CN209475073U - 一种俯卧位手术防压伤头圈 - Google Patents
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Abstract
本实用新型提供一种俯卧位手术防压伤头圈，包括上层圈体和下层圈体，所述上层圈体与所述下层圈体的中部设有上下连通的T型的空腔，所述上层圈体上设有额部凹陷、颌部凹陷和插管通道，所述下层圈体上对应所述插管通道的下方设有两个U型槽。进行俯卧位手术时，将本实用新型垫于患者的头面部，患者的眼部和口部对应所述空腔，患者的前额贴于所述额部凹陷，颌部贴于所述颌部凹陷，防止患者面部三角区受压，将压力支撑平均转移至额部、颊部、颌部等部位；所述插管通道和两个U型槽便于手术中进行麻醉管理。
Description
技术领域
本实用新型涉及医疗辅助设备领域，尤其涉及一种俯卧位手术防压伤头圈。
背景技术
在临床手术中，俯卧位是外科手术中常见的体位，如颈椎后路手术中，患者需要采用俯卧位，术中患者头部伸出手术床外，面部向下托于颈后路头架的头托上，若手术时间较长，患者头部、面部受压机会增多，受压时间延长，容易引起患者的视力损伤和鼻部、口部损伤。目前临床上采用软质头托或者加垫C型海绵垫，或采用充气头垫，以便缓解患者头面部的压伤状况。但是此类头托或头垫与患者的面部不匹配，容易导致患者面部受压不均匀，加重压伤。鉴于此，需要提出一种新型头圈，实现头圈与患者头面部的有效贴合，防止或减轻患者的面部压伤状况。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种俯卧位手术防压伤头圈，有效贴合患者面部，避免俯卧位手术中患者面部三角区受压；将压力支撑分散，防止患者受压不均匀，避免或减少手术对患者面部的伤害。
为实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：
一种俯卧位手术防压伤头圈，包括上层圈体和下层圈体，所述上层圈体与所述下层圈体为一体成型结构，所述上层圈体与所述下层圈体的外围均呈矩形；所述上层圈体与所述下层圈体的中部设有上下连通的空腔，所述空腔呈T型，所述空腔包括眼部空腔和口部空腔，所述眼部空腔的宽度大于所述口部空腔的宽度；所述上层圈体上设有额部凹陷、颌部凹陷和插管通道，所述额部凹陷对应于所述眼部空腔的顶端，所述颌部凹陷对应于所述口部空腔的底端，所述插管通道对应于所述口部空腔的两侧；所述下层圈体上对应所述口部空腔的两侧设有两个U型槽，所述两个U型槽对应于所述插管通道的下方。
优选地，所述上层圈体与所述下层圈体的内部为凝胶材质。
优选地，所述上层圈体的表面为圆滑弧面。
优选地，所述上层圈体的表面还覆盖一层一次性敷料膜。
优选地，所述一次性敷料膜的厚度为0.5-2.0mm。
优选地，所述额部凹陷与所述颌部凹陷均为圆弧形凹陷。
优选地，所述额部凹陷的深度小于所述颌部凹陷的深度。
优选地，所述两个U型槽的延伸方向平行于所述插管通道的延伸方向。
优选地，所述两个U型槽的宽度大于所述插管通道的宽度。
优选地，所述两个U型槽的深度小于所述插管通道的深度。
与现有技术相比，本实用新型提供一种俯卧位手术防压伤头圈，在对患者进行俯卧位手术时垫于患者的头面部，能够防止患者面部三角区受压，将压力支撑平均转移至额部、颊部、颌部等部位，分散支撑力，保护患者眼部及面部的血管及淋巴，防止手术时间延长导致患者面部压伤红肿；本实用新型还留出插管通道和两个U型槽，利于手术中麻醉插管的管理。
附图说明
图1为本实用新型一实施例的一种俯卧位手术防压伤头圈的结构示意图；
图2为本实用新型一实施例的一种俯卧位手术防压伤头圈的俯视结构示意图；
图3为本实用新型一实施例的一种俯卧位手术防压伤头圈的底面结构示意图；
图4为本实用新型一实施例的一种俯卧位手术防压伤头圈的左视结构示意图；
图5为本实用新型一实施例的一种俯卧位手术防压伤头圈的主视结构示意图。
具体实施方式
为使对本实用新型的目的、构造、特征、及其功能有进一步的了解，兹配合实施例详细说明如下。
请结合参见图1至图5，图1为本实用新型一实施例的一种俯卧位手术防压伤头圈的结构示意图，图2为本实用新型一实施例的一种俯卧位手术防压伤头圈的俯视结构示意图，图3为本实用新型一实施例的一种俯卧位手术防压伤头圈的底面结构示意图，图4为本实用新型一实施例的一种俯卧位手术防压伤头圈的左视结构示意图，图5为本实用新型一实施例的一种俯卧位手术防压伤头圈的主视结构示意图。本实用新型一实施例的一种俯卧位手术防压伤头圈包括上层圈体100和下层圈体200，上层圈体100与下层圈体200为一体成型结构，上层圈体100与下层圈体200的外围均呈矩形；上层圈体100与下层圈体200的中部设有上下连通的空腔300，空腔300呈T型，空腔300包括眼部空腔31和口部空腔32，眼部空腔31的宽度大于口部空腔32的宽度；上层圈体100上设有额部凹陷11、颌部凹陷12和插管通道13，额部凹陷11对应于眼部空腔31的顶端，颌部凹陷12对应于口部空腔32的底端，插管通道13对应于口部空腔32的两侧；下层圈体200上对应口部空腔32的两侧设有两个U型槽21，两个U型槽21对应于插管通道13的下方。
在对患者进行俯卧位手术时，将本实用新型垫于患者的头面部，让患者的前额贴于额部凹陷11，患者的颌部贴于颌部凹陷12，患者的眼部对应眼部空腔31，患者的口部对应口部空腔32，防止患者面部三角区受压，将压力平均分散到患者的额、颊、颌等部位，保护患者面部的血管及淋巴等；若患者需要麻醉，将麻醉插管从插管通道13或两个U型槽21中穿过，便于手术中麻醉管理。
作为本实用新型的优选实施例，上层圈体100与下层圈体200的内部为凝胶材质。由于凝胶材质较软且具有弹性，使用它作为上层圈体100与下层圈体200的材质，能够在手术中使患者更舒适。
作为本实用新型的优选实施例，上层圈体100的表面为圆滑弧面。
请参见图4，作为本实用新型的优选实施例，上层圈体100的表面还覆盖一层一次性敷料膜14。优选地，一次性敷料膜14的厚度为0.5-2.0mm。一次性敷料膜14既满足卫生要求，又能保证患者与本实用新型的俯卧位手术防压伤头圈接触时的舒适度。
请参见图1和图5，作为本实用新型的优选实施例，额部凹陷11与颌部凹陷12均为圆弧形凹陷。优选地，额部凹陷11的深度小于颌部凹陷12的深度。手术中，患者的前额贴于额部凹陷11处，颌部贴于颌部凹陷12处，额部凹陷11与颌部凹陷12的结构与患者的面部结构相贴合，能够分散支撑力，保护患者面部血管及淋巴等。
请参见图1至图3，作为本实用新型的优选实施例，两个U型槽21的延伸方向平行于插管通道13的延伸方向。麻醉插管还可以从两个U型槽21中穿过，方便手术中的麻醉管理。
请参见图4，作为本实用新型的优选实施例，两个U型槽21的宽度大于插管通道13的宽度，两个U型槽21的深度小于插管通道13的深度。
本实用新型提供一种俯卧位手术防压伤头圈，在对患者进行俯卧位手术时垫于患者的头面部，能够防止患者面部三角区受压，将压力支撑平均转移至额部、颊部、颌部等部位，分散支撑力，保护患者眼部及面部的血管及淋巴，防止手术时间延长导致患者面部压伤红肿；本实用新型还留出插管通道13和两个U型槽21，利于手术中麻醉插管的管理。
本实用新型已由上述相关实施例加以描述，然而上述实施例仅为实施本实用新型的范例。必需指出的是，已揭露的实施例并未限制本实用新型的范围。相反地，在不脱离本实用新型的精神和范围内所作的更动与润饰，均属本实用新型的专利保护范围。
Claims (10)
1.一种俯卧位手术防压伤头圈，其特征在于：包括上层圈体和下层圈体，所述上层圈体与所述下层圈体为一体成型结构，所述上层圈体与所述下层圈体的外围均呈矩形；所述上层圈体与所述下层圈体的中部设有上下连通的空腔，所述空腔呈T型，所述空腔包括眼部空腔和口部空腔，所述眼部空腔的宽度大于所述口部空腔的宽度；所述上层圈体上设有额部凹陷、颌部凹陷和插管通道，所述额部凹陷对应于所述眼部空腔的顶端，所述颌部凹陷对应于所述口部空腔的底端，所述插管通道对应于所述口部空腔的两侧；所述下层圈体上对应所述口部空腔的两侧设有两个U型槽，所述两个U型槽对应于所述插管通道的下方。
2.如权利要求1所述的俯卧位手术防压伤头圈，其特征在于：所述上层圈体与所述下层圈体的内部为凝胶材质。
3.如权利要求1所述的俯卧位手术防压伤头圈，其特征在于：所述上层圈体的表面为圆滑弧面。
4.如权利要求3所述的俯卧位手术防压伤头圈，其特征在于：所述上层圈体的表面还覆盖一层一次性敷料膜。
5.如权利要求4所述的俯卧位手术防压伤头圈，其特征在于：所述一次性敷料膜的厚度为0.5-2.0mm。
6.如权利要求1所述的俯卧位手术防压伤头圈，其特征在于：所述额部凹陷与所述颌部凹陷均为圆弧形凹陷。
7.如权利要求5所述的俯卧位手术防压伤头圈，其特征在于：所述额部凹陷的深度小于所述颌部凹陷的深度。
8.如权利要求1所述的俯卧位手术防压伤头圈，其特征在于：所述两个U型槽的延伸方向平行于所述插管通道的延伸方向。
9.如权利要求8所述的俯卧位手术防压伤头圈，其特征在于：所述两个U型槽的宽度大于所述插管通道的宽度。
10.如权利要求8所述的俯卧位手术防压伤头圈，其特征在于：所述两个U型槽的深度小于所述插管通道的深度。
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN120000450A (zh) * | 2025-03-19 | 2025-05-16 | 中国人民解放军总医院第三医学中心 | 一种预防头面部压疮的防护组合套件 |
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2018
- 2018-11-25 CN CN201821946247.2U patent/CN209475073U/zh not_active Expired - Fee Related
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