CN209842140U - 一种新型光纤阵列结构 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及光纤阵列技术领域,尤其涉及一种新型光纤阵列结构,用于将末端剥纤形成裸纤的光纤弯曲形成光纤阵列;包含V槽座、盖板和支撑板;所述V槽座的上顶面呈双台阶结构,在所述第一台阶面上并排形成有若干用于放置裸纤的V槽,所述第二台阶面承载所述光纤的未剥纤部分,所述支撑板垂直固定于所述第三台阶面的末端;所述光纤的未剥纤部分弯曲后抵靠于所述支撑板上。本实用新型的发明目的在于提供一种新型光纤阵列结构,采用本实用新型提供的技术方案解决了现有新型光纤阵列结构存在加工难度以及成本高的技术问题。
Description
技术领域
本实用新型涉及光纤阵列技术领域,尤其涉及一种新型光纤阵列结构。
背景技术
随着技术的进步,在光纤通讯领域中,光纤阵列得到了广泛应用,需求量在不断增长。光纤阵列是除去光纤涂层的裸露光纤部分被置于该V形槽中使光纤被精确定位,应用于平面光波导、阵列波导光栅、有源/无源阵列光纤器件、微机电系统、多通道光学模块等地方。到光电混合技术中,光纤需弯曲进行耦合对接的光纤阵列。
在光电混合技术中,实现光纤与VCSEL阵列/PD阵列进行光路耦合的方案不断出现,列如:
1、45度FA:将光纤阵列的端面研磨45度,实现光路90度全反射,与VCSEL阵列/PD阵列进行光路耦合此方案的45度光纤阵列制造工艺难度高,且良率较低,制造成本较高,不适合大批量生产;
2、90度FA:采用内圆弧石英V槽盖板的方式,将剥离涂覆层的光纤安装在V槽内,实现光纤90度拐弯,VCSEL阵列/PD阵列进行光路耦合,此方案的内圆弧石英V槽盖板加工难度高,成本高,不适合大批量生产;
3、MT头+TIR透镜:使用MT头将光纤精准定位,和TIR透镜对接,实现光路90度转角,与VCSEL阵列/PD阵列进行光路耦合,此方案结构复杂,对零件的精度要求高,TIR透镜的造价昂贵,成本高限制了此方案不适合大批量生产;
4、热熔折弯光纤阵列:预先将涂覆层剥离的光纤,使用特质设备将光纤加热至可弯曲,随后使用V槽进行定位,此方案需要特制设备,且多芯光纤难做到弯折角度一致,难度较高,成本较高,不适合大批量生产。
实用新型内容
本实用新型的发明目的在于提供一种新型光纤阵列结构,采用本实用新型提供的技术方案解决了现有新型光纤阵列结构存在加工难度以及成本高的技术问题。
为了达到上述发明目的,本实用新型提供一种新型光纤阵列结构,用于将末端剥纤形成裸纤的光纤弯曲形成光纤阵列;包含V槽座、盖板和支撑板;所述V槽座的上顶面呈双台阶结构,其台阶面自上而下依次为第一台阶面、第二台阶面和第三台阶面,在所述第一台阶面上并排形成有若干用于放置裸纤的V槽,所述第二台阶面承载所述光纤的未剥纤部分,所述支撑板垂直固定于所述第三台阶面的末端;所述盖板盖合于所述第一台阶面上,将所述裸纤压合固定于所述V槽处;所述光纤的未剥纤部分弯曲后抵靠于所述支撑板上。
优选的,所述盖板的长度延伸至所述第二台阶面的上方。
优选的,所述盖板与所述第二台阶面之间的距离不大于所述光纤的未剥纤部分的直径。
优选的,在所述盖板上朝向所述第一台阶面的端面形成有与所述V槽相匹配的槽体。
优选的,在所述光纤以及所述第三台阶面与支撑板之间形成的夹角之间填充有胶水。
优选的,所述胶水为UV光学胶水。
由上可知,应用本实用新型提供的新型光纤阵列结构可以得到以下有益效果:本实用新型V槽座为双台阶结构,避免未剥纤的光纤与V槽座接触面太多,导致弯曲半径过小影响性能;盖板的后端与为剥纤的光纤紧贴,避免光纤弯曲的应力造成剥纤口的光纤断裂;整体结构简单,制造难度低,制造难度低;性能稳定,可以广泛应用于光电混合技术的弯曲光纤阵列。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案,下面将对本实用新型实施例或现有技术的描述中所需要使用的附图作简单地介绍。显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一部分实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本实用新型实施例爆炸图;
图2为本实用新型实施例步骤一结构示意图;
图3为本实用新型实施例步骤四结构示意图;
图4为本实用新型实施例步骤五结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
为了解决上述技术问题,本实施例提供一种新型光纤阵列结构,用于将末端剥纤形成裸纤的光纤弯曲形成在光电混合技术中实现光耦合的光纤阵列。在说明本实用新型实施例之前,先介绍现有光耦合中采用的光纤阵列存在的技术问题,以帮助理解本实用新型实施例中的相关方案。
在光电混合技术中,实现光纤与VCSEL阵列/PD阵列进行光路耦合的方案有45°FA、90°FA、MT头+TIR透镜以及热熔折弯光纤阵列等多种方案,但上述方案均存在结构复杂、制作难度和成本高的技术问题。
为此,本实施例提供一种新型光纤阵列结构,应用于将末端剥纤形成裸纤的光纤弯曲形成光纤阵列。以下对新型光纤阵列结构作详细说明:
请参见图1,本实施例提供的一种新型光纤40阵列结构,包含V槽座10、盖板20和支撑板30。
其中V槽座10的上顶面呈双台阶结构,其台阶面自上而下依次为第一台阶面11、第二台阶面12和第三台阶面13。双台阶结构的V槽座10能够避免未剥纤的光纤40与玻璃V槽接触面太多,导致弯曲半径过小影响性能。
请参见图2,具体的,在第一台阶面11上并排形成有若干用于放置裸纤的V槽,并且在盖板20上朝向第一台阶面11的端面形成有与V槽相匹配的槽体,带状光纤40的裸纤夹持于第一台阶面11与盖板20之间,将裸纤压合固定于V槽处,盖板20与V槽座10压紧裸纤,使裸纤精准定位;第二台阶面12承载光纤40的未剥纤部分,盖板20与第二台阶面12之间的距离不大于光纤40的未剥纤部分的直径。
请参见图3,支撑板30则垂直固定于第三台阶面13的末端,光纤40的未剥纤部分弯曲后抵靠于支撑板30上。
其中盖板20的长度延伸至第二台阶面12的上方,盖板20的后端与为剥纤的光纤40紧贴,避免光纤40弯曲的应力造成剥纤口的光纤40断裂。
在光纤40以及第三台阶面13与支撑板30之间形成的夹角之间填充有UV光学胶水。
请参见图2-4,基于上述新型光纤40阵列结构,本实施例还提供一种新型光纤40阵列施工方法,包括以下步骤:
步骤1、将带状光纤40放入V槽座10中,将剥除涂覆层的裸光纤40紧靠V槽座10的第一台阶面11上,再放上盖板20,盖板20压紧裸光纤40外,同时盖板20延伸至第二台阶面12上的部位,与光纤40剥纤口后部分,即与未剥纤部分存在间隙;
步骤2、盖板20与第一台阶面11之间点入光学UV胶,胶水顺着V形槽填满V槽座10的间隙,随后进行UV光固化;
步骤3、完成组装点胶的光纤40阵列进行端面研磨所需的角度,如0°、8°或其他角度;
步骤4、将完成上步骤的光纤40阵列,在V槽座10后端放上支撑板30,使用光学UV胶固定形成了90°结构,随后使用治具将光纤40摁压形成弯曲弧度;
步骤5、将光学UV胶填充V槽座10、支撑板30以及光纤40的间隙,固化后完成光纤40阵列结构的加工。
在步骤1中,采用的V槽座10为双台阶结构,避免未剥纤的光纤40与V槽座10接触面太多,导致弯曲半径过小影响性能;盖板20延伸至第二台阶面12上的部位,与未剥纤部分之间存在间隙,避免光纤40在后续步骤弯曲时,应力造成剥纤口的光纤40断裂;在步骤2中,光学UV胶因双台阶的设计,不会沿着光纤40流动,避免胶水将光纤40未剥纤部分粘接,令后续光纤40弯曲过程受到影响;在步骤4中,V槽座10与支撑板30之间的采样的胶水具有固化时间短且强度高的特性。
综上所述,本实用新型实施例使用V槽座、盖板、底座和压板形成光纤阵列弯曲;V槽座、底座和压板结构简单,制造难度低,由注塑完成,成本低廉,可大批量生产;施工难度低,采用预先将光纤阵列研磨后再做后续光纤弯曲步骤,大大降低弯曲光纤阵列的研磨技术难度和效率,采用了现有光纤阵列成熟的研磨方案,低加工成本,高效率。
以上所述的实施方式,并不构成对该技术方案保护范围的限定。任何在上述实施方式的精神和原则之内所作的修改、等同替换和改进等,均应包含在该技术方案的保护范围之内。
Claims (6)
1.一种新型光纤阵列结构,用于将末端剥纤形成裸纤的光纤弯曲形成光纤阵列;其特征在于:包含V槽座、盖板和支撑板;所述V槽座的上顶面呈双台阶结构,其台阶面自上而下依次为第一台阶面、第二台阶面和第三台阶面,在所述第一台阶面上并排形成有若干用于放置裸纤的V槽,所述第二台阶面承载所述光纤的未剥纤部分,所述支撑板垂直固定于所述第三台阶面的末端;所述盖板盖合于所述第一台阶面上,将所述裸纤压合固定于所述V槽处;所述光纤的未剥纤部分弯曲后抵靠于所述支撑板上。
2.根据权利要求1所述的新型光纤阵列结构,其特征在于:所述盖板的长度延伸至所述第二台阶面的上方。
3.根据权利要求2所述的新型光纤阵列结构,其特征在于:所述盖板与所述第二台阶面之间的距离不大于所述光纤的未剥纤部分的直径。
4.根据权利要求1-3中任一项所述的新型光纤阵列结构,其特征在于:在所述盖板上朝向所述第一台阶面的端面形成有与所述V槽相匹配的槽体。
5.根据权利要求4所述的新型光纤阵列结构,其特征在于:在所述光纤以及所述第三台阶面与支撑板之间形成的夹角之间填充有胶水。
6.根据权利要求5所述的新型光纤阵列结构,其特征在于:所述胶水为UV光学胶水。
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