CN208629663U - 全自动陶瓷浸釉机 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种全自动陶瓷浸釉机，其包括上料输送带、下料输送带、旋转升降底座、翻转机构、高度调节底座、自转装置和拿料装置，釉槽设置在高度调节底座上；多个翻转机构呈圆心对称设置在旋转升降底座的周缘位置，拿料装置通过自转装置设置在翻转机构上；本实用新型的整体结构设计巧妙、合理，能替代人手实现自动上料、拿料、浸釉和下料等工序，而且在浸入釉料的同时通过自转装置带动陶瓷坯体作自转动作，使得施釉彻底，均匀，不留死角，保证了施釉的质量；另外，还可以根据釉槽中的釉液高度来通过高度调节底座调整釉槽的高度以及通过旋转升降底座来控制陶瓷坯体下浸的深度，进一步确保陶瓷坯体的外表面充分施釉，保证陶瓷产品质量。

Description

全自动陶瓷浸釉机

技术领域

本实用新型属于在陶瓷浸釉技术领域，具体涉及一种全自动陶瓷浸釉机。

背景技术

通常陶瓷碗坯的外釉和内釉为不同材质，施釉时应分别进行，为了防止外釉和内釉混杂在一起而影响产品的质量，目前的施釉工序只能采用手工浸釉的工艺方法一面一面地进行施釉，手工浸釉生产效率低，同时由于在施釉过程中手指接触坯体，使坯体在施釉后留下手指印，影响坯体的施釉质量。另外，由于釉液中加有多种化工材料，这些化工材料对人体有腐蚀作用，长期手工浸釉对人体有危害，并且人工施釉的工作效率极低，不利于自动化流水线作业。为了提高生产效率，提高产品质量，改善工人生产环境，降低成本等，技术人员在日用陶瓷碗坯的生产技术及生产设备上进行着不断的改进，市场推出一种陶瓷碗坯自动浸釉装置。

如中国实用新型专利号“CN201520491677.X”，名称为“一种陶瓷碗坯自动浸釉装置”，其公开了一种陶瓷碗坯自动浸釉装置，包括碗坯、上料传送带、卸料传送带、浸釉池和浸釉装置，上料传送带和卸料传送带分布在浸釉池的两侧，浸釉装置安装在浸釉池的上方，浸釉装置为旋转浸釉装置，包括固定安装在浸釉池的两侧支架、横穿在浸釉池上方的轴和驱动机构，轴的中部周向设置有至少两个悬臂，悬臂的活动端设置有吸盘，驱动机构的变频电机输出轴端固定安装有小皮带轮，轴的一端安装有大带轮，皮带将大带轮与小带轮连接。其虽然能实现替代人工实现浸釉的问题，但在由于陶瓷坯体在浸釉时没有自转动作，使得陶瓷坯体的外表面不能充分地接触釉，易出现死角，难以保证施釉的质量；而且在多次浸釉过程中，势必使得浸釉池内的瓷釉涂料减少，若不及时调整浸釉池的高度或陶瓷坯体下浸的深度，则会出现施釉不完全的问题，影响到产品的施釉效果。

实用新型内容

针对上述的不足，本实用新型目的在于，提供一种结构设计巧妙、合理，操作简单，施釉效果好的全自动陶瓷浸釉机。

为实现上述目的，本实用新型所提供的技术方案是：一种全自动陶瓷浸釉机，其包括釉槽、上料输送带、下料输送带、旋转升降底座、翻转机构、高度调节底座、自转装置和拿料装置，所述上料输送带、高度调节底座和下料输送带依次排列设置在旋转升降底座的周缘位置；所述釉槽设置在高度调节底座上；多个翻转机构呈圆心对称设置在旋转升降底座的周缘位置，所述拿料装置通过自转装置设置在翻转机构上。

作为本实用新型的一种改进，所述旋转升降底座包括转盘、固定架、升降架、导柱、导套、升降驱动装置和旋转驱动装置，所述导柱垂直设置在固定架上，所述升降架通过导套活动设置在导柱上，所述转盘通过旋转驱动装置设置在升降架上，并受旋转驱动装置的驱动作旋转动作；所述升降驱动装置设置在固定架上，并能驱动升降架相对固定架作升降动作。

作为本实用新型的一种改进，所述旋转驱动装置包括旋转马达、主动齿轮和从动齿轮，所述从动齿轮通过转轴设置在升降架的顶面中心位置，所述转盘设置在该从动齿轮上，所述旋转马达设置在升降架内，所述主动齿轮与所述从动齿轮相啮合，且通过联轴器与所述旋转马达的驱动轴相连接。

作为本实用新型的一种改进，所述升降驱动装置包括升降马达、螺杆、螺母和皮带轮传动件，所述螺杆的两端通过轴承垂直设置在固定架上，所述螺母设置在升降架的底面且与所述螺杆相配合，所述升降马达设置在固定架上，并能通过皮带轮传动件驱动所述螺杆旋转。

作为本实用新型的一种改进，所述翻转机构包括直线驱动装置、翻转板、活动臂和固定座，所述活动臂垂直设置在所述翻转板上，所述翻转板的尾端铰接在所述转盘上，所述固定座对应翻转板的后方位置设置在转盘上，所述直线驱动装置的一端铰接在固定座上，另一端铰接在所述活动臂的上端。

作为本实用新型的一种改进，所述直线驱动装置为直线电机、气缸或油缸。

作为本实用新型的一种改进，所述自转装置包括自转马达及自转杆，该自转杆的一端通过轴承座活动设置在翻转板的前端位置，所述自转马达设置在翻转板的中部位置，并通过传送带驱动所述自转杆转动。

作为本实用新型的一种改进，所述拿料装置为真空吸盘。

作为本实用新型的一种改进，所述高度调节底座包括上下驱动装置及设置在该升降驱动装置上的釉槽固定板。

作为本实用新型的一种改进，所述上下驱动装置包括涡轮减速机、螺杆、螺帽以及由两上连杆和两下连杆构成的四连杆机构，螺帽设置在四连杆机构的一侧铰接部，所述涡轮减速机设置在四连杆机构的另一侧铰接部，所述螺杆的一端设置在涡轮减速机的输出轴上，另一端拧入所述螺帽。

本实用新型的有益效果为：本实用新型的整体结构设计巧妙、合理，由上料输送带将需浸釉的陶瓷坯体输送至预定位置，拿料装置将陶瓷坯体吸取，翻转机构向上翻转将陶瓷坯体抬起，旋转升降底座带动陶瓷坯体旋转移动至釉槽的上方位置，翻转机构向下翻转将陶瓷坯体浸入釉槽，在浸入的同时自转装置带动陶瓷坯体自转；施釉完毕后，翻转机构向上翻转将陶瓷坯体抬起，旋转升降底座带动陶瓷坯体旋转移动至下料输送带的上方位置，翻转机构向下翻转将陶瓷坯体放在下料输送带上，拿料装置松开陶瓷坯体，由下料输送带将该陶瓷坯体输送至下一工序位置；由上料输送带、下料输送带、旋转升降底座、翻转机构、自转装置和拿料装置相配合相应实现上料、拿料、浸釉和下料等工序，而且在浸入釉料的同时自转装置带动陶瓷坯体作自转动作，使得施釉彻底，均匀，不留死角，保证了施釉的质量；另外，同时还可以根据釉槽中的釉液高度来通过高度调节底座调整釉槽的高度以及通过旋转升降底座来控制陶瓷坯体下浸的深度，进一步确保陶瓷坯体的外表面充分施釉，提升陶瓷产品质量，利于广泛推广应用。

下面结合附图和实施例，对本实用新型作进一步说明。

附图说明

图1是本实用新型的整体结构示意图。

图2是本实用新型中旋转升降底座和高度调节底座的结构示意图。

图3是本实用新型中翻转机构、自转装置和拿料装置的结构示意图。

具体实施方式

实施例：参见图1、图2和图3，本实施例提供了一种全自动陶瓷浸釉机，其包括釉槽1、上料输送带2、下料输送带3、旋转升降底座4、翻转机构5、高度调节底座6、自转装置7和拿料装置8。为方便操作，采用带控制界面的PLC控制器对上料输送带2、下料输送带3、旋转升降底座4、翻转机构5、高度调节底座6、自转装置7和拿料装置8的工作状态进行控制。所述上料输送带2、高度调节底座6和下料输送带3依次排列设置在旋转升降底座4的周缘位置。

参见图2和图3，所述旋转升降底座4包括转盘41、固定架42、升降架43、导柱44、导套45、升降驱动装置和旋转驱动装置，所述导柱44垂直设置在固定架42上，所述升降架43通过导套45活动设置在导柱44上，所述转盘41通过旋转驱动装置设置在升降架43上，并受旋转驱动装置的驱动作旋转动作；具体的，所述旋转驱动装置包括旋转马达46、主动齿轮47和从动齿轮48，所述从动齿轮48通过转轴设置在升降架43的顶面中心位置，所述转盘41设置在该从动齿轮48上，所述旋转马达46设置在升降架43内，所述主动齿轮47与所述从动齿轮48相啮合，且通过联轴器与所述旋转马达46的驱动轴相连接。

所述升降驱动装置设置在固定架42上，并能驱动升降架43相对固定架42作升降动作。本实施例中，所述升降驱动装置包括升降马达49、螺杆410、螺母411和皮带轮传动件，所述螺杆410的两端通过轴承垂直设置在固定架42上，所述螺母411设置在升降架43的底面且与所述螺杆410相配合，所述升降马达49设置在固定架42上，并能通过皮带轮传动件驱动所述螺杆410旋转。其它实施例中，升降驱动装置可以为直线电机、气缸、油缸或其它能驱动驱动升降架43相对固定架42作升降动作的装置。

所述拿料装置8通过自转装置7设置在翻转机构5上。具体的，所述自转装置7包括自转马达41及自转杆42，该自转杆42的一端通过轴承座43活动设置在翻转板52的前端位置，所述自转马达41设置在翻转板52的中部位置，并通过传送带驱动所述自转杆42转动。本实施例中，所述拿料装置8为真空吸盘，真空吸盘设置在自转杆42的另一端。该真空吸盘与真空泵相连接。

多个翻转机构5呈圆心对称设置在旋转升降底座4的周缘位置。所述翻转机构5包括直线驱动装置51、翻转板52、活动臂53和固定座54，所述活动臂53垂直设置在所述翻转板52上，所述翻转板52的尾端铰接在所述转盘41上，所述固定座54对应翻转板52的后方位置设置在转盘41上，所述直线驱动装置51的一端铰接在固定座54上，另一端铰接在所述活动臂53的上端。本实施例中，所述直线驱动装置51优选为气缸，其它实施例中，该直线驱动装置51也可以为直线电机、油缸或能作直线驱动的装置。

所述高度调节底座6包括上下驱动装置62及设置在该升降驱动装置上的釉槽固定板61。所述釉槽1设置在釉槽固定板61上；本实施例中，所述上下驱动装置62包括涡轮减速机621、螺杆622、螺帽623以及由两上连杆和两下连杆构成的四连杆机构624，螺帽623设置在四连杆机构624的一侧铰接部，所述涡轮减速机621设置在四连杆机构624的另一侧铰接部，所述螺杆622的一端设置在涡轮减速机621的输出轴上，另一端拧入所述螺帽623。其它实施例中，该上下驱动装置62也可以为直线电机、气缸、油缸或其它能驱动釉槽固定板61作升降动作的装置。

工作时，由上料输送带2将需浸釉的陶瓷坯体输送至预定位置，拿料装置8将陶瓷坯体吸取，翻转机构5向上翻转将陶瓷坯体抬起，旋转升降底座4带动陶瓷坯体旋转移动至釉槽的上方位置，翻转机构5向下翻转将陶瓷坯体浸入釉槽，在浸入的同时自转装置7带动陶瓷坯体自转；使得施釉彻底，均匀，不留死角，保证了施釉的质量。另外，在釉槽中加装有液位感应器，通过液位感应器来实时监测釉槽中的釉液高度。液位感应器反馈釉液高度信息至PLC控制器，然后由PLC控制器相应控制高度调节底座6的升降来调整釉槽至合适高度。以及在陶瓷坯体下浸时而导致釉槽中的釉液动态上升时，PLC控制器相应控制旋转升降底座4的升降来配合釉槽中的釉液动态上升或下降，使得陶瓷坯体下浸的深度与所需施釉的位置高度相一致，确保陶瓷坯体的外表面充分施釉，保证陶瓷产品质量。

根据上述说明书的揭示和教导，本实用新型所属领域的技术人员还可以对上述实施方式进行变更和修改。因此，本实用新型并不局限于上面揭示和描述的具体实施方式，对本实用新型的一些修改和变更也应当落入本实用新型的权利要求的保护范围内。此外，尽管本说明书中使用了一些特定的术语，但这些术语只是为了方便说明，并不对本实用新型构成任何限制。如本实用新型上述实施例所述，如本实用新型上述实施例所述，采用与其相同或相似技术特征而得到的其它设备，均在本实用新型保护范围内。

Claims (10)

1.一种全自动陶瓷浸釉机，其包括釉槽，其特征在于，其还包括上料输送带、下料输送带、旋转升降底座、翻转机构、高度调节底座、自转装置和拿料装置，所述上料输送带、高度调节底座和下料输送带依次排列设置在旋转升降底座的周缘位置；所述釉槽设置在高度调节底座上；多个翻转机构呈圆心对称设置在旋转升降底座的周缘位置，所述拿料装置通过自转装置设置在翻转机构上。

2.根据权利要求1所述的全自动陶瓷浸釉机，其特征在于，所述旋转升降底座包括转盘、固定架、升降架、导柱、导套、升降驱动装置和旋转驱动装置，所述导柱垂直设置在固定架上，所述升降架通过导套活动设置在导柱上，所述转盘通过旋转驱动装置设置在升降架上，并受旋转驱动装置的驱动作旋转动作；所述升降驱动装置设置在固定架上，并能驱动升降架相对固定架作升降动作。

3.根据权利要求2所述的全自动陶瓷浸釉机，其特征在于，所述旋转驱动装置包括旋转马达、主动齿轮和从动齿轮，所述从动齿轮通过转轴设置在升降架的顶面中心位置，所述转盘设置在该从动齿轮上，所述旋转马达设置在升降架内，所述主动齿轮与所述从动齿轮相啮合，且通过联轴器与所述旋转马达的驱动轴相连接。

4.根据权利要求2所述的全自动陶瓷浸釉机，其特征在于，所述升降驱动装置包括升降马达、螺杆、螺母和皮带轮传动件，所述螺杆的两端通过轴承垂直设置在固定架上，所述螺母设置在升降架的底面且与所述螺杆相配合，所述升降马达设置在固定架上，并能通过皮带轮传动件驱动所述螺杆旋转。

5.根据权利要求2所述的全自动陶瓷浸釉机，其特征在于，所述翻转机构包括直线驱动装置、翻转板、活动臂和固定座，所述活动臂垂直设置在所述翻转板上，所述翻转板的尾端铰接在所述转盘上，所述固定座对应翻转板的后方位置设置在转盘上，所述直线驱动装置的一端铰接在固定座上，另一端铰接在所述活动臂的上端。

6.根据权利要求5所述的全自动陶瓷浸釉机，其特征在于，所述直线驱动装置为直线电机、气缸或油缸。

7.根据权利要求1所述的全自动陶瓷浸釉机，其特征在于，所述自转装置包括自转马达及自转杆，该自转杆的一端通过轴承座活动设置在翻转板的前端位置，所述自转马达设置在翻转板的中部位置，并通过传送带驱动所述自转杆转动。

8.根据权利要求1或7所述的全自动陶瓷浸釉机，其特征在于，所述拿料装置为真空吸盘。

9.根据权利要求1所述的全自动陶瓷浸釉机，其特征在于，所述高度调节底座包括上下驱动装置及设置在该升降驱动装置上的釉槽固定板。

10.根据权利要求1所述的全自动陶瓷浸釉机，其特征在于，所述上下驱动装置包括涡轮减速机、螺杆、螺帽以及由两上连杆和两下连杆构成的四连杆机构，螺帽设置在四连杆机构的一侧铰接部，所述涡轮减速机设置在四连杆机构的另一侧铰接部，所述螺杆的一端设置在涡轮减速机的输出轴上，另一端拧入所述螺帽。