CN211078712U - 一种氧化还原反应集成系统 - Google Patents

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Abstract

本实用新型公开了一种氧化还原反应集成系统,包括氧化反应池和还原反应池,所述氧化反应池内腔左侧的顶部连通有进料管,所述还原反应池内腔顶部的左侧固定连接有搅拌箱,所述氧化反应池和搅拌箱内腔顶部的左侧均连通有第一加料管,所述还原反应池左侧表面的顶部固定连接有水泵,所述通管远离水泵的一侧与氧化反应池内腔右侧的底部连通,所述水泵的出水端贯穿还原反应池并与搅拌箱内腔左侧的顶部连通。本实用新型通过设置氧化反应池、通管、漏斗、搅拌箱、还原反应池、出料管、水泵、螺纹杆、推板和第二加料管,解决了无法将还原产生的电镀污泥快速排出,使得电镀污泥残留,降低了氧化还原反应集成系统工作效率的问题。

Description

一种氧化还原反应集成系统
技术领域
本实用新型涉及废水处理技术领域,具体为一种氧化还原反应集成系统。
背景技术
电镀生产排出的废水或废液的处理,电镀工厂排出的废水和废液中含有大量金属离子如:铬、镐、镍,含氰,含酸,含碱,一般常含有有机添加剂。金属离子有的以简单的阳离子形式存在,有的则以酸根阴离于形式存在,有的以复杂的络合离子存在,为了防止电镀废水污染环境,会使用到氧化还原反应集成系统对电镀废水进行处理,使其达到排放标准,现有的氧化还原反应集成系统无法将还原产生的电镀污泥快速排出,使得电镀污泥残留,降低了氧化还原反应集成系统的工作效率。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种氧化还原反应集成系统,具备可将电镀污泥快速排出的优点,解决了电镀污泥残留的问题。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种氧化还原反应集成系统,包括氧化反应池和还原反应池,所述氧化反应池内腔左侧的顶部连通有进料管,所述还原反应池内腔顶部的左侧固定连接有搅拌箱,所述氧化反应池和搅拌箱内腔顶部的左侧均连通有第一加料管,所述还原反应池左侧表面的顶部固定连接有水泵,所述水泵的进水端连通有通管,所述通管远离水泵的一侧与氧化反应池内腔右侧的底部连通,所述水泵的出水端贯穿还原反应池并与搅拌箱内腔左侧的顶部连通,所述氧化反应池和还原反应池顶部表面的中心处均固定连接有搅拌电机,所述搅拌电机的输出端固定连接有转杆,左侧转杆的底部贯穿至氧化反应池内腔的底部,右侧转杆的底部贯穿至搅拌箱内腔的底部,所述转杆表面的两侧均固定连接有搅拌杆,所述搅拌箱内腔的底部固定连接有漏斗,所述漏斗内腔的底部连通有出料管,所述出料管的底部贯穿至搅拌箱的底部,所述还原反应池内腔顶部后侧的中心处贯穿设置有第二加料管,所述还原反应池背表面底部的中心处固定连接有推进电机,所述推进电机的输出端固定连接有螺纹杆,所述螺纹杆的前侧贯穿至还原反应池内腔底部的前侧,所述螺纹杆表面的后侧套设有推板,所述还原反应池右侧的底部镶嵌有筛网,所述还原反应池右侧的中心处开设有凹槽,所述还原反应池右侧表面的中心处固定连接有清洁电机,所述清洁电机的输出端贯穿至凹槽内腔的左侧,所述清洁电机输出端的表面套设有主动齿轮,所述凹槽内腔底部的两侧均固定连接有第一轴承座,两个第一轴承座相对的一侧通过第一轴承活动连接有活动杆,所述活动杆的左侧从右至左依次贯穿凹槽和还原反应池并延伸至还原反应池内腔的右侧,所述活动杆的表面且位于凹槽的内腔套设有从动齿轮,所述从动齿轮与主动齿轮啮合,所述活动杆表面的顶部和底部且位于还原反应池的内腔固定连接有清洁杆。
优选的,所述转杆的表面与氧化反应池、还原反应池和搅拌箱的连接处均活动连接,所述搅拌杆的形状不一。
优选的,所述氧化反应池内腔的底部固定连接有导流块,所述螺纹杆的表面与推板的连接处螺纹连接。
优选的,所述出料管外表面的中心处固定安装有电磁阀,所述螺纹杆的表面与还原反应池的连接处活动连接。
优选的,所述还原反应池内腔后侧的底部固定连接有限位板,所述第二加料管的底部贯穿至限位板的底部,所述推板的表面与限位板底部的表面、还原反应池的内壁和搅拌箱的外表面均滑动连接。
优选的,所述凹槽内腔左侧的顶部固定连接有第二轴承座,第二轴承座的内腔通过第二轴承与清洁电机输出端的表面活动连接。
优选的,所述主动齿轮的内圈与清洁电机输出端的表面过盈配合,所述从动齿轮的内圈与活动杆的表面过盈配合。
优选的,所述还原反应池正表面的底部活动连接有活动门,所述从动齿轮的表面与筛网的连接处活动连接,所述螺纹杆表面的后侧和活动杆表面的左侧固定套设有密封圈。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果如下:
1、本实用新型通过设置氧化反应池、通管、漏斗、搅拌箱、还原反应池、出料管、水泵、螺纹杆、推板和第二加料管,解决了无法将还原产生的电镀污泥快速排出,使得电镀污泥残留,降低了氧化还原反应集成系统工作效率的问题。
2、本实用新型通过设置形状不一的搅拌杆,能够有效的增加搅拌的效率,使得氧化剂或还原剂与电镀污水充分混合,通过设置导流块,能够防止氧化后的电镀污水滞留在氧化反应池内,通过设置漏斗,能够起到收集聚合的作用,通过设置第一轴承座,能够对从动齿轮起到稳定支撑的作用,通过设置第二轴承座,能够对清洁电机的输出端起到稳定支撑的作用,通过设置清洁杆,能够对筛网的左侧进行清理,防止电镀污泥堵塞筛网。
附图说明
图1为本实用新型结构示意图;
图2为本实用新型还原反应池结构右视剖视图;
图3为图1中A局部结构放大图。
图中:1氧化反应池、2通管、3漏斗、4搅拌箱、5还原反应池、6出料管、7清洁杆、8筛网、9清洁电机、10主动齿轮、11凹槽、12水泵、13转杆、14搅拌电机、15第一加料管、16进料管、17搅拌杆、18螺纹杆、19推板、20推进电机、21第二加料管、22第一轴承座、23从动齿轮、24活动杆。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
请参阅图1-3,一种氧化还原反应集成系统,包括氧化反应池1和还原反应池5,氧化反应池1内腔的底部固定连接有导流块,通过设置导流块,能够防止氧化后的电镀污水滞留在氧化反应池1内,氧化反应池1内腔左侧的顶部连通有进料管16,还原反应池5内腔顶部的左侧固定连接有搅拌箱4,氧化反应池1和搅拌箱4内腔顶部的左侧均连通有第一加料管15,还原反应池5左侧表面的顶部固定连接有水泵12,水泵12的进水端连通有通管2,通管2远离水泵12的一侧与氧化反应池1内腔右侧的底部连通,水泵12的出水端贯穿还原反应池5并与搅拌箱4内腔左侧的顶部连通,氧化反应池1和还原反应池5顶部表面的中心处均固定连接有搅拌电机14,搅拌电机14的输出端固定连接有转杆13,左侧转杆13的底部贯穿至氧化反应池1内腔的底部,右侧转杆13的底部贯穿至搅拌箱4内腔的底部,转杆13的表面与氧化反应池1、还原反应池5和搅拌箱4的连接处均活动连接,转杆13表面的两侧均固定连接有搅拌杆17,搅拌杆17的形状不一,通过设置形状不一的搅拌杆17,能够有效的增加搅拌的效率,使得氧化剂或还原剂与电镀污水充分混合,搅拌箱4内腔的底部固定连接有漏斗3,通过设置漏斗3,能够起到收集聚合的作用,漏斗3内腔的底部连通有出料管6,出料管6的底部贯穿至搅拌箱4的底部,出料管6外表面的中心处固定安装有电磁阀,还原反应池5内腔顶部后侧的中心处贯穿设置有第二加料管21,还原反应池5背表面底部的中心处固定连接有推进电机20,推进电机20的输出端固定连接有螺纹杆18,螺纹杆18的前侧贯穿至还原反应池5内腔底部的前侧,螺纹杆18的表面与还原反应池5的连接处活动连接,螺纹杆18表面的后侧套设有推板19,螺纹杆18的表面与推板19的连接处螺纹连接,还原反应池5内腔后侧的底部固定连接有限位板,第二加料管21的底部贯穿至限位板的底部,推板19的表面与限位板底部的表面、还原反应池5的内壁和搅拌箱4的外表面均滑动连接,还原反应池5右侧的底部镶嵌有筛网8,还原反应池5右侧的中心处开设有凹槽11,还原反应池5右侧表面的中心处固定连接有清洁电机9,清洁电机9的输出端贯穿至凹槽11内腔的左侧,凹槽11内腔左侧的顶部固定连接有第二轴承座,第二轴承座的内腔通过第二轴承与清洁电机9输出端的表面活动连接,通过设置第二轴承座,能够对清洁电机9的输出端起到稳定支撑的作用,清洁电机9输出端的表面套设有主动齿轮10,主动齿轮10的内圈与清洁电机9输出端的表面过盈配合,凹槽11内腔底部的两侧均固定连接有第一轴承座22,通过设置第一轴承座22,能够对从动齿轮23起到稳定支撑的作用,两个第一轴承座22相对的一侧通过第一轴承活动连接有活动杆24,螺纹杆18表面的后侧和活动杆24表面的左侧固定套设有密封圈,活动杆24的左侧从右至左依次贯穿凹槽11和还原反应池5并延伸至还原反应池5内腔的右侧,活动杆24的表面且位于凹槽11的内腔套设有从动齿轮23,从动齿轮23的内圈与活动杆24的表面过盈配合,从动齿轮23的表面与筛网8的连接处活动连接,从动齿轮23与主动齿轮10啮合,活动杆24表面的顶部和底部且位于还原反应池5的内腔固定连接有清洁杆7,通过设置清洁杆7,能够对筛网8的左侧进行清理,防止电镀污泥堵塞筛网8,还原反应池5正表面的底部活动连接有活动门,通过设置氧化反应池1、通管2、漏斗3、搅拌箱4、还原反应池5、出料管6、水泵12、螺纹杆18、推板19和第二加料管21,解决了无法将还原产生的电镀污泥快速排出,使得电镀污泥残留,降低了氧化还原反应集成系统工作效率的问题。
使用时,通过外设控制器控制左侧搅拌电机14工作,将离心处理后的电镀污水通过进料管16进入氧化反应池1内,由左侧第一加料管15加入适量氧化剂,由右侧第一加料管15加入适量还原剂,通过左侧搅拌电机14工作,带动转杆13阻挡,使得搅拌杆17转动,实现搅拌,通过外设控制器控制水泵12工作,使得氧化反应池1内氧化反应后的电镀污水通过通管2进入搅拌箱4内,通过外设控制器控制右侧搅拌电机14工作,使得搅拌杆17转动,实现搅拌,使得电镀污水不断析出电镀污泥,还原反应完成后,通过外设控制器分别控制电磁阀打开和清洁电机9工作,还原后的混合物通过出料管6下落至还原反应池5内腔的底部,混合物通过筛网8的筛选,净化后的水分流出,同时通过清洁电机9工作,带动主动齿轮10转动,使得从动齿轮23转动,使得活动杆24转动,带动清洁杆7转动,对筛网8的左侧不断清理,防止污泥堵塞筛网8,待筛网8不再流出水时,由第二加料管21加入适量固化剂,固化剂与电镀污泥结合,由于电镀污泥中含水量较大,使得电镀污泥形成絮状物质,实现初步固化,打开还原反应池5上的活动门,通过外设控制器控制推进电机20工作,带动螺纹杆18转动,使得推板19向前移动,推动初步固化后的电镀污泥向前移动,最终通过活动门排出,在此过程中,螺纹杆18不断转动,起到一定的搅拌混合的作用,使得固化剂与电镀污泥的反应更均匀。
本申请文件中使用到各类部件均为标准件,可以从市场上购买,各个零件的具体连接方式均采用现有技术中成熟的螺栓、铆钉和焊接等常规手段,机械、零件和电器设备均采用现有技术中的常规型号,该文中出现的设备采用380V电压供电,电路连接采用现有技术中常规的连接方式,在此不再作出具体叙述。
综上所述:该氧化还原反应集成系统,通过设置氧化反应池1、通管2、漏斗3、搅拌箱4、还原反应池5、出料管6、水泵12、螺纹杆18、推板19和第二加料管21,解决了无法将还原产生的电镀污泥快速排出,使得电镀污泥残留,降低了氧化还原反应集成系统工作效率的问题。
尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例,对于本领域的普通技术人员而言,可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型,本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。

Claims (8)

1.一种氧化还原反应集成系统,包括氧化反应池(1)和还原反应池(5),其特征在于:所述氧化反应池(1)内腔左侧的顶部连通有进料管(16),所述还原反应池(5)内腔顶部的左侧固定连接有搅拌箱(4),所述氧化反应池(1)和搅拌箱(4)内腔顶部的左侧均连通有第一加料管(15),所述还原反应池(5)左侧表面的顶部固定连接有水泵(12),所述水泵(12)的进水端连通有通管(2),所述通管(2)远离水泵(12)的一侧与氧化反应池(1)内腔右侧的底部连通,所述水泵(12)的出水端贯穿还原反应池(5)并与搅拌箱(4)内腔左侧的顶部连通,所述氧化反应池(1)和还原反应池(5)顶部表面的中心处均固定连接有搅拌电机(14),所述搅拌电机(14)的输出端固定连接有转杆(13),左侧转杆(13)的底部贯穿至氧化反应池(1)内腔的底部,右侧转杆(13)的底部贯穿至搅拌箱(4)内腔的底部,所述转杆(13)表面的两侧均固定连接有搅拌杆(17),所述搅拌箱(4)内腔的底部固定连接有漏斗(3),所述漏斗(3)内腔的底部连通有出料管(6),所述出料管(6)的底部贯穿至搅拌箱(4)的底部,所述还原反应池(5)内腔顶部后侧的中心处贯穿设置有第二加料管(21),所述还原反应池(5)背表面底部的中心处固定连接有推进电机(20),所述推进电机(20)的输出端固定连接有螺纹杆(18),所述螺纹杆(18)的前侧贯穿至还原反应池(5)内腔底部的前侧,所述螺纹杆(18)表面的后侧套设有推板(19),所述还原反应池(5)右侧的底部镶嵌有筛网(8),所述还原反应池(5)右侧的中心处开设有凹槽(11),所述还原反应池(5)右侧表面的中心处固定连接有清洁电机(9),所述清洁电机(9)的输出端贯穿至凹槽(11)内腔的左侧,所述清洁电机(9)输出端的表面套设有主动齿轮(10),所述凹槽(11)内腔底部的两侧均固定连接有第一轴承座(22),两个第一轴承座(22)相对的一侧通过第一轴承活动连接有活动杆(24),所述活动杆(24)的左侧从右至左依次贯穿凹槽(11)和还原反应池(5)并延伸至还原反应池(5)内腔的右侧,所述活动杆(24)的表面且位于凹槽(11)的内腔套设有从动齿轮(23),所述从动齿轮(23)与主动齿轮(10)啮合,所述活动杆(24)表面的顶部和底部且位于还原反应池(5)的内腔固定连接有清洁杆(7)。
2.根据权利要求1所述的一种氧化还原反应集成系统,其特征在于:所述转杆(13)的表面与氧化反应池(1)、还原反应池(5)和搅拌箱(4)的连接处均活动连接,所述搅拌杆(17)的形状不一。
3.根据权利要求1所述的一种氧化还原反应集成系统,其特征在于:所述氧化反应池(1)内腔的底部固定连接有导流块,所述螺纹杆(18)的表面与推板(19)的连接处螺纹连接。
4.根据权利要求1所述的一种氧化还原反应集成系统,其特征在于:所述出料管(6)外表面的中心处固定安装有电磁阀,所述螺纹杆(18)的表面与还原反应池(5)的连接处活动连接。
5.根据权利要求1所述的一种氧化还原反应集成系统,其特征在于:所述还原反应池(5)内腔后侧的底部固定连接有限位板,所述第二加料管(21)的底部贯穿至限位板的底部,所述推板(19)的表面与限位板底部的表面、还原反应池(5)的内壁和搅拌箱(4)的外表面均滑动连接。
6.根据权利要求1所述的一种氧化还原反应集成系统,其特征在于:所述凹槽(11)内腔左侧的顶部固定连接有第二轴承座,第二轴承座的内腔通过第二轴承与清洁电机(9)输出端的表面活动连接。
7.根据权利要求1所述的一种氧化还原反应集成系统,其特征在于:所述主动齿轮(10)的内圈与清洁电机(9)输出端的表面过盈配合,所述从动齿轮(23)的内圈与活动杆(24)的表面过盈配合。
8.根据权利要求1所述的一种氧化还原反应集成系统,其特征在于:所述还原反应池(5)正表面的底部活动连接有活动门,所述从动齿轮(23)的表面与筛网(8)的连接处活动连接,所述螺纹杆(18)表面的后侧和活动杆(24)表面的左侧固定套设有密封圈。
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