通孔中，以通过多个导流通孔将安装空间中的液体导出。

进一步地，导流通孔的上部设置有导向槽，导向槽由上至下逐渐收缩地延伸。以使导流通孔周围的液体能够流至导流通孔中。

进一步地，导流结构包括环形凹槽，环形凹槽设置在环形凸台的上端面上，并沿环形凸台的周向延伸，导流通孔设置在环形凹槽的底部，并与导流通孔相连通，以周向汇集液体至导流通孔。

根据本实用新型的另一个方面，提供了一种烹饪器具，该烹饪器具包括上述锅盖组件。

附图说明

构成本申请的一部分的说明书附图用来提供对本实用新型的进一步理解，本实用新型的示意性实施例及其说明用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型的不当限定。在附图中：

图1示意性示出了本实用新型的锅盖组件的实施例的剖视图；

图2示意性示出了图1中A区域的放大图；

图3示意性示出了图1的锅盖组件的衬圈的剖视图；

图4示意性示出了图3中B区域的放大图；

图5示意性示出了图3的衬圈的结构图；

图6示意性示出了图5中C区域的放大图；

图7示意性示出了根据本实用新型的锅盖组件的另一个实施例的衬圈的剖视图；

图8示意性示出了图7中D区域的放大图。

其中，上述附图包括以下附图标记：

20、面盖；21、安装空间；30、内锅盖；40、衬圈；401、主体；402、环形凸台；41、导流通道；42、第一导流面；43、导流凹槽；44、第二导流面；45、环形凸台的上端面；50、导流通孔；51、环形凹槽。

具体实施方式

需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本实用新型。

正如背景技术中所记载的，相关技术中的电压力锅的上盖组件，包含面盖、内锅盖、衬圈等零部件，电压力锅在工作时，会有蒸汽或者汤汁溢出进入到上盖组件内部；在清洗的时候，水流也会进入到上盖组件内部，而这些进入上盖组件内部的液体一般从面盖与内锅盖、衬圈等零部件之间的间隙流出，目前往往为了保证整个上盖组件的美观，面盖与内锅盖、衬圈之间的间隙通常比较小且面面贴合量(竖直方向)较大，导致进入上盖组件内部的液体，不容易从各零件之间的间隙流出，上盖组件变得潮湿，潮湿的环境容易滋生细菌，甚至影响到食物的卫生情况，危害用户的健康。

为了解决上述问题，参见图1至图8所示，本实用新型的实施例提供了一种锅盖组件，本实施例的锅盖组件包括面盖20、内锅盖30及衬圈40，面盖20内部具有安装空间21；内锅盖30安装在安装空间21中；衬圈40安装在内锅盖30与面盖20之间，衬圈40和/或面盖20上设置有导流结构，导流结构形成导通安装空间21与外界的导流通道41。本实用新型的衬圈40和/或面盖20上设置有导流结构，导流结构在安装空间21与外界之间形成导流通道41，给进入安装空间21中的液体提供了专有的通道以流出到外界，避免了相关技术中完全通过衬圈40与面盖20之间的安装间隙进行导流，安装间隙过长所造成的液体流出困难的问题。

其中，本实施例中的内锅盖30上设置有锅牙，内锅盖30为金属材质制成。面盖20和内锅盖30在使用时能够同步转动。

参见图4所示，由于重力的作用，安装空间21内部的液体会自上而下流动，为了使得流至衬圈的上端面上的液体能够被向下导向，避免液体滞留，本实施例中的导流结构包括第一导流面42，第一导流面42设置在衬圈40的外周，并沿衬圈40的周向设置，第一导流面42自衬圈40的内部向衬圈40的外部逐渐向下倾斜，通过加工第一导流面42可以使得衬圈40的侧壁厚度减小，使得衬圈40与面盖20内壁之间形成的通道减短，本实施例中衬圈40与面盖20之间形成的通道为导流通道41的一部分，从而使得液体经过时更加流畅，避免堵塞。其中，本实用新型中的衬圈为环形结构，衬圈40的主体401及设置在主体侧壁底端的环形凸台402，本申请中所提到的衬圈的上端面，即环形凸台的上端面45。图2中P代表液体流动方向。

在其他实施例中，衬圈40包括主体401及设置在主体401侧壁底端的环形凸台402，导流结构包括导流凹槽43，导流凹槽43设置在衬圈40的外周，导流凹槽43设置在环形凸台402的侧壁上，并在环形凸台402的上端面45上形成导流口。本实施例中衬圈40与面盖20之间形成的通道为导流通道41的一部分，液体通过导流口进入导流凹槽43，在导流凹槽43中汇集，通过加工导流凹槽43使得衬圈40与面盖20内壁之间形成的通道减短，液体经过时更加流畅。

在一种优选地实施例中，参见图4所示，本实施例中的衬圈40包括主体401及设置在主体401侧壁底端的环形凸台402，环形凸台402包括本体部和导流部，导流部位于本体部的外周，具体为本体部外周的上部，导流结构包括第一导流面42和导流凹槽43，导流部的上表面构成第一导流面，第一导流面42自衬圈40的内部向衬圈40的外部逐渐向下倾斜，导流凹槽43设置在导流部的外周，导流凹槽43设置在环形凸台402的侧壁上，并在第一导流面42上形成导流口。液体通过第一导流面42下流至导流凹槽43中，在导流凹槽43中汇集，通过加工第一导流面42可以使得衬圈40的侧壁厚度减小，通过加工导流凹槽43使得衬圈40与面盖20内壁之间形成的通道进一步地减短。

为了进一步地提高导流结构对液体的导流速度，本实施例中的导流凹槽43为多个，多个导流凹槽43沿环形凸台402的周向间隔设置，优选为等间隔设置。在其他实施例中，如可翻转地锅盖的实施例中，多个导流凹槽43可以集中设置在靠近在锅盖枢转轴的一侧，从而在翻起锅盖时，多个导流凹槽43集中对液体进行导流排出，避免导流速度过慢。

参见图4及图6所示，为了使得汇集在导流凹槽43内部的液体不滞留在导流凹槽中，本实施例中的导流凹槽43的底部设置有第二导流面44，第二导流面44自衬圈40的内部向衬圈40的外部逐渐向下倾斜，液体通过第一导流面42下流至导流凹槽43中，在导流凹槽43中汇集，通过第二导流面44进一步地导流，使液体从衬圈40与面盖20之间的间隙中流出。在一种优选地实施例中，第二导流面44的斜率大于第一导流面42的斜率，以使得导流凹槽43中的液体能够更快流出，避免滞留。

为了给衬圈提供足够的安装空间21，并对衬圈40进行限位，本实施例中的面盖20的内端面上设置有让位槽，让位槽用于对衬圈40的周向进行让位，让位槽的上端面部分地遮挡导流口，让位槽的上端面与导流口之间的间隙形成导流通道的一部分。优选地，让位槽的上端面设置有斜面，斜面与第一导流面42的斜率相同。

参见图7至图8所示，在本实用新型的另一个实施例中，衬圈40包括主体401及设置在主体401侧壁底端的环形凸台402，导流结构包括导流通孔50，导流通孔50设置在环形凸台402的上端面45上，导流通道41形成在导流通孔50中，导流通孔50为多个，多个导流通孔50沿衬圈40的周向等间隔地设置。由于重力的作用，安装空间21内部的液体会自上而下流动，流至环形凸台的上端面45后，通过多个导流通孔50共同进行导流，使得在液体能够有效排出。

为了使得导流通孔50附近的液体能够流入到导流通孔50中，本实施例中的导流通孔50的上部设置有导向槽，导向槽由上至下逐渐收缩地延伸，导向槽的上端面向导流通孔50的中心倾斜。

在本实用新型的又一种实施例中，为了更好地汇集液体，能够更顺利地从导流通孔流出，使汇集的液体不滞留，本实施例的导流结构包括环形凹槽51，环形凹槽51设置在环形凸台402的上端面上，并沿环形凸台402的周向延伸，导流通孔50设置在环形凹槽51的底部，并与导流通孔50相连通，通过环形凹槽可以从周向盛接液体，使液体更好地汇集，避免滞留。

根据本实用新型的另一个方面提供了一种烹饪器具，该烹饪器具包括锅盖组件，锅盖组件为上述锅盖组件。

从以上的描述中，可以看出，本实用新型上述的实施例实现了如下技术效果：

本实用新型的烹饪器具给进入安装空间中的液体提供了专有的通道以流出到外界，避免了相关技术中完全通过衬圈与面盖之间的安装间隙进行导流，安装间隙过长所造成的液体流出困难的问题。

应该指出，上述详细说明都是例示性的，旨在对本申请提供进一步的说明。除非另有指明，本文使用的所有技术和科学术语具有与本申请所属技术领域的普通技术人员通常理解的相同含义。

需要注意的是，这里所使用的术语仅是为了描述具体实施方式，而非意图限制根据本申请的示例性实施方式。如在这里所使用的，除非上下文另外明确指出，否则单数形式也意图包括复数形式，此外，还应当理解的是，当在本说明书中使用术语“包含”和/或“包括”时，其指明存在特征、步骤、操作、器件、组件和/或它们的组合。

需要说明的是，本申请的说明书和权利要求书及上述附图中的术语“第一”、“第二”等是用于区别类似的对象，而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应该理解这样使用的术语在适当情况下可以互换，以便这里描述的本申请的实施方式例如能够以除了在这里图示或描述的那些以外的顺序实施。

此外，术语“包括”和“具有”以及他们的任何变形，意图在于覆盖不排他的包含，例如，包含了一系列步骤或单元的过程、方法、系统、产品或设备不必限于清楚地列出的那些步骤或单元，而是可包括没有清楚地列出的或对于这些过程、方法、产品或设备固有的其它步骤或单元。

为了便于描述，在这里可以使用空间相对术语，如“在……之上”、“在……上方”、“在……上表面”、“上面的”等，用来描述如在图中所示的一个器件或特征与其他器件或特征的空间位置关系。应当理解的是，空间相对术语旨在包含除了器件在图中所描述的方位之外的在使用或操作中的不同方位。

例如，如果附图中的器件被倒置，则描述为“在其他器件或构造上方”或“在其他器件或构造之上”的器件之后将被定位为“在其他器件或构造下方”或“在其他器件或构造之下”。因而，示例性术语“在……上方”可以包括“在……上方”和“在……下方”两种方位。该器件也可以其他不同方式定位(旋转90度或处于其他方位)，并且对这里所使用的空间相对描述作出相应解释。

在上面详细的说明中，参考了附图，附图形成本文的一部分。在附图中，类似的符号典型地确定类似的部件，除非上下文以其他方式指明。在详细的说明书、附图及权利要求书中所描述的图示说明的实施方案不意味是限制性的。在不脱离本文所呈现的主题的精神或范围下，其他实施方案可以被使用，并且可以作其他改变。将容易理解的是，如本文一般所描述的及附图所图示说明的，本公开的方面可以在广泛种类的不同的配置中被编排、代替、组合、分开以及设计，所有这些在本文被明确地考虑。

根据本申请所描述的特定实施方案的本公开将不受限制，其被意图作为各种方面的图示说明。如对本领域技术人员将是清晰的那样，在不脱离本公开的精神和范围下可以作许多修改和变更。在本公开范围内，功能上等同的方法和设备，除了本文所列举的那些之外，从前述说明书来看对本领域技术人员将是清晰的。这样的修改和变更意图落入所附权利要求书的范围内。本公开将仅由所附权利要求书的条款以及这样的权利要求所给予权利的等同物的全部范围限制。将理解的是，本公开不限于特定的方法、试剂、化合物、组成或生物系统，其当然可以变化。也将理解的是，本文所使用的术语仅是出于描述特定的实施方案的目的，而并非意图是限制性的。

以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，对于本领域的技术人员来说，本实用新型可以有各种更改和变化。凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (11)

1.一种锅盖组件，其特征在于，包括：

面盖(20)，所述面盖(20)内部具有安装空间(21)；

内锅盖(30)，所述内锅盖(30)安装在所述安装空间(21)中；

衬圈(40)，所述衬圈(40)安装在所述内锅盖(30)与面盖(20)之间，所述衬圈(40)和/或所述面盖(20)上设置有导流结构，所述导流结构形成导通所述安装空间(21)与外界的导流通道(41)。

2.根据权利要求1所述的锅盖组件，其特征在于，所述导流结构包括第一导流面(42)，所述第一导流面(42)设置在所述衬圈(40)的外周，并沿所述衬圈(40)的周向设置，所述第一导流面(42)自所述衬圈(40)的内部向所述衬圈(40)的外部逐渐向下倾斜。

3.根据权利要求1所述的锅盖组件，其特征在于，所述衬圈(40)包括主体(401)及设置在所述主体(401)侧壁底端的环形凸台(402)，所述导流结构包括导流凹槽(43)，所述导流凹槽(43)设置在所述环形凸台(402)的侧壁上，并在所述环形凸台(402)的上端面(45)上形成导流口。

4.根据权利要求1所述的锅盖组件，其特征在于，所述衬圈(40)包括主体(401)及设置在所述主体(401)侧壁底端的环形凸台(402)，所述环形凸台(402)包括本体部和导流部，所述导流部位于所述本体部的外周，所述导流结构包括第一导流面(42)和导流凹槽(43)，所述导流部的上表面构成所述第一导流面，所述第一导流面(42)自所述衬圈(40)的内部向所述衬圈(40)的外部逐渐向下倾斜，所述导流凹槽(43)设置在所述导流部的侧壁上，并在所述第一导流面(42)上形成导流口。

5.根据权利要求3或4所述的锅盖组件，其特征在于，所述导流凹槽(43)为多个，多个所述导流凹槽(43)沿所述环形凸台(402)的周向间隔设置。

6.根据权利要求3或4所述的锅盖组件，其特征在于，所述导流凹槽(43)的底部设置有第二导流面(44)，所述第二导流面(44)自所述衬圈(40)的内部向所述衬圈(40)的外部逐渐向下倾斜。

7.根据权利要求3或4所述的锅盖组件，其特征在于，所述面盖(20)的内端面上设置有让位槽，所述让位槽用于对所述衬圈(40)的周向进行让位，所述让位槽的上端面部分地遮挡所述导流口。

8.根据权利要求1所述的锅盖组件，其特征在于，所述衬圈(40)包括主体(401)及设置在所述主体(401)侧壁底端的环形凸台(402)，所述导流结构包括导流通孔(50)，所述导流通孔(50)设置在所述环形凸台(402)的上端面(45)上，所述导流通道(41)形成在所述导流通孔(50)中。

9.根据权利要求8所述的锅盖组件，其特征在于，所述导流通孔(50)的上部设置有导向槽，所述导向槽由上至下逐渐收缩地延伸。

10.根据权利要求8所述的锅盖组件，其特征在于，所述导流结构包括环形凹槽(51)，所述环形凹槽(51)设置在所述环形凸台(402)的上端面上，并沿所述环形凸台(402)的周向延伸，所述导流通孔(50)设置在所述环形凹槽(51)的底部，并与所述导流通孔(50)相连通。

11.一种烹饪器具，包括锅盖组件，其特征在于，所述锅盖组件为权利要求1至10中任一项所述的锅盖组件。

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