CN211073204U - 防溅装置与晶圆处理设备 - Google Patents

Abstract

该实用新型涉及一种防溅装置与晶圆处理设备，其中所述防溅装置包括：闭合挡具，包括底板和设置在底板上方的侧壁，所述侧壁与所述底板相互连接，围成一底面闭合的空间，用于放置所述晶圆放置台，防止喷淋至所述晶圆放置台上表面的喷淋液溅出；清洗喷头，朝向所述闭合挡具内壁设置，用于出射清洗液清洗所述闭合挡具内壁附着的颗粒物杂质。本实用新型的防溅装置与晶圆处理设备具有闭合挡具，在有喷淋液喷淋晶圆放置台时，将所述晶圆放置台放置于所述闭合挡具所围成的空间内，可以很好的防止所述喷淋液溅射到所述闭合挡具外部，减小喷淋液结晶的形成，提高晶圆生产的良率。

Description

防溅装置与晶圆处理设备

技术领域

本实用新型涉及晶圆生产制造加工领域，具体涉及一种防溅装置与晶圆处理设备。

背景技术

在晶圆生产的过程中，经常需要对进行喷淋操作，如喷淋清洗液，或喷淋研磨液。在喷淋时，需要设置围挡，以防止喷淋液四处溅射。

例如，在对晶圆进行研磨的过程中，需要喷淋研磨液。但在研磨的过程中，研磨废液会被溅射到研磨机台的多个部位，如果不及时的清理会形成结晶。结晶后的固体颗粒将会附着在所述研磨机台内部，影响晶圆的生产，因此，现有技术中需要定期对所述研磨机台进行保养维护。然而，清理固体颗粒的过程中，尺寸较小的固体结晶颗粒不容易被清理干净，在研磨机台正常运行的过程中会随着研磨机台的振动，漂浮并掉落在研磨垫上，引起晶圆划伤，从而影响晶圆生产的良率。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种防溅装置与晶圆处理设备，能够提高晶圆生产的良率。

为解决上述技术问题，以下提供了一种防溅装置，包括：闭合挡具，包括底板和设置在底板上方的侧壁，所述侧壁与所述底板相互连接，围成一底面闭合的空间，用于放置所述晶圆放置台，防止喷淋至所述晶圆放置台上表面的喷淋液溅出；清洗喷头，朝向所述闭合挡具内壁设置，用于出射清洗液清洗所述闭合挡具内壁附着的颗粒物杂质。

可选的，所述闭合挡具的底板设置有通孔，用于安装晶圆放置台，且围绕所述通孔一周设置有第二挡板，与所述侧壁平行。

可选的，还包括第一排液口，设置于所述底板表面，用于排出所述闭合挡具的底板的液体。

可选的，还包括：过滤器，安装至所述第一排液口，用于滤除自所述第一排液口流出的液体中掺杂的颗粒物杂质；排液管路，第一端连通至所述第一排液口，第二端连通至外界，用于使自所述第一排液口流出的液体流向预设位置。

可选的，所述排液管路还包括一第三端，所述第三端连通至所述闭合挡具外，用于收集自所述闭合挡具内溅出的喷淋液。

可选的，还包括：气缸，用于安装所述闭合挡具，以带动所述闭合挡具伸缩，且所述气缸的数目至少为两个，在所述气缸竖直放置，且所述闭合挡具安装至所述气缸时，所述底板呈水平状态。

可选的，还包括：清洗液供液管路，用于连通至所述清洗喷头，给所述清洗喷头提供清洗液。

可选的，所述清洗液供液管路包括：环状清洗液供液子管路，设置于所述闭合挡具侧壁的内侧，且所述环状供液子管路与所述闭合挡具侧壁的内侧的距离小于2cm；所述清洗喷头的数目为多个，均设置在所述环状供液子管路上，形成清洗环。

可选的，所述清洗喷头为扇形喷嘴，喷淋出的清洗液呈扇形，且扇形的角度范围为25°至60°。

为解决上述技术问题，以下还提供了一种晶圆处理设备，包括所述防溅装置。

本实用新型的防溅装置与晶圆处理设备具有闭合挡具，在有喷淋液喷淋晶圆放置台时，将所述晶圆放置台放置于所述闭合挡具所围成的空间内，可以很好的防止所述喷淋液溅射到所述闭合挡具外部，减小喷淋液结晶的形成，提高晶圆生产的良率。

附图说明

图1为本实用新型的一种具体实施方式中的防溅装置的结构示意图。

图2为本实用新型的一种具体实施方式中的防溅装置的俯视示意图。

具体实施方式

以下结合附图和具体实施方式对本实用新型提出的一种防溅装置与晶圆处理设备作进一步详细说明。

请参阅图1、2，其中图1为本实用新型的一种具体实施方式中的防溅装置的结构示意图，图2为本实用新型的一种具体实施方式中的防溅装置的俯视示意图。

在该具体实施方式中，提供了一种防溅装置，包括：闭合挡具101，包括底板108和设置在底板108上方的侧壁115，所述侧壁115与所述底板108相互连接，围成一底面闭合的空间，用于放置所述晶圆放置台102，防止喷淋至所述晶圆放置台102上表面的喷淋液溅出；清洗喷头103，朝向所述闭合挡具101内壁设置，用于出射清洗液清洗所述闭合挡具101内壁附着的颗粒物杂质107。

在该具体实施方式中的防溅装置具有闭合挡具101，在有喷淋液喷淋晶圆放置台102时，将所述晶圆放置台102放置于所述闭合挡具101所围成的空间内，可以很好的防止所述喷淋液溅射到所述闭合挡具101外部，减小喷淋液结晶的形成，提高晶圆生产的良率。

在一种具体实施方式中，闭合挡具101的侧壁115和底板108呈90°夹角，实际上，也可根据需要设置所述侧壁115和底板108的夹角，以锐角为佳。在所述侧壁115和底板108的夹角为锐角时，所述晶圆放置台102也能够放入到所述闭合挡具101所围成的空间内。

在一种具体实施方式中，所述闭合挡具101的尺寸足够，晶圆放置台102在水平放置到所述闭合挡具101所围成的空间内时，在水平面上的投影被所述底板108在水平面上的投影完全包围。

在一种具体实施方式中，所述闭合挡具101的底板108设置有通孔119，用于安装晶圆放置台102，且围绕所述通孔119一周设置有第二挡板116，与所述侧壁115平行。

在一种具体实施方式中，若所述晶圆放置台102为研磨台，或其他具有支撑柱117的机台，则可能需要在所述底板108设置通孔119供所述支撑柱117穿过，以便所述晶圆放置台102能够在支撑柱117的作用下发生旋转或上下移动。

这样，通孔119就很有必要。在一种具体实施方式中，所述通孔119的尺寸与所述支撑柱117的尺寸相一致，比所述支撑柱117的尺寸略大。

请看图1，图1中通孔119的尺寸就大于所述支撑柱117的尺寸。在一种具体实施方式中，当通孔119是圆形，支撑柱117的底面也是圆形时，所述通孔119的半径比所述支撑柱117的底面的半径大2至4cm，以方便支撑柱117对晶圆放置台102的其他操作。

在图1所示的具体实施方式中，所述第二挡板116设置在所述通孔119的边缘位置，所述第二挡板围住的面积即为所述通孔119的面积。

在一种具体实施方式中，所述第二挡板116也可以根据设置在与所述通孔119的边缘有一定距离的位置。

在一种具体实施方式中，所述第二挡板116与所述底板108是一体化连接的。实际上，所述第二挡板116也可以是与所述底板108粘接或焊接的。可根据需要选择所需的连接方法。

在一种具体实施方式中，所述第二挡板116也可以与所述底板108之间呈其他角度，如60°、80°等，而并不一定与所述侧壁115平行。实际上所述第二挡板116可向所述侧壁115倾斜，也可向背离所述侧壁115的方向倾斜，角度范围为从45°到135°均可。采用60°至120°的角度会使得所述第二挡板116对喷淋液的遮挡作用更强。

在一种具体实施方式中，所述闭合挡具101和第二挡板116均由有机塑料制成，具有一定的强度和耐性。实际上，也可根据需要设置所述闭合挡具101和第二挡板116的制备材料。如设置铜、铝等金属。

在一种具体实施方式中，当所述晶圆放置台102放置到所述闭合挡具101所围成的范围内时，所述第二挡板116的顶端与所述晶圆放置台102的距离应当有10cm以上，以便支撑柱117对所述晶圆放置台102进行其他的操作。

在一种具体实施方式中，还包括第一排液口118，设置于所述底板108表面，用于排出所述闭合挡具101的底板108的液体。在该具体实施方式中，在所述闭合挡具101水平放置时，所述底板108与水平面呈一夹角，使所述底板108倾斜，便于底板108的液体汇集到一处，以便于液体排出。在该具体实施方式中，所述第一排液口118设置在所述底板108的液体汇集点。

在该具体实施方式中，所述底板108的整个平面与水平面呈5°至15°的夹角。在所述底板108设置有通孔119时，所述底板108从靠近通孔119的一侧，到远离通孔119的一侧，水平高度逐渐降低，因此在所述底板108远离通孔119的一侧设置所述第一排液口118，便于液体流入。

在一种具体实施方式中，所述底板108表面设置有至少两个第一排液口118，均匀分布在所述底板108的表面。

在一种具体实施方式中，还包括：过滤器109，安装至所述第一排液口118，用于滤除自所述第一排液口118流出的液体中掺杂的颗粒物杂质107，以便进行废液的处理或者再利用。在该具体实施方式中，还包括排液管路105，所述排液管路105的第一端114连通至所述第一排液口118，第二端113连通至外界，用于使自所述第一排液口118流出的液体流向预设位置。在具有多个第一排液口118时，过滤器109的数目与所述第一排液口118的数目一致，且每一过滤器109对应设置到一第一排液口118，用于对自所述第一排液口118流出的液体中掺杂的颗粒物杂质107进行滤除。此时，所述排液管路105也具有很多的第一端114。

在一种具体实施方式中，所述排液管路105由金属或有机塑料制成。且制成所述排液管路105的金属或有机塑料具有一定的耐性，能够耐酸碱腐蚀、高温。

由于喷淋液还是有一定的可能溅出所述闭合挡具101外，因此在该具体实施方式中，所述排液管路105还包括一第三端112，所述第三端112连通至所述闭合挡具101外，用于收集自所述闭合挡具101内溅出的喷淋液。

在该具体实施方式中，还包括一承接板110，设置于所述闭合挡具101下方，用于承接自所述闭合挡具101内溅出的喷淋液。在该具体实施方式中，所述承接板110表面设置有第二排液口111，所述第三端112连通至所述第二排液口111，以排出所述承接板110表面的液体。

在一种具体实施方式中，所述承接板110的上表面也与水平面呈一定夹角，以便所述承接板110表面的液体汇聚，便于排出。在一种具体实施方式中，所述承接板110的上表面与水平面之间的夹角为5°到15°，所述第二排液口111设置在所述液体汇聚处，即水平高度最低的一点处。

在一种具体实施方式中，还包括：气缸106，用于安装所述闭合挡具101，以带动所述闭合挡具101伸缩，且所述气缸106的数目至少为两个，在所述气缸106竖直放置，且所述闭合挡具101安装至所述气缸106时，所述底板108呈水平状态。

设置所述气缸106是为了便于其他设备对所述晶圆放置台102上放置的晶圆的操作。例如，所述晶圆放置台102为研磨台时，所述研磨头和研磨修整器都需要与所述研磨台接触。这样，在具体的使用过程中，需要将所述研磨头和研磨修整器放入所述闭合挡具101所围成的空间，或将所述研磨头和研磨修整器拿出所述闭合挡具101所围成的空间。

这就需要所述闭合挡具101能够进行伸缩，以便所述研磨头和研磨修整器的放入和拿出了。

在其他的具体实施方式中，也可以设置所述气缸106的数目为3个以上。气缸106的数目越多，所述气缸106对所述闭合挡具101的驱动越稳。且所述气缸106均匀的分布于所述闭合挡具101的外侧，与所述闭合挡具101的侧壁115的外侧相连接。

在一种具体实施方式中，还包括：清洗液供液管路，用于连通至所述清洗喷头103，给所述清洗喷头103提供清洗液。在一种具体实施方式中，所述清洗液包括去离子水。实际上，可以根据需要设置所述清洗液的种类，只要能实现一定的清洗效果即可。

在一种具体实施方式中，所述清洗液供液管路包括：环状清洗液供液子管路104，设置于所述闭合挡具101侧壁115的内侧，且所述环状供液子管路104与所述闭合挡具101侧壁115的内侧的距离小于2cm；所述清洗喷头103的数目为多个，均设置在所述环状供液子管路104上，形成清洗环。

设置环状清洗液供液子管路104便于整个清洗环的安装。而将所述环状供液子管路104与所述闭合挡具101侧壁115的内侧的距离设置成小于2cm，则可以保证自所述清洗喷头103喷出的液体对所述闭合挡具101侧壁115的内侧的清洗作用足够大，能够将所述闭合挡具101侧壁115的内侧的喷淋液清洗的足够干净。

在一种具体实施方式中，所述清洗喷头103的数目为8个到12个。事实上，可以根据需要设置所述清洗喷头103的数目。清洗喷头103的数目越多，对所述闭合挡具101内侧的清洁越彻底。但是随着清洗喷头103的数目的增加，所述防溅装置的物料成本也逐渐加大。

在一种具体实施方式中，所有清洗喷头103均匀分布于所述环状供液子管路104上，以获取均匀的清洗效果。

在一种具体实施方式中，所述清洗液供液管路也可采用一根一根的子管路连通至各个清洗液喷嘴，但这样比较难以安装。

在一种具体实施方式中，所述清洗喷头103为扇形喷嘴，喷淋出的清洗液呈扇形，且扇形的角度范围为25°至60°，从而使喷淋至所述闭合挡具101侧壁115的内侧的清洗液的作用范围足够的大，以实现更好的清洗效果。

在一种具体实施方式中，所述清洗液供液管路上设置有泵，用于将所述清洗液供液管路连通到的清洗液源中的清洗液泵入到所述清洗液供液管路内，供所述清洗喷头103喷淋。

在该具体实施方式中，还包括一控制器，所述控制器连接至所述泵，控制所述泵开始往所述清洗液供液管路内泵入清洗液，所述清洗喷头103也开始喷淋清洗液。

在一种具体实施方式中，所述清洗液供液管路上还设置有电动阀，也与所述控制器连接，用于根据所述控制器的控制，使所述清洗喷头103和所述清洗液源之间连通，使所述清洗喷头103能够开始喷淋清洗液。

该具体实施方式中还提供了一种晶圆处理设备，包括所述防溅装置。

由于该具体实施方式中的晶圆处理设备具有闭合挡具101，在有喷淋液喷淋晶圆放置台102时，将所述晶圆放置台102放置于所述闭合挡具101所围成的空间内，可以很好的防止所述喷淋液溅射到所述闭合挡具101外部，减小喷淋液结晶的形成，提高晶圆生产的良率。

在一种具体实施方式中，所述晶圆处理设备为晶圆研磨机台，所述晶圆放置台102为所述研磨台。在进行研磨时，研磨液喷淋口朝向所述研磨台喷淋研磨液，溅射的研磨液为所述闭合挡具101所挡，飞溅的范围有限，甚至无法飞出所述闭合挡具101围住的范围。

在该具体实施方式中，所述底板108设置有通孔119，用于安装研磨台，且围绕所述通孔119一周设置有第二挡板，与所述侧壁115平行。这是因为，所述晶圆放置台102为研磨台时，所述研磨台下表面设置有支撑柱117，以便对所述研磨台进行相应的操作，如控制所述研磨台旋转灯，这是就需要在所述底板108设置通孔119，供所述支撑柱117穿过，以便所述研磨台能够在支撑柱117的作用下发生旋转。

实际上，所述晶圆处理设备也可以是其他的设备，如晶圆清洗设备等。

这样，通孔119就很有必要。在一种具体实施方式中，所述通孔119的尺寸与所述支撑柱117的尺寸相一致，比所述支撑柱117的尺寸略大。

请看图1，图1中通孔119的尺寸就大于所述支撑柱117的尺寸。在一种具体实施方式中，当通孔119是圆形，支撑柱117的底面也是圆形时，所述通孔119的半径比所述支撑柱117的底面的半径大2至4cm，以方便支撑柱117对晶圆放置台102的其他操作。

在图1所示的具体实施方式中，所述第二挡板设置在所述通孔119的边缘位置，所述第二挡板围住的面积即为所述第二通孔119的面积。

在一种具体实施方式中，所述第二挡板也可以根据设置在与所述通孔119的边缘有一定距离的位置。

在一种具体实施方式中，所述第二挡板与所述底板108是一体化连接的。实际上，所述第二挡板也可以是与所述底板108粘接或焊接的。可根据需要选择所需的连接方法。

在一种具体实施方式中，所述第二挡板也可以与所述底板108之间呈其他角度，如60°、80°等，而并不一定与所述侧壁115平行。实际上所述第二挡板可向所述侧壁115倾斜，也可向背离所述侧壁115的方向倾斜，角度范围为从45°到135°均可。采用60°至120°的角度会使得所述第二挡板对喷淋液的遮挡作用更强。

在一种具体实施方式中，所述闭合挡具101和第二挡板均由有机塑料制成，具有一定的强度和耐性。实际上，也可根据需要设置所述闭合挡具101和第二挡板的制备材料。如设置铜、铝等金属。

在一种具体实施方式中，当所述晶圆放置台102放置到所述闭合挡具101所围成的范围内时，所述第二挡板的顶端与所述晶圆放置台102的距离应当有10cm以上，以便支撑柱117对所述晶圆放置台102进行其他的操作。

在一种具体实施方式中，所述清洗液供液管路上设置有泵，用于将所述清洗液供液管路连通到的清洗液源中的清洗液泵入到所述清洗液供液管路内，供所述清洗喷头103喷淋。

在该具体实施方式中，所述防溅装置还包括一控制器，所述控制器连接至所述泵，控制所述泵开始往所述清洗液供液管路内泵入清洗液，所述清洗喷头103也开始喷淋清洗液。

在一种具体实施方式中，所述清洗液供液管路上还设置有电动阀，也与所述控制器连接，用于根据所述控制器的控制，使所述清洗喷头103和所述清洗液源之间连通，使所述清洗喷头103能够开始喷淋清洗液。

在一种具体实施方式中，当所述研磨机台处于停止研磨的状态时，所述控制器控制所述清洗喷头103喷施喷淋清洗液，开始对所述闭合挡具101的清洗。

以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员，在不脱离本实用新型原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。

Claims (10)

1.一种防溅装置，其特征在于，包括：

闭合挡具，包括底板和设置在底板上方的侧壁，所述侧壁与所述底板相互连接，围成一底面闭合的空间，用于放置晶圆放置台，防止喷淋至所述晶圆放置台上表面的喷淋液溅出，所述晶圆放置台能够放置晶圆；

清洗喷头，朝向所述闭合挡具内壁设置，用于出射清洗液清洗所述闭合挡具内壁附着的颗粒物杂质。

2.根据权利要求1所述的防溅装置，其特征在于，所述闭合挡具的底板设置有通孔，用于安装晶圆放置台，且围绕所述通孔一周设置有第二挡板，与所述侧壁平行。

3.根据权利要求1所述的防溅装置，其特征在于，还包括第一排液口，设置于所述底板表面，用于排出所述闭合挡具的底板的液体。

4.根据权利要求3所述的防溅装置，其特征在于，还包括：

过滤器，安装至所述第一排液口，用于滤除自所述第一排液口流出的液体中掺杂的颗粒物杂质；

排液管路，第一端连通至所述第一排液口，第二端连通至外界，用于使自所述第一排液口流出的液体流向预设位置。

5.根据权利要求4所述的防溅装置，其特征在于，所述排液管路还包括一第三端，所述第三端连通至所述闭合挡具外，用于收集自所述闭合挡具内溅出的喷淋液。

6.根据权利要求1所述的防溅装置，其特征在于，还包括：

气缸，用于安装所述闭合挡具，以带动所述闭合挡具伸缩，且所述气缸的数目至少为两个，在所述气缸竖直放置，且所述闭合挡具安装至所述气缸时，所述底板呈水平状态。

7.根据权利要求1所述的防溅装置，其特征在于，还包括：

清洗液供液管路，用于连通至所述清洗喷头，给所述清洗喷头提供清洗液。

8.根据权利要求7所述的防溅装置，其特征在于，所述清洗液供液管路包括：环状清洗液供液子管路，设置于所述闭合挡具侧壁的内侧，且所述环状清洗液供液子管路与所述闭合挡具侧壁的内侧的距离小于2cm；

所述清洗喷头的数目为多个，均设置在所述环状清洗液供液子管路上，形成清洗环。

9.根据权利要求1所述的防溅装置，其特征在于，所述清洗喷头为扇形喷嘴，喷淋出的清洗液呈扇形，且扇形的角度范围为25°至60°。

10.一种晶圆处理设备，其特征在于，包括如权利要求1至9中任一项所述的防溅装置。

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